JP2021074611A - 光硬化性組成物、人工爪、造形データの生成方法、人工爪の製造方法及び人工爪の製造システム - Google Patents
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Abstract
Description
19世紀にアメリカで自動車用のラッカー塗料が発明され、この技術を応用して現在使われているマニキュアが開発された。
しかしながら、ラッカー塗料を応用したマニキュアは、現在も広く普及しているが、天然爪との接着性に乏しく、施術後短期間で剥離、離脱することが問題であった。このため、歯科用常温重合レジンを応用した人工爪材料が開発された。
しかし、最近では人工爪材料の臭気刺激性や施術操作性を改善したジェルネイルが市場の中心となっている。現在市販されているジェルネイルは、(メタ)アクリル系モノマーと光重合開始材とを主構成成分とする高粘度液体材料であり、素爪に塗布し紫外線を照射することにより硬化する。これらの市販ジェルネイルは、開発当初の人工爪材料と比較して、臭気刺激及び皮膚刺激が少なく、施術操作性が良好であることから、一般のネイリストの多くに受け入れられている。
特開2010−37330号公報には、硬化性の改善された人工爪組成物に関して、特定の光重合開始剤を用いることを特徴とする人工爪組成物が開示されている。
また、特開2015−209375号公報には、人工爪を自爪から容易に除去できる人工爪原料組成物として、光照射により硬化する人工爪原料組成物が記載されている。
3Dプリンタを用い、光造形物、好ましくは、人工爪を作製する場合、実用性を考慮すると、光硬化後の光硬化性組成物に対し、優れた曲げ強度(即ち、曲げ強さ)、曲げ弾性率、屈曲耐性、引張強度及び伸び率が求められる。
また、本発明の一実施形態の目的は、上記光硬化性組成物の硬化物であって、曲げ強度及び曲げ弾性率に優れ、更には屈曲耐性、引張強度及び伸び率にも優れる人工爪を提供することである。
即ち、前記課題を解決するための具体的手段は以下のとおりである。
[2] 前記(メタ)アクリルモノマー(X)を構成するジ(メタ)アクリルモノマーのうちの少なくとも1種が、1分子中にエーテル結合を有する[1]に記載の光硬化性組成物。
[3] 前記(メタ)アクリルモノマー(X)を構成するジ(メタ)アクリルモノマーのうちの少なくとも1種が、1分子中に1個以上10個以下のエーテル結合を有する[1]又は[2]に記載の光硬化性組成物。
〔一般式(x−1)中、R1x、R2x、R11x、及びR12xは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。R3x及びR4xは、それぞれ独立に、直鎖又は分岐鎖の炭素原子数2〜4のアルキレン基を表す。mx及びnxは、それぞれ独立に、0〜10を表す。但し、1≦(mx+nx)≦10を満たす。〕
〔一般式(x−2)中、R5x、R6x、R7x、R8x、R11x、及びR12xは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。mx及びnxは、それぞれ独立に、0〜10を表す。但し、1≦(mx+nx)≦10を満たす。〕
〔一般式(d−1)中、R1dは水素原子又はメチル基を表す。R2dは単結合、又は、直鎖もしくは分岐鎖の炭素原子数1〜5のアルキレン基を表す。R3dは単結合、エーテル結合(−O−)、エステル結合(−O−(C=O)−)、又は−C6H4−O−を表す。A1dは置換基を有していてもよい芳香環を表す。ndは、1〜2を表す。〕
〔一般式(d−2)中、R1d、R4d及びR5dは、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。A2dは置換基を有していてもよい芳香環を表す。ndは、1〜2を表す。〕
〔一般式(d−3)中、R6dは水素原子又はメチル基を表し、R7dは単結合又はメチレン基を表す。A3dは少なくとも1個の芳香環以外の環構造を表す。〕
[10] 前記(メタ)アクリルモノマー(D)を構成する(メタ)アクリルモノマーのうちの少なくとも1種が、1分子中に少なくとも1個の環構造と、1個の水酸基と、1個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する(メタ)アクリルモノマーである[1]〜[5]のいずれか1つに記載の光硬化性組成物。
[11] 前記(メタ)アクリルモノマー(D)が、o−フェニルフェノールEO変性アクリレートである[1]〜[6]のいずれか1つに記載の光硬化性組成物。
[12] 前記(メタ)アクリルモノマー(D)が、3−フェノキシベンジルアクリレートである[1]〜[6]のいずれか1つに記載の光硬化性組成物。
[14] 前記アクリルモノマー(D)の含有量が、前記(メタ)アクリルモノマー成分の合計含有量1000質量部に対し、30質量部〜800質量部である[1]〜[13]のいずれか1つに記載の光硬化性組成物。
[15] 前記光重合開始剤が、アルキルフェノン系化合物及びアシルフォスフィンオキサイド系化合物から選ばれる少なくとも1種である[1]〜[14]のいずれか1つに記載の光硬化性組成物。
[16] 前記光重合開始剤の含有量が、(メタ)アクリルモノマー成分の合計含有量1000質量部に対し、1質量部〜50質量部である[1]〜[15]のいずれか1つに記載の光硬化性組成物。
[18] 光造形による、人工爪の作製に用いられる<1>〜<17>のいずれか1つに記載の光硬化性組成物。
[19] [18]に記載の光硬化性組成物の硬化物である人工爪。
<1> 形成する人工爪の三次元の外形形状を特定可能な形状情報を受け付ける受付ステップと、
三次元の造形データ及び所定の造形情報に基づいて三次元造形装置により光造形された後、所定の硬化条件で硬化装置により光硬化された造形物に生じる収縮状態を、予め定めた予測情報に基づいて予測する予測ステップと、
前記形状情報から得られる前記形成する人工爪の三次元の形状データを、前記予測ステップの予測結果に基づいて補正して、前記形成する人工爪の造形物を前記三次元造形装置により光造形する三次元の造形データを生成する生成ステップと、
前記生成ステップにより生成された前記造形データを出力する出力ステップと、
を含む造形データの生成方法。
<3> 前記予測情報には、予め製造された前記人工爪の形状データ、該形状データから生成された造形データ、及び該造形データに基づいて光造形されて光硬化された造形物の硬化後の外形形状を示す三次元の硬化後データが含まれる<1>又は<2>の造形データの生成方法。
前記取得ステップにおいて取得された前記硬化後データ、該硬化後データに対する前記形成する人工爪の形状データ、該形状データに対して前記予測ステップで予測された予測結果、及び該予測結果に基づいて生成された前記造形データに基づいて前記予測情報を更新する更新ステップと、
を含む<1>から<3>の何れかの造形データの生成方法。
<6> 前記合成ステップは、複数の前記形成する人工爪の各々を識別可能に特定する識別情報が前記基板上に形成されるデータを付与することを含む<5>の造形データの生成方法。
<7> 前記合成ステップは、各々に前記複数の前記形成する人工爪が配列された複数の前記基板が前記三次元造形装置により並行して光造形されるように前記造形データを合成する<5>又は<6>の造形データの生成方法。
三次元の造形データ及び所定の造形情報に基づいて三次元造形装置により光造形された後、所定の硬化条件で硬化装置により光硬化された造形物に生じる収縮状態を、予め定めた予測情報に基づいて予測する予測ステップと、
前記形状情報から得られる前記形成する人工爪の三次元の形状データを、前記予測ステップの予測結果に基づいて補正して、前記形成する人工爪の造形物を前記三次元造形装置により光造形する三次元の造形データを生成する生成ステップと、
前記生成ステップにより生成された前記造形データに基づき、前記三次元造形装置により造形物を生成する造形ステップと、
前記造形ステップにより造形された前記造形物を更に光硬化させる硬化ステップと、
を含む人工爪の製造方法。
前記硬化後データと前記形成する人工爪の形状データとを比較することで、前記硬化後の造形物を評価する評価ステップと、
を含む<8>の人工爪の製造方法。
<10> 前記評価ステップの評価結果に基づいて、前記予測情報を更新する更新ステップを含む<9>の人工爪の製造方法。
<11> 前記硬化ステップに先立って、前記造形ステップにより光造形された造形物から該造形物の光造形に用いた余剰の光造形材料を除去する洗浄ステップを含む<8>から<10>の何れかの人工爪の製造方法。
前記三次元造形装置により光造形された前記造形物を光硬化させる硬化装置と、
形成する人工爪の三次元の外形形状を特定可能な形状情報を受け付ける受付部、三次元の造形データ及び所定の造形情報に基づいて前記三次元造形装置により光造形された後、所定の硬化条件で前記硬化装置により光硬化された造形物に生じる収縮状態を、予め定められて記憶された予測情報に基づいて予測する予測部、前記形状情報から得られる前記形成する人工爪の三次元の形状データを、前記予測部の予測結果に基づいて補正して、前記形成する人工爪の造形物を前記三次元造形装置により光造形する三次元の造形データを生成する生成部、及び前記造形データを前記三次元造形装置に出力する出力部を含む造形設計装置と、
を有する人工爪の製造システム。
<14> 前記造形設計装置に記憶された前記予測情報には、予め製造された前記人工爪の形状データ、該形状データから生成された造形データ、及び該造形データに基づいて光造形されて光硬化された造形物の硬化後の外形形状を示す三次元の硬化後データが含まれる<12>又は<13>の人工爪の製造システム。
<15> 前記造形設計装置は、
前記造形データに基づいて光造形されて光硬化された造形物の硬化後の外形形状を示す三次元の硬化後データを取得する取得部と、
前記取得部において取得された前記硬化後データ、該硬化後データに対する前記形成する人工爪の形状データ、該形状データに対して前記予測部で予測された予測結果、及び該予測結果に基づいて生成された前記造形データに基づいて前記予測情報を更新する更新部と、
を含む<12>から<14>の何れかの人工爪の製造システム。
複数の前記形成する人工爪が基板上に配列されて、前記三次元造形装置により一体に形成されるように、複数の前記形成する人工爪の前記造形データを合成する合成部を含む<12>から<15>の何れかの人工爪の製造システム。
<17> 前記造形設計装置の前記合成部は、複数の前記形成する人工爪の各々を識別可能に特定する識別情報が前記基板上に形成されるデータを付与することを含む<16>の人工爪の製造システム。
<18> 前記造形設計装置の前記合成部は、各々に前記複数の前記形成する人工爪が配列された複数の前記基板が前記三次元造形装置により並行して造形されるように前記造形データを合成する<16>又は<17>の人工爪の製造システム。
<20> 前記造形設計装置は、前記評価装置の前記評価部の評価結果に基づいて、前記予測情報を更新する更新部を含む<19>の人工爪の製造システム。
また、本発明の一実施形態によれば、上記光硬化性組成物の硬化物であって、曲げ強度及び曲げ弾性率に優れ、更には屈曲耐性及び伸び率にも優れる人工爪が提供される。
また、本明細書において「エーテル結合」とは、通常定義されるとおり、2つの炭化水素基間を酸素原子によって結ぶ結合(即ち、−O−で表される結合)を示す。従って、エステル結合(即ち、−C(=O)−O−)中の「−O−」は、「エーテル結合」には該当しない。
また、本明細書において、「(メタ)アクリルモノマー」は、アクリルモノマー及びメタクリルモノマーの両方を包含する概念である。
また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含する概念である。
また、本明細書において、「(メタ)アクリロイルオキシ基」は、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基の両方を包含する概念である。
本発明の一実施形態に係る光硬化性組成物は、光造形に用いられる光硬化性組成物であって、1分子中に水酸基及びカルボキシ基を有さず2個の芳香環と2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有するジ(メタ)アクリルモノマーから選ばれる少なくとも1種であり重量平均分子量が400以上800以下である(メタ)アクリルモノマー(X)と、1分子中に少なくとも1個の環構造と、1個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する(メタ)アクリルモノマーから選ばれる少なくとも1種であり重量平均分子量が130以上350以下である(メタ)アクリルモノマー(D)、並びに、光重合開始剤を含有する光硬化性組成物である。
従って、本実施形態の光硬化性組成物を用い、光造形によって作製された光造形物、好ましくは、人工爪も、曲げ強度及び曲げ弾性率に優れ、更には屈曲耐性及び伸び率にも優れる。 更に、本実施形態の光硬化性組成物は、光造形による人工爪等(つまり、光造形物の好ましい形態の例、以下同じ。)の作製に適した粘度を有し、光硬化後において曲げ強度、曲げ弾性率、屈曲耐性、引張強度及び伸び率が人工爪として好適な範囲である。つまり、本実施形態の光硬化性組成物は光硬化人工爪組成物とすることができる。
「(メタ)アクリルモノマー成分」には、少なくとも(メタ)アクリルモノマー(X)及び(メタ)アクリルモノマー(D)が含まれる。
「(メタ)アクリルモノマー成分」には、他の(メタ)アクリルモノマーが含まれていてもよい。
なお、(メタ)アクリルモノマー(X)の重量平均分子量の下限である400は、モノマーの製造容易性又は入手容易性の観点から設けられた下限である。
理由は明らかではないが、(メタ)アクリルモノマー(D)が少なくとも1つの環構造を有することによって、(メタ)アクリルモノマー(X)の環構造と(メタ)アクリルモノマー(D)の環構造の分子間力および(メタ)アクリルモノマー(D)の環構造同士の分子間力が強まることにより屈曲耐性が向上していると考えられる。
(メタ)アクリルモノマー(D)の重量平均分子量の上限である350は、光硬化後の、曲げ強度及び曲げ弾性率の観点から設けられた上限である。
(メタ)アクリルモノマー(D)の重量平均分子量の下限である130は、モノマーの製造容易性又は入手容易性の観点から設けられた下限である。
即ち、本実施形態の光硬化性組成物は、80mm×10mm×厚さ4mmの大きさに造形して造形物とし、得られた造形物に対し5J/cm2の条件で紫外線照射して光硬化させて光造形物(即ち、硬化物。以下同じ。)とし、ISO178(又は、JIS K7171)に準拠して曲げ強度(曲げ強さ)を測定したときに、この曲げ強度(曲げ強さ)が、10MPa以上を満たすことが好ましく、40MPa以上を満たすことがさらに好ましく、60MPa以上を満たすことがより好ましい。
また、本実施形態の光硬化性組成物は、80mm×10mm×厚さ4mmの大きさに造形して造形物とし、得られた造形物に対し5J/cm2の条件で紫外線照射して光硬化させて光造形物とし、ISO178(又は、JIS K7171)に準拠して曲げ弾性率を測定したときに、この曲げ弾性率が、400MPa以上であることが好ましく、1500MPa以上を満たすことがさらに好ましく、2000MPa以上を満たすことがより好ましい。
即ち、光硬化性樹脂組成物を、3Dプリンタを用い、外径8mm、内径7.5mm(厚みが0.5mm)で、円周90°、長さ15mmの大きさに造形し、波長365nmの紫外線を5J/cm2の条件で照射して本硬化させることにより光造形物とし、得られた造形物5個を、縦50mm、横50mm、高さ50mmの金属製立方体の下に1枚置き、上から20kg重の荷重をかけた後、割れたか否かを目視で確認したときに、5枚割れずに形状を保持することが好ましい。
即ち、光硬化性樹脂組成物を、3Dプリンタを用い、30mm×10mm×厚さ0.5mmの大きさに造形し、波長365nmの紫外線を5J/cm2の条件で照射して本硬化させることにより光造形物とし、ISO527−1(又は、JIS K7161)に記載されている方法に準拠し、得られた造形物(つまり、引張試験片)を、引張り試験装置を用い、チャック間距離20mm、引張速度5mm/分の条件で測定し、引張試験片が破断した時の引張強度が15MPa以上であることが好ましく、40MPa以上であることが好ましい。また、引張試験片が破断した時の伸び率が10%以上であることが好ましく、好ましくは20%以上であることがさらに好ましい。
光造形の方式としては、SLA(Stereo Lithography Apparatus)方式、DLP(Digital Light Processing)方式、インクジェット方式などが挙げられる。
本実施形態の光硬化性組成物は、SLA方式又はDLP方式の光造形に特に好適である。
本発明の一実施形態において「光造形」は、造形材料を用いた立体像の造形において、造形材料として光造形材料を用いた造形(造形物の製造)としている。また、本実施の形態において「光硬化」は、光造形により得られた造形物を更に光により硬化させることをいう。
本実施の形態における光造形は、三次元造形装置(以下、3Dプリンタという)を用いた三次元造形方法のうちの一種である。具体的な光造形の方式としては、SLA(Stereo Lithography Apparatus)方式、DLP(Digital Light Processing)方式、及びインクジェット方式などが挙げられる。
SLA方式によって人工爪等を作製する場合、例えば、液状の光硬化性組成物を容器に貯留し、液状光硬化性組成物の液面に所望のパターンが得られるようにスポット状の紫外線レーザー光を選択的に照射して光硬化性組成物を硬化させ、所望の厚みの硬化層を造形テーブル上に形成し、次いで、造形テーブルを移動(即ち、上昇又は下降)させ、硬化層の上に1層分の液状光硬化性組成物を供給し、同様に硬化させ、連続した硬化層を得る積層操作を繰り返せばよい。
DLP方式によって造形物としての人工爪や歯科補綴物等を作製する場合、例えば、光源として高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプなどのレーザー光以外の光を発射するランプ、LEDなどを用い、光源と光硬化性組成物の造形面との間に、複数のデジタルマイクロミラーシャッターを面状に配置した面状描画マスクを配置し、前記面状描画マスクを介して光硬化性組成物の造形面に光を照射して所定の形状パターンを有する硬化層を順次積層させればよい。
インクジェット方式によって人工爪等を作製する場合、例えば、インクジェットノズル及び光源を備えるヘッドを平面内で走査させつつ、インクジェットノズルから光硬化性組成物を基材に吐出し、かつ吐出された光硬化性組成物に光を照射して硬化層を形成し、これらの操作を繰り返して、硬化層を順次積層させればよい。
例えば、SLA方式により人工爪等を作製する場合、前記粘度は、20mPa・s〜3000mPa・sであることが好ましく、20mPa・s〜1500mPa・sであることがさらに好ましく、30mPa・s〜1200mPa・sであることが特に好ましい。
例えば、DLP方式により人工爪等を作製する場合、前記粘度は、50mPa・s〜500mPa・sであることが好ましく、50mPa・s〜250mPa・sであることがより好ましい。
例えば、インクジェット方式により人工爪等を作製する場合、前記粘度は、20mPa・s〜500mPa・sであることが好ましく、20mPa・s〜100mPa・sであることが好ましい。
本実施形態の光硬化性組成物における(メタ)アクリルモノマー成分は、(メタ)アクリルモノマー(X)を含む。
(メタ)アクリルモノマー(X)は、1分子中に水酸基及びカルボキシ基を有さず2個の芳香環と2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有するジ(メタ)アクリルモノマーから選ばれる少なくとも1種であり、重量平均分子量が400以上800以下である。
本実施形態の光硬化性組成物において、(メタ)アクリルモノマー(X)は、主として、光硬化後の曲げ強度及び曲げ弾性率向上に寄与する。
詳細には、(メタ)アクリルモノマー(X)を構成するジ(メタ)アクリルモノマーのうちの少なくとも1種が1分子中にエーテル結合を有することにより、分子運動の自由度が増し、光硬化後の硬化物に柔軟性が付与されることで靱性が向上し、その結果、上記硬化物の破壊靱性(即ち、光硬化性組成物の光硬化後の破壊靱性)が向上する。
上記ジ(メタ)アクリルモノマーのうちの少なくとも1種において、1分子中のエーテル結合の数が10個以下であると、光硬化後の曲げ強度及び曲げ弾性率がより向上する。
1分子中のエーテル結合の数は、光硬化後の曲げ強度及び曲げ弾性率をより向上させる観点から、2個以上6個以下であることが更に好ましく、2個以上4個以下であることが特に好ましい。
また、R3x及びR4xは、それぞれ独立に、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、1−メチルエチレン基、1−エチルエチレン基又は2−メチルトリメチレン基であることが好ましく、エチレン基又は1−メチルエチレン基であることがより好ましい。
さらに、R3x及びR4xは、共にエチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、1−メチルエチレン基又は2−メチルトリメチレン基であることが好ましく、共にエチレン基又は1−メチルエチレン基であることがより好ましい。
また、mx+nxは1〜10であるが、光硬化後の曲げ強度及び曲げ弾性率をより向上させる観点から、2〜6であることが特に好ましい。
一般式(x−2)において、特に好ましくは、R5x及びR8xが共にメチル基であって、R6x及びR7xが共に水素原子であることである。
例として、エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、及びエトキシ化ビスフェノールAジメタクリレートの構造式を下記に示す。
また、(メタ)アクリルモノマー(X)の含有量は、(メタ)アクリルモノマー成分の合計含有量1000質量部に対し、1000質量部未満であれば特に制限はないが、光硬化後の破壊靱性の観点から、950質量部以下であることが好ましく、900質量部以下であることがより好ましく、850質量部以下であることが更に好ましい。
本実施形態の光硬化性組成物は、(メタ)アクリルモノマー(D)を含む。
(メタ)アクリルモノマー(D)は、1分子中に少なくとも1個の環構造と、1個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する(メタ)アクリルモノマーから選ばれる少なくとも1種であり重量平均分子量が130以上350以下である。
(メタ)アクリルモノマー成分が(メタ)アクリルモノマー(D)を含むことによって、光硬化後の屈曲耐性が顕著に向上する。
(メタ)アクリルモノマー(D)は、1分子中に少なくとも1個の環構造と、1個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する(メタ)アクリルモノマーの1種のみからなるものであってもよいし、前記(メタ)アクリルモノマーの2種以上からなる混合物であってもよい。
A1dにおける置換基を有していてもよい芳香環としては、例えば、フェニル基、フェニルエーテル基、ビフェニル基、テルペニル基、ベンズヒドリル基、ジフェニルアミノ基、ベンゾフェノン基、ナフチル基、アントラセニル基又はフェナンスレニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クミル基、スチリル基又はノニルフェニル基があげられる。
A1dにおける芳香環としては、フェニル基、フェニルエーテル基、ビフェニル基、ナフチル基、クミル基又はノニルフェニル基が好ましい。
R3dは、エーテル結合又はエステル結合であることが好ましい。
これらの中でも、一般式(d−1)で表される(メタ)アクリルモノマーは、o−フェニルフェノールEO変性(メタ)アクリレートまたは3−フェノキシベンジル(メタ)アクリレートであることが特に好ましい。ここで、「EO変性」とはエチレンオキシドユニット(即ち、−CH2−CH2−O−)の構造を有することを意味する。
フェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、3−フェノキシベンジル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノールEO変性(メタ)アクリレート(EO=1mol)、フェニルグリシジルエーテル(メタ)アクリル酸付加物、2−ヒドロキシエチルメタクリートの構造式を以下に示す。
(メタ)アクリルモノマー(D)の重量平均分子量は130以上350以下であるが、150以上300以下であることが好ましく、150以上280以下であることがより好ましい。
芳香環以外の環構造は特に限定されず、単環構造でもよいし多環構造でもよい。芳香環以外の環構造の環員数は限定されないが、5〜12員環であることが好ましい。また、芳香環以外の環構造は、脂環構造又はヘテロ環構造が好ましい。ヘテロ環構造におけるヘテロ原子としては、O、S及び/又はNが挙げられる。
即ち、一般式(d−3)で表される(メタ)アクリルモノマーは、光硬化後の曲げ強度及び曲げ弾性率をより向上させる観点から、下記の一般式(d−4)で表される化合物であることが更に好ましい。
一般式(d−4)中、A4dで表される環構造は、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)等の置換基を有していてもよい。
但し、(メタ)アクリルモノマー成分中における、(メタ)アクリルモノマー(X)及び(メタ)アクリルモノマー(D)の合計含有量は、(メタ)アクリルモノマー成分の全量に対し、60質量%以上であることが好ましく、80質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることが更に好ましい。また、この合計含有量は、(メタ)アクリルモノマー成分の全量に対し、100質量%であってもよい。
本実施形態の光硬化性組成物は、光重合開始剤を含有する。
光重合開始剤は、光を照射することでラジカルを発生するものであれば特に限定されないが、光造形の際に用いる光の波長でラジカルを発生するものであることが好ましい。
光造形の際に用いる光の波長としては、一般的には365nm〜500nmが挙げられるが、実用上好ましくは365nm〜430nmであり、より好ましくは365nm〜420nmである。
これらのうち、反応性等の観点から、アルキルフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物が好ましい。
アシルフォスフィンオキサイド系化合物としては、例えば、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド(Irgacure819:BASF社製)、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(IrgacureTPO:BASF社製)などが挙げられる。
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド(Irgacure819:BASF社製)、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(IrgacureTPO:BASF社製)の構造式を以下に示す。
本実施形態の光硬化性組成物中における光重合開始剤の含有量(2種以上である場合には総含有量)は、(メタ)アクリルモノマー成分の合計含有量1000質量部に対し、1質量部〜50質量部であることが好ましく、2質量部〜30質量部であることがより好ましく、3質量部〜25質量部であることが更に好ましい。
本実施形態の光硬化性組成物は、必要に応じ、(メタ)アクリルモノマー成分及び光重合開始剤以外のその他の成分を少なくとも1種含んでいてもよい。
但し、(メタ)アクリルモノマー成分及び光重合開始剤の総含有量は、光硬化性組成物の全量に対し、60質量%以上であることが好ましく、80質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることが更に好ましい。
例えば、本実施形態の光硬化性組成物を人工爪の作製に用いる場合、審美性の観点から、光硬化性組成物に色材を含有させることにより、所望の色調に着色してもよい。
色材としては、顔料、染料、色素等が挙げられる。より具体的には、色材として、合成タール色素、合成タール色素のアルミニウムレーキ、無機顔料、天然色素などが挙げられる。
本実施形態の光硬化性組成物が熱重合開始剤を含有する場合には、光硬化と熱硬化との併用が可能となる。熱重合開始剤としては、例えば、熱ラジカル発生剤、アミン化合物などが挙げられる。
各成分を混合する手段は特に限定されず、例えば、超音波による溶解、双腕式攪拌機、ロール混練機、2軸押出機、ボールミル混練機、及び遊星式撹拌機等の手段が含まれる。
本実施形態の光硬化性組成物は、各成分を混合した後、フィルタでろ過して不純物を取り除き、さらに真空脱泡処理を施すことによって調製してもよい。
本実施形態の光硬化性組成物を用いて光硬化を行うに当たっては、特に制限されず、公知の方法及び装置のいずれも使用できる。例えば、本実施形態の光硬化性組成物からなる薄膜を形成する工程と、該薄膜に対して光を照射し硬化層を得る工程とを複数回繰り返すことにより、硬化層を複数積層させ、所望の形状の光硬化物を製造する方法が挙げられる。なお、得られる光硬化物はそのまま用いてもよいし、更に光照射、加熱等によるポストキュアなどを行って、その力学的特性、形状安定性などを向上させた後に用いてもよい。
本実施形態の光硬化性組成物の硬化物(即ち、光造形物)としては、人工爪が特に好ましい。本実施形態の光硬化性組成物の硬化物である人工爪は、曲げ強度、曲げ弾性率、屈曲耐性、引張強度及び伸び率に優れる。
本実施形態の人工爪のサイズは特に限定されず、所望のサイズの人工爪を製造することができる。また、本実施形態の人工爪はセットであってもよい。
また、本実施形態の人工爪は、一部分のみが本実施形態の光硬化性組成物を用いて作製されていてもよく、全体が本実施形態の光硬化性組成物を用いて作製されていてもよい。
図1には、本実施の形態に係る人工爪の製造工程の概略が示されている。本実施の形態に係る人工爪の製造工程は、受付部としての形状取得工程80、設計部としての設計工程82、造形部としての造形工程84、洗浄工程86、硬化部としての硬化工程88を含む。人工爪は、形状取得工程80、設計工程82、造形工程84、洗浄工程86、及び硬化工程88を経て、装飾等の施されていない無地の人工爪として製造される。なお、本実施の形態において、洗浄工程86は、造形工程84の後処理として造形工程84に含まれても良く、また、洗浄工程86は、硬化工程88の前処理として硬化工程88に含まれても良い。
本実施の形態において、光造形及び光硬化に適用する光(例えば、レーザー光)としては、任意の波長の光を適用できるが、比較的高い光エネルギーが得られる波長の光であることが好ましく、例えば、波長が320nm〜420nmであることがより好ましい。これにより、光造形及び光硬化の際のエネルギー効率を向上できて、効果的に光造形及び光硬化を行うことができる。
形状取得工程80において取得する人工爪の形状情報には、依頼者、及び形成する人工爪の装着対象を特定する情報が含まれることが好ましい。即ち、形成する人工爪の形状情報には、誰の指の爪に装着することを目的とするものか又は人工爪の形成を依頼した顧客を特定する情報(例えば、顧客情報)が含まれることが好ましい。また、形状情報には、少なくとも、左右何れの手足の指に装着されるものかを示す情報と共に、第1指(即ち、母指、親指)、第2指(即ち、示指、人差し指)、第3指(即ち、中指)、第4指(即ち、薬指)、及び第5指(即ち、小指)の何れの爪に装着されるものかを示す情報(即ち、対象情報)が含まれることが好ましい。
さらに、形状取得工程80において取得される形状情報には、人工爪の光造形に用いる光造形材料(例えば、光硬化性組成物又は光硬化性組成物に含まれる成分)、光造形に使用する3Dプリンタの指定、及び硬化条件の指定が含まれても良い。この場合、形状取得工程80では、光造形材料、3Dプリンタの指定、及び硬化条件の指定が入力されることで、入力された指定を人工爪の形状情報として受け付ける。
また、設計工程82は、造形工程84における造形条件を設定する。造形条件には、造形工程84において造形物の製造に用いる三次元造形装置としての3Dプリンタの設定(または、指定)、及び3Dプリンタを動作させる際の光の波長(例えば、中心波長又は波長帯)、光強度、照射時間などの設定が挙げられる。また、造形条件には、光造形に用いる光硬化性組成物が含まれる。
これにより、造形工程84では、設計工程82において生成された造形データ及び造形条件に基づいた光造形により造形物を製造し、硬化工程88では、設計工程82において指定された硬化条件に基づいて造形物の光硬化を行う。光造形された造形物を更に光硬化して、人工爪を製造することで、曲げ強度及び曲げ弾性率に優れる人工爪を得ることができる。
評価工程90において、製造した人工爪の寸法及び形状が形成する人工爪の寸法及び形状と同様と評価される場合、製造した人工爪が製品として顧客に納入される。
光造形及び光硬化における造形物の収縮には、光造形に用いる光硬化性組成物、造形条件、硬化条件等が影響する。また、光造形及び光硬化における造形物の収縮には、造形物が光硬化及び硬化する際の環境状態(例えば、温度及び湿度)等が影響することも考えられる。
人工爪は、薄肉に形成されると共に、素爪の表面に接する面(以下、人工爪の裏面ともいう)側が凹状となるように長さ方向及び幅方向の少なくとも一方に反りを有する。このため、硬化後の人工爪12に僅かな収縮が生じることで反りが変化して、人工爪10として実際に爪に装着した際のフィット感が変化する。
なお、評価工程90において、形状データにより示される人工爪と硬化後の硬化後データにより示される人工爪との間に、寸法及び形状等に相違があると評価された場合(例えば、製造された人工爪12が人工爪10とみなすことができない場合)には、予測情報の更新を行うと共に、更新された予測情報に基づいて、該当する人工爪の形状データを再補正することで造形データを再生成して、再生成した造形データに基づいた人工爪12の造り直し(即ち、再製造)が行われる。
3Dプリンタ38としては、例えば、卓上型3DプリンタForm2(Formlabs社製)等が用いられる。
また、演算処理部22が、造形プログラム54を実行することで、造形設計システム20は、出力部として機能すると共に、造形工程84を担う造形部として機能して、3Dプリンタ38の作動を制御して人工爪を光造形する。
さらに、演算処理部22が、光硬化プログラム56、及び評価プログラム58を読み出して実行することで、造形設計システム20は、硬化工程88を担う硬化部、評価工程90を担う評価部として機能する。これにより、造形設計システム20は、光硬化装置40の作動を制御して人工爪の光硬化を行って、人工爪12を形成する。また、造形設計システム20は、3Dスキャナー36の作動を制御して、人工爪12から硬化後データを取得して、取得した硬化後データの評価を行う。
人工爪の形状情報に関連付けられる造形情報には、少なくとも光造形に適用した造形データ、造形データによる光造形に使用する3Dプリンタを特定する情報、及び光造形に使用される光硬化性組成物を特定する情報が含まれる。すなわち、造形情報には、造形条件の指定を用いることができる。
また、人工爪の形状情報には、人工爪10の製造を依頼した顧客情報が含まれても良く、顧客情報により形成する人工爪を装着する人を特定できるようにすることで、データベース60に格納されている顧客情報に基づいて人工爪を製造できる。
本実施の形態に係る人工爪の製造には、光造形材料として光硬化性組成物を用いる。本実施の形態に適用される光硬化性組成物は光造形に用いることができるものであれば特に限定はされないが、上記に記載の1分子中に水酸基及びカルボキシ基を有さず2個の芳香環と2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有するジ(メタ)アクリルモノマーから選ばれる少なくとも1種であり重量平均分子量が400以上800以下である(メタ)アクリルモノマー(以下、(メタ)アクリルモノマー(X)という)と、1分子中に少なくとも1個の環構造と、1個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する(メタ)アクリルモノマーから選ばれる少なくとも1種であり重量平均分子量が130以上350以下である(メタ)アクリルモノマー(いか、ジ(メタ)アクリルモノマー(D)という)、並びに、光重合開始剤を含有する光硬化性組成物が好ましい。
この後、ステップ106では、予測した収縮状態に基づいて形状データを補正することで、造形データを生成する。
このように形成される造形データの三次元データファイル(例えば、STLファイル)には、各人工爪の形状データが、予測情報に基づいて補正された造形データとして含まれる。また、STLファイルにおいては、3Dプリンタ38において、ベース74側から光造形されるようにデータが生成されている。
このようにしてSTLファイルを生成すると、ステップ108へ移行して、光造形処理を行う。光造形処理は、3Dプリンタ38において、造形条件において設定された光硬化性組成物が用いられる。これにより、光硬化性組成物が層状(例えば、厚さ100μmの層状)に積層された光造形物が得られる。この光造形物は、各セットの人工爪がベース74の各架台76に形成されると共に、一つ又は複数セット分が光造形されて形成されている。なお、造形設計システム20は、造形時の3Dプリンタ38の設置環境の環境条件(例えば、環境温度及び環境湿度)を環境センサー42により検出し、検出した環境条件を、データベース60に格納して予測情報に含める。
なお、造形設計システム20は、環境センサー44により取得される光硬化装置40の設置環境を人工爪10の形状情報に関連付けられた予測情報としてデータベース60に格納する。
ステップ114、ステップ116では、人工爪12の各々について硬化後データと形状データとを比較することで、人工爪10に対する人工爪12を評価する。この際、硬化後データにより示される人工爪12の寸法(例えば、長さ、幅、厚さ、体積など)、及び外形形状(例えば、長さ方向及び幅方向の各々の反り)が、人工爪10と比較されて、寸法及び形状について、各人工爪12が人工爪10と一致するか又は一致するとみなせる場合(つまり、許容可能に設定された誤差範囲内である場合)、良好と評価されてステップ116において肯定判定される。
ステップ116において否定判定されるとステップ120へ移行する。このステップ120では、硬化後データに対する造形データの差分(例えば、収縮量又は収縮率、反りの度合い)が求められて、形状データ(又は、形状情報)、造形データ(又は、造形情報)、及び硬化情報の各々に関連付けてデータベース60に格納される。これと共に、ステップ120では、人工爪10に対する予測情報の更新が行われる。
また、造形設計システム20は、一人分の人工爪10を1セットにして、人工爪10のセット及びセット中の人工爪10の各々を特定可能に製造するので、多数の人工爪12の製造を容易にできて、且つ、人工爪12の各々が人工爪10の何れに対応するかを明確にできる。
<光硬化性組成物の調製>
下記表1〜4に示す各成分を混合し、光硬化性組成物を得た。
<測定及び評価>
得られた光硬化性組成物を用い、以下の測定及び評価を行った。結果を表1〜4に示す。
光硬化性組成物の粘度を、E型粘度計により、25℃、50rpmの条件で測定した。
得られた光硬化性組成物を、3Dプリンタ(FormLab社Form2)を用い、80mm×10mm×厚さ4mmの大きさに造形し、造形物を得た。得られた造形物に対し、波長365nmの紫外線を5J/cm2の条件で照射して本硬化させることにより、光造形物を得た。
試験片の曲げ強度及び曲げ弾性率を、それぞれ、ISO178(又は、JIS K7171)に準拠して測定した。これらの測定は、引張り試験装置((株)インテスコ製)を用い、ポンチ半径5mm、支点半径5mm、支点間距離64mm、押込み速度2mm/分の条件で行った。
また、この場合、上記曲げ弾性率は、好ましくは400MPa以上であり、より好ましくは1500MPa以上である。
得られた光硬化性樹脂組成物を、3Dプリンタ(FormLab社Form2)を用い、外径8mm、内径7.5mm(但し、厚みが0.5mm)で、円周が90°、長さ15mmの大きさに造形し、波長365nmの紫外線を5J/cm2の条件で照射して本硬化させることにより、光造形物を得た。
得られた光硬化性樹脂組成物を、3Dプリンタ(FormLab社Form2)を用い、外径8mm、内径7mm(但し、厚みが1.0mm)で、円周が90°、長さ15mmの大きさに造形し、波長365nmの紫外線を5J/cm2の条件で照射して本硬化させることにより、光造形物を得た。
得られた光硬化性樹脂組成物を、3Dプリンタ(FormLab社Form2)を用い、30mm×10mm×厚さ0.5mmの大きさに造形し、波長365nmの紫外線を5J/cm2の条件で照射して本硬化させることにより、光造形物を得た。
引張試験片を、示差走査熱量計(DMS)(日立ハイテクサイエンス社製DMS6100動的粘弾性測定装置)により5℃/分の昇温速度で測定してTg(即ち、ガラス転移温度)を得た。
ここで、ABE−300、A−BPE−4、A−BPE−10は、新中村化学工業(株)製のアクリルモノマーであり、BP−4PAは、共栄社化学(株)製のアクリルモノマーであり、BP−2EMは、共栄社化学(株)製のメタクリルモノマーである。
ここで、PO−A、POB-A、M−600A及び4EG−Aは共栄社化学(株)製のアクリルモノマーであり、POは、共栄社化学(株)製のメタクリルモノマーであり、A−LEN−10及びAPG−200は新中村化学工業(株)製、THFA及びAIBは大阪有機化学工業(株)製、FA511ASは日立化成(株)製、CHDMMAは日本化成(株)製のアクリルモノマーである。
ここで、Irg819は、BASF社製の「Irgacure819」(アシルフォスフィンオキサイド系化合物)であり、Irg184は、BASF社製の「Irgacure184」(アルキルフェノン系化合物)であり、TPOは、BASF社製の「IrgacureTPO」(アシルフォスフィンオキサイド系化合物)である。
実施例1〜30の光硬化性組成物の粘度及びガラス転移温度(つまり、Tg)は、光造形に適した範囲であった。
以上により、実施例1〜30の光硬化性組成物は、人工爪の光造形による作製に特に適していることが確認された。
Claims (20)
- 形成する人工爪の三次元の外形形状を特定可能な形状情報を受け付ける受付ステップと、
三次元の造形データ及び所定の造形情報に基づいて三次元造形装置により光造形された後、所定の硬化条件で硬化装置により光硬化された造形物に生じる反りの変化を含む収縮状態を、予め定めた予測情報に基づいて予測する予測ステップと、
前記形状情報から得られる前記形成する人工爪の三次元の形状データを、前記予測ステップの予測結果に基づいて補正して、前記形成する人工爪の造形物を前記三次元造形装置により光造形する三次元の造形データを生成する生成ステップと、
前記生成ステップにより生成された前記造形データを出力する出力ステップと、
を含む造形データの生成方法。 - 前記予測情報には、前記三次元造形装置、前記三次元造形装置において光造形に用いる光造形材料を含む造形条件を示す造形情報、及び前記硬化条件を示す硬化情報を含む請求項1に記載の造形データの生成方法。
- 前記予測情報には、予め製造された前記人工爪の形状データ、該形状データから生成された造形データ、及び該造形データに基づいて光造形されて光硬化された造形物の硬化後の外形形状を示す三次元の硬化後データが含まれる請求項1又は請求項2に記載の造形データの生成方法。
- 前記造形データに基づいて光造形されて光硬化された造形物の硬化後の外形形状を示す三次元の硬化後データを取得する取得ステップと、
前記取得ステップにおいて取得された前記硬化後データ、該硬化後データに対する前記形成する人工爪の形状データ、該形状データに対して前記予測ステップで予測された予測結果、及び該予測結果に基づいて生成された前記造形データに基づいて前記予測情報を更新する更新ステップと、
を含む請求項1から請求項3の何れか1項に記載の造形データの生成方法。 - 複数の前記形成する人工爪が基板上に配列されて、前記三次元造形装置により一体に形成されるように、複数の前記形成する人工爪の前記造形データを合成する合成ステップを含む請求項1から請求項4の何れか1項に記載の造形データの生成方法。
- 前記合成ステップは、複数の前記形成する人工爪の各々を識別可能に特定する識別情報が前記基板上に形成されるデータを付与することを含む請求項5に記載の造形データの生成方法。
- 前記合成ステップは、各々に前記複数の前記形成する人工爪が配列された複数の前記基板が前記三次元造形装置により並行して光造形されるように前記造形データを合成する請求項5又は請求項6に記載の造形データの生成方法。
- 形成する人工爪の三次元の外形形状を特定可能な形状情報を受け付ける受付ステップと、
三次元の造形データ及び所定の造形情報に基づいて三次元造形装置により光造形された後、所定の硬化条件で硬化装置により光硬化された造形物に生じる反りの変化を含む収縮状態を、予め定めた予測情報に基づいて予測する予測ステップと、
前記形状情報から得られる前記形成する人工爪の三次元の形状データを、前記予測ステップの予測結果に基づいて補正して、前記形成する人工爪の造形物を前記三次元造形装置により光造形する三次元の造形データを生成する生成ステップと、
前記生成ステップにより生成された前記造形データに基づき、前記三次元造形装置により造形物を生成する造形ステップと、
前記造形ステップにより造形された前記造形物を更に光硬化させる硬化ステップと、
を含む人工爪の製造方法。 - 前記硬化ステップにより光硬化された硬化後の造形物から該造形物の外形形状を示す三次元の硬化後データを取得する取得ステップと、
前記硬化後データと前記形成する人工爪の形状データとを比較することで、前記硬化後の造形物を評価する評価ステップと、
を含む請求項8に記載の人工爪の製造方法。 - 前記評価ステップの評価結果に基づいて、前記予測情報を更新する更新ステップを含む請求項9に記載の人工爪の製造方法。
- 前記硬化ステップに先立って、前記造形ステップにより光造形された造形物から該造形物の光造形に用いた余剰の光造形材料を除去する洗浄ステップを含む請求項8から請求項10の何れか1項に記載の人工爪の製造方法。
- 入力される三次元の造形データに基づいて三次元の造形物を光造形する三次元造形装置と、
前記三次元造形装置により光造形された前記造形物を光硬化させる硬化装置と、
形成する人工爪の三次元の外形形状を特定可能な形状情報を受け付ける受付部、三次元の造形データ及び所定の造形情報に基づいて前記三次元造形装置により光造形された後、所定の硬化条件で前記硬化装置により光硬化された造形物に生じる反りの変化を含む収縮状態を、予め定められて記憶された予測情報に基づいて予測する予測部、前記形状情報から得られる前記形成する人工爪の三次元の形状データを、前記予測部の予測結果に基づいて補正して、前記形成する人工爪の造形物を前記三次元造形装置により光造形する三次元の造形データを生成する生成部、及び前記造形データを前記三次元造形装置に出力する出力部を含む造形設計装置と、
を有する人工爪の製造システム。 - 前記予測情報には、前記三次元造形装置、前記三次元造形装置において造形に用いる光造形材料を含む造形条件を示す造形情報、並び前記硬化条件を示す硬化情報が含まれる請求項12に記載の人工爪の製造システム。
- 前記造形設計装置に記憶された前記予測情報には、予め製造された前記人工爪の形状データ、該形状データから生成された造形データ、及び該造形データに基づいて光造形されて光硬化された造形物の硬化後の外形形状を示す三次元の硬化後データが含まれる請求項12又は請求項13に記載の人工爪の製造システム。
- 前記造形設計装置は、
前記造形データに基づいて光造形されて光硬化された造形物の硬化後の外形形状を示す三次元の硬化後データを取得する取得部と、
前記取得部において取得された前記硬化後データ、該硬化後データに対する前記形成する人工爪の形状データ、該形状データに対して前記予測部で予測された予測結果、及び該予測結果に基づいて生成された前記造形データに基づいて前記予測情報を更新する更新部と、
を含む請求項12から請求項14の何れか1項に記載の人工爪の製造システム。 - 前記造形設計装置は、
複数の前記形成する人工爪が基板上に配列されて、前記三次元造形装置により一体に形成されるように、複数の前記形成する人工爪の前記造形データを合成する合成部を含む請求項12から請求項15の何れか1項に記載の人工爪の製造システム。 - 前記造形設計装置の前記合成部は、複数の前記形成する人工爪の各々を識別可能に特定する識別情報が前記基板上に形成されるデータを付与することを含む請求項16に記載の人工爪の製造システム。
- 前記造形設計装置の前記合成部は、各々に前記複数の前記形成する人工爪が配列された複数の前記基板が前記三次元造形装置により並行して造形されるように前記造形データを合成する請求項16又は請求項17に記載の人工爪の製造システム。
- 前記硬化装置により光硬化された硬化後の造形物から該造形物の外形形状を示す三次元の硬化後データを取得する取得部、及び前記硬化後データと前記形成する人工爪の形状データとを比較することで、前記硬化後の造形物を評価する評価部を有する評価装置を含む請求項12から請求項18の何れか1項に記載の人工爪の製造システム。
- 前記造形設計装置は、前記評価装置の前記評価部の評価結果に基づいて、前記予測情報を更新する更新部を含む請求項19に記載の人工爪の製造システム。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022190698A (ja) * | 2021-06-14 | 2022-12-26 | ジェイシー コリア コーポレーション | ネイルチップ |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3868249A4 (en) * | 2018-10-15 | 2022-06-15 | AI Co., Ltd | FALSE NAILS AND METHOD OF PUTTING THEM ON |
JP7172564B2 (ja) * | 2018-12-21 | 2022-11-16 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形システムおよび三次元造形物の製造方法 |
JP7283933B2 (ja) | 2019-03-26 | 2023-05-30 | 株式会社松風 | 歯科用三次元造形物の作製に用いる歯科用光造形式三次元印刷材料 |
US20200339828A1 (en) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
CN115038730A (zh) * | 2020-02-10 | 2022-09-09 | 可乐丽则武齿科株式会社 | 光造形用树脂组合物 |
JP7572705B2 (ja) | 2020-03-31 | 2024-10-24 | 互応化学工業株式会社 | 水性ポリマーエマルション、メークアップ化粧料及び水性ポリマーエマルションの製造方法 |
JP7543755B2 (ja) | 2020-07-23 | 2024-09-03 | セイコーエプソン株式会社 | 機械学習装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07276507A (ja) * | 1994-04-04 | 1995-10-24 | Teijin Seiki Co Ltd | 光造形簡易型及びその製造方法 |
JP2004005631A (ja) * | 2003-05-06 | 2004-01-08 | Hitachi Ltd | 立体形状記述方法及びそれを用いたエンジニアリングシステム |
WO2008044693A1 (fr) * | 2006-10-10 | 2008-04-17 | Shofu Inc. | Système et programme de création de données de modélisation et procédé de fabrication |
JP2010120260A (ja) * | 2008-11-19 | 2010-06-03 | Cp Toms:Kk | 金型用原型、金型の製造方法および造形型 |
JP2011067385A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Meikou Advance Co Ltd | ネイルチップの三次元データ作成方法、ネイルチップ成形型の製造方法、およびネイルチップの製造方法 |
JP2014212819A (ja) * | 2013-04-23 | 2014-11-17 | 隆彌 渡邊 | 巻き爪矯正装置 |
WO2016042610A1 (ja) * | 2014-09-17 | 2016-03-24 | 富士機械製造株式会社 | 立体造形物の識別方法 |
JP2017500983A (ja) * | 2013-12-31 | 2017-01-12 | フィネイルズ オーワイ | ネイル施術のためのシステムおよび方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002302523A (ja) * | 2001-04-04 | 2002-10-18 | Rion Co Ltd | 光造形用樹脂 |
US7329708B2 (en) * | 2004-08-18 | 2008-02-12 | General Electric Company | Functionalized poly(arylene ether) composition and method |
JP2012216700A (ja) * | 2011-04-01 | 2012-11-08 | Fujifilm Corp | パターン形成方法およびパターン |
WO2013151119A1 (ja) * | 2012-04-06 | 2013-10-10 | 東亞合成株式会社 | 光学層形成用活性エネルギー線硬化型組成物 |
JP6197043B2 (ja) * | 2012-11-14 | 2017-09-13 | デンツプライ シロナ インコーポレーテッド | 歯科製品を製造するための三次元加工材料系 |
JP2014114402A (ja) * | 2012-12-11 | 2014-06-26 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 光硬化性組成物および成型品 |
WO2015080142A1 (ja) * | 2013-11-28 | 2015-06-04 | Jnc株式会社 | 光硬化性インクジェットインク |
JP6451288B2 (ja) * | 2014-12-17 | 2019-01-16 | コニカミノルタ株式会社 | モデル材インク、インクセットおよび3d造形物を製造する方法 |
WO2016125758A1 (ja) * | 2015-02-03 | 2016-08-11 | 三井化学株式会社 | 光硬化性組成物、義歯床及び有床義歯 |
US10639877B2 (en) * | 2015-05-15 | 2020-05-05 | Dentsply Sirona Inc. | Three-dimensional printing systems for rapidly producing objects |
JP2017145302A (ja) * | 2016-02-16 | 2017-08-24 | ローランドディー.ジー.株式会社 | 光学的立体造形用光硬化性組成物 |
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2018
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07276507A (ja) * | 1994-04-04 | 1995-10-24 | Teijin Seiki Co Ltd | 光造形簡易型及びその製造方法 |
JP2004005631A (ja) * | 2003-05-06 | 2004-01-08 | Hitachi Ltd | 立体形状記述方法及びそれを用いたエンジニアリングシステム |
WO2008044693A1 (fr) * | 2006-10-10 | 2008-04-17 | Shofu Inc. | Système et programme de création de données de modélisation et procédé de fabrication |
JP2010120260A (ja) * | 2008-11-19 | 2010-06-03 | Cp Toms:Kk | 金型用原型、金型の製造方法および造形型 |
JP2011067385A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Meikou Advance Co Ltd | ネイルチップの三次元データ作成方法、ネイルチップ成形型の製造方法、およびネイルチップの製造方法 |
JP2014212819A (ja) * | 2013-04-23 | 2014-11-17 | 隆彌 渡邊 | 巻き爪矯正装置 |
JP2017500983A (ja) * | 2013-12-31 | 2017-01-12 | フィネイルズ オーワイ | ネイル施術のためのシステムおよび方法 |
WO2016042610A1 (ja) * | 2014-09-17 | 2016-03-24 | 富士機械製造株式会社 | 立体造形物の識別方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022190698A (ja) * | 2021-06-14 | 2022-12-26 | ジェイシー コリア コーポレーション | ネイルチップ |
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