JP2021044593A - 混合装置、混合方法および基板処理システム - Google Patents

Abstract

【課題】リン酸水溶液とシリコン酸化物の析出を抑制する添加剤とを効率的に混合する。【解決手段】本開示の一態様による混合装置は、リン酸水溶液供給部と、添加剤供給部と、タンクと、リン酸水溶液供給路と、添加剤供給路と、を備える。リン酸水溶液供給部は、リン酸水溶液を供給する。添加剤供給部は、シリコン酸化物の析出を抑制する添加剤を供給する。リン酸水溶液供給路は、リン酸水溶液供給部とタンクとを接続する。添加剤供給路は、添加剤供給部とタンクとを接続する。また、リン酸水溶液供給部からタンクに供給されるリン酸水溶液に流動性を与えながら添加剤を供給する。【選択図】図１

Description

開示の実施形態は、混合装置、混合方法および基板処理システムに関する。

従来、基板処理システムにおいて、リン酸水溶液とシリコン酸化物（ＳｉＯ_２）の析出を抑制する添加剤とを含んだエッチング液に基板を浸漬することで、かかる基板にエッチング処理を行うことが知られている（特許文献１参照）。

特開２０１７−１１８０９２号公報

本開示は、リン酸水溶液とシリコン酸化物の析出を抑制する添加剤とを効率的に混合することができる技術を提供する。

本開示の一態様による混合装置は、リン酸水溶液供給部と、添加剤供給部と、タンクと、リン酸水溶液供給路と、添加剤供給路と、を備える。リン酸水溶液供給部は、リン酸水溶液を供給する。添加剤供給部は、シリコン酸化物の析出を抑制する添加剤を供給する。リン酸水溶液供給路は、前記リン酸水溶液供給部と前記タンクとを接続する。添加剤供給路は、前記添加剤供給部と前記タンクとを接続する。また、前記リン酸水溶液供給部から前記タンクに供給される前記リン酸水溶液に流動性を与えながら前記添加剤を供給する。

本開示によれば、リン酸水溶液とシリコン酸化物の析出を抑制する添加剤とを効率的に混合することができる。

図１は、実施形態に係る基板処理システムの構成を示す概略ブロック図である。 図２は、実施形態に係るエッチング液生成処理における混合装置の各部の挙動パターンの具体例を示すタイミングチャートである。 図３は、実施形態の変形例１に係る混合装置の構成を示す概略ブロック図である。 図４は、実施形態の変形例１に係るエッチング液生成処理における混合装置の各部の挙動パターンの具体例を示すタイミングチャートである。 図５は、実施形態の変形例２に係る混合装置の構成を示す概略ブロック図である。 図６は、実施形態の変形例３に係る混合装置の構成を示す概略ブロック図である。 図７は、実施形態の変形例４に係る混合装置の構成を示す概略ブロック図である。 図８は、実施形態の変形例５に係る混合装置の構成を示す概略ブロック図である。 図９は、実施形態の変形例６に係る混合装置の構成を示す概略ブロック図である。 図１０は、実施形態の変形例７に係る混合装置の構成を示す概略ブロック図である。 図１１は、実施形態の変形例８に係る混合装置の構成を示す概略ブロック図である。 図１２は、実施形態の変形例９に係る混合装置の構成を示す概略ブロック図である。 図１３は、実施形態の変形例１０に係る混合装置の構成を示す概略ブロック図である。 図１４は、実施形態の変形例１０に係るエッチング液生成処理における混合装置の各部の挙動パターンの具体例を示すタイミングチャートである。 図１５は、実施形態の変形例１１に係る混合装置の構成を示す概略ブロック図である。 図１６は、実施形態の変形例１２に係る混合装置の構成を示す概略ブロック図である。 図１７は、実施形態の変形例１３に係る混合装置の構成を示す概略ブロック図である。 図１８は、実施形態の変形例１３に係るエッチング液生成処理における混合装置の各部の挙動パターンの具体例を示すタイミングチャートである。 図１９は、実施形態の変形例１４に係る基板処理システムの構成を示す概略ブロック図である。 図２０は、実施形態に係るエッチング液生成処理および基板処理の処理手順を示すフローチャートである。

以下、添付図面を参照して、本願の開示する混合装置、混合方法および基板処理システムの実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態により本開示が限定されるものではない。また、図面は模式的なものであり、各要素の寸法の関係、各要素の比率などは、現実と異なる場合があることに留意する必要がある。さらに、図面の相互間においても、互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれている場合がある。

従来、基板処理システムにおいて、リン酸水溶液とシリコン酸化物の析出を抑制する添加剤とを含んだエッチング液に基板を浸漬することで、かかる基板にエッチング処理を行うことが知られている。

たとえば、リン酸（Ｈ_３ＰＯ_４）水溶液に基板を浸漬することで、基板上に積層されたシリコン窒化膜（ＳｉＮ）およびシリコン酸化膜（ＳｉＯ_２）のうち、シリコン窒化膜を選択的にエッチングすることができる。

さらに、リン酸水溶液にシリコン酸化物の析出を抑制する添加剤（以下、「析出抑制剤」とも呼称する。）を追加することにより、エッチング処理の際にシリコン酸化膜上にシリコン酸化物が析出することを抑制することができる。

しかしながら、このエッチング液を生成する際に、リン酸水溶液と析出抑制剤とが良好に混合されていないと、エッチング処理の際にエッチングむらなどの不具合が生じる恐れがある。一方で、リン酸水溶液と析出抑制剤とを良好に混合するため、かかる混合処理に時間を多くかけると、エッチング処理に必要な液量を十分に供給できない恐れがある。

そこで、リン酸水溶液と析出抑制剤とを効率的に混合することができる技術が期待されている。

＜基板処理システムの構成＞
まず、実施形態に係る基板処理システム１の構成について図１を参照して説明する。図１は、実施形態に係る基板処理システム１の構成を示す概略ブロック図である。

基板処理システム１は、混合装置１０と、基板処理装置３０とを備える。混合装置１０は、リン酸水溶液Ｌと、シリコン酸化物の析出を抑制する析出抑制剤と、シリコン含有化合物水溶液（以下、「シリコン溶液」とも呼称する。）とを混合して、エッチング液Ｅを生成する。析出抑制剤は添加剤の一例であり、エッチング液Ｅは混合液の一例である。

すなわち、実施形態に係るエッチング液Ｅは、リン酸水溶液Ｌと、析出抑制剤と、シリコン溶液とを含有する。なお、実施形態に係るエッチング液Ｅは、必ずしもシリコン溶液を含有しなくともよい。

基板処理装置３０は、混合装置１０で生成されたエッチング液ＥにウェハＷを浸漬して、かかるウェハＷにエッチング処理を施す。ウェハＷは、基板の一例である。実施形態では、たとえば、ウェハＷ上に形成されたシリコン窒化膜（ＳｉＮ）およびシリコン酸化膜（ＳｉＯ_２）のうち、シリコン窒化膜を選択的にエッチングすることができる。

混合装置１０は、リン酸水溶液供給部１１と、析出抑制剤供給部１２と、シリコン溶液供給部１３と、タンク１４と、循環路１５とを備える。析出抑制剤供給部１２は、添加剤供給部の一例である。

リン酸水溶液供給部１１は、リン酸水溶液Ｌをタンク１４に供給する。かかるリン酸水溶液供給部１１は、リン酸水溶液供給源１１ａと、リン酸水溶液供給路１１ｂと、流量調整器１１ｃとを有する。

リン酸水溶液供給源１１ａは、たとえば、リン酸水溶液Ｌを貯留するタンクである。リン酸水溶液供給路１１ｂは、リン酸水溶液供給源１１ａとタンク１４とを接続し、リン酸水溶液供給源１１ａからタンク１４にリン酸水溶液Ｌを供給する。

流量調整器１１ｃは、リン酸水溶液供給路１１ｂに設けられ、タンク１４に供給されるリン酸水溶液Ｌの流量を調整する。流量調整器１１ｃは、開閉弁や、流量制御弁や、流量計などから構成される。

析出抑制剤供給部１２は、析出抑制剤をタンク１４に供給する。かかる析出抑制剤供給部１２は、析出抑制剤供給源１２ａと、析出抑制剤供給路１２ｂと、流量調整器１２ｃとを有する。析出抑制剤供給路１２ｂは、添加剤供給路の一例である。

析出抑制剤供給源１２ａは、たとえば、析出抑制剤を貯留するタンクである。析出抑制剤供給路１２ｂは、析出抑制剤供給源１２ａとタンク１４とを接続し、析出抑制剤供給源１２ａからタンク１４に析出抑制剤を供給する。

また、析出抑制剤供給路１２ｂは、出口に析出抑制剤供給口１２ｄを有する。析出抑制剤供給口１２ｄは、添加剤供給口の一例である。そして、かかる析出抑制剤供給口１２ｄから、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａに析出抑制剤が吐出される。

流量調整器１２ｃは、析出抑制剤供給路１２ｂに設けられ、タンク１４に供給される析出抑制剤の流量を調整する。流量調整器１２ｃは、開閉弁や、流量制御弁や、流量計などから構成される。

実施形態に係る析出抑制剤は、シリコン酸化物の析出を抑止する成分を含むものであればよい。たとえば、リン酸水溶液Ｌに溶解したシリコンイオンを溶解した状態で安定化させてシリコン酸化物の析出を抑制するような成分を含んでもよい。また、その他の公知の方法でシリコン酸化物の析出を抑制するような成分を含んでもよい。

実施形態に係る析出抑制剤には、たとえば、フッ素成分を含むヘキサフルオロケイ酸（Ｈ_２ＳｉＦ_６）水溶液を用いることができる。また、水溶液中のヘキサフルオロケイ酸を安定化させるため、アンモニアなどの添加物を含んでもよい。

実施形態に係る析出抑制剤としては、たとえば、ヘキサフルオロケイ酸アンモニウム（ＮＨ_４）_２ＳｉＦ_６や、ヘキサフルオロケイ酸ナトリウム（Ｎａ_２ＳｉＦ_６）などを用いることができる。

また、実施形態に係る析出抑制剤は、イオン半径が０．２Åから０．９Åの陽イオンである元素を含む化合物であってもよい。ここで、「イオン半径」とは、結晶格子の格子定数から得られる陰イオンと陽イオンの半径の和から経験に求められたイオンの半径である。

実施形態に係る析出抑制剤は、たとえば、アルミニウム、カリウム、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、カルシウム、ジルコニウム、タングステン、チタン、モリブデン、ハフニウム、ニッケルおよびクロムのいずれかの元素の酸化物を含んでもよい。

また、実施形態に係る析出抑制剤は、上述のいずれかの元素の酸化物に代えてまたは加えて、上述のいずれかの元素の窒化物、塩化物、臭化物、水酸化物および硝酸塩のうち少なくとも１つを含んでもよい。

実施形態に係る析出抑制剤は、たとえば、Ａｌ（ＯＨ）_３、ＡｌＣｌ_３、ＡｌＢｒ_３、Ａｌ（ＮＯ_３）_３、Ａｌ_２（ＳＯ_４）_３、ＡｌＰＯ_４およびＡｌ_２Ｏ_３のうち少なくとも１つを含んでもよい。

また、実施形態に係る析出抑制剤は、ＫＣｌ、ＫＢｒ、ＫＯＨおよびＫＮＯ_３のうち少なくとも１つを含んでもよい。さらに、実施形態に係る析出抑制剤は、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＭｇＣｌ_２、ＣａＣｌ_２およびＺｒＣｌ_４のうち少なくとも１つを含んでもよい。

シリコン溶液供給部１３は、シリコン溶液をタンク１４に供給する。実施形態に係るシリコン溶液は、たとえば、コロイダルシリコンを分散させた溶液である。シリコン溶液供給部１３は、シリコン溶液供給源１３ａと、シリコン溶液供給路１３ｂと、流量調整器１３ｃとを有する。

シリコン溶液供給源１３ａは、たとえば、シリコン溶液を貯留するタンクである。シリコン溶液供給路１３ｂは、シリコン溶液供給源１３ａとタンク１４とを接続し、シリコン溶液供給源１３ａからタンク１４にシリコン溶液を供給する。

流量調整器１３ｃは、シリコン溶液供給路１３ｂに設けられ、タンク１４に供給されるシリコン溶液の流量を調整する。流量調整器１３ｃは、開閉弁や、流量制御弁や、流量計などから構成される。

タンク１４は、リン酸水溶液供給部１１から供給されるリン酸水溶液Ｌと、析出抑制剤供給部１２から供給される析出抑制剤と、シリコン溶液供給部１３から供給されるシリコン溶液とを貯留する。また、タンク１４は、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とシリコン溶液とが混ぜられて生成されるエッチング液Ｅを貯留する。

循環路１５は、タンク１４から出て、かかるタンク１４に戻る循環ラインである。循環路１５は、タンク１４の底部に設けられる入口１５ａと、タンク１４の上部に設けられる出口１５ｂとを有し、かかる入口１５ａから出口１５ｂに向かって流れる循環流を形成する。なお、実施形態では、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａの上方に出口１５ｂが配置される。

循環路１５には、タンク１４を基準として、上流側から順にポンプ１６と、ヒータ１７と、開閉弁１８と、フィルタ１９と、分岐部１５ｃとが設けられる。また、分岐部１５ｃからは、基板処理装置３０の処理槽３１にエッチング液Ｅを送る送液路２２が分岐している。

ポンプ１６は、タンク１４から出て、循環路１５を通り、タンク１４に戻るリン酸水溶液Ｌの循環流を形成する。

ヒータ１７は、循環路１５内を循環するリン酸水溶液Ｌを加温する。実施形態では、かかるヒータ１７でリン酸水溶液Ｌを加温することによって、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌを加温する。

フィルタ１９は、循環路１５内を循環するエッチング液Ｅに含まれるパーティクルなどの汚染物質を除去する。なお、循環路１５には、かかるフィルタ１９をバイパスするバイパス流路２０が設けられ、かかるバイパス流路２０には開閉弁２１が設けられる。

そして、循環路１５に設けられる開閉弁１８とバイパス流路２０に設けられる開閉弁２１とを互い違いに開閉することにより、フィルタ１９を流れる循環流と、フィルタ１９をバイパスする循環流とのいずれかを形成することができる。

ここで、実施形態では、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とを効率的に混合するため、リン酸水溶液Ｌに流動性を与えながら析出抑制剤を供給する。たとえば、実施形態では、ポンプ１６を作動させて循環路１５に循環流を形成することにより、リン酸水溶液Ｌに流動性を与える。

このように、リン酸水溶液Ｌに流動性を与えながら析出抑制剤を供給することにより、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤との接触面積を増やすことができる。したがって、実施形態によれば、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とを効率的に混合することができる。

また、実施形態では、析出抑制剤供給路１２ｂからタンク１４に析出抑制剤を供給する析出抑制剤供給口１２ｄが、循環路１５の出口１５ｂに隣接して設けられるとよい。これにより、出口１５ｂから吐出され、大きな流動性を有するリン酸水溶液Ｌに析出抑制剤を直接的に供給することができる。

したがって、実施形態によれば、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤との接触面積をさらに増やすことができることから、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

ここで、混合装置１０におけるエッチング液生成処理の詳細について、図２を参照しながら説明する。図２は、実施形態に係るエッチング液生成処理における混合装置１０の各部の挙動パターンの具体例を示すタイミングチャートである。なお、かかる混合装置１０の各部は、基板処理システム１に設けられる制御部（図示せず）により制御される。

かかる制御部は、図１に示した基板処理システム１の各部（混合装置１０、基板処理装置３０など）の動作を制御する。制御部は、スイッチや各種センサなどからの信号に基づいて、基板処理システム１の各部の動作を制御する。

この制御部は、たとえばコンピュータであり、コンピュータで読み取り可能な記憶媒体（図示せず）を有する。かかる記憶媒体には、基板処理システム１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。

制御部は、記憶媒体に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって基板処理システム１の動作を制御する。なお、プログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記憶されていたものであって、他の記憶媒体から制御部の記憶媒体にインストールされたものであってもよい。

コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。

図２に示すように、実施形態に係るエッチング液生成処理では、混合処理と、加温処理と、フィルトレーション処理とが順に実施される。まず、制御部は、時間Ｔ０からリン酸水溶液供給部１１を動作させて（ＯＮ状態にして）、タンク１４にリン酸水溶液Ｌを供給することにより、混合処理を開始する。

なお、かかる時間Ｔ０の時点では、析出抑制剤供給部１２と、シリコン溶液供給部１３と、ポンプ１６と、ヒータ１７とは動作していない（ＯＦＦ状態である）。また、かかる時間Ｔ０の時点では、開閉弁１８が閉状態であるとともに開閉弁２１が開状態であることから、フィルタ１９がバイパス流路２０でバイパスされている状態（フィルタバイパスがＯＮ状態）である。

次に、タンク１４に所定の量のリン酸水溶液Ｌが貯留された時間Ｔ１で、制御部は、ポンプ１６を動作させて（ＯＮ状態にして）、循環路１５に循環流を形成する。これにより、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌに流動性を与えることができる。

なお、タンク１４に所定の量のリン酸水溶液Ｌが貯留された後にポンプ１６を動作させることにより、循環路１５に空気が混入してポンプ１６に不具合が生じることを抑制することができる。

次に、時間Ｔ１から所定の時間経過し、リン酸水溶液Ｌに十分な流動性が与えられた時間Ｔ２で、制御部は、析出抑制剤供給部１２を動作させて（ＯＮ状態にして）、タンク１４に析出抑制剤を供給する。

これにより、十分な流動性が与えられたリン酸水溶液Ｌに析出抑制剤を混ぜることができることから、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とを効率的に混合することができる。

また、実施形態では、タンク１４内で流動するリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａ上に広がるように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、実施形態では、リン酸水溶液Ｌの流動性に合わせて、析出抑制剤を少量ずつ供給するとよい。換言すると、実施形態では、リン酸水溶液Ｌの流動性に基づいて、析出抑制剤の供給量を設定するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌでの析出抑制剤の濃度が局所的に上昇することを抑制することができる。したがって、実施形態によれば、析出抑制剤の濃度が局所的に上昇することで発生する析出抑制剤のゲル化を抑制することができる。

次に、時間Ｔ２から所定の時間経過した時間Ｔ３で、制御部は、シリコン溶液供給部１３を動作させて（ＯＮ状態にして）、タンク１４にシリコン溶液を供給する。そして、析出抑制剤およびシリコン溶液がタンク１４に所定の量供給された時間Ｔ４で、制御部は、析出抑制剤供給部１２およびシリコン溶液供給部１３を停止する（ＯＦＦ状態にする）。

次に、リン酸水溶液Ｌがタンク１４に所定の量供給された時間Ｔ５で、制御部は、リン酸水溶液供給部１１を停止する（ＯＦＦ状態にする）。そして、時間Ｔ６まで循環路１５内に循環流を形成してタンク１４内の薬液を混ぜることにより、混合処理が完了する。

なお、図２の例では、析出抑制剤よりもシリコン溶液を遅いタイミングで供給開始する例について示したが、析出抑制剤とシリコン溶液とを同じタイミング（時間Ｔ２）で供給開始してもよい。

つづいて、制御部は、時間Ｔ６からヒータ１７を動作させて（ＯＮ状態にして）、循環路１５内を循環するエッチング液Ｅを加温することにより、加温処理を開始する。制御部は、かかるヒータ１７でエッチング液Ｅを加温することによって、タンク１４に貯留されるエッチング液Ｅを加温する。

なお、タンク１４に設けられる液面センサ（図示せず）を用いてリン酸水溶液Ｌや析出抑制剤などの液量を秤量する場合に、貯留されるリン酸水溶液Ｌの温度変化は秤量の精度に悪影響を与える場合がある。

そこで、実施形態では、各薬液の秤量が完了し、混合処理が完了した時点（時間Ｔ６）から加温処理を開始する。これにより、各薬液の秤量精度を良好に維持することができる。

次に、タンク１４内のエッチング液Ｅが所定の温度（たとえば、１６５℃）まで加温された時間Ｔ７で、加温処理が完了する。このように、実施形態では、加温処理を実施するヒータ１７を混合装置１０に設けることにより、加温されたエッチング液Ｅを基板処理装置３０に供給することができる。

また、実施形態では、ヒータ１７を混合装置１０の循環路１５に設けることにより、エッチング液Ｅを効率的に加温することができる。

なお、実施形態に係るエッチング液生成処理では、混合処理が完了した後に加温処理を開始している。これは、加温されて温度が上昇したリン酸水溶液Ｌに有機溶剤を含んだ析出抑制剤を供給すると、かかる析出抑制剤が突沸してしまう恐れがあるからである。

すなわち、実施形態によれば、混合処理が完了した後に加温処理を開始することにより、供給の際に析出抑制剤が突沸することを抑制することができる。

また同様に、加温されて温度が上昇したリン酸水溶液Ｌに水分を含んだシリコン溶液を供給すると、かかるシリコン溶液が突沸してしまう恐れがある。すなわち、実施形態によれば、混合処理が完了した後に加温処理を開始することにより、供給の際にシリコン溶液が突沸することを抑制することができる。

つづいて、制御部は、時間Ｔ７からフィルタバイパスをＯＦＦ状態にすることにより、フィルトレーション処理を開始する。すなわち、制御部は、時間Ｔ７から開閉弁１８を開状態に変更するとともに開閉弁２１を閉状態に変更して、フィルタ１９を流れる循環流を循環路１５に形成する。これにより、エッチング液Ｅに含まれるパーティクルなどの汚染物質が除去される。

そして、エッチング液Ｅに含まれるパーティクルなどの汚染物質が十分に除去された時間Ｔ８で、フィルトレーション処理が完了する。ここまでの処理によって、実施形態に係るエッチング液生成処理が完了する。

なお、実施形態に係るエッチング液生成処理では、混合処理および加温処理においてフィルタバイパスをＯＮ状態にしている。これにより、循環路１５において、フィルタ１９で発生する圧力損失を低減することができることから、タンク１４に貯留されたリン酸水溶液Ｌを効率よく循環させることができる。

したがって、実施形態によれば、フィルタバイパスをＯＮ状態にすることにより、リン酸水溶液Ｌに効率よく流動性を与えることができる。なお、加温処理が完了するまでは、フィルタ１９でリン酸水溶液Ｌなどを濾過する必要はないことから、バイパス流路２０を介して循環させたとしても特に問題はない。

図１に戻り、基板処理システム１のその他の部位の説明を続ける。基板処理装置３０は、混合装置１０で生成されたエッチング液ＥにウェハＷを浸漬して、かかるウェハＷにエッチング処理を施す。

基板処理装置３０は、処理槽３１と、循環路３２と、ＤＩＷ供給部３３と、エッチング液排出部３４とを備える。処理槽３１は、内槽３１ａと外槽３１ｂとを有する。

内槽３１ａは、上部が開放され、エッチング液Ｅが上部付近まで供給される。かかる内槽３１ａでは、基板昇降機構３５で複数のウェハＷがエッチング液Ｅに浸漬され、ウェハＷにエッチング処理が行われる。かかる基板昇降機構３５は、昇降可能に構成され、複数のウェハＷを垂直姿勢で前後に並べて保持する。

外槽３１ｂは、内槽３１ａの上部周囲に設けられるとともに、上部が開放される。外槽３１ｂには、内槽３１ａからオーバーフローしたエッチング液Ｅが流入する。また、外槽３１ｂには、混合装置１０からエッチング液Ｅが送液路２２を介して供給され、ＤＩＷ供給部３３からＤＩＷ（DeIonized Water：脱イオン水）が供給される。

なお、送液路２２には、流量調整器２３が設けられる。かかる流量調整器２３は、処理槽３１に供給されるエッチング液Ｅの流量を調整する。流量調整器２３は、開閉弁や、流量制御弁や、流量計などから構成される。

ＤＩＷ供給部３３は、ＤＩＷ供給源３３ａと、ＤＩＷ供給路３３ｂと、流量調整器３３ｃとを有する。ＤＩＷ供給部３３は、加温されたエッチング液Ｅから蒸発した水分を補給するため、外槽３１ｂにＤＩＷを供給する。

ＤＩＷ供給路３３ｂは、ＤＩＷ供給源３３ａと外槽３１ｂとを接続し、ＤＩＷ供給源３３ａから外槽３１ｂに所定温度のＤＩＷを供給する。

流量調整器３３ｃは、ＤＩＷ供給路３３ｂに設けられ、外槽３１ｂへ供給されるＤＩＷの供給量を調整する。流量調整器３３ｃは、開閉弁や流量制御弁、流量計などで構成される。流量調整器３３ｃによってＤＩＷの供給量が調整されることで、エッチング液Ｅの温度、リン酸濃度、シリコン濃度および析出抑制剤濃度が調整される。

また、外槽３１ｂには、温度センサ３６とリン酸濃度センサ３７とが設けられる。温度センサ３６は、エッチング液Ｅの温度を検出し、リン酸濃度センサ３７は、エッチング液Ｅのリン酸濃度を検出する。温度センサ３６およびリン酸濃度センサ３７で生成された信号は、上述の制御部に送信される。

外槽３１ｂと内槽３１ａとは、循環路３２によって接続される。循環路３２の一端は外槽３１ｂの底部に接続され、循環路３２の他端は内槽３１ａ内に設置される処理液供給ノズル３８に接続される。

循環路３２には、外槽３１ｂ側から順に、ポンプ３９と、ヒータ４０と、フィルタ４１と、シリコン濃度センサ４２とが設けられる。

ポンプ３９は、外槽３１ｂから循環路３２を経て内槽３１ａに送られるエッチング液Ｅの循環流を形成する。また、エッチング液Ｅは、内槽３１ａからオーバーフローすることで、再び外槽３１ｂへと流出する。このようにして、基板処理装置３０内にエッチング液Ｅの循環流が形成される。すなわち、かかる循環流は、外槽３１ｂ、循環路３２および内槽３１ａにおいて形成される。

ヒータ４０は、循環路３２を循環するエッチング液Ｅの温度を調整する。フィルタ４１は、循環路３２を循環するエッチング液Ｅを濾過する。シリコン濃度センサ４２は、循環路３２を循環するエッチング液Ｅのシリコン濃度を検出する。シリコン濃度センサ４２で生成された信号は、制御部に送信される。

エッチング液排出部３４は、エッチング処理で使用されたエッチング液Ｅの全部、または一部を入れ替える際にエッチング液ＥをドレインＤＲに排出する。エッチング液排出部３４は、排出路３４ａと、流量調整器３４ｂと、冷却タンク３４ｃとを有する。

排出路３４ａは、循環路３２に接続される。流量調整器３４ｂは、排出路３４ａに設けられ、排出されるエッチング液Ｅの排出量を調整する。流量調整器３４ｂは、開閉弁や流量制御弁、流量計などから構成される。

冷却タンク３４ｃは、排出路３４ａを流れてきたエッチング液Ｅを一時的に貯留するとともに冷却する。冷却タンク３４ｃでは、流量調整器３４ｂによってエッチング液Ｅの排出量が調整される。

＜変形例＞
つづいて、実施形態に係る混合装置１０の各種変形例について、図３〜図１８を参照しながら説明する。図３は、実施形態の変形例１に係る混合装置１０の構成を示す概略ブロック図である。

なお、以下の各種変形例では、実施形態と同一の部位には同一の符号を付することにより重複する説明を省略する。また、以降の図面では、混合処理に対する理解の容易のため、タンク１４にリン酸水溶液Ｌが貯留される状態について示す。

図３に示すように、変形例１に係る混合装置１０では、析出抑制剤供給部１２における析出抑制剤供給路１２ｂの構成が実施形態と異なる。具体的には、析出抑制剤供給路１２ｂが複数の流路に分岐される。

そして、変形例１では、析出抑制剤供給口１２ｄがタンク１４の上部に水平方向に複数分割されて設けられる。すなわち、変形例１では、複数の析出抑制剤供給口１２ｄが水平方向に互いに異なった位置に設けられている。

なお、本開示において、「タンク１４の上部」とは、タンク１４の高さ方向における中央から上側のことであり、「タンク１４の下部」とは、タンク１４の高さ方向における中央から下側のことである。

この変形例１では、析出抑制剤供給部１２が、複数の析出抑制剤供給口１２ｄを用いて析出抑制剤を多点に分割し、貯留されるリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａに供給する。これにより、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤との接触面積を増やすことができる。したがって、変形例１によれば、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

また、変形例１では、析出抑制剤を多点に分割してリン酸水溶液Ｌに供給することから、リン酸水溶液Ｌでの析出抑制剤の濃度が局所的に上昇することを抑制することができる。これにより、析出抑制剤の濃度が局所的に上昇することで発生する析出抑制剤のゲル化を抑制することができる。

したがって、変形例１によれば、ゲル化していない良好な状態の析出抑制剤をリン酸水溶液Ｌに混合することができる。なお、図３の例では、析出抑制剤供給路１２ｂを４つの流路に分岐させた例について示したが、分岐させる流路の数は４つに限られない。

また、変形例１では、タンク１４内で流動するリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａ上に広がるように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、変形例１では、リン酸水溶液Ｌの流動性に合わせて、析出抑制剤を少量ずつ供給するとよい。換言すると、変形例１では、リン酸水溶液Ｌの流動性に基づいて、析出抑制剤の供給量を設定するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌでの析出抑制剤の濃度が局所的に上昇することをさらに抑制することができることから、析出抑制剤のゲル化をさらに抑制することができる。

図４は、実施形態の変形例１に係るエッチング液生成処理における混合装置１０の各部の挙動パターンの具体例を示すタイミングチャートである。図４に示すように、変形例１に係るエッチング液生成処理では、析出抑制剤の供給タイミングが実施形態と異なる。

具体的には、変形例１では、時間Ｔ０で混合処理が開始された後、ポンプ１６を動作させるタイミング（時間Ｔ１）と同じタイミングで、析出抑制剤の供給を開始する。その後の処理は実施形態と同様であることから、詳細な説明は省略する。

図５は、実施形態の変形例２に係る混合装置１０の構成を示す概略ブロック図である。図５に示すように、変形例２に係る混合装置１０では、複数の析出抑制剤供給口１２ｄの配置が変形例１と異なる。

具体的には、複数の析出抑制剤供給口１２ｄが、水平方向のみならず、高さ方向にも分割されて配置されている。換言すると、変形例２では、複数の析出抑制剤供給口１２ｄは、水平方向および高さ方向に互いに異なった位置に設けられている。

これにより、析出抑制剤をさらに広い範囲に多点で供給することができることから、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

また、変形例２では、析出抑制剤を貯留されるリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａのみならず、リン酸水溶液Ｌの液中にも供給することができる。そして、実施形態に係る析出抑制剤は、有機溶剤を含むことから、比重がリン酸水溶液Ｌよりも軽い。

そこで、変形例２のように析出抑制剤をリン酸水溶液Ｌの液中に供給することにより、リン酸水溶液Ｌの液面Ｌａのみに析出抑制剤が滞留することを抑制することができる。

すなわち、変形例２では、析出抑制剤をリン酸水溶液Ｌの液中に供給することにより、析出抑制剤の濃度が液面Ｌａで局所的に増加して、析出抑制剤がゲル化することを抑制することができる。したがって、変形例２によれば、ゲル化していない良好な状態の析出抑制剤をリン酸水溶液Ｌに混合することができる。

また、変形例２では、タンク１４内で流動するリン酸水溶液Ｌの液中に、かかるリン酸水溶液Ｌの流動性を損なわないように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、リン酸水溶液Ｌの流速よりも遅い流速で析出抑制剤を供給するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌの流動性が損なわれて、析出抑制剤が良好に混合されないことを抑制することができる。

なお、変形例２でのエッチング液生成処理は、図４の例と同様のタイミングチャートで実施すればよい。

図６は、実施形態の変形例３に係る混合装置１０の構成を示す概略ブロック図である。図６に示すように、変形例３に係る混合装置１０では、析出抑制剤供給口１２ｄにシャワーノズル１２ｅが設けられる。かかるシャワーノズル１２ｅは、タンク１４の上部に設けられ、析出抑制剤をリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａに供給する。

この変形例３では、シャワーノズル１２ｅが、貯留されるリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａに薄くのばすように析出抑制剤を供給する。これにより、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤との接触面積をさらに増やすことができる。したがって、変形例３によれば、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

また、変形例３では、析出抑制剤をシャワーノズル１２ｅで薄くのばすようにリン酸水溶液Ｌに供給することから、リン酸水溶液Ｌ内での析出抑制剤の濃度が局所的に上昇することを抑制することができる。

したがって、変形例３によれば、析出抑制剤がリン酸水溶液Ｌに供給された際にゲル化することを抑制することができる。

また、変形例３では、タンク１４内で流動するリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａ上に広がるように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、変形例３では、リン酸水溶液Ｌの流動性に合わせて、析出抑制剤を少量ずつ供給するとよい。換言すると、変形例３では、リン酸水溶液Ｌの流動性に基づいて、析出抑制剤の供給量を設定するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌでの析出抑制剤の濃度が局所的に上昇することをさらに抑制することができることから、析出抑制剤のゲル化をさらに抑制することができる。

なお、変形例３でのエッチング液生成処理は、図４の例と同様のタイミングチャートで実施すればよい。また、シャワーノズル１２ｅは、タンク１４の上部に設けられる場合に限られず、タンク１４の下部に設けられていてもよい。そして、かかるタンク１４の下部に設けられるシャワーノズル１２ｅから、貯留されるリン酸水溶液Ｌの液中に析出抑制剤が供給されてもよい。

図７は、実施形態の変形例４に係る混合装置１０の構成を示す概略ブロック図である。図７に示すように、変形例４に係る混合装置１０では、リン酸水溶液供給路１１ｂにミキサー１１ｄが設けられる。かかるミキサー１１ｄは、たとえば、インラインミキサーやスタティックミキサーなどである。

そして、析出抑制剤供給部１２は、ミキサー１１ｄに析出抑制剤を供給する。これにより、ミキサー１１ｄで大きな流動性を与えられたリン酸水溶液Ｌに析出抑制剤を供給することができる。

したがって、変形例４によれば、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

また、変形例４では、リン酸水溶液供給路１１ｂ内で流動するリン酸水溶液Ｌの液中に、かかるリン酸水溶液Ｌの流動性を損なわないように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、リン酸水溶液Ｌの流速よりも遅い流速で析出抑制剤を供給するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌの流動性が損なわれて、析出抑制剤が良好に混合されないことを抑制することができる。なお、変形例４でのエッチング液生成処理は、図４の例と同様のタイミングチャートで実施すればよい。

図８は、実施形態の変形例５に係る混合装置１０の構成を示す概略ブロック図である。図８に示すように、変形例５に係る混合装置１０では、析出抑制剤供給部１２の析出抑制剤供給口１２ｄがタンク１４の下部に設けられる。そして、かかる析出抑制剤供給口１２ｄから、析出抑制剤がリン酸水溶液Ｌの液中に供給される。

これにより、リン酸水溶液Ｌの液面Ｌａのみに析出抑制剤が滞留することを抑制することができることから、析出抑制剤の濃度が液面Ｌａで局所的に増加して、析出抑制剤がゲル化することを抑制することができる。

したがって、変形例５によれば、ゲル化していない良好な状態の析出抑制剤をリン酸水溶液Ｌに混合することができる。

また、変形例５では、タンク１４内で流動するリン酸水溶液Ｌの液中に、かかるリン酸水溶液Ｌの流動性を損なわないように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、リン酸水溶液Ｌの流速よりも遅い流速で析出抑制剤を供給するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌの流動性が損なわれて、析出抑制剤が良好に混合されないことを抑制することができる。なお、変形例５でのエッチング液生成処理は、図２の例と同様のタイミングチャートで実施すればよい。

図９は、実施形態の変形例６に係る混合装置１０の構成を示す概略ブロック図である。
図９に示すように、変形例６に係る混合装置１０では、析出抑制剤供給部１２の析出抑制剤供給路１２ｂの構成が変形例５と異なる。

具体的には、析出抑制剤供給路１２ｂが複数の流路に分岐され、析出抑制剤供給口１２ｄがタンク１４の下部に水平方向に複数分割されて設けられる。そして、変形例６では、複数の析出抑制剤供給口１２ｄが析出抑制剤を多点に分割して、貯留されるリン酸水溶液Ｌの液中に析出抑制剤を供給する。

これにより、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤との接触面積を増やすことができることから、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

また、変形例６では、リン酸水溶液Ｌの液面Ｌａのみに析出抑制剤が滞留することを抑制することができることから、析出抑制剤の濃度が液面Ｌａで局所的に増加して、析出抑制剤がゲル化することを抑制することができる。

したがって、変形例６によれば、ゲル化していない良好な状態の析出抑制剤をリン酸水溶液Ｌに混合することができる。

また、変形例６では、タンク１４内で流動するリン酸水溶液Ｌの液中に、かかるリン酸水溶液Ｌの流動性を損なわないように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、リン酸水溶液Ｌの流速よりも遅い流速で析出抑制剤を供給するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌの流動性が損なわれて、析出抑制剤が良好に混合されないことを抑制することができる。

なお、変形例６でのエッチング液生成処理は、図２の例と同様のタイミングチャートで実施すればよい。また、図９の例では、析出抑制剤供給路１２ｂを５つの流路に分岐させた例について示したが、分岐させる流路の数は５つに限られない。

図１０は、実施形態の変形例７に係る混合装置１０の構成を示す概略ブロック図である。図１０に示すように、変形例７に係る混合装置１０では、析出抑制剤供給部１２の析出抑制剤供給口１２ｄが、タンク１４の下部において循環路１５の入口１５ａに隣接して設けられる。そして、かかる析出抑制剤供給口１２ｄから、析出抑制剤が循環路１５の入口１５ａに向かって供給される。

これにより、リン酸水溶液Ｌの液面Ｌａのみに析出抑制剤が滞留することを抑制することができることから、析出抑制剤の濃度が液面Ｌａで局所的に増加して、析出抑制剤がゲル化することを抑制することができる。したがって、変形例７によれば、ゲル化していない良好な状態の析出抑制剤をリン酸水溶液Ｌに混合することができる。

また、変形例７では、析出抑制剤が循環路１５に速やかに取り込まれることから、大きな流動性を与えられた循環路１５内のリン酸水溶液Ｌに析出抑制剤を供給することができる。したがって、変形例７によれば、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

また、変形例７では、析出抑制剤供給部１２に対するポンプ１６の脈動の影響を低減することができる。したがって、変形例７によれば、析出抑制剤供給部１２からの析出抑制剤の供給精度を向上させることができる。

また、変形例７では、タンク１４内で流動するリン酸水溶液Ｌの液中に、かかるリン酸水溶液Ｌの流動性を損なわないように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、リン酸水溶液Ｌの流速よりも遅い流速で析出抑制剤を供給するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌの流動性が損なわれて、析出抑制剤が良好に混合されないことを抑制することができる。なお、変形例７でのエッチング液生成処理は、図２の例と同様のタイミングチャートで実施すればよい。

図１１は、実施形態の変形例８に係る混合装置１０の構成を示す概略ブロック図である。図１１に示すように、変形例８に係る混合装置１０では、循環路１５における分岐部１５ｃよりも下流側にミキサー１５ｄが設けられる。かかるミキサー１５ｄは、たとえば、インラインミキサーやスタティックミキサーなどである。

そして、析出抑制剤供給部１２は、ミキサー１５ｄに析出抑制剤を供給する。これにより、ポンプ１６で流動性が与えられたリン酸水溶液Ｌに、さらにミキサー１５ｄで流動性を与えた状態で析出抑制剤を供給することができる。したがって、変形例８によれば、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

また、変形例８では、ミキサー１５ｄがポンプ１６やフィルタ１９よりも循環路１５の下流側に設けられる。これにより、仮に析出抑制剤がゲル化したとしても、かかるゲル化した析出抑制剤がポンプ１６やフィルタ１９に詰まることを抑制することができる。

また、変形例８では、循環路１５内で流動するリン酸水溶液Ｌの液中に、かかるリン酸水溶液Ｌの流動性を損なわないように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、リン酸水溶液Ｌの流速よりも遅い流速で析出抑制剤を供給するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌの流動性が損なわれて、析出抑制剤が良好に混合されないことを抑制することができる。なお、変形例８でのエッチング液生成処理は、図２の例と同様のタイミングチャートで実施すればよい。

図１２は、実施形態の変形例９に係る混合装置１０の構成を示す概略ブロック図である。図１２に示すように、変形例９に係る混合装置１０では、循環路１５におけるポンプ１６よりも上流側に合流部１５ｅが設けられる。

そして、析出抑制剤供給部１２は、かかる合流部１５ｅに析出抑制剤を供給する。これにより、流動性が与えられた循環路１５内のリン酸水溶液Ｌに析出抑制剤を供給することができる。したがって、変形例９によれば、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

また、変形例９では、合流部１５ｅがポンプ１６よりも上流側に設けられることから、かかるポンプ１６の内部でリン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とを混合させることができる。すなわち、変形例９では、ポンプ１６がミキサーの機能を有する。

これにより、別途ミキサーを追加する必要がなくなることから、低コストで効率的にリン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とを混合することができる。

また、変形例９では、循環路１５内で流動するリン酸水溶液Ｌの液中に、かかるリン酸水溶液Ｌの流動性を損なわないように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、リン酸水溶液Ｌの流速よりも遅い流速で析出抑制剤を供給するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌの流動性が損なわれて、析出抑制剤が良好に混合されないことを抑制することができる。なお、変形例９でのエッチング液生成処理は、図２の例と同様のタイミングチャートで実施すればよい。

図１３は、実施形態の変形例１０に係る混合装置１０の構成を示す概略ブロック図である。図１３に示すように、変形例１０に係る混合装置１０では、析出抑制剤供給部１２の析出抑制剤供給口１２ｄがタンク１４の上部に設けられる。

さらに、変形例１０に係る混合装置１０には、攪拌装置がタンク１４に設けられる。たとえば、図１３の例では、攪拌装置の一例であるバブリング装置２４がタンク１４に設けられる。

かかるバブリング装置２４は、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌをバブリングガスでバブリングする。バブリング装置２４は、バブリングガス供給源２４ａと、バブリングガス供給路２４ｂと、流量調整器２４ｃと、バブリングノズル２４ｄとを有する。

バブリング装置２４では、バブリングガス供給源２４ａからバブリングガス供給路２４ｂを介してバブリングノズル２４ｄにバブリングガスを供給する。バブリングノズル２４ｄは、たとえば、タンク１４の底部に設けられ、水平方向に延在する。

また、バブリングノズル２４ｄには、バブリングガスを吐出する複数の吐出口（図示せず）が水平方向に並んで設けられる。そして、かかる複数の吐出口からバブリングガスが吐出されることにより、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌをバブリングすることができる。バブリングガスは、たとえば、窒素ガスなどの不活性ガスである。

そして、変形例１０では、このバブリング装置２４を作動させることにより、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌに対して上昇流による流動性を与えることができる。

このように、リン酸水溶液Ｌにさらなる流動性を与えながら析出抑制剤を供給することにより、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤との接触面積をさらに増やすことができる。したがって、変形例１０によれば、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをさらに効率的に混合することができる。

また、変形例１０では、駆動部分がないバブリング装置２４を攪拌装置として用いていることから、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌへの不純物の混入を抑制することができる。

図１４は、実施形態の変形例１０に係るエッチング液生成処理における混合装置１０の各部の挙動パターンの具体例を示すタイミングチャートである。まず、制御部は、時間Ｔ０からリン酸水溶液供給部１１を動作させて（ＯＮ状態にして）、タンク１４にリン酸水溶液Ｌを供給することにより、混合処理を開始する。

なお、かかる時間Ｔ０の時点では、析出抑制剤供給部１２と、シリコン溶液供給部１３と、ポンプ１６と、ヒータ１７とは動作していない（ＯＦＦ状態である）。また、かかる時間Ｔ０の時点では、フィルタバイパスがＯＮ状態であり、攪拌装置（バブリング装置２４）が動作していない（ＯＦＦ状態である）。

次に、タンク１４に所定の量のリン酸水溶液Ｌが貯留された時間Ｔ１ａで、制御部は、析出抑制剤供給部１２を動作させて（ＯＮ状態にして）、タンク１４に析出抑制剤を供給する。

さらに、析出抑制剤の供給開始と同じタイミング（時間Ｔ１ａ）で、制御部は、攪拌装置（バブリング装置２４）を動作させる（ＯＮ状態にする）。これにより、リン酸水溶液Ｌに流動性を与えることができる。

したがって、流動性が与えられたリン酸水溶液Ｌに析出抑制剤を混ぜることができることから、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とを効率的に混合することができる。

なお、変形例１０では、タンク１４内で流動するリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａ上に広がるように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、変形例１０では、リン酸水溶液Ｌの流動性に合わせて、析出抑制剤を少量ずつ供給するとよい。換言すると、変形例１０では、リン酸水溶液Ｌの流動性に基づいて、析出抑制剤の供給量を設定するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌでの析出抑制剤の濃度が局所的に上昇することを抑制することができることから、析出抑制剤のゲル化を抑制することができる。

次に、時間Ｔ１ａから所定の時間経過した時間Ｔ２ａで、制御部は、ポンプ１６を動作させて（ＯＮ状態にして）、循環路１５に循環流を形成する。これにより、リン酸水溶液Ｌにさらなる流動性を与えることができる。

次に、リン酸水溶液Ｌがタンク１４に所定の量供給された時間Ｔ３ａで、制御部は、リン酸水溶液供給部１１を停止する（ＯＦＦ状態にする）。そして、析出抑制剤がタンク１４に所定の量供給された時間Ｔ４ａで、制御部は、析出抑制剤供給部１２を停止する（ＯＦＦ状態にする）。

さらに、析出抑制剤の供給停止と同じタイミング（時間Ｔ４ａ）で、制御部は、シリコン溶液供給部１３を動作させて（ＯＮ状態にして）、タンク１４にシリコン溶液を供給する。

次に、シリコン溶液がタンク１４に所定の量供給された時間Ｔ５ａで、制御部は、シリコン溶液供給部１３を停止する（ＯＦＦ状態にする）。これにより、混合処理が完了する。

なお、図１４の例では、析出抑制剤よりシリコン溶液を遅いタイミングで供給開始する例について示したが、析出抑制剤とシリコン溶液とを同じタイミング（時間Ｔ１ａ）で供給開始してもよい。

つづいて、制御部は、時間Ｔ５ａからヒータ１７を動作させて（ＯＮ状態にして）、循環路１５内を循環するエッチング液Ｅを加温することにより、加温処理を開始する。制御部は、かかるヒータ１７でエッチング液Ｅを加温することによって、タンク１４に貯留されるエッチング液Ｅを加温する。

そして、タンク１４内のエッチング液Ｅが所定の温度（たとえば、１６５℃）まで加温された時間Ｔ６ａで、加温処理が完了する。つづいて、制御部は、時間Ｔ６ａからフィルタバイパスをＯＦＦ状態にすることにより、フィルトレーション処理を開始する。

そして、エッチング液Ｅに含まれるパーティクルなどの汚染物質が十分に除去された時間Ｔ７ａで、フィルトレーション処理が完了する。これにより、変形例１０に係るエッチング液生成処理が完了する。

図１５は、実施形態の変形例１１に係る混合装置１０の構成を示す概略ブロック図である。図１５に示すように、変形例１１に係る混合装置１０には、攪拌装置の別の一例である攪拌翼２５がタンク１４の下部に設けられる。

そして、変形例１１では、かかる攪拌翼２５を回動可能に構成される駆動装置（図示せず）を作動させることにより、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌに対して渦流による流動性を与えることができる。

このように、リン酸水溶液Ｌにさらなる流動性を与えながら析出抑制剤を供給することにより、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤との接触面積をさらに増やすことができる。したがって、変形例１１によれば、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをさらに効率的に混合することができる。

また、変形例１１では、攪拌翼２５の駆動装置を細かく制御することにより、攪拌速度を細かく制御することができる。これにより、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

なお、変形例１１では、タンク１４が円筒状に形成されているとよい。これにより、タンク１４内のリン酸水溶液Ｌに対して円滑に渦流を形成することができることから、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

また、変形例１１では、タンク１４内で流動するリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａ上に広がるように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、変形例１１では、リン酸水溶液Ｌの流動性に合わせて、析出抑制剤を少量ずつ供給するとよい。換言すると、変形例１１では、リン酸水溶液Ｌの流動性に基づいて、析出抑制剤の供給量を設定するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌでの析出抑制剤の濃度が局所的に上昇することを抑制することができることから、析出抑制剤のゲル化を抑制することができる。

また、変形例１１では、図８などに示したように、タンク１４の下部に設けられる析出抑制剤供給口１２ｄから、析出抑制剤をリン酸水溶液Ｌの液中に供給してもよい。

これにより、攪拌翼２５で形成される渦流に析出抑制剤を積極的に巻き込むことができることから、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

この場合、循環路１５内で流動するリン酸水溶液Ｌの液中に、かかるリン酸水溶液Ｌの流動性を損なわないように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、リン酸水溶液Ｌ内に形成される渦流よりも遅い流速で析出抑制剤を供給するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌの流動性が損なわれて、析出抑制剤が良好に混合されないことを抑制することができる。なお、変形例１１でのエッチング液生成処理は、図１４の例と同様のタイミングチャートで実施すればよい。

図１６は、実施形態の変形例１２に係る混合装置１０の構成を示す概略ブロック図である。図１６に示すように、変形例１２に係る混合装置１０には、攪拌装置の別の一例である超音波発生装置２６がタンク１４の下部に設けられる。

かかる超音波発生装置２６は、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌに向けて超音波を発生することができる。そして、変形例１２では、超音波発生装置２６を作動させることにより、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌに対して超音波による流動性を与えることができる。

このように、リン酸水溶液Ｌにさらなる流動性を与えながら析出抑制剤を供給することにより、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤との接触面積をさらに増やすことができる。またさらに、変形例１２では、超音波発生装置２６からの超音波がリン酸水溶液Ｌの全体に伝達されることから、リン酸水溶液Ｌの液中のいたるところで攪拌が行われる。

したがって、変形例１２によれば、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

また、変形例１２では、超音波発生装置２６からの超音波によってリン酸水溶液Ｌの液中でキャビテーション現象が発生する。このため、リン酸水溶液Ｌ内で仮に析出抑制剤がゲル化したとしても、かかるゲルを小さく分解することができる。

すなわち、変形例１２では、ゲル化した析出抑制剤の溶解を促進することができることから、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

また、変形例１２では、タンク１４内で流動するリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａ上に広がるように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、変形例１２では、リン酸水溶液Ｌの流動性に合わせて、析出抑制剤を少量ずつ供給するとよい。換言すると、変形例１２では、リン酸水溶液Ｌの流動性に基づいて、析出抑制剤の供給量を設定するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌでの析出抑制剤の濃度が局所的に上昇することを抑制することができることから、析出抑制剤のゲル化自体を抑制することができる。なお、変形例１２でのエッチング液生成処理は、図１４の例と同様のタイミングチャートで実施すればよい。

図１７は、実施形態の変形例１３に係る混合装置１０の構成を示す概略ブロック図である。図１７に示すように、変形例１３に係る混合装置１０では、タンク１４の構成が実施形態と異なる。具体的には、変形例１３に係るタンク１４は、内槽１４ａと外槽１４ｂとを有する。

内槽１４ａは、上部が開放され、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とシリコン溶液とが上部付近まで供給される。すなわち、リン酸水溶液供給部１１は内槽１４ａにリン酸水溶液Ｌを供給し、析出抑制剤供給部１２は内槽１４ａに析出抑制剤を供給し、シリコン溶液供給部１３は内槽１４ａにシリコン溶液を供給する。

外槽１４ｂは、内槽１４ａの周囲に設けられるとともに、上部が開放される。外槽１４ｂには、内槽１４ａからオーバーフローしたリン酸水溶液Ｌなどが流入する。

また、外槽１４ｂの底部には、循環路１５の入口１５ａが設けられる。さらに、循環路１５の出口１５ｂは、内槽１４ａの下部に設けられる。すなわち、変形例１３では、外槽１４ｂ、循環路１５および内槽１４ａによって、リン酸水溶液Ｌの循環流が形成される。

そして、変形例１３に係る混合装置１０では、内槽１４ａから外槽１４ｂにリン酸水溶液Ｌをオーバーフローさせることにより、かかるリン酸水溶液Ｌに対して上昇流による流動性を与えることができる。

このように、リン酸水溶液Ｌにさらなる流動性を与えながら析出抑制剤を供給することにより、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤との接触面積をさらに増やすことができる。したがって、変形例１３によれば、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをさらに効率的に混合することができる。

また、変形例１３では、駆動部分がない内槽１４ａおよび外槽１４ｂで上昇流を形成していることから、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌへの不純物の混入を抑制することができる。

なお、変形例１３では、析出抑制剤をタンク１４の内槽１４ａに供給するとよい。これにより、内槽１４ａからオーバーフローするリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａで、析出抑制剤を引き延ばして薄くすることができる。すなわち、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤との接触面積をさらに増やすことができる。

したがって、変形例１３によれば、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

また、変形例１３では、内槽１４ａ内で流動するリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａ上に広がるように析出抑制剤を供給するとよい。すなわち、変形例１３では、リン酸水溶液Ｌの流動性に合わせて、析出抑制剤を少量ずつ供給するとよい。換言すると、変形例１３では、リン酸水溶液Ｌの流動性に基づいて、析出抑制剤の供給量を設定するとよい。

これにより、リン酸水溶液Ｌでの析出抑制剤の濃度が局所的に上昇することを抑制することができることから、析出抑制剤のゲル化を抑制することができる。

図１８は、実施形態の変形例１３に係るエッチング液生成処理における混合装置１０の各部の挙動パターンの具体例を示すタイミングチャートである。まず、制御部は、時間Ｔ０からリン酸水溶液供給部１１を動作させて（ＯＮ状態にして）、タンク１４にリン酸水溶液Ｌを供給することにより、混合処理を開始する。

なお、かかる時間Ｔ０の時点では、析出抑制剤供給部１２と、シリコン溶液供給部１３と、ポンプ１６と、ヒータ１７とは動作していない（ＯＦＦ状態である）。また、かかる時間Ｔ０の時点では、フィルタバイパスがＯＮ状態である。

次に、タンク１４の内槽１４ａおよび外槽１４ｂに所定の量のリン酸水溶液Ｌが貯留された時間Ｔ１ｂで、制御部は、リン酸水溶液供給部１１を停止する（ＯＦＦ状態にする）。なお、かかる所定の量とは、少なくともリン酸水溶液Ｌを内槽１４ａからオーバーフローさせながら循環路１５で循環可能な量である。

さらに、リン酸水溶液Ｌの供給停止と同じタイミング（時間Ｔ１ｂ）で、制御部は、析出抑制剤供給部１２およびポンプ１６を動作させて（ＯＮ状態にして）、タンク１４に析出抑制剤を供給し、循環路１５に循環流を形成する。これにより、内槽１４ａからオーバーフローするリン酸水溶液Ｌに析出抑制剤を供給することができる。

次に、析出抑制剤が内槽１４ａに所定の量供給された時間Ｔ２ｂで、制御部は、析出抑制剤供給部１２を停止する（ＯＦＦ状態にする）。そして、時間Ｔ３ｂまで循環路１５内の循環流を形成してタンク１４内の薬液を混ぜることにより、混合処理が完了する。

つづいて、制御部は、時間Ｔ３ｂからヒータ１７を動作させて（ＯＮ状態にして）、循環路１５内を循環するリン酸水溶液Ｌなどを加温することにより、加温処理を開始する。制御部は、かかるヒータ１７でリン酸水溶液Ｌなどを加温することによって、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌなどを加温する。

さらに、ヒータ１７の動作開始と同じタイミング（時間Ｔ３ｂ）で、制御部は、シリコン溶液供給部１３を動作させて（ＯＮ状態にして）、タンク１４にシリコン溶液を供給する。

そして、シリコン溶液がタンク１４に所定の量供給された時間Ｔ４ｂで、制御部は、シリコン溶液供給部１３を停止する（ＯＦＦ状態にする）。さらに、タンク１４内のリン酸水溶液Ｌなどが所定の温度（たとえば、１６５℃）まで加温された時間Ｔ５ｂで、加温処理が完了する。

つづいて、制御部は、時間Ｔ５ｂからフィルタバイパスをＯＦＦ状態にすることにより、フィルトレーション処理を開始する。

そして、リン酸水溶液Ｌなどに含まれるパーティクルなどの汚染物質が十分に除去された時間Ｔ６ｂで、フィルトレーション処理が完了する。これにより、変形例１３に係るエッチング液生成処理が完了する。

図１９は、実施形態の変形例１４に係る基板処理システム１Ａの構成を示す概略ブロック図である。図１９に示す基板処理システム１Ａは、複数のウェハＷをバッチ処理する基板処理装置３０ではなく、ウェハＷを１枚ずつ枚葉処理する基板処理装置５０を有する点が実施形態と異なる。なお、図１９では、図１に示した実施形態と同様の部位については同じ符号を付して、詳細な説明は省略する。

図１９に示す基板処理システム１Ａでは、循環路１５内を循環するエッチング液Ｅが、送液路２２を介して基板処理装置５０に供給される。かかる基板処理装置５０は、基板保持部５１と、回転機構５２とを有する。

基板保持部５１は、ウェハＷを水平に保持する。回転機構５２は、基板保持部５１および基板保持部５１に保持されるウェハＷを回転させる。そして、基板処理システム１Ａは、基板保持部５１に保持されるウェハＷの上面に、循環路１５から送液路２２を介してエッチング液Ｅを吐出することにより、枚葉処理によるエッチング処理をウェハＷに施すことができる。

なお、図１９には、実施形態に係る混合装置１０に枚葉処理可能な基板処理装置５０を組み合わせた例について示したが、変形例１〜１３に係る混合装置１０に枚葉処理可能な基板処理装置５０を組み合わせてもよい。

実施形態に係る混合装置１０は、リン酸水溶液供給部１１と、添加剤供給部（析出抑制剤供給部１２）と、タンク１４と、リン酸水溶液供給路１１ｂと、添加剤供給路（析出抑制剤供給路１２ｂ）と、を備える。リン酸水溶液供給部１１は、リン酸水溶液Ｌを供給する。添加剤供給部（析出抑制剤供給部１２）は、シリコン酸化物の析出を抑制する添加剤（析出抑制剤）を供給する。リン酸水溶液供給路１１ｂは、リン酸水溶液供給部１１とタンク１４とを接続する。添加剤供給路（析出抑制剤供給路１２ｂ）は、添加剤供給部（析出抑制剤供給部１２）とタンク１４とを接続する。また、リン酸水溶液供給部１１からタンク１４に供給されるリン酸水溶液Ｌに流動性を与えながら添加剤（析出抑制剤）を供給する。これにより、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とを効率的に混合することができる。

また、実施形態に係る混合装置１０は、タンク１４から出てタンク１４に戻る循環路１５と、循環路１５に設けられるポンプ１６と、をさらに備える。そして、ポンプ１６を作動させて循環路１５に循環流を形成することにより、リン酸水溶液Ｌに流動性を与える。これにより、リン酸水溶液Ｌに効率的に流動性を与えることができる。

また、実施形態に係る混合装置１０において、添加剤供給路（析出抑制剤供給路１２ｂ）からタンク１４に添加剤（析出抑制剤）を供給する添加剤供給口（析出抑制剤供給口１２ｄ）は、循環路１５の出口１５ｂに隣接して設けられる。これにより、出口１５ｂから吐出され、大きな流動性を有するリン酸水溶液Ｌに析出抑制剤を直接的に供給することができる。

また、実施形態に係る混合装置１０において、添加剤供給路（析出抑制剤供給路１２ｂ）からタンク１４に添加剤（析出抑制剤）を供給する添加剤供給口（析出抑制剤供給口１２ｄ）は、循環路１５の入口１５ａに隣接して設けられる。これにより、析出抑制剤が循環路１５に速やかに取り込まれることから、大きな流動性を与えられた循環路１５内のリン酸水溶液Ｌに析出抑制剤を供給することができる。

また、実施形態に係る混合装置１０は、タンク１４に設けられる攪拌装置をさらに備える。そして、かかる攪拌装置を作動させることにより、リン酸水溶液Ｌに流動性を与える。これにより、リン酸水溶液Ｌに効率的に流動性を与えることができる。

また、実施形態に係る混合装置１０において、攪拌装置は、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌにバブリングガスを供給するバブリング装置２４である。これにより、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌに上昇流による流動性を与えることができる。

また、実施形態に係る混合装置１０において、攪拌装置は、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌを攪拌する攪拌翼２５である。これにより、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌに渦流による流動性を与えることができる。

また、実施形態に係る混合装置１０において、攪拌装置は、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌに向けて超音波を発生する超音波発生装置２６である。これにより、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌに超音波による流動性を与えることができる。

また、実施形態に係る混合装置１０において、添加剤供給路（析出抑制剤供給路１２ｂ）からタンク１４に添加剤（析出抑制剤）を供給する添加剤供給口（析出抑制剤供給口１２ｄ）は、タンク１４の上部に複数設けられる。これにより、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤との接触面積を増やすことができることから、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とをより効率的に混合することができる。

また、実施形態に係る混合装置１０において、添加剤供給路（析出抑制剤供給路１２ｂ）からタンク１４に添加剤（析出抑制剤）を供給する添加剤供給口（析出抑制剤供給口１２ｄ）は、タンク１４の下部に設けられる。これにより、リン酸水溶液Ｌの液面Ｌａのみに析出抑制剤が滞留することを抑制することができることから、析出抑制剤の濃度が液面Ｌａで局所的に増加して、析出抑制剤がゲル化することを抑制することができる。

また、実施形態に係る混合装置１０において、タンク１４は、内槽１４ａと外槽１４ｂとを有する。そして、内槽１４ａから外槽１４ｂにリン酸水溶液Ｌをオーバーフローさせることにより、リン酸水溶液に流動性を与える。これにより、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌに上昇流による流動性を与えることができる。

また、実施形態に係る混合装置１０において、添加剤（析出抑制剤）は、内槽１４ａに供給される。これにより、内槽１４ａからオーバーフローするリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａで、析出抑制剤を引き延ばして薄くすることができることから、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤との接触面積をさらに増やすことができる。

また、実施形態に係る混合装置１０は、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌを加温するヒータ１７をさらに備える。これにより、加温されたエッチング液Ｅを基板処理装置３０に供給することができる。

＜エッチング液生成処理および基板処理の詳細＞
つづいて、図２０を参照しながら、実施形態に係る基板処理システム１が実行するエッチング液生成処理および基板処理の詳細について説明する。図２０は、実施形態に係るエッチング液生成処理および基板処理の処理手順を示すフローチャートである。

最初に、制御部は、混合装置１０を動作させて、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とシリコン溶液とを混合する混合処理を行う（ステップＳ１０１）。たとえば、制御部は、タンク１４に貯留されるリン酸水溶液Ｌに流動性を与えながら、析出抑制剤とシリコン溶液とをリン酸水溶液Ｌに供給して、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とシリコン溶液とを混合する。

次に、制御部は、混合装置１０のヒータ１７を動作させて、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とシリコン溶液との混合液を加温する加温処理を行う（ステップＳ１０２）。

次に、制御部は、リン酸水溶液Ｌと析出抑制剤とシリコン溶液との混合液をフィルタ１９で濾過するフィルトレーション処理を行う（ステップＳ１０３）。そして、かかるフィルトレーション処理が完了すると、実施形態に係るエッチング液生成処理が完了する。

次に、制御部は、混合装置１０および基板処理装置３０を動作させて、混合装置１０から基板処理装置３０にエッチング液Ｅを供給する供給処理を行う（ステップＳ１０４）。これにより、基板処理装置３０の処理槽３１にエッチング液Ｅが貯留される。

次に、制御部は、基板処理装置３０を動作させて、処理槽３１に貯留されたエッチング液Ｅを用いてウェハＷをエッチングするエッチング処理を行う（ステップＳ１０５）。そして、かかるエッチング処理が完了すると、実施形態に係る基板処理が完了する。

実施形態に係る混合方法は、混合工程（ステップＳ１０１）と、加温工程（ステップＳ１０２）とを含む。混合工程（ステップＳ１０１）は、流動するリン酸水溶液Ｌにシリコン酸化物の析出を抑制する添加剤（析出抑制剤）を供給して混合する。加温工程（ステップＳ１０２）は、リン酸水溶液Ｌと添加剤（析出抑制剤）とが混合した混合液を加温する。これにより、効率的に混合されたエッチング液Ｅを加温して基板処理装置３０に供給することができる。

また、実施形態に係る混合方法において、混合工程（ステップＳ１０１）は、流動するリン酸水溶液Ｌの液面Ｌａ上に広がるように添加剤（析出抑制剤）を供給することを含む。これにより、リン酸水溶液Ｌでの析出抑制剤の濃度が局所的に上昇することをさらに抑制することができることから、析出抑制剤のゲル化をさらに抑制することができる。

また、実施形態に係る混合方法において、混合工程は、流動するリン酸水溶液Ｌの液中に、リン酸水溶液Ｌの流動性を損なわないように添加剤（析出抑制剤）を供給することを含む。これにより、リン酸水溶液Ｌの流動性が損なわれて、析出抑制剤が良好に混合されないことを抑制することができる。

以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は上記の実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。

今回開示された実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。実に、上記した実施形態は多様な形態で具現され得る。また、上記の実施形態は、添付の特許請求の範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

１、１Ａ 基板処理システム
１０ 混合装置
１１ リン酸水溶液供給部
１１ｂ リン酸水溶液供給路
１２ 析出抑制剤供給部（添加剤供給部の一例）
１２ｂ 析出抑制剤供給路（添加剤供給路の一例）
１２ｄ 析出抑制剤供給口（添加剤供給口の一例）
１３ シリコン溶液供給部
１４ タンク
１４ａ 内槽
１４ｂ 外槽
１５ 循環路
１５ａ 入口
１５ｂ 出口
１６ ポンプ
１７ ヒータ
２４ バブリング装置
２５ 攪拌翼
２６ 超音波発生装置
３０、５０ 基板処理装置
３１ 処理槽
Ｗ ウェハ（基板の一例）
Ｌ リン酸水溶液
Ｌａ 液面
Ｅ エッチング液（混合液の一例）

Claims (17)

1. リン酸水溶液を供給するリン酸水溶液供給部と、
   シリコン酸化物の析出を抑制する添加剤を供給する添加剤供給部と、
   タンクと、
   前記リン酸水溶液供給部と前記タンクとを接続するリン酸水溶液供給路と、
   前記添加剤供給部と前記タンクとを接続する添加剤供給路と、
   を備え、
   前記リン酸水溶液供給部から前記タンクに供給される前記リン酸水溶液に流動性を与えながら前記添加剤を供給する
   混合装置。
2. 前記タンクから出て前記タンクに戻る循環路と、
   前記循環路に設けられるポンプと、
   をさらに備え、
   前記ポンプを作動させて前記循環路に循環流を形成することにより、前記リン酸水溶液に流動性を与える
   請求項１に記載の混合装置。
3. 前記添加剤供給路から前記タンクに前記添加剤を供給する添加剤供給口は、前記循環路の出口に隣接して設けられる
   請求項２に記載の混合装置。
4. 前記添加剤供給路から前記タンクに前記添加剤を供給する添加剤供給口は、前記循環路の入口に隣接して設けられる
   請求項２に記載の混合装置。
5. 前記タンクに設けられる攪拌装置
   をさらに備え、
   前記攪拌装置を作動させることにより、前記リン酸水溶液に流動性を与える
   請求項１〜４のいずれか一つに記載の混合装置。
6. 前記攪拌装置は、前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液にバブリングガスを供給するバブリング装置である
   請求項５に記載の混合装置。
7. 前記攪拌装置は、前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液を攪拌する攪拌翼である
   請求項５に記載の混合装置。
8. 前記攪拌装置は、前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液に向けて超音波を発生する超音波発生装置である
   請求項５に記載の混合装置。
9. 前記添加剤供給路から前記タンクに前記添加剤を供給する添加剤供給口は、前記タンクの上部に複数設けられる
   請求項１〜８のいずれか一つに記載の混合装置。
10. 前記添加剤供給路から前記タンクに前記添加剤を供給する添加剤供給口は、前記タンクの下部に設けられる
    請求項１〜８のいずれか一つに記載の混合装置。
11. 前記タンクは、内槽と外槽とを有し、
    前記内槽から前記外槽に前記リン酸水溶液をオーバーフローさせることにより、前記リン酸水溶液に流動性を与える
    請求項１〜１０のいずれか一つに記載の混合装置。
12. 前記添加剤は、前記内槽に供給される
    請求項１１に記載の混合装置。
13. 前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液を加温するヒータ
    をさらに備える
    請求項１〜１２のいずれか一つに記載の混合装置。
14. 流動するリン酸水溶液にシリコン酸化物の析出を抑制する添加剤を供給して混合する混合工程と、
    前記リン酸水溶液と前記添加剤とが混合した混合液を加温する加温工程と、
    を含む混合方法。
15. 前記混合工程は、流動する前記リン酸水溶液の液面上に広がるように前記添加剤を供給することを含む
    請求項１４に記載の混合方法。
16. 前記混合工程は、流動する前記リン酸水溶液の液中に、前記リン酸水溶液の流動性を損なわないように前記添加剤を供給することを含む
    請求項１４に記載の混合方法。
17. 請求項１〜１３のいずれか一つに記載の混合装置と、
    前記混合装置で混合された前記リン酸水溶液と前記添加剤との混合液を用いて基板を処理する基板処理装置と、
    を備える基板処理システム。

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