JP2021044593A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021044593A5 JP2021044593A5 JP2020212199A JP2020212199A JP2021044593A5 JP 2021044593 A5 JP2021044593 A5 JP 2021044593A5 JP 2020212199 A JP2020212199 A JP 2020212199A JP 2020212199 A JP2020212199 A JP 2020212199A JP 2021044593 A5 JP2021044593 A5 JP 2021044593A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- phosphoric acid
- aqueous solution
- acid aqueous
- additive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 68
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 30
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 17
- 230000000996 additive Effects 0.000 claims description 17
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 15
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 5
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims 3
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 claims 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
Description
本開示の一態様による混合装置は、タンクと、リン酸水溶液供給部と、添加剤供給部と、循環路と、ポンプと、を備える。タンクは、リン酸水溶液とシリコン酸化物の析出を抑制する添加剤とを混合する。リン酸水溶液供給部は、前記タンクに前記リン酸水溶液を供給する。添加剤供給部は、前記タンクの上方に供給口が設けられ、前記シリコン酸化物の析出を抑制する添加剤を供給する。循環路は、前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液が、前記タンクから出て前記タンクに戻る。ポンプは、前記循環路に設けられ、前記タンクから出て前記循環路を通り前記タンクに戻る前記リン酸水溶液に循環流を形成する。また、前記リン酸水溶液供給部から前記タンクに前記リン酸水溶液を供給して前記タンクに所定の量の前記リン酸水溶液を貯留し、前記ポンプを動作させて前記リン酸水溶液に循環流を形成し、流動性が与えられた前記リン酸水溶液に前記添加剤供給部の前記供給口から前記タンク内で流動する前記リン酸水溶液の液面上に広がるように前記添加剤を供給する。
Claims (11)
- リン酸水溶液とシリコン酸化物の析出を抑制する添加剤とを混合するタンクと、
前記タンクに前記リン酸水溶液を供給するリン酸水溶液供給部と、
前記タンクの上方に供給口が設けられ、前記シリコン酸化物の析出を抑制する添加剤を供給する添加剤供給部と、
前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液が、前記タンクから出て前記タンクに戻る循環路と、
前記循環路に設けられ、前記タンクから出て前記循環路を通り前記タンクに戻る前記リン酸水溶液に循環流を形成するポンプと、
を備え、
前記リン酸水溶液供給部から前記タンクに前記リン酸水溶液を供給して前記タンクに所定の量の前記リン酸水溶液を貯留し、前記ポンプを動作させて前記リン酸水溶液に循環流を形成し、流動性が与えられた前記リン酸水溶液に前記添加剤供給部の前記供給口から前記タンク内で流動する前記リン酸水溶液の液面上に広がるように前記添加剤を供給する
混合装置。 - 前記循環路は、前記タンクの底部に入口が設けられ、前記タンクの上部に出口が設けられる
請求項１に記載の混合装置。 - 前記添加剤供給部の前記供給口は、前記循環路の出口に隣接して設けられる
請求項２に記載の混合装置。 - 送液路を介して、前記リン酸水溶液と前記添加剤とが混合した混合液を含むエッチング液に基板を浸漬してエッチング処理を行う処理槽に、前記タンクで混合した混合液を供給する
請求項１〜３のいずれか一つに記載の混合装置。 - 前記タンクに設けられる攪拌装置
をさらに備え、
前記攪拌装置を作動させることにより、前記リン酸水溶液に流動性を与える
請求項１〜４のいずれか一つに記載の混合装置。 - 前記攪拌装置は、前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液にバブリングガスを供給するバブリング装置である
請求項５に記載の混合装置。 - 前記攪拌装置は、前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液を攪拌する攪拌翼である
請求項５に記載の混合装置。 - 前記攪拌装置は、前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液に向けて超音波を発生する超音波発生装置である
請求項５に記載の混合装置。 - 前記タンクに貯留される前記リン酸水溶液を加温するヒータ
をさらに備える
請求項１〜８のいずれか一つに記載の混合装置。 - タンクに所定の量のリン酸水溶液を貯留し、前記タンクを出て前記タンクに戻る循環路に設けられるポンプを動作させて前記リン酸水溶液に循環流を形成し、流動性が与えられた前記リン酸水溶液の液面上に広がるようにシリコン酸化物の析出を抑制する添加剤を供給して混合する混合工程と、
前記リン酸水溶液と前記添加剤とが混合した混合液を加温する加温工程と、
を含む混合方法。 - 請求項１〜８のいずれか一つに記載の混合装置と、
前記混合装置で混合された前記リン酸水溶液と前記添加剤との混合液を用いて基板を処理する基板処理装置と、
を備える基板処理システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020212199A JP2021044593A (ja) | 2020-12-22 | 2020-12-22 | 混合装置、混合方法および基板処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020212199A JP2021044593A (ja) | 2020-12-22 | 2020-12-22 | 混合装置、混合方法および基板処理システム |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019046145A Division JP2020150126A (ja) | 2019-03-13 | 2019-03-13 | 混合装置、混合方法および基板処理システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021044593A JP2021044593A (ja) | 2021-03-18 |
| JP2021044593A5 true JP2021044593A5 (ja) | 2021-05-06 |
Family
ID=74864304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020212199A Pending JP2021044593A (ja) | 2020-12-22 | 2020-12-22 | 混合装置、混合方法および基板処理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2021044593A (ja) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4915090B2 (ja) * | 2005-12-20 | 2012-04-11 | ソニー株式会社 | 薬液処理装置 |
| JP2007258405A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理方法および基板処理装置 |
| JP5009207B2 (ja) * | 2007-09-21 | 2012-08-22 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
| US20090236317A1 (en) * | 2008-03-21 | 2009-09-24 | Midwest Research Institute | Anti-reflection etching of silicon surfaces catalyzed with ionic metal solutions |
| JP6320868B2 (ja) * | 2014-07-29 | 2018-05-09 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| WO2018168874A1 (ja) * | 2017-03-15 | 2018-09-20 | 株式会社 東芝 | エッチング液、エッチング方法、及び電子部品の製造方法 |
-
2020
- 2020-12-22 JP JP2020212199A patent/JP2021044593A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI253952B (en) | Method for preparing chemical solutions | |
| WO2006010109A2 (en) | Method and apparatus for creating ozonated process solutions having high ozone concentration | |
| CN101143713A (zh) | 药液混合方法和药液混合装置 | |
| TW201005820A (en) | Substrate treating apparatus and substrate treating method | |
| JP2021052214A5 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| KR20150083037A (ko) | 열 교환 시스템 및 이 열 교환 시스템을 가지는 기판 처리 장치 | |
| JP2021044593A5 (ja) | ||
| JP5412135B2 (ja) | オゾン水供給装置 | |
| TW201240743A (en) | Multiply-nozzle and substrate processing apparatus having the multiply-nozzle | |
| JP2013207207A (ja) | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | |
| JP2008246311A (ja) | 微細気泡発生装置及び微細気泡発生方法 | |
| CN111760481A (zh) | 药液混合装置及药液混合补水系统 | |
| KR100938235B1 (ko) | 약액 공급 장치 | |
| KR100898049B1 (ko) | 처리액 공급장치 및 그 방법 | |
| CN210835585U (zh) | Pcb显影系统 | |
| KR100444886B1 (ko) | 초미세의 기포 발생장치 및 초미세 기포 발생장치를이용한 액체 처리방법 | |
| JP5393873B2 (ja) | スケール析出方法及び給湯器及びスケール析出装置 | |
| JP2017170393A5 (ja) | ||
| WO2023074422A1 (ja) | オゾン接触システム及びオゾン接触方法 | |
| JP2005263825A (ja) | ガスハイドレート製造方法および製造装置 | |
| JP7155401B2 (ja) | 酸液調製装置及び酸液供給装置並びに酸洗設備 | |
| JP2015077570A (ja) | ガス溶解液製造システムにおいて使用するノズルの構造 | |
| TW201005449A (en) | Photoresist recycle and circulation system | |
| KR101492920B1 (ko) | 반도체 기판 세정용 약액 공급설비 및 약액 공급방법 | |
| JP2011092893A (ja) | ガス溶解液製造システム |