JP2020523726A - デュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作 - Google Patents

デュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作 Download PDF

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Abstract

デュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作のための方法、システム、およびデバイスについて説明する。メモリ・アレイまたはアレイの部分は、揮発性モードおよび不揮発性モードでさまざまに動作させられ得る。たとえば、メモリ・セルは、セルが不揮発性モードで動作している間、コントローラによって開始されたコマンドに従って、不揮発性モードで動作し、次いで、揮発性モードで動作することがある。メモリ・セルは、その後のコマンドに従って、揮発性モードで動作し、次いで、不揮発性モードで動作することがある。いくつかの例では、メモリ・アレイの1つのメモリ・セルは不揮発性モードで動作することがあり、メモリ・アレイの別のメモリ・セルは揮発性モードで動作する。【選択図】図2

Description

クロスリファレンス
本特許出願は、2017年6月9日に出願され、本出願の譲受人に譲渡された、Vimercatiによる「Dual Mode Ferroelectric Memory
Cell Operation」という名称の米国特許出願第15/618,393号に対する優先権を主張するものである。
以下は、一般に、メモリ・アレイを動作させることに関し、より詳細には、デュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作に関する。
メモリ・デバイスは、コンピュータ、ワイヤレス通信デバイス、カメラ、デジタル・ディスプレイなどのさまざまな電子デバイス内に情報を記憶するために広く使用されている。情報は、メモリ・デバイスの異なる状態をプログラムすることによって記憶される。たとえば、2値デバイスは、多くの場合は論理「1」または論理「0」によって示される、2つの状態を有する。他のシステムでは、3つ以上の状態が記憶されることがある。記憶された情報にアクセスするために、電子デバイスの構成要素が、メモリ・デバイス内に記憶された状態を読み取るまたは感知することがある。情報を記憶するために、電子デバイスの構成要素は、メモリ・デバイス内に状態を書き込むまたはプログラムすることがある。
磁気ハード・ディスク、ランダム・アクセス・メモリ(RAM)、読み出し専用メモリ(ROM)、ダイナミックRAM(DRAM)、同期型ダイナミックRAM(SDRAM)、強誘電体RAM(FeRAM)、磁気RAM(MRAM)、抵抗RAM(RRAM)、フラッシュ・メモリ、相変化メモリ(PCM)などを含むさまざまなタイプのメモリ・デバイスが存在する。メモリ・デバイスは、揮発性であってもよいし、不揮発性であってもよい。不揮発性メモリ、たとえば、FeRAMは、外部電源の非存在下であっても、長期間にわたって、記憶された論理状態を維持することがある。揮発性メモリ・デバイス、たとえば、DRAMは、外部電源によって周期的にリフレッシュされない限り、経時的に記憶された状態を失うことがある。FeRAMは、揮発性メモリと類似のデバイス・アーキテクチャを使用することがあるが、記憶デバイスとしての強誘電体キャパシタの使用により、不揮発性の性質を有することがある。したがって、FeRAMデバイスは、他の不揮発性メモリ・デバイスおよび揮発性メモリ・デバイスと比較して、改善された性能を有することがある。
メモリ・デバイスを改善することは、一般的に、さまざまなメトリクスの中でもとりわけ、メモリ・セル密度を増加させること、読み取り/書き込み速度を増加させること、信頼性を増加させること、データ保持を増加させること、電力消費を減少させること、または製造コストを減少させることを含むことがある。場合によっては、揮発性データ記憶および不揮発性データ記憶のための異なるメモリ技術があることがある。いくつかの例では、強誘電体メモリ・デバイスが、不揮発性モードまたは揮発性モードで動作するように構成されることがあるが、2つを動的に繰り返すことはできない。たとえば、不揮発性データ記憶は、強誘電体メモリ・デバイスが揮発性モードで動作するとき、発生しないことがある。同様に、揮発性データ記憶は、強誘電体メモリ・デバイスが不揮発性モードで動作するとき、発生しないことがある。不揮発性モードで実行される動作は、より多くの時間を必要とすることがあり、揮発性モードで実行される動作は、電力の変化中に内容を失うことがある。これらの課題は、不揮発性モードが揮発性モードよりも好ましいまたはその
逆であるとき、メモリ・セルの動作を減速させるまたは損なうことがある。
本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・アレイの一例を図示する図である。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・セルの例示的な回路を図示する図である。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートする例示的なメモリ・アレイを図示する図である。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・セルに関する例示的なヒステリシス・プロットである。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・セルに関する例示的なヒステリシス・プロットである。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・セルに関する例示的なヒステリシス・プロットである。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・セルに関する例示的なヒステリシス・プロットである。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・セルに関する例示的なヒステリシス・プロットである。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・セルに関する例示的なヒステリシス・プロットである。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・セルに関する例示的な電圧プロットである。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・セルに関する例示的な電圧プロットである。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするデバイスのブロック図である。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするデバイスのブロック図である。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・アレイを含むシステムのブロック図である。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作のための方法を示す図である。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作のための方法を示す図である。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作のための方法を示す図である。 本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作のための方法を示す図である。
メモリ・アレイは、不揮発性モードもしくは揮発性モード、または両方で、動作のシーケンスを実行するメモリ・セルを含むことがある。いくつかの例では、揮発性モードで動作するメモリ・セル(たとえば、強誘電体メモリ・セル)は、不揮発性モードで動作するメモリ・セルよりも速く動作(たとえば、感知動作、読み取り動作)を実行することがある。本明細書において説明されるように、異なるときにおけるにおける揮発性モードもしくは不揮発性モードまたは両方におけるメモリ・セルの動的に可変な動作のための技法は、揮発性メモリおよび不揮発性メモリに対して予想される仕様内で動作することを含む利点を提供する。場合によっては、不揮発性モードで動作するメモリ・セルは、同じ動作を実行することがある。他の場合には、揮発性モードで動作するメモリ・セルは、電力の変
化中にメモリ・アレイ内の内容を失うことがあり、不揮発性モードで動作するメモリ・セルは、メモリ・アレイ内の内容を保持することがある。メモリ・アレイ内容におけるこの損失は、メモリ・セルまたは他の構成要素の動作を損なうことがある。
本明細書において動作されるように、メモリ・アレイの1つまたは複数のメモリ・セルは、メモリ・セルまたは動作が実行されるための所望の機能に基づいて、動作の不揮発性モードと動作の揮発性モードを切り換え得る。たとえば、メモリ・セルは、メモリ・アレイ内の内容を保持するために、電力変化中に不揮発性モードで動作を実行することがある。他の例では、メモリ・セルは、動作が、より少ないアクセス時間またはより速い性能を必要とするとき、その動作を揮発性モードで実行することがある。動作の不揮発性モードは、いくつかの動作を実行するのに、動作の揮発性モードと比較して、より多くの時間を必要とすることがある。しかしながら、電力は、メモリ・アレイ内でリフレッシュ動作を実施しないことによって、不揮発性モードで節約され得る。
いくつかの例では、メモリ・デバイスが、可変の待ち時間に従って、動作の不揮発性モードと揮発性モードを切り換えることがある。たとえば、揮発性モードで動作するメモリ・アレイは、リフレッシュ動作を必要とすることがある。場合によっては、リフレッシュ動作は、メモリ・セルが不揮発性モードから揮発性モードに切り替わった後に実行されることがある。他の場合には、より長いリフレッシュ動作が動作の不揮発性モードで実施されることがある。
メモリ・アレイと電子通信する1つもしくは複数の構成要素またはメモリ・アレイ自体は、動作の不揮発性モードと揮発性モードの間でメモリ・セルを切り換えるコマンドを発行することがある。たとえば、動作の不揮発性モードから動作の揮発性モードにメモリ・セルを切り換える第1のコマンドが発行されることがある。第1のコマンドが発行された後、メモリ・アレイの第1の部分が選択されることがあり、不揮発性モード中に記憶されるメモリ・セルの内容(たとえば、第1の論理状態)が感知されることがあり、メモリ・セルの内容が、記憶構成要素内に記憶されることがある。
他の例では、メモリ・アレイと電子通信する1つもしくは複数の構成要素またはメモリ・アレイ自体が、動作の揮発性モードから動作の不揮発性モードに切り換える第2のコマンドを発行することがある。第2のコマンドが発行された後、揮発性モード中に記憶されたメモリ・セルの内容(たとえば、第2の論理状態)が感知され、記憶構成要素内に記憶されることがあり、メモリ・アレイの一部分が選択解除されることがある。いくつかの例では、メモリ・セルは、動作の不揮発性モードで以前に使用された同じキャパシタに第2の論理状態を書き戻すこともあれば、別の記憶構成要素に第2の論理状態を書き戻すこともある。
上記で説明された本開示の特徴は、以下で図1の文脈において、さらに説明される。次いで、具体的な例が図2〜図5Dに関して説明される。本開示のこれらおよび他の特徴が、デュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作に関係する装置図、システム図、およびフローチャートによってさらに図示され、これらを参照しながら説明される。
図1は、本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートする例示的なメモリ・アレイ100を図示する。メモリ・アレイ100は、電子的メモリ装置と呼ばれることもある。メモリ・アレイ100は、異なる状態を記憶するようにプログラム可能であるメモリ・セル105を含む。各メモリ・セル105は、論理0および論理1と示される2つの状態を記憶するようにプログラム可能であってよい。場合によっては、メモリ・セル105は、3つ以上の論理状態を記憶するように構成される。メモリ・セル105は、キャパシタ内のプログラム可能な状態を表す電荷を蓄えることがある。たとえ
ば、充電されたキャパシタおよび充電されていないキャパシタはそれぞれ、2つの論理状態を表す。DRAMアーキテクチャは、通例、そのような設計を使用してよく、用いられるキャパシタは、絶縁体として線形電気分極性または常誘電性電気分極性をもつ誘電材料を含むことがある。対照的に、強誘電体メモリ・セルは、絶縁材料として強誘電体をもつキャパシタを含むことがある。強誘電体キャパシタの電荷の異なるレベルは、異なる論理状態を表し得る。強誘電材料は、非線形分極性を有する。強誘電体メモリ・セル105のいくつかの詳細および利点は、以下で説明される。
読み取りおよび書き込みなどの動作は、アクセス線110およびディジット線115を活性化または選択することによって、メモリ・セル105上で実行されてよい。アクセス線110は、ワード線110としても知られることがあり、ビット線115は、ディジット線115としても知られることがある。ワード線およびビット線、またはそれらの類似物への言及は、理解または動作の損失なしに交換可能である。ワード線110またはディジット線115を活性化または選択することは、電圧をそれぞれの線に印加することを含むことがある。ワード線110およびディジット線115は、金属(たとえば、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、金(Au)、タングステン(W))、金属合金、炭素、導電的にドープされた半導体、または他の導電材料、合金、化合物などの導電材料から作製されてよい。
図1の例によれば、メモリ・セル105の各行は単一のワード線110に接続され、メモリ・セル105の各列は単一のディジット線115に接続される。1つのワード線110および1つのディジット線115を活性化する(たとえば、ワード線110またはディジット線115に電圧を印加すること)ことによって、単一のメモリ・セル105は、それらの交差点においてアクセスされ得る。メモリ・セル105にアクセスすることは、メモリ・セル105を読み取るまたは書き込むことを含むことがある。ワード線110とディジット線115の交差点は、メモリ・セルのアドレスと呼ばれることがある。
いくつかのアーキテクチャでは、セルの論理記憶デバイス、たとえば、キャパシタは、選択構成要素によってディジット線から電気的に絶縁されることがある。ワード線110は、選択構成要素に接続されることがあり、これを制御することがある。たとえば、選択構成要素はトランジスタであってよく、ワード線110はトランジスタのゲートに接続されてよい。ワード線110を活性化すると、メモリ・セル105のキャパシタとその対応するディジット線115との間の電気接続または閉回路という結果になる。次いで、ディジット線が、メモリ・セル105を読み取るまたは書き込むのどちらかのためにアクセスされることがある。いくつかの例では、他の線(図1に示されない)が存在することがある。たとえば、以下で他の図に関して論じられるプレート線が、メモリ・セル105に結合されていることがある。
メモリ・セル105にアクセスすることは、行デコーダ120および列デコーダ130を通して制御され得る。たとえば、行デコーダ120は、メモリ・コントローラ140から行アドレスを受け取り、受け取った行アドレスに基づいて、適切なワード線110を活性化することがある。同様に、列デコーダ130は、メモリ・コントローラ140から列アドレスを受け取り、適切なディジット線115を活性化する。たとえば、メモリ・アレイ100は、WL_1〜WL_Mとラベルされた複数のワード線110と、DL_1〜DL_Nとラベルされた複数のディジット線115とを含むことがあり、ここで、MおよびNはアレイ・サイズに依存する。したがって、ワード線110およびディジット線115、たとえば、WL_2およびDL_3を活性化することによって、それらの交差点にあるメモリ・セル105がアクセスされ得る。
アクセスすると、メモリ・セル105が、メモリ・セル105の記憶された状態を決定
するために、感知構成要素125によって、読まれることがある、または感知されることがある。たとえば、メモリ・セル105にアクセスした後、メモリ・セル105の強誘電体キャパシタは、その対応するディジット線115の上に放電することがある。強誘電体キャパシタを放電することは、強誘電体キャパシタに電圧をバイアスまたは印加することから生じることがある。放電は、ディジット線115の電圧の変化を引き起こすことがあり、この感知構成要素125は、メモリ・セル105の記憶された状態を決定するために基準電圧(図示せず)と比較し得る。たとえば、ディジット線115が基準電圧よりも高い電圧を有する場合、感知構成要素125は、メモリ・セル105内の記憶された状態が論理1であったことと、その逆も同様であることを決定することがある。感知構成要素125は、信号の差を検出および増幅するためにさまざまなトランジスタまたは増幅器を含むことがあり、これは、ラッチングと呼ばれることがある。次いで、メモリ・セル105の検出された論理状態は、列デコーダ130を通して、出力135として出力されることがある。場合によっては、感知構成要素125は、列デコーダ130または行デコーダ120の一部であることがある。または、感知構成要素125は、列デコーダ130または行デコーダ120に接続されてもよいし、これと電子通信してもよい。
メモリ・セル105は、関連のあるワード線110およびディジット線115を同様に活性化することによって設定されてもよいし、これによって書き込まれてもよい。すなわち、論理値は、メモリ・セル105内に記憶されてよい。列デコーダ130または行デコーダ120は、メモリ・セル105に書き込まれるために、データ、たとえば入力/出力135を受け入れることがある。強誘電体メモリ・セル105は、強誘電体キャパシタにわたって電圧を印加することによって書き込まれることがある。このプロセスは、以下でより詳細に説明される。
いくつかのメモリ・アーキテクチャでは、メモリ・セル105にアクセスすると、記憶された論理状態が劣化または破壊することがあり、再書き込み動作またはリフレッシュ動作が、元の論理状態をメモリ・セル105に戻すために実行されることがある。DRAMでは、たとえば、キャパシタは、感知動作中に部分的にまたは完全に放電され、記憶された論理状態を損なうことがある。そのため、論理状態は、感知動作後に再度書き込まれることがある。加えて、単一のワード線110を活性化すると、行内のすべてのメモリ・セルの放電という結果になることがある。したがって、行内のいくつかまたはすべてのメモリ・セル105は、再度書き込まれる必要があることがある。いくつかの例では、書き戻し動作が、不揮発性タイミングを使用して、あらかじめ充電された状態の間に発生することがある。
DRAMを含むいくつかのメモリ・アーキテクチャは、外部電源によって周期的にリフレッシュされない限り、経時的に記憶された状態を失うことがある。たとえば、充電されたキャパシタは、漏れ電流を通して経時的に放電され、記憶された情報の消失という結果になることがある。これらのいわゆる揮発性メモリ・デバイスのリフレッシュ・レートは、比較的高くてよく、たとえば、DRAMアレイの場合は毎秒数十のリフレッシュ動作であってよく、かなりの電力消費という結果になることがある。ますます大きくなるメモリ・アレイがあれば、増加された電力消費は、特にバッテリなどの有限電源に依拠するモバイル・デバイスの場合、メモリ・アレイの展開または動作(たとえば、電力供給、熱生成、材料制限)を阻害することがある。以下で論じられるように、強誘電体メモリ・セル105は、他のメモリ・アーキテクチャと比較して改善された性能という結果になり得る有益な性質を有することがある。
メモリ・コントローラ140は、さまざまな構成要素、たとえば、行デコーダ120、列デコーダ130、および感知構成要素125を通して、メモリ・セル105の動作(たとえば、読み取り、書き込み、再書き込み、リフレッシュ)を制御することがある。場合
によっては、行デコーダ120、列デコーダ130、および感知構成要素125のうちの1つまたは複数は、メモリ・コントローラ140と同じ場所に設置されることがある。メモリ・コントローラ140は、所望のワード線110およびディジット線115を活性化するために、行アドレス信号および列アドレス信号を生成し得る。メモリ・コントローラ140はまた、メモリ・アレイ100の動作中に使用されるさまざまな電圧または電流を生成および制御し得る。たとえば、メモリ・コントローラ140は、1つまたは複数のメモリ・セル105にアクセスした後、ワード線110またはディジット線115に放電電圧を印加することがある。一般に、本明細書において論じられる印加された電圧または電流の振幅、形状、または継続時間は、調整または変化されてよく、メモリ・アレイ100を動作させる際に論じられるさまざまな動作に対して異なってよい。そのうえ、メモリ・アレイ100内の1つの、複数の、またはすべてのメモリ・セル105は、同時にアクセスされることがある。たとえば、メモリ・アレイ100の複数またはすべてのセルは、すべてのメモリ・セル105、またはメモリ・セル105のグループが単一の論理状態に設定されるリセット動作中に、同時にアクセスされることがある。
場合によっては、メモリ・セル105が不揮発性モードで動作するとき、メモリ・コントローラ140は、メモリ・セル105に対して第1のコマンドを開始することがある。メモリ・コントローラ140は、活性化したメモリ・セル105の論理状態を感知し、それらそれぞれのペアとなる感知構成要素125に論理状態を記憶させ、メモリ・セル105を揮発性モードで動作させることもある(すなわち、メモリ・アレイ100の一部分内のメモリ・セル105が、不揮発性モードで動作することから揮発性モードで動作することに切り換えられ得るとき)。いくつかの例では、メモリ・セル105が揮発性モードで動作するとき、メモリ・コントローラ140は、メモリ・セル105に対して第2のコマンドを開始することがある。メモリ・コントローラ140は、活性化したメモリ・セル105の論理状態を感知し、それらそれぞれのペアとなる感知構成要素125に論理状態を記憶させ、メモリ・セル105を不揮発性モードで動作させることもある。
図2は、本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・セルの例示的な回路200を図示する。回路200は、メモリ・セル105−aと、ワード線110−aと、ディジット線115−aと、感知構成要素125−aとを含み、これらはそれぞれ、図1を参照しながら説明されるように、メモリ・セル105、ワード線110、ディジット線115、および感知構成要素125の例であってよい。メモリ・セル105−aは、第1のプレートすなわちセル・プレート230と第2のプレートすなわちセル底部215とを有するキャパシタ205などの論理記憶構成要素を含むことがある。セル・プレート230とセル底部215は、それらの間に配置された強誘電材料を通して容量的に結合されることがある。セル・プレート230およびセル底部215の方角は、メモリ・セル105−aの動作を変更することなく反転されることがある。回路200は、選択構成要素220と、基準線225も含む。セル・プレート230は、プレート線210を介してアクセスされることがあり、セル底部215は、ディジット線115−aを介してアクセスされることがある。上記で説明されたように、キャパシタ205を充電または放電することによって、さまざまな状態が記憶され得る。
キャパシタ205の記憶された状態は、回路200内で表されたさまざまな要素を動作させることによって読み取られるまたは感知されることがある。キャパシタ205は、ディジット線115−aと電子通信し得る。たとえば、キャパシタ205は、選択構成要素220が非活性化されるとき、ディジット線115−aから絶縁可能であり、キャパシタ205は、選択構成要素220が活性化されるとき、ディジット線115−aに接続可能である。選択構成要素220を活性化することは、メモリ・セル105−aを選択することと呼ばれることがある。場合によっては、選択構成要素220はトランジスタであり、その動作は、トランジスタ・ゲートに電圧を印加することによって制御され、この電圧の
大きさは、トランジスタの閾値の大きさよりも大きい。ワード線110−aは、選択構成要素220を活性化することがある。たとえば、ワード線110−aに印加された電圧がトランジスタ・ゲートに印加され、キャパシタ205をディジット線115−aと接続する。
他の例では、選択構成要素220およびキャパシタ205の位置は、選択構成要素220がプレート線210とセル・プレート230との間に接続されるように、およびキャパシタ205がディジット線115−aと選択構成要素220の他の端子との間にあるように、交換されることがある。この実施形態では、選択構成要素220は、キャパシタ205を通してディジット線115−aと電子通信しているままであることがある。この構成は、読み取り動作および書き込み動作のための代替タイミングおよびバイアスと関連づけられることがある。
キャパシタ205のプレート間の強誘電材料により、および以下でより詳細に論じられるように、キャパシタ205は、ディジット線115−aへの接続時に放電しないことがある。1つのスキームでは、強誘電体キャパシタ205によって記憶された論理状態を感知するために、ワード線110−aは、メモリ・セル105−aを選択するようにバイアスされることがあり、電圧は、プレート線210に印加されることがある。場合によっては、ディジット線115−aは仮想的に接地され、次いで、仮想接地から絶縁され、これは「フローティング」と呼ばれることがあり、その後、プレート線210およびワード線110−aはバイアスされる。プレート線210をバイアスすることは、キャパシタ205にわたる電圧差(たとえば、プレート線210電圧マイナスディジット線115−a電圧)引き起こすことがある。電圧差は、キャパシタ205上に記憶された電荷の変化をもたらすことがあり、この記憶された電荷の変化の大きさは、キャパシタ205の初期状態。たとえば、記憶された初期状態が論理1であるか論理0であるかに依存することがある。これは、キャパシタ205上に記憶された電荷に基づいたディジット線115−aの電圧の変化を引き起こすことがある。セル・プレート230への電圧を変化させることによるメモリ・セル105−aの動作は、「セル・プレートの移動」と呼ばれることがある。
いくつかの例では、セル・プレート230は、ワード線110−aの方向に従って水平方向の線で切られることがある。たとえば、水平方向に切ることは、プレート・シート全体の代わりにプレートの一部分を移動できることによって、メモリ・セル105−aへの電力を増加させることがある。いくつかの例では、プレート・シート全体が使用されることもある。場合によっては、第2のコマンドが発行されるとき、ワード線110−aを選択解除するために負の電圧が使用される場合、プレート・シート全体が使用されることがある。場合によっては、不揮発性動作のための基準電圧がメモリ・セル105−aに供給される場合、プレート線210が、不揮発性のあらかじめ充電されたタイミングで動作することがある。他の例では、メモリ・セル105−aが揮発性モードで動作するとき、プレート線210は、アクセス動作(たとえば、書き込み動作)中に高電圧のままであることがある。
ディジット線115−aの電圧の変化は、その固有容量に依存することがある。すなわち、電荷がディジット線115−aを流れると、ある程度の有限電荷は、ディジット線115−a内に記憶されることがあり、結果として生じる電圧は、固有容量に依存する。固有容量は、ディジット線115−aの、寸法を含む物理的特性に依存することがある。ディジット線115−aは、多数のメモリ・セル105を接続することがあり、そのため、ディジット線115−aは、無視できない容量(たとえば、ピコファラド(pF)程度)という結果になる長さを有することがある。次いで、結果として生じるディジット線115−aの電圧は、メモリ・セル105−a内の記憶された論理状態を決定するために、感知構成要素125−aによって基準(たとえば、基準線225の電圧)と比較されること
がある。他の感知プロセスも使用されてよい。たとえば、キャパシタ205上の電荷が、メモリ・セルが揮発性モードで動作しているか不揮発性モードで動作しているかとは無関係に、感知されることがある。いくつかの例では、電圧信号が、キャパシタ205によって記憶された電荷の量に基づいて、アクセス線110上で誘発されることがある。場合によっては、感知構成要素125−aが、電圧信号に基づいて、対応する論理値を決定することがある。場合によっては、感知スキームが、動作の揮発性モード、または動作の不揮発性モード、または両方のために使用されることがある。
感知構成要素125−aは、信号の差を検出および増幅するためにさまざまなトランジスタまたは増幅器を含むことがあり、これは、ラッチングと呼ばれることがある。感知構成要素125−aは、ディジット線115−aおよび基準線225の電圧を受け取って比較する感知増幅器を含むことがあり、基準線225の電圧は基準電圧であることがある。感知増幅器出力は、比較に基づいて、より高い(たとえば、正)またはより低い(たとえば、負または接地)供給電圧に駆動されることがある。たとえば、ディジット線115−aが、基準線225よりも高い電圧を有する場合、感知増幅器出力は、正の供給電圧に駆動されることがある。場合によっては、感知増幅器は、加えて、ディジット線115−aを供給電圧に駆動することがある。次いで、感知構成要素125−aが、感知増幅器の出力および/またはディジット線115−aの電圧をラッチすることがあり、これは、メモリ・セル105−a内の記憶された状態、たとえば、論理1を決定するために使用されることがある。代替的に、ディジット線115−aが、基準線225よりも低い電圧を有する場合、感知増幅器出力は、負の電圧または接地電圧に駆動されることがある。同様に、感知構成要素125−aが、メモリ・セル105−a内の記憶された状態、たとえば、論理0を決定するために、感知増幅器出力をラッチすることがある。次いで、メモリ・セル105のラッチされた論理状態は、図1を参照すると、列デコーダ130を通して、出力135として出力されることがある。
本明細書において動作されるように、基準線225と関連づけられ得る基準電圧が、不揮発性モードで動作するメモリ・セル105−aを読み取るために使用されることがあり、異なる基準電圧が、揮発性モードで動作するメモリ・セル105−aを読み取るために使用されることがある。たとえば、メモリ・セル105−aは、メモリ・セル105−aが揮発性モードで動作することがあるとき、メモリ・セル105−aが不揮発性モードで動作することがあるときと比較して、異なる基準電圧を使用してあらかじめ充電されることがある。いくつかの例では、メモリ・セル105−a上の電圧が0ボルトであることがあり、または、メモリ・セル105−a上の電圧が、感知構成要素125−aによって提供される供給電圧であることがある。他の例では、メモリ・セル105−aは、ある論理状態の場合に供給電圧の+1/2を感知構成要素125−aに供給し(たとえば、「0」を書き込む)、他の論理状態の場合に供給電圧の−1/2を供給する(たとえば、「1」を書き込む)ことがある。したがって、メモリ・セル105−a上の絶対電圧は、メモリ・セル105−aに印加される基準電圧に基づいて異なることがある。
場合によっては、メモリ・セル105−aが動作の不揮発性モードから動作の揮発性モードに切り換わるとき、メモリ・セル105−a内の内容が失われることがある。いくつかの例では、ワード線110−aは、動作の不揮発性モードから動作の揮発性モードに、およびその逆に切り換えることがあるメモリ・アレイの部分内で、選択解除電圧を必要とすることがある。たとえば、不揮発性モードで動作することがあるメモリ・セル105−aの内容は、負の選択解除電圧なしで失われることがある。
メモリ・セル105−aを書き込むために、電圧は、キャパシタ205にわたって印加されることがある。さまざまな方法が使用されてよい。一例では、選択構成要素220が、キャパシタ205をディジット線115−aに電気的に接続するために、ワード線11
0−aを通して活性化されることがある。電圧は、(プレート線210を通しての)セル・プレート230および(ディジット線115−aを通しての)セル底部215の電圧を制御することによって、キャパシタ205にわたって印加されることがある。論理0を書き込むために、セル・プレート230はハイとみなされることがある、すなわち、正の電圧がプレート線210に印加されることがあり、セル底部215は、ローとみなされることがある、たとえば、ディジット線115−aを仮想的に接地するまたは負の電圧をディジット線115−aに印加することがある。逆のプロセスは、論理1を書き込むために実行され、セル・プレート230はローとみなされ、セル底部215はハイとみなされる。いくつかの例では、キャパシタ205が、揮発性モードでデータを記憶するためにバイアスされた後、ワード線110−aが選択解除されることがある。他の例では、メモリ・セル105−aが不揮発性モードで動作するとき、キャパシタ205がゼロ・ボルト(0V)にバイアスされた後、ワード線110−aが選択解除されることがある。
回路200は、モード・スイッチ235と、第1の電圧スイッチ240と、第2の電圧スイッチ245も含む。メモリ・セル105−aは、プレート線210−aを通じて第1の電圧スイッチ240と電子通信することがあり、モード・スイッチ235は、プレート線210−aと直列に配置され、メモリ・セル105−aを電気的に接続する、またはメモリ・セル105−aを第1の電圧スイッチ240から絶縁することがある。メモリ・セル105−aはまた、プレート線210−bを通して第2の電圧スイッチ245と電子通信することがあり、モード・スイッチ235は、プレート線210−bと直列に配置され、メモリ・セル105−aを電気的に接続する、またはメモリ・セル105−aを第2の電圧スイッチ245から絶縁することがある。
第1の電圧スイッチ240は、ノード250と、250−aと、250−bとを含むことがある。たとえば、ノード250は、メモリ・セル105−aを不揮発性モードで動作させるために読み取り電圧を提供することがあり、ノード250−aは、メモリ・セル105−aを不揮発性モードで動作させるために供給電圧を提供することがあり、ノード250−bは、メモリ・セル105−aを不揮発性モードで動作させるために接地電圧を提供することがある。第2の電圧スイッチ245は、ノード255を含むことがある。たとえば、ノード255は、メモリ・セル105−aを揮発性モードで動作させるために供給電圧を提供することがある。モード・スイッチ235は、ノード260と260−aとを含むことがある。たとえば、ノード260は、メモリ・セル105−aを第1の電圧スイッチ240に電気的に接続し、ノード260−aは、メモリ・セル105−aを第2の電圧スイッチ245に電気的に接続する。
本明細書において動作されるように、メモリ・アレイは第1のコマンドを発行することがあり、モード・スイッチ235は、メモリ・セル105−aを第1の電圧スイッチ240に電気的に切断するために閉じられることがある。そのような場合には、メモリ・セル105−aは、揮発性モードで動作することがある。他の例では、メモリ・アレイは第2のコマンドを発行することがあり、モード・スイッチ235は、メモリ・セル105−aを第2の電圧スイッチ245に電気的に切断するために閉じられることがある。そのような場合には、メモリ・セル105−aは、不揮発性モードで動作することがある。
回路200は、タイミング構成要素265と、モード・スイッチ235−aと、電圧構成要素270と、モード・スイッチ235−bも含む。感知構成要素125−aは、導電線275を通じてタイミング構成要素265と電子通信することがあり、モード・スイッチ235−aは、導電線275と直列に配置され、タイミング構成要素265を電気的に接続する、またはタイミング構成要素265を感知構成要素125−aから絶縁することがある。感知構成要素125−aはまた、導電線275−aを通じて電圧構成要素270と電子通信することがあり、モード・スイッチ235−bは、導電線275−aと直列に
配置され、電圧構成要素270を電気的に接続する、または電圧構成要素270を感知構成要素125−aから絶縁することがある。
いくつかの例では、タイミング構成要素265は、感知構成要素125−aが第1の時間におけるメモリ・セル105−aの動作のモードを決定するためのタイミング仕様を提供することがある。たとえば、ノード280は、メモリ・セル105−aを不揮発性モードで動作させるためのタイミング仕様を提供することがある。他の例では、ノード280−aは、メモリ・セル105−aを揮発性モードで動作させるためのタイミング仕様を提供することがある。いくつかの例では、メモリ・セル105−aの動作のモードは、メモリ・セル105−aに書き込まれたまたはメモリ・コントローラもしくはメモリ・アレイにとって利用可能なフラグに基づいて決定されることがある。他の例では、メモリ・セル105−aの動作のモードは、メモリ・セル105−a内に配されるまたは1つもしくは複数の電子接続を介してメモリ・コントローラもしくはメモリ・アレイにとって利用可能なテーブルに基づいて決定されることがあり、このテーブルは、追加の情報で更新されることがある。いくつかの例では、メモリ・セル105−aの動作のモードは、コマンド、フラグ、情報を含むテーブル、またはそれらの組み合わせに基づいて決定されてよい。モード・スイッチ235−aは、ノード285と285−aとを含むことがある。たとえば、ノード285は、メモリ・セル105−aが不揮発性モードで動作するとき、感知構成要素125−aをノード280に電気的に接続する。他の例では、ノード285−aは、メモリ・セル105−aが揮発性モードで動作するとき、感知構成要素125−aをノード280−aに電気的に接続する。
いくつかの例では、電圧構成要素270は、感知構成要素125−aがメモリ・セル105−aの論理状態を決定するための基準電圧を提供することがある。たとえば、ノード290は、メモリ・セル105−aを不揮発性モードで動作させるための基準電圧を提供することがある。他の例では、ノード290−aは、メモリ・セル105−aを揮発性モードで動作させるための基準電圧を提供することがある。モード・スイッチ235−bは、ノード295と295−aとを含むことがある。たとえば、ノード295は、メモリ・セル105−aが不揮発性モードで動作するとき、感知構成要素125−aをノード290に電気的に接続する。他の例では、ノード295−aは、メモリ・セル105−aが揮発性モードで動作するとき、感知構成要素125−aをノード290−aに電気的に接続する。
図3は、本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートする例示的なメモリ・アレイ300を図示する。メモリ・アレイ300は、複数のアレイ・セクション、たとえばアレイ・セクション305と310とを含むことがある。アレイ・セクション305および310はそれぞれ、メモリ・セル105−bおよび105−cを含んでよいが、各々、複数のメモリ・セルを含んでもよい。いくつかの例では、アレイ・セクション305はメモリ・セル105−bを含み、ワード線110−bなどの共通アクセス線に接続されることがある。ワード線110−bは、図1および図2を参照しながら説明されるワード線110の一例であることがあり、メモリ・セル105−bは、図1および図2を参照しながら説明されるメモリ・セル105の一例であることがある。いくつかの例では、メモリ・アレイ300は、感知構成要素125−bと、125−cと、125−dと、125−eも含み、これらの感知構成要素は、図1および図2を参照しながら説明される感知構成要素125の例であることがある。各メモリ・セル105は、導電性ディジット線115を通して感知構成要素125に接続され得る。たとえば、メモリ・セル105−bおよび105−cは、ディジット線115−bを通して、活性化した感知構成要素125−bと電子通信することがある。メモリ・アレイ300は、モード・スイッチ235−cと、235−dと、235−eと、235−fも含み、これらのモード・スイッチは、図2を参照しながら説明されるモード・スイッチ235の例であることがある。
メモリ・アレイ300は、第1の電圧スイッチ240−aと、第2の電圧スイッチ245−aも含み、これらの電圧スイッチはそれぞれ、図2を参照しながら論じられる第1の電圧スイッチ240および第2の電圧スイッチ245の例であることがある。たとえば、第1の電圧スイッチ240−aが、プレート線210−cおよび210−dを介してメモリ・セル105−bと電子通信することがある。プレート線210−cおよび210−dは、図2を参照しながら説明されるプレート線210の一例であることがある。別の例では、第2の電圧スイッチ245−aは、プレート線210−eおよび210−dを介してメモリ・セル105−bと電子通信することがある。モード・スイッチ235−cは、プレート線210−cおよび210−eと直列に配置され、第1の電圧スイッチ240−aおよび第2の電圧スイッチ245−aをそれぞれ電気的に接続する、または第1の電圧スイッチ240−aおよび第2の電圧スイッチ245−aをそれぞれメモリ・セル105−bから絶縁することがある。
メモリ・アレイ300は、第1の電圧スイッチ240−bと、第2の電圧スイッチ245−bも含み、これらの電圧スイッチはそれぞれ、図2を参照しながら論じられる第1の電圧スイッチ240および第2の電圧スイッチ245の例であることがある。たとえば、第1の電圧スイッチ240−bは、プレート線210−fおよび210−gを介してメモリ・セル105−cと電子通信することがある。プレート線210−fおよび210−gは、図2を参照しながら説明されるプレート線210の一例であることがある。別の例では、第2の電圧スイッチ245−gは、プレート線210−hおよび210−gを介してメモリ・セル105−cと電子通信することがある。モード・スイッチ235−dは、プレート線210−fおよび210−hと直列に配置され、第1の電圧スイッチ240−bおよび第2の電圧スイッチ245−bをそれぞれ電気的に接続する、または第1の電圧スイッチ240−bおよび第2の電圧スイッチ245−bをそれぞれメモリ・セル105−cから絶縁することがある。いくつかの例では、プレート線210−gが、プレート線210−dと同じであることがある。たとえば、モード・スイッチ235−cが、プレート線210−gを介してメモリ・セル105−cと電子通信することがある。他の例では、モード・スイッチ235−dが、プレート線210−dを介してメモリ・セル105−bと電子通信することがある。いくつかの例では、他の構成が、図3の例示的なメモリ・アレイ300と異なる実施形態のために、メモリ・アレイ300内で実施されることがある。
本開示において説明されるように、メモリ・アレイ300が、タイミング構成要素265−aと、電圧構成要素270−aも含むことがあり、タイミング構成要素265−aおよび電圧構成要素270−aはそれぞれ、図2を参照しながら論じられるタイミング構成要素265および電圧構成要素270の例であることがある。たとえば、タイミング構成要素265−aは、導電線275−bを介して感知構成要素125−b〜125−eと電子通信することがある。導電線275−bは、図2を参照すると導電線275の一例であることがある。メモリ・アレイ300は、タイミング構成要素265−aおよび感知構成要素125−eと直列に配置されたモード・スイッチ235−eも含む。モード・スイッチ235−eは、図2を参照しながら論じられるモード・スイッチ235の一例であることがある。別の例では、電圧構成要素270−aは、導電線275−cを介して感知構成要素125−b〜125−eと電子通信することがある。導電線275−cは、図2を参照すると導電線275の一例であることがある。メモリ・アレイ300は、電圧構成要素270−aおよび感知構成要素125−dと直列に配置されたモード・スイッチ235−fも含む。モード・スイッチ235−fは、図2を参照しながら論じられるモード・スイッチ235の一例であることがある。
場合によっては、メモリ・アレイ300は、メモリ・アレイ300のアレイ・セクショ
ン310内で動作を異なるモードで実行しながら、アレイ・セクション305をあるモードで動作させることがある。たとえば、アレイ・セクション305内のメモリ・セル105−bは不揮発性モードで動作することがあり、アレイ・セクション310内のメモリ・セル105−cは揮発性モードで動作することがある。すなわち、モード・スイッチ235−cは、メモリ・セル105−bを第1の電圧スイッチ240−aに結合させるように動作可能なトランジスタを備えることがあり、モード・スイッチ235−dは、メモリ・セル105−cを第2の電圧スイッチ245−bに結合させるように動作可能なトランジスタを備える。いくつかの例では、アレイ・セクション305内のメモリ・セル105−bは揮発性モードで動作することがあり、アレイ・セクション310内のメモリ・セル105−cは不揮発性モードで動作することがある。すなわち、モード・スイッチ235−cは、メモリ・セル105−bを第2の電圧スイッチ240−aに結合させるように動作可能なトランジスタを備えることがあり、モード・スイッチ235−dは、メモリ・セル105−cを第2の電圧スイッチ245−bに結合させるように動作可能なトランジスタを備えることがある。いくつかの例では、アレイ・セクション305内のメモリ・セル105−bとアレイ・セクション310内のメモリ・セル105−cは両方とも、同じモード(たとえば、動作の揮発性モードまたは不揮発性モードのどちらか)で動作することがある。
場合によっては、アレイ・セクション305内のメモリ・セルは、ワード線110−bに接続されることがあり、同時に選択および感知されることがある。たとえば、アレイ・セクション305内のメモリ・セル105−bが揮発性モードで動作するとき、アレイ・セクション305内のすべてのメモリ・セルが、ワード線110−bに対応して選択および感知されることがある。同様に、アレイ・セクション310内のメモリ・セル105−cが不揮発性モードで動作するとき、アレイ・セクション305内のすべてのメモリ・セルが、ワード線110−cに対応して選択および感知されることがある。場合によっては、メモリ・セル105−bが、不揮発性モードで動作するとき、セルの内容が、メモリ・セル105−bが揮発性モードで動作するときと比較して、より短いワード線110−b内に記憶されることがある(すなわち、ワード線110−bの一部分が使用されることがある)。たとえば、アレイ・セクション305内のメモリ・セル105−bが揮発性モードで動作するとき、ワード線110−b全体が使用されることがある。
図4A〜図4Bは、本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・セルのためのヒステリシス・プロット400−aおよび400−bを用いて、非線形電気的性質の一例を図示する。ヒステリシス・プロット400−aおよび400−bはそれぞれ、例示的な強誘電体メモリ・セルの書き込みプロセスおよび読み取りプロセスを図示する。ヒステリシス・プロット400−aおよび300−bは、電圧差Vの関数として強誘電体キャパシタ(たとえば、図2のキャパシタ205)上に記憶される電荷Qを示す。
強誘電材料は、自発電気分極によって特徴づけられる、すなわち、電界の非存在下で非ゼロ電気分極を維持する。例示的な強誘電材料としては、チタン酸バリウム(BaTiO3)、チタン酸鉛(PbTiO3)、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、およびタンタル酸ストロンチウム・ビスマス(SBT)がある。本明細書において説明される強誘電体キャパシタは、これらまたは他の強誘電材料を含んでよい。強誘電体キャパシタ内の電気分極は、強誘電材料の表面における正味電荷という結果になり、キャパシタ端子を通して反対の電荷を引きつける。したがって、電荷は、強誘電材料とキャパシタ端子の境界面において記憶される。電気分極は、比較的長い時間にわたって、無期限でさえ、外部から印加された電界の非存在下で維持され得るので、電荷漏洩は、たとえば、DRAMアレイ内で用いられるキャパシタと比較して、著しく減少されることがある。これによって、上記でいくつかのDRAMアーキテクチャに関して説明されたリフレッシュ動作を実行する必要
性が減少され得る。
ヒステリシス・プロット400−aおよび400−bは、キャパシタの単一の端子の観点から理解され得る。例として、強誘電材料が負の分極を有する場合、正の電荷が端子に蓄積する。同様に、強誘電材料が正の分極を有する場合、負の電荷が端子に蓄積する。加えて、ヒステリシス・プロット400−aおよび400−bにおける電圧は、キャパシタにわたる電圧差を表し、指向性であることが理解されるべきである。たとえば、正の電圧は、正の電圧を問題の端子(たとえば、セル・プレート230)に印加し、第2の端子(たとえば、セル底部215)を接地(または約ゼロ・ボルト(0V))に維持することによって、実現され得る。負の電圧は、問題の端子を接地に維持し、正の電圧を第2の端子に印加することによって印加され得る。すなわち、正の電圧は、問題の端子を負に分極させるために印加され得る。同様に、2つの正の電圧、2つの負の電圧、または正の電圧と負の電圧の任意の組み合わせは、ヒステリシス・プロット400−aおよび400−bに示される電圧差を生成するために適切なキャパシタ端子に印加され得る。
ヒステリシス・プロット400−aにおいて示されるように、強誘電材料は、電圧差ゼロで正の分極または負の分極を維持し、2つの可能な充電された状態、すなわち、電荷状態405および電荷状態410という結果になることがある。図4の例によれば、電荷状態405は論理0を表し、電荷状態410は論理1を表す。いくつかの例では、それぞれの電荷状態の論理値は、メモリ・セルを動作させるための他のスキームに対応するために逆転されることがある。
論理0または1は、電圧を印加することにより、強誘電材料の電気分極、したがってキャパシタ端子上の電荷を制御することによって、メモリ・セルに書き込まれることがある。たとえば、キャパシタ上に正味の正の電圧415を印加すると、電荷状態405−aが到達されるまでの電荷蓄積という結果になる。電圧415を除去すると、電荷状態405−aは、ゼロ電圧において電荷状態405に到達するまで経路420をたどる。同様に、電荷状態410は、正味の負の電圧425を印加することによって書き込まれ、これによって、電荷状態410−aという結果になる。負の電圧425を除去した後、電荷状態410−aは、ゼロ電圧において電荷状態410に到達するまで経路430をたどる。電荷状態405−aおよび410−aは、残留分極(Pr)値、すなわち、外部バイアス(たとえば、電圧)を除去するときに残留する分極(または電荷)と呼ばれることもある。抗電圧とは、電荷(または分極)がゼロである電圧である。
強誘電体キャパシタの記憶された状態を読み取る、またはこれを感知するために、電圧が、キャパシタにわたって印加されることがある。それに応答して、記憶された電荷Qは変化し、変化の程度は、初期電荷状態に依存する。すなわち、最終的な記憶された電荷(Q)は、電荷状態405−bが最初に記憶されたか電荷状態410−bが最初に記憶されたかに依存する。たとえば、ヒステリシス・プロット400−bは、2つの可能な記憶された電荷状態405−bおよび410−bを図示する。電圧435が、図2を参照して論じられるように、キャパシタにわたって印加されることがある。他の場合では、固定電圧は、セル・プレートに印加されることがあり、正の電圧として示されているが、電圧435は負であることがある。電圧435に応答して、電荷状態405−bは、経路440をたどることがある。同様に、電荷状態410−bが最初に記憶された場合、電荷状態410−bは経路445をたどる。電荷状態405−cおよび電荷状態410−cの最終的な位置は、具体的な感知スキームおよび回路を含むいくつかの要因に依存する。
場合によっては、最終的な電圧は、メモリ・セルに接続されたディジット線の固有容量に依存することがある。たとえば、キャパシタがディジット線に電気的に接続され、電圧435が印加された場合、ディジット線の電圧は、その固有容量により上昇することがあ
る。そのため、感知構成要素において測定される電圧は、電圧435に等しくないことがあり、その代わりに、ディジット線の電圧に依存することがある。したがって、ヒステリシス・プロット401上での最終的な電荷状態405−cおよび410−cの位置は、ディジット線の容量に依存することがあり、ロードライン解析を通して決定されることがある。すなわち、電荷状態405−cおよび410−cは、ディジット線容量を参照して規定されることがある。その結果、キャパシタの電圧、電圧450、または電圧455は、異なってよく、キャパシタの初期状態に依存してよい。
ディジット線電圧を基準電圧と比較することによって、キャパシタの初期状態が決定されることがある。ディジット線電圧は、電圧435と、キャパシタにわたっての最終的な電圧、電圧450、または電圧455との差。すなわち、(電圧435−電圧450)または(電圧435−電圧455)であってよい。基準電圧は、記憶された論理状態を決定するために、すなわち、ディジット線電圧が基準電圧よりも高いまたは低い場合に、その大きさが2つの可能なディジット線電圧の2つの可能な電圧の間の差であるように生成されることがある。たとえば、基準電圧は、2つの量すなわち(電圧435−電圧450)および(電圧435−電圧455)の平均であることがある。感知構成要素による比較時、感知されるディジット線電圧は、基準電圧よりも高いまたは低いように決定されることがあり、強誘電体メモリ・セルの記憶される論理値(すなわち、論理0または1)が決定され得る。
上記で論じられたように、強誘電体キャパシタを使用しないメモリ・セルを読み取ることは、記憶された論理状態を劣化または破壊することがある。しかしながら、強誘電体メモリ・セルは、読み取り動作の後で初期論理状態を維持することがある。たとえば、電荷状態405−bが記憶される場合、電荷状態は、読み取り動作中に電荷状態405−cへの経路440をたどることがあり、電圧435を除去した後、電荷状態は、経路440を反対方向にたどることによって、初期電荷状態405−bに戻ることがある。
図5A〜5Dは、本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートする例示的なヒステリシス・プロット500−a、500−b、500−c、および500−dを図示する。たとえば、ヒステリシス・プロット500−aは、不揮発性感知動作の一例であることがある。メモリ・セルが不揮発性モードで動作している間、コマンドがメモ・セルに対して開始され得る後、メモリ・セル内に記憶された論理状態が感知されることがある。ヒステリシス・プロット500−aにおいて示されるように、強誘電体材料は、正の分極を維持し、(他の潜在的な充電された状態の中でもとりわけ)2つの可能な充電された状態、すなわち、電荷状態405−dおよび電荷状態410−dという結果になることがある。電荷状態405−dおよび410−dはそれぞれ、図4を参照すると、電荷状態405および410の例であることがある。図4の例によれば、電荷状態405−dは論理0を表し、電荷状態410−dは論理1を表す。
いくつかの例では、キャパシタ上に正味の正の電圧455−aを印加したことに基づいて、電荷状態405−dは、経路440−aをたどり、電荷状態405−eが到達されるまでの電荷蓄積という結果になる。たとえば、第1のディジット線は、論理0を感知したことに基づいて電圧455−a(たとえば、第1の電圧)にバイアスされることがある。電圧455−aを除去すると、電荷状態405−eは、ゼロ電位において電荷状態405−dに到達するまで経路440−aの逆をたどる。同様に、電荷状態410−dは、正味の負の電圧(すなわち、図4Aに示される負の電圧425)を印加することによって書き込まれ、これによって、電荷状態410−eという結果になる。電荷状態410−dは、メモリ・セルとディジット線との間での電荷供給により、経路445−aに沿って電荷状態410−eにシフトされることがある。
場合によっては、最終的な電圧は、メモリ・セルに接続されたディジット線の固有容量に依存することがある。たとえば、キャパシタがディジット線に電気的に接続され、電圧435−aが印加された場合、ディジット線の電圧は、その固有容量により上昇することがある。そのため、感知構成要素において測定される電圧は、電圧435−aに直接的に等しくないことがあり、その代わりに、ディジット線の電圧に依存することがある。したがって、ヒステリシス・プロット500−a上での最終的な電荷状態405−eおよび410−eの位置は、ディジット線の容量に依存することがあり、ロードライン解析を通して決定されることがある。すなわち、電荷状態405−dおよび410−dは、ディジット線容量を参照して規定されることがある。その結果、キャパシタの電圧、電圧450−a、または電圧455−aは、異なってよく、キャパシタの初期状態に依存してよい。
強誘電体キャパシタの記憶された状態を読み取る、またはこれを感知するために、電圧が、キャパシタにわたって印加されることがある。電圧435−aは、回路内のキャパシタに依存することがある電圧であってよい。電圧435−aに応じて、電荷状態405−dは、経路440−aをたどることがある。同様に、電荷状態410−dが最初に記憶された場合、電荷状態410−dは、経路445−aをたどる。電荷状態405−eおよび電荷状態410−eの最終的な位置は、具体的な感知スキームおよび回路を含むいくつかの要因に依存する。場合によっては、メモリ・セルは、不揮発性モードで動作するとき、部分的にバイアスされることがある。
場合によっては、書き戻し動作が発生することがある。たとえば、初期論理値が、読み取り動作または感知動作中に決定された論理値に応じて回復されることがある。いくつかの例では、メモリ・セルが揮発性モードで動作するとき、書き戻し動作が、読み取り動作中に自動的に発生することがある。他の例では、メモリ・セル電荷状態405−dが、不揮発性モードで動作するとき(たとえば、ディジット線が接地(0V)まで放電するとき)、経路440−aを電荷状態405−eまでたどることがある。いくつかの例では、負のバイアス(たとえば、図4Aを参照すると負の電圧425)がキャパシタに印加されることがあり、電荷状態410−aが、経路430を電荷状態410までたどることがあることがある(たとえば、ディジット線が負の電圧から接地すなわち(0V)まで放電するとき)。
図5Bは、本開示のさまざまな実施形態により動作される強誘電体メモリ・セルのためのヒステリシス・プロット500−bを用いて、線形の電気的性質の一例を図示する。たとえば、ヒステリシス・プロット500−bは、揮発性感知動作の一例であることがある。メモリ・セルが揮発性モードで動作している間、コマンドがメモ・セルに対して開始され得る後、メモリ・セル内に記憶された論理状態が感知されることがある。ヒステリシス・プロット500−bにおいて示されるように、強誘電体材料は、正の分極を維持し、2つの可能な電荷、すなわち、電荷状態405−fおよび電荷状態410−fという結果になることがある。図4の例によれば、電荷状態405−fは論理0を表し、電荷状態410−fは論理1を表す。
いくつかの例では、キャパシタ上に正味の正の電圧455−bを印加したことに基づいて、電荷状態405−fは、経路440−bをたどり、電荷状態405−gが到達されるまでの電荷蓄積という結果になる。たとえば、第1のディジット線は、論理0を感知したことに基づいて電圧455−b(たとえば、第1の電圧)にバイアスされることがある。電圧455−bを除去すると、電荷状態405−gは、電荷状態405−fに到達するまで直線状経路505をたどる。場合によっては、セルは、電荷状態405−fと電荷状態405−gとの間の任意の状態において論理0を読み取ることがある。同様に、電荷状態410−fは、正味の正の電圧450−bを印加することによって書き込まれ、これによって、電荷状態410−gという結果になる。たとえば、第1のディジット線は、論理1
を感知したことに基づいて電圧450−b(たとえば、第2の電圧)にバイアスされることがある。電圧450−bに応じて、電荷状態405−fは、経路445−bをたどることがある。正の電圧450−bを除去した後、電荷状態410−gは、ゼロ電圧において電荷状態410−fに到達するまで直線状経路510をたどる。いくつかの例では、揮発性モードで論理1を読み取ることは、キャパシタ上の残余分極電荷(たとえば、ヒステリシス・プロット500−b上の電荷状態410−fの場所)とは無関係であることがある。場合によっては、電圧455−bは、電圧450−bよりも大きいことがある。
いくつかの例では、セルが電荷状態405−fにおいて論理0を記憶する場合、ディジット線電圧は、セルがいくらかの電荷を提供することにより、増加することがある。いくつかの例では、セルが電荷状態410−fにおいて論理1を記憶する場合、ディジット線電圧が減少し、異なる電圧になることがある。場合によっては、揮発性アレイ内で用いられるキャパシタは、線形キャパシタとして振る舞うことがある。たとえば、電荷状態410−fが最初に記憶された場合、電荷状態410−fは、経路445−bをたどることがある。記憶された論理値をセルに回復させるために、電荷状態410−gは、直線状経路510をたどることがある。
場合によっては、最終的な電圧は、メモリ・セルに接続されたディジット線の固有容量に依存することがある。たとえば、キャパシタが正に充電され、電圧435−bにあらかじめ充電されたディジット線に電気的に接続される場合、ディジット線の電圧は増加することがある。いくつかの例では、キャパシタが負に充電され、電圧435−bにあらかじめ充電されたディジット線に電気的に接続される場合、ディジット線の電圧は減少することがある。そのため、感知構成要素において測定される電圧は、電圧435−bに等しくないことがあり、その代わりに、ディジット線の電圧に依存することがある。したがって、ヒステリシス・プロット500−b上での最終的な電荷状態405−gおよび410−gの位置は、ディジット線の容量に依存することがあり、ロードライン解析を通して決定されることがある。すなわち、電荷状態405−gおよび410−gは、ディジット線容量を参照して規定されることがある。その結果、キャパシタの電圧、電圧450−b、または電圧455−bは、異なってよく、キャパシタの初期状態に依存してよい。
図5Cは、本開示のさまざまな実施形態により動作される強誘電体メモリ・セルのためのヒステリシス・プロット500−cを用いて、非線形の電気的性質の一例を図示する。たとえば、ヒステリシス・プロット500−cは、不揮発性感知動作の一例であることがある。メモリ・セルが不揮発性モードで動作している間、コマンドがメモリ・セルに対して開始され得る後、メモリ・セル内に記憶された論理状態が感知されることがある。ヒステリシス・プロット500−cにおいて示されるように、強誘電体材料は、正の分極を維持し、2つの可能な電荷、すなわち、電荷状態405−hおよび電荷状態410−hという結果になることがある。図4の例によれば、電荷状態405−hは論理0を表し、電荷状態410−hは論理1を表す。
いくつかの例では、キャパシタ上に正味の正の電圧455−cを印加したことに基づいて、電荷状態405−hは、経路440−cをたどり、電荷状態405−iが到達されるまでの電荷蓄積という結果になる。たとえば、第1のディジット線は、論理0を感知したことに基づいて電圧455−c(たとえば、第1の電圧)にバイアスされることがある。電圧455−cを除去すると、電荷状態405−iは、ゼロ電位において電荷状態405−hに到達するまで経路440−cの逆をたどる。同様に、電荷状態410−iは、正味の正の電圧450−cを印加することによって書き込まれ、これによって、電荷状態410−iという結果になる。たとえば、第1のディジット線は、論理1を感知したことに基づいて電圧450−c(たとえば、第2の電圧)にバイアスされることがある。電圧450−cに応じて、電荷状態410−hは、経路445−cを電荷状態410−iまでたど
ることがある。電荷状態410−iは、データを再プログラムするために、電荷状態410−iがゼロ電圧において電荷状態405−hに到達するまで、経路440−cの逆をたどることがある。
場合によっては、最終的な電圧は、メモリ・セルに接続されたディジット線の固有容量に依存することがある。たとえば、キャパシタがディジット線に電気的に接続され、電圧435−cが印加された場合、ディジット線の電圧は、その固有容量により上昇することがある。そのため、感知構成要素において測定される電圧は、電圧435−cに等しくないことがあり、その代わりに、ディジット線の電圧に依存することがある。したがって、ヒステリシス・プロット500−c上での最終的な電荷状態405−iおよび410−iの位置は、ディジット線の容量に依存することがあり、ロードライン解析を通して決定されることがある。すなわち、電荷状態405−iおよび410−iは、ディジット線容量を参照して規定されることがある。その結果、キャパシタの電圧、電圧450−c、または電圧455−cは、異なってよく、キャパシタの初期状態に依存してよい。
強誘電体キャパシタの記憶された状態を読み取る、またはこれを感知するために、電圧が、キャパシタにわたって印加されることがある。電圧435−cは、回路内のキャパシタに依存することがある電圧であってよい。電圧435−cに応じて、電荷状態405−hは、経路440−cをたどることがある。同様に、電荷状態410−hが最初に記憶された場合、電荷状態410−hは経路445−cをたどる。電荷状態405−hおよび電荷状態410−hの最終的な位置は、具体的な感知スキームおよび回路を含むいくつかの要因に依存する。たとえば、図5Cの回路は、入力上で一定の電圧を保つことを目指し得る差動増幅器を含むことがある。場合によっては、メモリ・セルは、不揮発性モードで動作するとき、完全にバイアスされることがある。
図5Dは、本開示のさまざまな実施形態により動作される強誘電体メモリ・セルのためのヒステリシス・プロット500−dを用いて、非線形電気的性質の一例を図示する。たとえば、ヒステリシス・プロット500−dは、揮発性感知動作の一例であることがある。メモリ・セルが揮発性モードで動作している間、コマンドがメモ・セルに対して開始され得る後、メモリ・セル内に記憶された論理状態が感知されることがある。ヒステリシス・プロット500−dにおいて示されるように、強誘電体材料は、正の分極を維持し、2つの可能な電荷、すなわち、電荷状態405−jおよび電荷状態410−jという結果になることがある。図4の例によれば、電荷状態405−jは論理0を表し、電荷状態410−jは論理1を表す。場合によっては、セルは、電荷状態405−jと電荷状態405−kとの間の任意の状態において論理0を読み取ることがある。
いくつかの例では、キャパシタ上に正味の正の電圧455−dを印加したことに基づいて、電荷状態405−jは、経路440−dをたどり、電荷状態405−kが到達されるまでの電荷蓄積という結果になる。たとえば、第1のディジット線は、論理0を感知したことに基づいて電圧455−d(たとえば、第1の電圧)にバイアスされることがある。電荷状態405−kは、キャパシタ上での電流漏洩により電荷状態405−jに到達するまで線形経路505−aをたどることがある。場合によっては、セルは、電荷状態405−jが、論理0として読み取り可能な最小電荷状態を下回る(たとえば、電圧435−dよりも小さい)前に、リフレッシュされることがある。場合によっては、電荷状態410−jは、ディジット線が接地(0V))まで放電されるとき、書き込まれる。たとえば、第1のディジット線は、論理1を感知したことに基づいて電圧450−d(たとえば、第2の電圧)にバイアスされることがある。電圧450−dに応じて、電荷状態410−jは、経路445−dをたどることがある。正の電圧450−dを除去した後、電荷状態410−cは、ゼロ電圧において電荷状態410−jに到達するまで直線状経路510−aをたどる。場合によっては、電圧455−dは、電圧450−dよりも大きいことがある
いくつかの例では、セルが電荷状態405−jにおいて論理0を記憶する場合、ディジット線電圧は、セルがいくらかの電荷を提供することにより、増加することがある。いくつかの例では、セルが電荷状態410−jおいて論理1を記憶する場合、ディジット線電圧が減少し、異なる電圧になることがある。場合によっては、揮発性アレイ内で用いられるキャパシタは、線形キャパシタとして振る舞うことがある。たとえば、電荷状態410−jが最初に記憶された場合、電荷状態410−jは、経路445−dをたどることがある。記憶された論理値をセルに回復させるために、電荷状態410−kは、直線状経路510−aをたどることがある。
場合によっては、最終的な電圧は、メモリ・セルに接続されたディジット線の固有容量に依存することがある。たとえば、ディジット線が、電圧435−dまであらかじめ充電されることがある場合、ワード線は、キャパシタをディジット線に電気的に接続するために活性化されることがある。場合によっては、ディジット線の電圧は、キャパシタが充電される場合、電荷状態405−jまで増加することがある。他の例では、ディジット線の電圧は、キャパシタが電荷をもたない場合、電荷状態410−kまで減少することがある。そのため、感知構成要素において測定される電圧は、電圧435−dに等しくないことがあり、その代わりに、ディジット線の電圧に依存することがある。したがって、ヒステリシス・プロット500−d上での最終的なメモリ状態405−kおよび410−kの位置は、ディジット線の容量に依存することがあり、ロードライン解析を通して決定されることがある。すなわち、電荷状態405−kおよび410−kは、ディジット線容量を参照して規定されることがある。その結果、キャパシタの電圧、電圧450−d、または電圧455−dは、異なってよく、キャパシタの初期状態に依存してよい。いくつかの例では、図5Dの回路は、入力上で一定の電圧を保つことを目指し得る差動増幅器を含むことがある。
図6A〜図6Bは、本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・セルに関する例示的な電圧プロット600−aおよび600−bを図示する。電圧プロット600−aおよび600−bはそれぞれ、例示的な強誘電体メモリ・セルの感知プロセスおよび事前充電プロセスを図示する。電圧プロット600−aおよび600−bは、時間tの関数としてワード線(たとえば、図1のワード線110)の電圧Vを示す。たとえば、電圧プロット600−aは、プレート線電圧625と、基準電圧630とを含むことがある。電圧プロット600−bは、第1の電圧635と、第2の電圧640とを含むことがある。
本明細書において動作されるように、電圧プロット600−aは、不揮発性領域605、移行領域610、揮発性領域615、移行領域620、および不揮発性領域605−aの例を図示する。不揮発性領域605および605−aは、メモリ・アレイの1つまたは複数のメモリ・セルが不揮発性モードで動作し得る期間を表し得、揮発性領域615は、メモリの1つまたは複数のメモリ・セルが揮発性モードで動作し得る期間を表し得る。場合によっては、移行領域610は、メモリ・アレイの1つまたは複数のメモリ・セルが動作の不揮発性モードと動作の揮発性モードを切り換える期間を表し得る。他の例では、移行領域620は、メモリ・アレイの1つまたは複数のメモリ・セルが動作の揮発性モードと動作の不揮発性モードを切り換え得る期間を表し得る。場合によっては、移行領域610の中で、読み取り動作が不揮発性モードで発生することがあり、次いで、書き込み動作が揮発性モードで発生することがある。いくつかの例では、移行領域620の中で、読み取り動作が揮発性モードで発生することがあり、次いで、書き込み動作が不揮発性モードで発生することがある。
電圧プロット600−aは、プレート線電圧625および基準電圧630の例も図示する。いくつかの例では、プレート線電圧625は、移行領域610の中で増加し、揮発性領域615の中では、不揮発性領域605と比較したとき、より高い電圧であるままであることがある。たとえば、プレート線電圧625は、メモリ・セルが揮発性モードで動作するとき、感知動作(たとえば、書き込み動作)中に高電圧(たとえば、約1.6V)のままであることがある。第2のコマンドが発行され得る後、メモリ・セルは、移行領域620の中で動作の揮発性モードから動作の不揮発性モードに切り換わることがあり、プレート線電圧625は、不揮発性領域605−a内でプレート線電圧625(たとえば、0V)まで減少することがある。
電圧プロット600−aに示されるように、基準電圧630は、不揮発性領域605において見られるように不揮発性モードで動作するメモリ・セルを読み取るために使用されることがあり、異なる基準電圧630は、揮発性領域615において見られるように揮発性モードで動作するメモリ・セルを読み取るために使用されることがある。メモリ・セルは、メモリ・セルが揮発性モードで動作することがあるとき、メモリ・セルが不揮発性モードで動作することがあるときと比較して、異なる基準電圧630を使用して、移行領域610の中であらかじめ充電されることがある。いくつかの例では、メモリ・セルは、1つまたは複数の感知動作および1つまたは複数の事前充電動作を実行することがあり、これらは、場合によっては、複数回、または繰り返されるやり方で、発生することがある。たとえば、感知動作および事前充電動作は、揮発性領域615内で発生することがある。たとえば、感知動作は、揮発性領域615内で時間t1、t3、t5、t7、およびt9において(例の1セットとして)実行されることがある。場合によっては、事前充電動作は、感知動作の後で発生することがあり、揮発性領域615内で時間t2、t4、t6、およびt8において(例の1セットとして)実行されることがある。場合によっては、書き込み動作は、1つまたは複数の時間t1、t3、t5、t7、およびt9において揮発性領域615内で発生することがある。
いくつかの例では、基準電圧630は、不揮発性領域605内では、揮発性領域615内よりも低いことがある。たとえば、基準電圧630は、移行領域610内で、揮発性領域615内の基準電圧630まで増加することがある。他の例では、基準電圧630は、不揮発性領域605−a内では、揮発性領域615と比較したときよりも低いことがある。たとえば、基準電圧630は、移行領域620内で、揮発性領域605−a内の基準電圧630まで減少することがある。
本明細書において動作されるように、電圧プロット600−bは、不揮発性領域605−b、移行領域610−a、揮発性領域615−a、移行領域620−a、および不揮発性領域605−cの例を図示する。不揮発性領域605−bおよび605−cは、メモリ・アレイの1つまたは複数のメモリ・セルが不揮発性モードで動作し得る期間を表し得、揮発性領域615−aは、メモリの1つまたは複数のメモリ・セルが揮発性モードで動作し得る期間を表し得る。場合によっては、移行領域610−aは、メモリ・アレイの1つまたは複数のメモリ・セルが動作の不揮発性モードと動作の揮発性モードを切り換え得る期間を表し得る。他の例では、移行領域620−aは、メモリ・アレイの1つまたは複数のメモリ・セルが動作の揮発性モードと動作の不揮発性モードを切り換え得る期間を表し得る。
いくつかの例では、メモリ・セルは、1つまたは複数の感知動作および1つまたは複数の事前充電動作を実行することがあり、これらは、場合によっては、複数回、または繰り返されるやり方で、発生することがある。たとえば、感知動作および事前充電動作は、揮発性領域615内で発生することがある。たとえば、感知動作は、揮発性領域615−a内で時間t1、t3、t5、t7、およびt9において(例の1セットとして)実行され
ることがある。場合によっては、事前充電動作は、感知動作の後で発生することがあり、揮発性領域615−a内で時間t2、t4、t6、およびt8において(例の1セットとして)実行されることがある。場合によっては、書き込み動作は、1つまたは複数の時間t1、t3、t5、t7、およびt9において揮発性領域615−a内で発生することがある。
電圧プロット600−bは、第1の電圧635と、第2の電圧640も備えることがある。いくつかの例では、第1の電圧635および第2の電圧640は、内部キャパシタ・ノード電圧(たとえば、図2のセル底部215の電圧)の一例であることがある。いくつかの例では、ディジット線は、感知論理0に基づいて第1の電圧635にバイアスされることがある。他の例では、ディジット線は、感知論理1に基づいて第2の電圧640にバイアスされることがある。たとえば、第1のコマンドが、不揮発性領域605−bおよび605−cの中でメモリ・セルに対して開始されることがある後、メモリ・セル内に記憶された論理状態も、感知されることがある。場合によっては、第2のコマンドが、揮発性領域615−aの中でメモリ・セルに対して開始されることがある後、メモリ・セル内に記憶された論理状態も感知されることがある。
いくつかの例では、第1の電圧635は、不揮発性領域605−b内では、揮発性領域615−aと比較したときよりも低いことがある。たとえば、第1の電圧635は、移行領域610−a内で、揮発性領域615−a内の第1の電圧635まで増加することがある。他の例では、第1の電圧635は、不揮発性領域605−c内では、揮発性領域615−aと比較したときよりも低いことがある。たとえば、第1の電圧635は、移行領域620−a内で、不揮発性領域605−c内の第1の電圧635まで減少することがある。
いくつかの例では、第2の電圧640は、揮発性領域615−a内では、不揮発性領域605−bと比較したときよりも低いことがある。たとえば、第2の電圧640は、移行領域610−a内で、揮発性領域615−a内の第2の電圧640まで減少することがある。他の例では、第2の電圧640は、不揮発性領域605−c内では、揮発性領域615−aと比較したときよりも低いことがある。たとえば、第2の電圧640は、移行領域620−a内で、不揮発性領域605−c内の第2の電圧640まで減少することがある。場合によっては、ディジット線は、揮発性領域615−aの中で時間t2、t4、t6、およびt8においてあらかじめ充電されることがある。
いくつかの例では、第1の電圧635は、時間t1、t3、t5、t7、およびt9において、図5Dにおいて示されるような電荷状態405−kに対応し得る電圧から電荷状態405−jに対応し得る電圧まで減少することがある。いくつかの例では、第2の電圧640は、時間t1、t3、t5、t7、およびt9において、図5Dにおいて示されるような電荷状態410−jに対応し得る電圧から電荷状態410−kに対応し得る電圧まで増加することがある。たとえば、ディジット線電圧(すなわち、図5Dに示される電圧435−d)は、揮発性領域615−aの中で第1の電圧635のピークと第2の電圧640のピークとの間の共通事前充電電圧(図示せず)であることがある。
図7は、本開示のさまざまな例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・コントローラ705のブロック図700を示す。メモリ・コントローラ705は、バイアス構成要素715と、タイミング構成要素720と、不揮発性動作器(operator)725と、コマンド構成要素730と、揮発性動作器735と、感知記憶要素740、記憶構成要素745と、電圧構成要素750とを含むことがある。これらのモジュールの各々は、1つまたは複数のバス(たとえば、バス710)を介して互いと直接的または間接的に通信することがある。
バイアス構成要素715は、感知論理状態に基づいて第1の強誘電体メモリ・セルの第1のディジット線を第1の電圧にバイアスすることがある。場合によっては、バイアス構成要素715は、論理状態を感知したことに基づいて、第1の強誘電体メモリ・セルの第1のディジット線を、第1の電圧から第2の電圧にバイアスすることがある。場合によっては、第1の電圧は、第2の電圧よりも大きい。
タイミング構成要素720は、感知構成要素と電子通信することがある。場合によっては、タイミング構成要素720は、不揮発性動作モードまたは揮発性動作モードと関連づけられたタイミング信号を第1の時間において感知構成要素に提供することがある。
不揮発性動作器725は、第2のコマンドに基づいてメモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させ、強誘電体メモリ・セルを揮発性モード内で動作させながらメモリ・アレイの第2の強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させることがある。場合によっては、不揮発性動作器725は、第2のコマンドを開始したことに少なくとも一部は基づいて記憶した後、強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させ、論理状態を記憶したことに基づいて第1の強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させることがある。
コマンド構成要素730は、強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始し、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させている間、第2のコマンドを開始し、動作モードを決定したことに基づいてメモリ・アレイの第1の部分に対してリフレッシュ・コマンドを開始することがある。
揮発性動作器735は、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させ、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させている間、メモリ・アレイの第2の強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることがある。揮発性動作器735は、記憶した後、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させ、論理状態を記憶したことに少なくとも一部は基づいて、第1の強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることがある。
感知記憶要素740は、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルの第1の論理状態を感知し、第2のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルの第2の論理状態を感知し、コマンドに少なくとも一部は基づいて第1の強誘電体メモリ・セル内に記憶された論理状態を感知することがあり、第1の強誘電体メモリ・セルと電子通信することがある。
記憶構成要素745は、感知された第1の論理状態を、強誘電体メモリ・セルと関連づけられた記憶構成要素内に記憶し、感知したことに基づいて論理状態をメモリ・アレイの感知構成要素内に記憶することがある。
電圧構成要素750は、メモリ・アレイの第1の部分が不揮発性モードで動作することに少なくとも一部は基づいて、第1の基準電圧を強誘電体メモリ・セルに印加することがある。場合によっては、電圧構成要素750は、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることに少なくとも一部は基づいて、強誘電体メモリ・セルと関連づけられたディジット線を第1の基準電圧にあらかじめ充電することがある。他の例では、電圧構成要素750は、メモリ・アレイの第1の部分が揮発性モードで動作することに少なくとも一部は基づいて、強誘電体メモリ・セルの第1の基準電圧とは異なる第2の基準電圧を印加することがある。電圧構成要素750は、感知構成要素と電子通信し、不揮発性動作モードまたは揮発性動作モードと関連づけられた基準電圧を第1の時間において感知構成要素
に提供することがある。
図8は、本開示のさまざまな例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・アレイ805のブロック図800を示す。メモリ・アレイ805は、電子的メモリ装置と呼ばれることがあり、図1を参照して説明されたメモリ・アレイ100の構成要素の一例であることがある。
メモリ・アレイ805は、1つまたは複数の強誘電体メモリ・セル810と、メモリ・コントローラ815と、ワード線820と、ビット線825と、基準構成要素830と、感知構成要素835と、ディジット線840と、ラッチ845とを含むことがある。これらの構成要素は、互いと電子通信することがあり、本明細書において説明される機能のうちの1つまたは複数を実行することがある。場合によっては、メモリ・コントローラ815は、バイアス構成要素850と、タイミング構成要素855とを含むことがある。
メモリ・コントローラ815は、ワード線820、ディジット線840、感知構成要素835、およびビット線825と電子通信することがあり、これらは、図1および図2を参照して説明されたワード線110、ディジット線115、感知構成要素125、およびプレート線210の例であることがある。メモリ・アレイ805は、基準構成要素830と、ラッチ845も含むことがある。メモリ・アレイ805の構成要素は、互いと電子通信することがあり、図1から図7を参照して説明された機能の例を実行することがある。場合によっては、基準構成要素830、感知構成要素835、およびラッチ845は、メモリ・コントローラ815の構成要素であることがある。
いくつかの例では、ディジット線840は、感知構成要素835および強誘電体メモリ・セル810の強誘電体キャパシタと電子通信する。強誘電体メモリ・セル810は、論理状態(たとえば、第1の論理状態または第2の論理状態)を用いて書き込み可能であってよい。ワード線820は、メモリ・コントローラ815および強誘電体メモリ・セル810の選択構成要素と電子通信することがある。ビット線825は、メモリ・コントローラ815および強誘電体メモリ・セル810の強誘電体キャパシタのプレートと電子通信することがある。感知構成要素835は、メモリ・コントローラ815、ディジット線840、ラッチ845、および基準線860と電子通信することがある。基準構成要素830は、メモリ・コントローラ815および基準線860と電子通信することがある。感知制御線865は、感知構成要素835およびメモリ・コントローラ815と電子通信することがある。これらの構成要素は、他の構成要素、接続、またはバスを介して、上記で列挙されていない構成要素に加えて、メモリ・アレイ805の内部と外部の両方にある他の構成要素とも電子通信することがある。
メモリ・コントローラ815は、電圧をそれらのさまざまなノードに印加することによって、ワード線820、ビット線825、および/またはディジット線840を活性化するように構成されることがある。たとえば、バイアス構成要素850は、上記で説明されたように、強誘電体メモリ・セル810を読み取るまたはこれに書き込むように強誘電体メモリ・セル810を動作させるために、電圧を印加するように構成されることがある。場合によっては、メモリ・コントローラ815は、図1を参照して説明されるように、行デコーダ、列デコーダ、または両方を含むことがある。これによって、メモリ・コントローラ815が、1つまたは複数のメモリ・セル810にアクセスすることが可能になることがある。バイアス構成要素850はまた、感知構成要素835のための基準信号を生成するために基準構成要素830に電位を提供することがある。加えて、バイアス構成要素850は、感知構成要素835の動作のための電位を提供することがある。
場合によっては、メモリ・コントローラ815は、その動作を、タイミング構成要素8
55を使用して実行することがある。たとえば、タイミング構成要素855は、本明細書において論じられる、読み取りおよび書き込みなどのメモリ機能を実行するために、スイッチングおよび電圧印加のためのタイミングを含む、さまざまなワード線選択またはプレートバイアスのタイミングを制御する。場合によっては、タイミング構成要素855は、バイアス構成要素850の動作を制御することがある。
基準構成要素830は、感知構成要素835のための基準信号を生成するためにさまざまな構成要素を含むことがある。基準構成要素830は、基準信号を生み出すように構成された回路を含むことがある。場合によっては、基準構成要素830は、他の強誘電体メモリ・セル810を使用して実施されることがある。感知構成要素835は、強誘電体メモリ・セル810からの(ディジット線840を通しての)信号を基準構成要素830からの基準信号と比較することがある。論理状態を決定すると、次いで、感知構成要素は、ラッチ845内の出力を記憶することがあり、それは、メモリ・アレイ805が一部である電子デバイスの動作に従って使用されることがある。感知構成要素835は、ラッチおよび強誘電体メモリ・セルと電子通信する感知増幅器を含むことがある。
メモリ・コントローラ815および/またはそのさまざまな副構成要素のうちの少なくともいくつかは、ハードウェア内で実施されてもよいし、プロセッサによって実行されるソフトウェア内で実施されてもよいし、ファームウェア内で実施されてもよいし、それらの任意の組み合わせで実施されてよい。プロセッサによって実行されるソフトウェア内で実施される場合、メモリ・コントローラ815および/またはそのさまざまな副構成要素のうちの少なくともいくつかの機能は、汎用プロセッサ、デジタル信号プロセッサ(DSP)、特定用途向け集積回路(ASIC)、フィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ(FPGA)もしくは他のプログラム可能論理デバイス、個別のゲートもしくはトランジスタ論理、個別のハードウェア構成要素、または本開示において説明される機能を実行するように設計されたそれらの任意の組み合わせによって実行されてよい。メモリ・コントローラ815および/またはそのさまざまな副構成要素のうちの少なくともいくつかは、1つまたは複数の物理デバイスによって異なる物理的な場所において機能の部分が実施されるように分散されることを含めて、さまざまな位置に物理的に設置されてよい。いくつかの例では、メモリ・コントローラ815および/またはそのさまざまな副構成要素のうちの少なくともいくつかは、本開示のさまざまな例による別個の異なる構成要素であってよい。他の例では、メモリ・コントローラ815および/またはそのさまざまな副構成要素のうちの少なくともいくつかは、限定されるものではないが、I/O構成要素、トランシーバ、ネットワーク・サーバ、別のコンピューティング・デバイス、本開示において説明される1つもしくは複数の他の構成要素、または本開示のさまざまな例によるそれらの組み合わせを含む、1つまたは複数の他のハードウェア構成要素と組み合わされてよい。
メモリ・コントローラ815は、メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させ、強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始し、第1のコマンドに基づいて強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることがある。メモリ・コントローラ815はまた、メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始し、第1のコマンドに基づいて強誘電体メモリ・セルの第1の論理状態を感知し、感知された第1の論理状態を、強誘電体メモリ・セルと関連づけられた記憶構成要素内に記憶し、記憶した後、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることがある。メモリ・コントローラ815はまた、コマンドに基づいて第1の強誘電体メモリ・セル内に記憶された論理状態を感知し、感知したことに基づいて論理状態をメモリ・アレイの感知構成要素内に記憶し、論理状態を記憶したことに基づいて第1の強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることがある。メモリ・コントローラ815はまた、コマンドに基づいて第1の強誘電体
メモリ・セル内に記憶された論理状態を感知し、感知したことに基づいて論理状態をメモリ・アレイの感知構成要素内に記憶し、論理状態を記憶したことに基づいて第1の強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させることがある。場合によっては、第1の強誘電体メモリ・セルは、メモリ・アレイの第1の部分の中にあることがある。場合によっては、トランジスタが、第1の強誘電体メモリ・セルに結合されることがある。場合によっては、コントローラは、トランジスタおよび感知構成要素と電子通信することがあり、コントローラは、第1の強誘電体メモリ・セルが不揮発性モードである間、第1の強誘電体メモリ・セルに対してコマンドを開始するように構成される。場合によっては、第1の強誘電体メモリ・セルは、メモリ・アレイの第1の部分の中にあることがある。場合によっては、トランジスタが、第1の強誘電体メモリ・セルに結合されることがある。場合によっては、コントローラは、トランジスタおよび感知構成要素と電子通信することがあり、コントローラは、第1の強誘電体メモリ・セルが揮発性モードである間、第1の強誘電体メモリ・セルに対してコマンドを開始するように構成される。
図9は、本開示のさまざまな例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするデバイス905を含むシステム900の図を示す。デバイス905は、上記でたとえば図1を参照して説明されたメモリ・アレイ100の構成要素の一例であってもよいし、これを含んでもよい。デバイス905は、メモリ・コントローラ915と、メモリ・セル920と、基本入力/出力システム(BIOS)構成要素925と、プロセッサ930と、I/Oコントローラ935と、周辺構成要素940とを含む、通信を送信および受信するための構成要素を含む、双方向音声およびデータ通信のための構成要素を含むことがある。これらの構成要素は、1つまたは複数のバス(たとえば、バス910)を介して電子通信することがある。
メモリ・コントローラ915は、本明細書において動作されるように、1つまたは複数のメモリ・セルを動作させることがある。具体的には、メモリ・コントローラ915は、デュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするように構成されることがある。場合によっては、メモリ・コントローラ915は、図1を参照して説明されるように、行デコーダ、列デコーダ、または両方を含むことがある(図示せず)。
メモリ・セル920は、本明細書において説明されるように、情報を(すなわち、論理的な状態の形で)記憶することがある。
BIOS構成要素925は、さまざまなハードウェア構成要素を初期化して走らせ得る、ファームウェアとして動作されるBIOSを含むソフトウェア構成要素であってよい。BIOS構成要素925はまた、プロセッサとさまざまな他の構成要素、たとえば、周辺構成要素、入力/出力制御構成要素などとの間のデータ・フローを管理することがある。BIOS構成要素925は、読み出し専用メモリ(ROM)、フラッシュ・メモリ、または他の任意の不揮発性メモリ内に記憶されたプログラムまたはソフトウェアを含むことがある。
プロセッサ930は、インテリジェント・ハードウェア・デバイス(たとえば、汎用プロセッサ、DSP、中央処理装置(CPU)、マイクロコントローラ、ASIC、FPGA、プログラム可能論理デバイス、個別のゲートもしくはトランジスタ論理構成要素、個別のハードウェア構成要素、またはそれらの任意の組み合わせ)を含むことがある。場合によっては、プロセッサ930は、メモリ・コントローラを使用してメモリ・アレイを動作させるように構成されることがある。他の場合には、メモリ・コントローラは、プロセッサ930に統合されることがある。プロセッサ930は、さまざまな機能(たとえば、デュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートする機能またはタスク)を実行するために、メモリ内に記憶されたコンピュータ可読命令を実行するように構成されること
がある。
I/Oコントローラ935は、デバイス905のための入力信号および出力信号を管理し得る。I/Oコントローラ935は、デバイス905に統合されていない周辺機器も管理し得る。場合によっては、I/Oコントローラ935は、外部周辺機器への物理的接続またはポートを表すことがある。場合によっては、I/Oコントローラ935は、iOS(登録商標)、ANDROID(登録商標)、MS−DOS(登録商標)、MS−WINDOWS(登録商標)、OS/2(登録商標)、UNIX(登録商標)、LINUX(登録商標)、または別の既知のオペレーティング・システムなどのオペレーティング・システムを利用することがある。他の場合には、I/Oコントローラ935は、モデム、キーボード、マウス、タッチスクリーン、または類似のデバイスを表す、またはこれと相互作用することがある。場合によっては、I/Oコントローラ935は、プロセッサの一部として実施されることがある。場合によっては、ユーザは、I/Oコントローラ935を介して、またはI/Oコントローラ935によって制御されるハードウェア構成要素を介して、デバイス905と対話することがある。
周辺構成要素940は、任意の入力デバイスもしくは出力デバイス、またはそのようなデバイスのためのインタフェースを含んでよい。例としては、ディスク・コントローラ、サウンド・コントローラ、グラフィックス・コントローラ、イーサネット・コントローラ、モデム、ユニバーサル・シリアル・バス(USB)コントローラ、シリアル・ポートもしくはパラレル・ポート、または周辺構成要素相互接続(PCI)スロットまたはアクセラレーテッド・グラフィックス・ポート(AGP)スロットなどの周辺カード・スロットがあり得る。
入力945は、デバイス905またはその構成要素に入力を提供する、デバイス905の外部にあるデバイスまたは信号を表すことがある。これは、ユーザ・インタフェースを含んでもよいし、他のデバイスとの、またはこれとの間の、インタフェースを含んでもよい。場合によっては、入力945は、周辺構成要素940を介してデバイス905とインタフェースする周辺機器であってもよいし、入力/出力制御構成要素935によって管理されてもよい。
出力950は、デバイス905またはその構成要素のいずれかから出力を受信するように構成された、デバイス905の外部にあるデバイスまたは信号を表すことがある。出力950の例としては、ディスプレイ、オーディオ・スピーカ、印刷デバイス、別のプロセッサ、またはプリント回路基板などがあり得る。場合によっては、出力950は、周辺構成要素940を介してデバイス905とインタフェースする周辺機器であってもよいし、入力/出力制御構成要素935によって管理されてもよい。場合によっては、バッテリ電源式システムは、オフに切り替えられ、不揮発性モードでデータを自動的に記憶することがある。いくつかの例では、バッテリ電源式システムは、オンに切り替えられ、揮発性モードでデータを自動的に記憶することがある。
図10は、本開示のさまざまな例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作のための方法1000を図示するフローチャートを示す。方法1000の動作は、本明細書において説明されるメモリ・アレイ100またはその構成要素によって実施されることがある。たとえば、方法1000の動作は、図7から図9を参照して説明されるメモリ・コントローラによって実行されることがある。いくつかの例では、メモリ・アレイ100は、以下で説明される機能を実行するようにデバイスの機能要素を制御するためにコードのセットを実行することがある。加えて、または代替的に、メモリ・アレイ100は、特殊目的ハードウェアを使用して、以下で説明される機能の例を実行することがある。
ブロック1005では、メモリ・アレイ100は、メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させることがある。ブロック1005の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。方法1000は、不揮発性モードでの動作の中でもとりわけ、データを不揮発性モードで書き込むことと、データを不揮発性モードで読み取ることと、データを不揮発性モードでリフレッシュすることとをさらに含むことがある。いくつかの例では、ブロック1005の動作の例は、図7から図9を参照して説明される不揮発性動作器によって実行されることがある。
ブロック1010では、メモリ・アレイ100は、強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始することがある。ブロック1010の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。いくつかの例では、第1のコマンドを開始することは、メモリ・セルを備えるメモリ・アレイの第1の部分を選択することを含む。いくつかの例では、方法1000は、データを不揮発性モードで読み取ることと、データを揮発性モードで書き込むこととをさらに含むことがある。いくつかの例では、ブロック1010の動作の例は、図7から図9を参照して説明されるコマンド構成要素によって実行されることがある。
ブロック1015では、メモリ・アレイ100は、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることがある。ブロック1015の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。方法1000は、不揮発性モードでの動作の中でもとりわけ、データを揮発性モードで書き込むことと、データを揮発性モードで読み取ることと、データを揮発性モードでリフレッシュすることとをさらに含むことがある。いくつかの例では、メモリ・セルを揮発性モードで動作させることは、メモリ・アレイの第1の部分内の第1のメモリ・セルを不揮発性モードで動作させることとは異なる、メモリ・アレイの第2の部分内の第2のメモリ・セルを動作させることを含むことがある。いくつかの例では、ブロック1015の動作の例は、図7から図9を参照して説明される揮発性動作器によって実行されることがある。
図11は、本開示のさまざまな例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作のための方法1100を図示するフローチャートを示す。方法1100の動作は、本明細書において説明されるメモリ・アレイ100またはその構成要素によって実施されることがある。たとえば、方法1100の動作は、図7から図9を参照して説明されるメモリ・コントローラによって実行されることがある。いくつかの例では、メモリ・アレイ100は、以下で説明される機能を実行するようにデバイスの機能要素を制御するためにコードのセットを実行することがある。加えて、または代替的に、メモリ・アレイ100は、特殊目的ハードウェアを使用して、以下で説明される機能の例を実行することがある。
ブロック1105では、メモリ・アレイ100は、メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始することがある。ブロック1105の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。いくつかの例では、ブロック1105の動作の例は、図7から図9を参照して説明されるコマンド構成要素によって実行されることがある。
ブロック1110では、メモリ・アレイ100は、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルの第1の論理状態を感知することがある。ブロック1110の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。いくつかの例では、ブロック1110の動作の例は、図7から図9を参照して説明される感知構成要素によって実行されることがある。
ブロック1115では、メモリ・アレイ100は、感知された第1の論理状態を、強誘
電体メモリ・セルと関連づけられた記憶構成要素内に記憶することがある。ブロック1115の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。いくつかの例では、ブロック1115の動作の例は、図6から図9を参照して説明される記憶構成要素によって実行されることがある。
ブロック1120では、メモリ・アレイ100は、記憶した後、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることがある。ブロック1120の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。いくつかの例では、ブロック1120の動作の例は、図7から図9を参照して説明される揮発性動作器によって実行されることがある。
図12は、本開示のさまざまな例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作のための方法1200を図示するフローチャートを示す。方法1200の動作は、本明細書において説明されるメモリ・アレイ100またはその構成要素によって実施されることがある。たとえば、方法1200の動作は、図7から図9を参照して説明されるメモリ・コントローラによって実行されることがある。いくつかの例では、メモリ・アレイ100は、以下で説明される機能を実行するようにデバイスの機能要素を制御するためにコードのセットを実行することがある。加えて、または代替的に、メモリ・アレイ100は、特殊目的ハードウェアを使用して、以下で説明される機能の例を実行することがある。
ブロック1205では、メモリ・アレイ100は、第1の強誘電体メモリ・セルが不揮発性モードである間、第1の強誘電体メモリ・セルに対してコマンドを開始することがある。ブロック1205の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。いくつかの例では、ブロック1205の動作の例は、図7から図9を参照して説明されるコマンド構成要素によって実行されることがある。
ブロック1210では、メモリ・アレイ100は、コマンドに少なくとも一部は基づいて、第1の強誘電体メモリ・セル内に記憶された論理状態を感知することがある。ブロック1210の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。いくつかの例では、ブロック1210の動作の例は、図7から図9を参照して説明される感知構成要素によって実行されることがある。
ブロック1215では、メモリ・アレイ100は、感知したことに少なくとも一部は基づいて、論理状態を感知メモリ・アレイの構成要素内に記憶することがある。ブロック1215の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。いくつかの例では、ブロック1215の動作の例は、図7から図9を参照して説明される記憶構成要素によって実行されることがある。
ブロック1220では、メモリ・アレイ100は、論理状態を記憶したことに少なくとも一部は基づいて、第1の強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることがある。ブロック1220の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。いくつかの例では、ブロック1220の動作の例は、図7から図9を参照して説明される揮発性動作器によって実行されることがある。
図13は、本開示のさまざまな例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作のための方法1300を図示するフローチャートを示す。方法1300の動作は、本明細書において説明されるメモリ・アレイ100またはその構成要素によって実施されることがある。たとえば、方法1300の動作は、図7から図9を参照して説明されるメモリ・コントローラによって実行されることがある。いくつかの例では、メモリ・アレイ100は、以下で説明される機能を実行するようにデバイスの機能要素を制御するためにコードの
セットを実行することがある。加えて、または代替的に、メモリ・アレイ100は、特殊目的ハードウェアを使用して、以下で説明される機能の例を実行することがある。
ブロック1305では、メモリ・アレイ100は、第1の強誘電体メモリ・セルが揮発性モードである間、第1の強誘電体メモリ・セルに対してコマンドを開始することがある。ブロック1305の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。いくつかの例では、ブロック1305の動作の例は、図7から図9を参照して説明されるコマンド構成要素によって実行されることがある。
ブロック1310では、メモリ・アレイ100は、コマンドに少なくとも一部は基づいて、第1の強誘電体メモリ・セル内に記憶された論理状態を感知することがある。ブロック1310の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。いくつかの例では、ブロック1310の動作の例は、図7から図9を参照して説明される感知構成要素によって実行されることがある。
ブロック1315では、メモリ・アレイ100は、感知したことに少なくとも一部は基づいて、論理状態をメモリ・アレイの感知構成要素内に記憶することがある。ブロック1315の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。いくつかの例では、ブロック1315の動作の例は、図7から図9を参照して説明される記憶構成要素によって実行されることがある。
ブロック1320では、メモリ・アレイ100は、論理状態を記憶したことに少なくとも一部は基づいて、第1の強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させることがある。ブロック1320の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。いくつかの例では、ブロック1320の動作の例は、図6から図9を参照して説明される不揮発性動作器によって実行されることがある。
上記で説明された方法は可能な実施例について説明するものであり、動作およびステップは、並べ替えられてもよいし、他の方法で修正されてもよく、他の実施例も可能であることが留意されるべきである。そのうえ、方法のうちの2つ以上からの例が組み合わされてよい。方法1300は、不揮発性モードでの動作の中でもとりわけ、データを不揮発性モードで書き込むことと、データを不揮発性モードで読み取ることと、データを不揮発性モードでリフレッシュすることとをさらに含むことがある。場合によっては、方法1300は、揮発性モードでの動作の中でもとりわけ、データを揮発性モードで書き込むことと、データを揮発性モードで読み取ることと、データを揮発性モードでリフレッシュすることとをさらに含むことがある。
本明細書において説明される情報および信号は、さまざまな異なる技術および技法のいずれかを使用して表されてよい。たとえば、上記の説明全体を通じて言及され得るデータ、命令、コマンド、情報、信号、ビット、シンボル、およびチップは、電圧、電流、電磁波、磁界もしくは磁性粒子、光場もしくは光学粒子、またはそれらの任意の組み合わせによって表されることがある。いくつかの図面は、信号を単一の信号として図示することがある。しかしながら、信号が信号のバスを表すことがあり、バスはさまざまなビット幅を有することがあることは、当業者によって理解されよう。
本明細書で使用されるとき、「仮想接地」という用語は、約ゼロ・ボルト(0V)の電圧に保たれるが接地と直接的に接続されていない電気回路のノードを指す。したがって、仮想接地の電圧は、一時的に変動し、定常状態で約0Vに戻ることがある。仮想接地は、演算増幅器および抵抗器からなる電圧分割器などのさまざまな電子回路要素を使用して実施され得る。他の実施例も可能である。「仮想接地すること」または「仮想的に接地され
る」は、約0Vに接続されることを意味する。
「電子通信」および「結合される」という用語は、構成要素間の電子流をサポートする構成要素間の関係を指す。これは、構成要素間の直接接続を含んでもよいし、中間構成要素を含んでもよい。互いと電子通信するまたは互いに結合された構成要素は、電子もしくは信号を(たとえば、通電された回路内で)能動的に交換することがあり、または、電子もしくは信号を(たとえば、遮断された回路内で)能動的に交換しないことがあるが、回路が通電されると電子もしく信号を交換するように構成および動作可能であることがある。例として、スイッチ(たとえば、トランジスタ)を介して物理的に接続された2つの構成要素は、電子通信をし、または、スイッチの状態(すなわち、開いているまたは閉じられている)にかかわらず結合されることがある。
本明細書で使用されるとき、「実質的に」という用語は、修飾された特性(たとえば、実質的にという用語によって修飾された動詞または形容詞)は、絶対的である必要はないが、特性の利点を達成するとなるように十分に近いことを意味する。
本明細書で使用されるとき、「電極」という用語は、電気導体を指すことがあり、場合によっては、メモリ・セルまたはメモリ・アレイの他の構成要素への電気接点として用いられることがある。電極は、メモリ・アレイ100の要素または構成要素間の導電性経路を提供する掃引線、ワイヤ、導電ライン、導電層などを含むことがある。
「絶縁された」という用語は、電子がそれらの間を流れることが現在不可能である構成要素間の関係を指す。構成要素は、それらの間に開回路がある場合、互いから絶縁される。たとえば、スイッチによって物理的に接続された2つの構成要素は、スイッチが開いているとき、互いから絶縁されることがある。
本明細書で使用されるとき、「短絡」という用語は、問題の2つの構成要素間の単一の中間構成要素の活性化を介して構成要素間に導電性経路が確立される構成要素間の関係を指す。たとえば、第2の構成要素に短絡された第1の構成要素は、2つの構成要素間のスイッチが閉じられているとき、第2の構成要素と電子を交換し得る。したがって、短絡は、電子通信する構成要素(または線)間の電荷の流れを可能にする動的な動作であることがある。
メモリ・アレイ100を含む、本明細書において論じられるデバイスは、シリコン、ゲルマニウム、シリコン−ゲルマニウム合金、ガリウム砒素、窒化ガリウムなどの半導体基板上に形成されてよい。場合によっては、基板は、半導体ウェハである。他の場合には、基板は、シリコン・オン・ガラス(SOG)またはシリコン・オン・サファイア(SOP)などのシリコン・オン・インシュレータ(SOI)基板であってもよいし、別の基板上の半導体材料のエピタキシャル層であってもよい。基板または基板の副領域の導電性は、限定するものではないが、リン、ホウ素、またはヒ素を含むさまざまな化学種を使用したドーピングを通して制御されることがある。ドーピングは、基板の初期形成または成長中に、イオン注入によって、または他の任意のドーピング手段によって、実行されてよい。
本明細書において論じられる1つまたは複数のトランジスタは、電界効果トランジスタ(FET)を表し、ソース、ドレイン、およびゲートを含む3つの端子デバイスを備えることがある。端子は、導電材料、たとえば金属を通して、他の電子要素に接続されることがある。ソースおよびドレインは、導電性であってよく、多量にドーピングされた、たとえば縮退した、半導体領域を備えることがある。ソースとドレインは、軽度にドーピングされた半導体領域またはチャネルによって分離されることがある。チャネルがn形(すなわち、多数キャリアが電子である)場合、FETは、n形FETと呼ばれることがある。
チャネルがp形(すなわち、多数キャリアが正孔である)場合、FETは、p形FETと呼ばれることがある。チャネルは、絶縁性ゲート酸化物によってキャップされることがある。チャネル導電性は、ゲートに電圧を印加することによって制御されることがある。たとえば、n形FETまたはp−タイプ形に正の電圧または負の電圧をそれぞれ印加すると、チャネルが導電性になるという結果になることがある。トランジスタは、トランジスタの閾値電圧よりも大きいまたはこれに等しい電圧がトランジスタ・ゲートに印加されるとき、「オン」であるまたは「活性化される」ことがある。トランジスタは、トランジスタの閾値電圧よりも小さい電圧がトランジスタ・ゲートに印加されるとき、「オフ」であるまたは「非活性化される」ことがある。
本明細書において、添付の図面に関連して記載される説明は、例示的な構成について説明し、実施され得るまたは特許請求の範囲内にあるすべての例を表すとは限らない。本明細書において使用される「例示的」という用語は、「一例、事例、または例示として役立つ」ことを意味し、「好ましい」または「他の例よりも有利である」ことを意味しない。詳細な説明は、説明される技法の理解を提供する目的で具体的な詳細を含む。しかしながら、これらの技法は、これらの具体的な詳細なしに実施され得る。いくつかの事例では、よく知られている構造およびデバイスは、説明される例の概念を不明瞭にすることを避けるためにブロック図形式で示される。
添付の図では、類似の構成要素または特徴は、同じ参照ラベルを有することがある。さらに、同じタイプのさまざまな構成要素は、ダッシュおよび類似の構成要素を区別する第2のラベルによって参照ラベルを追跡することによって、区別され得る。ただ第1の参照ラベルが本明細書において使用される場合、説明は、第2の参照ラベルには関係なく、同じ第1の参照ラベルを有する類似の構成要素のいずれか1つに適用可能である。
本明細書において説明される情報および信号は、さまざまな異なる技術および技法のいずれかを使用して表されてよい。たとえば、上記の説明全体を通じて言及され得るデータ、命令、コマンド、情報、信号、ビット、シンボル、およびチップは、電圧、電流、電磁波、磁界もしくは磁性粒子、光場もしくは光学粒子、またはそれらの任意の組み合わせによって表されることがある。
本明細書における開示に関連して説明されるさまざまな例示的なブロックおよびモジュールは、汎用プロセッサ、DSP、ASIC、FPGAもしくは他のプログラム可能論理デバイス、個別のゲートもしくはトランジスタ論理、個別のハードウェア構成要素、または本明細書において説明される機能を実行するように設計されたそれらの任意の組み合わせを用いて、実施または実行され得る。汎用プロセッサはマイクロプロセッサであってよいが、代替形態では、プロセッサは、任意の従来のプロセッサ、コントローラ、マイクロコントローラ、または状態機械であってよい。プロセッサは、コンピューティング・デバイスの組み合わせ(たとえば、デジタル信号プロセッサ(DSP)とマイクロプロセッサの組み合わせ、複数のマイクロプロセッサ、DSPコアに関連した1つもしくは複数のマイクロプロセッサ、または他の任意のそのような構成)として実施されてもよい。
本明細書において説明される機能は、ハードウェア、プロセッサによって実行されるソフトウェア、ファームウェア、またはそれらの任意の組み合わせにおいて実施されてよい。プロセッサによって実行されるソフトウェアにおいて実施される場合、機能は、1つまたは複数の命令またはコードとしてコンピュータ可読媒体上に記憶されてもよいし、送信されてもよい。他の例および実施例は、本開示および添付の特許請求の範囲内にある。たとえば、ソフトウェアの性質により、上記で説明された機能は、プロセッサによって実行されるソフトウェア、ハードウェア、ファームウェア、ハードワイヤリング、またはこれらのいずれかの組み合わせを使用して実施可能である。機能を実施する特徴はまた、機能
の部分が異なる物理的な場所において実施されるように分散されることを含めて、さまざまな位置に物理的に設置されてよい。また、特許請求の範囲内を含めて本明細書で使用されるとき、項目のリスト(たとえば、「のうちの少なくとも1つ」または「のうちの1つまたは複数」などの句が前に置かれる項目のリスト)内で使用される「または」は包括的なリストを示し、したがって、たとえば、A、B、またはCのうちの少なくとも1つというリストは、AまたはBまたはCまたはABまたはACまたはBCまたはABC(すなわち、AおよびBおよびC)を意味する。また、本明細書で使用されるとき、「〜に基づく」という句は、条件の閉集合への言及として解釈されるべきでない。たとえば、「A条件に基づく」として説明される例示的なステップは、本開示の範囲から逸脱することなく、条件Aと条件Bの両方に基づいてよい。言い換えれば、本明細書で使用されるとき、「〜に基づく」という句は、「〜に少なくとも一部は基づく」という句と同じ様式で解釈されるべきでない。
コンピュータ可読媒体は、ある場所から別の場所へのコンピュータ・プログラムの転送を容易にする任意の媒体を含む、非一時的なコンピュータ記憶媒体と通信媒体の両方を含む。非一時的な記憶媒体は、汎用コンピュータまたは特殊目的コンピュータによってアクセス可能である任意の利用可能な媒体であってよい。限定ではなく、例として、非一時的なコンピュータ可読媒体は、RAM、ROM、電気的に消去可能なプログラマブル読み出し専用メモリ(EEPROM)、コンパクト・ディスク(CD)ROMもしくは他の光ディスク記憶装置、磁気ディスク記憶装置もしくは他の磁気記憶デバイス、または命令もしくはデータ構造の形で所望のプログラム・コード手段を搬送もしくは記憶するために使用可能であり、汎用コンピュータもしくは特殊目的コンピュータ、または汎用プロセッサもしくは特殊目的プロセッサによってアクセス可能である他の任意の非一時的な媒体を含むことができる。また、あらゆる接続は、コンピュータ可読媒体と呼ばれるのが適切である。たとえば、ソフトウェアが、同軸ケーブル、光ファイバ・ケーブル、ツイスト・ペア、デジタル加入者線(DSL)、または赤外線、無線、およびマイクロ波などのワイヤレス技術を使用してウェブサイト、サーバ、または他のリモート・ソースから送信される場合、同軸ケーブル、光ファイバ・ケーブル、ツイスト・ペア、デジタル加入者線(DSL)、または赤外線、無線、およびマイクロ波などのワイヤレス技術は、媒体の定義に含まれる。ディスク(disk)およびディスク(disc)は、本明細書で使用されるとき、CD、レーザ・ディスク、光ディスク、デジタル多用途ディスク(DVD)、フロッピー・ディスク、およびBlu−rayディスクを含み、ディスク(disk)は、通常、データを磁気的に再生し、ディスク(disc)は、レーザを用いて光学的にデータを再生する。上記の組み合わせも、コンピュータ可読媒体の範囲内に含まれる。
本明細書における説明は、当業者が開示を作製または使用することを可能にするために提供される。本開示のさまざまな修正形態は、当業者には容易に明らかであろう。本明細書において定義される一般的原理は、本開示の範囲から逸脱することなく、他の変形形態に適用され得る。したがって、本開示は、本明細書において説明される例および設計に限定されず、本明細書で開示される原理および新規な特徴に合致する最も幅広い範囲が与えられるべきである。
メモリ・アレイを動作させる方法について説明する。この方法は、メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させることと、強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始することと、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることとを含むことがある。
メモリ・アレイを動作させるための装置について説明する。この装置は、メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させるための手段と、強誘電体メモリ
・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始するための手段と、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させるための手段とを含むことがある。
メモリ・アレイを動作させるための別の装置について説明する。この装置は、メモリ・セルと、このメモリ・セルと電子通信するメモリ・コントローラであって、メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させ、強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始し、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させるように動作可能であるメモリ・コントローラとを含むことがある。上記で説明された方法および装置のいくつかの例では、第1のコマンドを開始することは、メモリ・アレイの第1の部分を選択することを含む。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルの第1の論理状態を感知するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、感知された第1の論理状態を、強誘電体メモリ・セルと関連づけられた記憶構成要素内に記憶するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させている間、第2のコマンドを開始するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、第2のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させるためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。上記で説明された方法および装置のいくつかの例では、第2のコマンドを開始することは、メモリ・アレイの第1の部分を選択解除することを含む。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させている間、メモリ・アレイの第2の強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させるためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させている間、メモリ・アレイの第2の強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させるためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、強誘電体メモリ・セルが第1の時間において不揮発性モードであり得るか揮発性モードであり得るかを決定するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、メモリ・アレイの第2の強誘電体メモリ・セルが第1の時間において不揮発性モードであり得るか揮発性モードであり得るかを決定するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、第2の強誘電体メモリ・セルが不揮発性モードであり得るか揮発性モードであり得るかを決定したことに少なくとも一部は基づいて第2の強誘電体メモリ・セルの動作モードを調整するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。
装置について説明する。この装置は、メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させるための手段と、強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始するための手段と、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させるための手段とを含むことがあ
る。いくつかの例は、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルの第1の論理状態を感知するための手段をさらに含むことがある。いくつかの例は、感知された第1の論理状態を、強誘電体メモリ・セルと関連づけられた記憶構成要素内に記憶するための手段をさらに含むことがある。
いくつかの例は、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させている間、第2のコマンドを開始するための手段をさらに含むことがある。いくつかの例は、第2のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させるための手段をさらに含むことがある。いくつかの例は、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させている間、メモリ・アレイの第2の強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させるための手段をさらに含むことがある。いくつかの例は、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させている間、メモリ・アレイの第2の強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させるための手段をさらに含むことがある。
いくつかの例は、強誘電体メモリ・セルが第1の時間において不揮発性モードであるか揮発性モードであるかを決定するための手段をさらに含むことがある。いくつかの例は、メモリ・アレイの第2の強誘電体メモリ・セルが第1の時間において不揮発性モードであるか揮発性モードであるかを決定するための手段をさらに含むことがある。いくつかの例は、第2の強誘電体メモリ・セルが不揮発性モードであるか揮発性モードであるかを決定したことに少なくとも一部は基づいて第2の強誘電体メモリ・セルの動作モードを調整するための手段をさらに含むことがある。
メモリ・アレイを動作させる方法について説明する。この方法は、メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始することと、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルの第1の論理状態を感知することと、感知された第1の論理状態を、強誘電体メモリ・セルと関連づけられた記憶構成要素内に記憶することと、記憶した後、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることとを含むことがある。
メモリ・アレイを動作させるための装置について説明する。この装置は、メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始するための手段と、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルの第1の論理状態を感知するための手段と、感知された第1の論理状態を、強誘電体メモリ・セルと関連づけられた記憶構成要素内に記憶するための手段と、記憶した後、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させるための手段とを含むことがある。
メモリ・アレイを動作させるための別の装置について説明する。この装置は、メモリ・セルと、このメモリ・セルと電子通信するメモリ・コントローラであって、メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始し、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルの第1の論理状態を感知し、感知された第1の論理状態を、強誘電体メモリ・セルと関連づけられた記憶構成要素内に記憶し、記憶した後、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させるように動作可能であるメモリ・コントローラとを含むことがある。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、コマンドに少なくとも一部は基づいて第1の強誘電体メモリ・セルの動作モードを決定するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、動作モードを決定したことに少なくとも一部は基づいてメモリ・アレイの第1の部分に対してリフレッシュ・コマンドを開始するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、第1の強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させている間、メモリ・アレイの第2の部分内の第2の強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させるためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがあり、メモリ・アレイの第2の部分は、メモリ・アレイの第1の部分とは異なる。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、第1の強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させたことに少なくとも一部は基づいて第1の強誘電体メモリ・セルと関連づけられたディジット線を第2の基準電圧であらかじめ充電するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させている間、第2のコマンドを開始するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、第2のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルの第2の論理状態を感知するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、感知された第2の論理状態を強誘電体メモリ・セルに書き込むためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、第2のコマンドを開始したことに少なくとも一部は基づいて、記憶した後、強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させるためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、メモリ・アレイの第1の部分が不揮発性モードで動作することに少なくとも一部は基づいて第1の基準電圧を強誘電体メモリ・セルに印加するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、メモリ・アレイの第1の部分が揮発性モードで動作することに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルの第1の基準電圧とは異なる第2の基準電圧を印加するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、強誘電体メモリ・デバイスの電力レベルに基づいて自動的に発生する第1のコマンドを開始するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。いくつかの例では、電力レベルは、デバイスが電源投入されたことを示すことがある。他の例では、電力レベルは、デバイスが電源遮断されたことを示すことがある。
装置について説明する。この装置は、メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始するための手段と、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルの第1の論理状態を感知するための手段と、感知された第1の論理状態を、強誘電体メモリ・セルと関連づけられた記憶構成要素内に記憶するための手段と、記憶した後、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させるための手段とを含むことがある。いくつかの例は、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させている間、第2のコマンドを開始するための手段をさらに含むことがある。いくつかの例は、第2のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルの第2の論理状態を感知するための手段をさらに含むことがある。いくつかの例は、感知された第2の論理状態を強誘電体メモリ・セルに書き込むための手段をさらに含むことがある。
いくつかの例は、記憶した後、第2のコマンドを開始することに少なくとも一部は基づいて、強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させるための手段をさらに含むことがある。いくつかの例は、メモリ・アレイの第1の部分が不揮発性モードで動作することに少なくとも一部は基づいて第1の基準電圧を強誘電体メモリ・セルに印加するための手段をさらに含むことがある。いくつかの例は、強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることに少なくとも一部は基づいて、強誘電体メモリ・セルと関連づけられたディジット線を第2の基準電圧にあらかじめ充電するための手段をさらに含むことがある。いくつかの例は、メモリ・アレイの第1の部分が揮発性モードで動作することに少なくとも一部は基づいて、強誘電体メモリ・セルの第1の基準電圧とは異なる第2の基準電圧を印加するための手段をさらに含むことがある。
メモリ・アレイを動作させる方法について説明する。この方法は、第1の強誘電体メモリ・セルが揮発性モードである間、第1の強誘電体メモリ・セルに対してコマンドを開始することと、コマンドに少なくとも一部は基づいて第1の強誘電体メモリ・セル内に記憶された論理状態を感知することと、感知したことに少なくとも一部は基づいて論理状態をメモリ・アレイの感知構成要素内に記憶することと、論理状態を記憶したことに少なくとも一部は基づいて第1の強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させることとを含むことがある。
メモリ・アレイを動作させるための装置について説明する。この装置は、第1の強誘電体メモリ・セルが揮発性モードである間、第1の強誘電体メモリ・セルに対してコマンドを開始するための手段と、コマンドに少なくとも一部は基づいて第1の強誘電体メモリ・セル内に記憶された論理状態を感知するための手段、感知したことに少なくとも一部は基づいて論理状態をメモリ・アレイの感知構成要素内に記憶するための手段と、論理状態を記憶したことに少なくとも一部は基づいて第1の強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させるための手段とを含むことがある。
メモリ・アレイを動作させるための別の装置について説明する。この装置は、メモリ・セルと、このメモリ・セルと電子通信するメモリ・コントローラであって、第1の強誘電体メモリ・セルが揮発性モードである間、第1の強誘電体メモリ・セルに対してコマンドを開始し、コマンドに少なくとも一部は基づいて第1の強誘電体メモリ・セル内に記憶された論理状態を感知し、感知したことに少なくとも一部は基づいて論理状態をメモリ・アレイの感知構成要素内に記憶し、論理状態を記憶したことに少なくとも一部は基づいて第1の強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させるように動作可能であるメモリ・コントローラとを含むことがある。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、コマンドに少なくとも一部は基づいて第1の強誘電体メモリ・セルの動作モードを決定するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、動作モードを決定したことに少なくとも一部は基づいてメモリ・アレイの第1の部分に対してリフレッシュ・コマンドを開始するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、第1の強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、メモリ・アレイの第2の部分内の第2の強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させるためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがあり、メモリ・アレイの第2の部分は、メモリ・アレイの第1の部分とは異なる。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、論理状態を感知したことに少なく
とも一部は基づいて第1の強誘電体メモリ・セルの第1のディジット線を第1の電圧にバイアスするためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、論理状態を感知したことに少なくとも一部は基づいて第1の電圧とは異なる第2の電圧に第1の強誘電体メモリ・セルの第1のディジット線をバイアスするためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。上記で説明された方法および装置のいくつかの例では、第1の電圧は、第2の電圧よりも大きいことがある。
上記で説明された方法および装置のいくつかの例は、第1の強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させたことに少なくとも一部は基づいて第1の強誘電体メモリ・セルと関連づけられたディジット線を第2の基準電圧であらかじめ充電するためのプロセス、特徴、手段、または命令をさらに含むことがある。
一実施形態では、メモリ・アレイは、揮発性動作モードおよび不揮発性動作モードで動作するように構成された第1の強誘電体メモリ・セルであって、メモリ・アレイの第1の部分内の第1の強誘電体メモリ・セルと、この第1の強誘電体メモリ・セルに結合されたトランジスタと、第1の強誘電体メモリ・セルと電子通信する感知構成要素と、第1の強誘電体メモリ・セルと電子通信するスイッチであって、不揮発性動作モードと関連づけられた第1のセル・プレートまたは揮発性動作モードと関連づけられた第2のセル・プレートを選択するように構成されたスイッチとを含むことがある。
メモリ・アレイを動作させる方法について説明する。この方法は、揮発性動作モードおよび不揮発性動作モードで動作するように構成された第1の強誘電体メモリ・セルを形成することであって、第1の強誘電体メモリ・セルはメモリ・アレイの第1の部分内にある、形成することと、第1の強誘電体メモリ・セルに結合されたトランジスタを形成することと、第1の強誘電体メモリ・セルと電子通信する感知構成要素を形成することと、第1の強誘電体メモリ・セルと電子通信するスイッチを形成することであって、スイッチは、不揮発性動作モードと関連づけられた第1のセル・プレートまたは揮発性動作モードと関連づけられた第2のセル・プレートを選択するように構成される、形成することとを含むことがある。
上記で説明されたメモリ・アレイのいくつかの例は、感知構成要素と電子通信するタイミング構成要素であって、不揮発性動作モードまたは揮発性動作モードと関連づけられたタイミング信号を第1の時間において感知構成要素に提供するタイミング構成要素も含むことがある。上記で説明された未定義のいくつかの例は、タイミング構成要素と電子通信する第2のスイッチも含むことがあり、タイミング構成要素は、スイッチを使用してタイミング信号を提供する。
上記で説明されたメモリ・アレイのいくつかの例は、感知構成要素と電子通信する電圧構成要素であって、不揮発性動作モードまたは揮発性動作モードと関連づけられた基準電圧を第1の時間において感知構成要素に提供する電圧構成要素も含むことがある。上記で説明された未定義のいくつかの例は、電圧構成要素と電子通信する第3のスイッチも含むことがあり、電圧構成要素は、スイッチを使用して基準電圧を提供する。
上記で説明されたメモリ・アレイのいくつかの例は、第1の強誘電体メモリ・セルおよび第2の強誘電体メモリ・セルと電子通信するワード線であって、第1の強誘電体メモリ・セルおよび第2の強誘電体メモリ・セルを選択するワード線も含むことがある。上記で説明されたいくつかの例では、第1の強誘電体メモリ・セルおよび第2の強誘電体メモリ・セルは、揮発性動作モードで動作する。
クロスリファレンス
本特許出願は、2017年6月9日に出願されたVimercatiによる「Dual
Mode Ferroelectric Memory Cell Operation」という名称の米国特許出願第15/618,393号に対する優先権を主張する2018年5月30日に出願されたVimercatiによる「Dual Mode Ferroelectric Memory Cell Operation」という名称のPCT出願番号PCT/US2018/035092に対する優先権を主張し、その各々は、本願の出願人に譲渡され、その各々は、参照によりその全体が本明細書に明白に組み込まれる
図4A〜図4Bは、本開示の例によるデュアル・モード強誘電体メモリ・セル動作をサポートするメモリ・セルのためのヒステリシス・プロット400−aおよび400−bを用いて、非線形電気的性質の一例を図示する。ヒステリシス・プロット400−aおよび400−bはそれぞれ、例示的な強誘電体メモリ・セルの書き込みプロセスおよび読み取りプロセスを図示する。ヒステリシス・プロット400−aおよび00−bは、電圧差Vの関数として強誘電体キャパシタ(たとえば、図2のキャパシタ205)上に記憶される電荷Qを示す。
場合によっては、最終的な電圧は、メモリ・セルに接続されたディジット線の固有容量に依存することがある。たとえば、キャパシタがディジット線に電気的に接続され、電圧435が印加された場合、ディジット線の電圧は、その固有容量により上昇することがある。そのため、感知構成要素において測定される電圧は、電圧435に等しくないことがあり、その代わりに、ディジット線の電圧に依存することがある。したがって、ヒステリシス・プロット400−b上での最終的な電荷状態405−cおよび410−cの位置は、ディジット線の容量に依存することがあり、ロードライン解析を通して決定されることがある。すなわち、電荷状態405−cおよび410−cは、ディジット線容量を参照して規定されることがある。その結果、キャパシタの電圧、電圧450、または電圧455は、異なってよく、キャパシタの初期状態に依存してよい。
場合によっては、最終的な電圧は、メモリ・セルに接続されたディジット線の固有容量に依存することがある。たとえば、キャパシタがディジット線に電気的に接続され、電圧435−aが印加された場合、ディジット線の電圧は、その固有容量により上昇することがある。そのため、感知構成要素において測定される電圧は、電圧435−aに直接的に等しくないことがあり、その代わりに、ディジット線の電圧に依存することがある。したがって、ヒステリシス・プロット500−a上での最終的な電荷状態405−eおよび410−eの位置は、ディジット線の容量に依存することがあり、ロードライン解析を通して決定されることがある。すなわち、電荷状態405−および410−は、ディジット線容量を参照して規定されることがある。その結果、キャパシタの電圧、電圧450−a、または電圧455−aは、異なってよく、キャパシタの初期状態に依存してよい。
ブロック1015では、メモリ・アレイ100は、第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることがある。ブロック1015の動作は、図2から図5を参照して説明される方法により実行され得る。方法1000は、揮発性モードでの動作の中でもとりわけ、データを揮発性モードで書き込むことと、データを揮発性モードで読み取ることと、データを揮発性モードでリフレッシュすることとをさらに含むことがある。いくつかの例では、メモリ・セルを揮発性モードで動作させることは、メモリ・アレイの第1の部分内の第1のメモリ・セルを不揮発性モードで動作させることとは異なる、メモリ・アレイの第2の部分内の第2のメモリ・セルを動作させることを含むことがある。いくつかの例では、ブロック1015の動作の例は、図7から図9を参照して説明される揮発性動作器によって実行されることがある。

Claims (35)

  1. メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させることと、
    前記強誘電体メモリ・セルを前記不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始することと、
    前記第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて前記強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることと
    を含む方法。
  2. 前記第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて前記強誘電体メモリ・セルの第1の論理状態を感知すること
    をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  3. 前記感知された第1の論理状態を前記強誘電体メモリ・セルと関連づけられた記憶構成要素内に記憶すること
    をさらに含む、請求項2に記載の方法。
  4. 前記第1のコマンドを開始することは、
    前記メモリ・アレイの第1の部分を選択すること
    を含む、請求項1に記載の方法。
  5. 前記強誘電体メモリ・セルを前記揮発性モードで動作させている間、第2のコマンドを開始することと、
    前記第2のコマンドに少なくとも一部は基づいて前記強誘電体メモリ・セルを前記不揮発性モードで動作させることと
    をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  6. 前記第2のコマンドを開始することは、
    前記メモリ・アレイの第1の部分を選択解除すること
    を含む、請求項5に記載の方法。
  7. 前記強誘電体メモリ・セルを前記揮発性モードで動作させている間、前記メモリ・アレイの第2の強誘電体メモリ・セルを前記不揮発性モードで動作させること
    をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  8. 前記強誘電体メモリ・セルを前記揮発性モードで動作させている間、前記メモリ・アレイの第2の強誘電体メモリ・セルを前記揮発性モードで動作させること
    をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  9. 前記強誘電体メモリ・セルが第1の時間において前記不揮発性モードであるか前記揮発性モードであるかを決定することと、
    前記メモリ・アレイの第2の強誘電体メモリ・セルが前記第1の時間において前記不揮発性モードであるか前記揮発性モードであるかを決定することと
    をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  10. 前記第2の強誘電体メモリ・セルが前記不揮発性モードであるか前記揮発性モードであるかを決定したことに少なくとも一部は基づいて前記第2の強誘電体メモリ・セルの動作モードを調整すること
    をさらに含む、請求項9に記載の方法。
  11. メモリ・アレイの強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させている間、第1のコマンドを開始することと、
    前記第1のコマンドに少なくとも一部は基づいて前記強誘電体メモリ・セルの第1の論理状態を感知することと、
    前記感知された第1の論理状態を前記強誘電体メモリ・セルと関連づけられた記憶構成要素内に記憶することと、
    前記記憶した後、前記強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させることと
    を含む方法。
  12. 前記強誘電体メモリ・セルを前記揮発性モードで動作させている間、第2のコマンドを開始することと、
    前記第2コマンドに少なくとも一部は基づいて前記強誘電体メモリ・セルの第2の論理状態を感知することと、
    前記感知された第2の論理状態を前記強誘電体メモリ・セルに書き込むことと
    をさらに含む、請求項11に記載の方法。
  13. 前記記憶した後、前記第2のコマンドを開始することに少なくとも一部は基づいて、前記強誘電体メモリ・セルを前記不揮発性モードで動作させること
    をさらに含む、請求項12に記載の方法。
  14. 前記メモリ・アレイの第1の部分が前記不揮発性モードで動作することに少なくとも一部は基づいて第1の基準電圧を前記強誘電体メモリ・セルに印加すること
    をさらに含む、請求項11に記載の方法。
  15. 前記強誘電体メモリ・セルを前記揮発性モードで動作させることに少なくとも一部は基づいて、前記強誘電体メモリ・セルと関連づけられたディジット線を第2の基準電圧にあらかじめ充電すること
    をさらに含む、請求項11に記載の方法。
  16. 前記メモリ・アレイの前記第1の部分が前記揮発性モードで動作することに少なくとも一部は基づいて、前記強誘電体メモリ・セルの前記第1の基準電圧とは異なる第2の基準電圧を印加すること
    をさらに含む、請求項14に記載の方法。
  17. 前記第1のコマンドを開始することは、強誘電体メモリ・デバイスの電力レベルに基づいて自動的に発生する、請求項11に記載の方法。
  18. メモリ・アレイの第1の部分内の第1の強誘電体メモリ・セルと、
    前記第1の強誘電体メモリ・セルに結合されたトランジスタと、
    前記トランジスタおよび感知構成要素と電子通信するコントローラであって、
    前記第1の強誘電体メモリ・セルが不揮発性モードである間、前記第1の強誘電体メモリ・セルに対してコマンドを開始し、
    前記コマンドに少なくとも一部は基づいて、前記第1の強誘電体メモリ・セル内に記憶された論理状態を感知し、
    前記感知したことに少なくとも一部は基づいて、前記メモリ・アレイの感知構成要素内に前記論理状態を記憶し、
    前記論理状態を記憶したことに少なくとも一部は基づいて、前記第1の強誘電体メモリ・セルを揮発性モードで動作させる
    ように構成された前記コントローラと
    を備える電子メモリ装置。
  19. 前記コントローラは、
    前記コマンドに少なくとも一部は基づいて前記第1の強誘電体メモリ・セルの動作モードを決定し、
    前記動作モードを決定したことに少なくとも一部は基づいて、前記メモリ・アレイの前記第1の部分に対してリフレッシュ・コマンドを開始する
    ように動作可能である、請求項18に記載の電子メモリ装置。
  20. 前記コントローラは、
    前記第1の強誘電体メモリ・セルを前記揮発性モードで動作させている間、前記メモリ・アレイの第2の部分内の第2の強誘電体メモリ・セルを前記不揮発性モードで動作させるように動作可能であり、前記メモリ・アレイの前記第2の部分は、前記メモリ・アレイの前記第1の部分とは異なる、請求項18に記載の電子メモリ装置。
  21. 前記コントローラは、
    前記第1の強誘電体メモリ・セルを前記揮発性モードで動作させることに少なくとも一部は基づいて、前記第1の強誘電体メモリ・セルと関連づけられたディジット線を第1の基準電圧にあらかじめ充電する
    ように動作可能である、請求項18に記載の電子メモリ装置。
  22. メモリ・アレイの第1の部分内の第1の強誘電体メモリ・セルと、
    前記第1の強誘電体メモリ・セルに結合されたトランジスタと、
    前記トランジスタおよび感知構成要素と電子通信するコントローラであって、
    前記第1の強誘電体メモリ・セルが揮発性モードである間、前記第1の強誘電体メモリ・セルに対してコマンドを開始し、
    前記コマンドに少なくとも一部は基づいて、前記第1の強誘電体メモリ・セル内に記憶された論理状態を感知し、
    前記感知したことに少なくとも一部は基づいて、前記メモリ・アレイの感知構成要素内に前記論理状態を記憶し、
    前記論理状態を記憶したことに少なくとも一部は基づいて、前記第1の強誘電体メモリ・セルを不揮発性モードで動作させる
    ように構成された前記コントローラと
    を備える電子メモリ装置。
  23. 前記コントローラは、
    前記コマンドに少なくとも一部は基づいて前記第1の強誘電体メモリ・セルの動作モードを決定し、
    前記動作モードを決定したことに少なくとも一部は基づいて、前記メモリ・アレイの前記第1の部分に対してリフレッシュ・コマンドを開始する
    ように動作可能である、請求項22に記載の電子メモリ装置。
  24. 前記コントローラは、
    前記第1の強誘電体メモリ・セルを前記不揮発性モードで動作させている間、前記メモリ・アレイの第2の部分内の第2の強誘電体メモリ・セルを前記揮発性モードで動作させるように動作可能であり、前記メモリ・アレイの前記第2の部分は、前記メモリ・アレイの前記第1の部分とは異なる、請求項22に記載の電子メモリ装置。
  25. 前記コントローラは、
    前記論理状態を感知したことに少なくとも一部は基づいて、前記第1の強誘電体メモリ・セルの第1のディジット線を第1の電圧にバイアスする
    ように動作可能である、請求項22に記載の電子メモリ装置。
  26. 前記コントローラは、
    前記論理状態を感知したことに少なくとも一部は基づいて、前記第1の強誘電体メモリ・セルの前記第1のディジット線を、前記第1の電圧とは異なる第2の電圧にバイアスする
    ように動作可能である、請求項25に記載の電子メモリ装置。
  27. 前記第1の電圧が前記第2の電圧よりも大きい、請求項26に記載の電子メモリ装置。
  28. 前記コントローラは、
    前記第1の強誘電体メモリ・セルを前記揮発性モードで動作させることに少なくとも一部は基づいて、前記第1の強誘電体メモリ・セルと関連づけられたディジット線を第1の基準電圧にあらかじめ充電する
    ように動作可能である、請求項22に記載の電子メモリ装置。
  29. 揮発性動作モードおよび不揮発性動作モードで動作するように構成された第1の強誘電体メモリ・セルであって、メモリ・アレイの第1の部分内の前記第1の強誘電体メモリ・セルと、
    前記第1の強誘電体メモリ・セルに結合されたトランジスタと、
    前記第1の強誘電体メモリ・セルと電子通信する感知構成要素と、
    前記第1の強誘電体メモリ・セルと電子通信するスイッチであって、前記不揮発性動作モードと関連づけられた第1のセル・プレートまたは前記揮発性動作モードと関連づけられた第2のセル・プレートを選択するように構成された前記スイッチと
    を備える電子メモリ装置。
  30. 前記感知構成要素と電子通信するタイミング構成要素であって、前記不揮発性動作モードまたは前記揮発性動作モードと関連づけられたタイミング信号を第1の時間において前記感知構成要素に提供する前記タイミング構成要素
    をさらに備える、請求項29に記載の電子メモリ装置。
  31. 前記タイミング構成要素と電子通信する第2のスイッチであって、前記タイミング構成要素は、前記スイッチを使用して前記タイミング信号を提供する、前記第2のスイッチ
    をさらに備える、請求項30に記載の電子メモリ装置。
  32. 前記感知構成要素と電子通信する電圧構成要素であって、前記不揮発性動作モードまたは前記揮発性動作モードと関連づけられた基準電圧信号を第1の時間において前記感知構成要素に提供する前記電圧構成要素
    をさらに備える、請求項29に記載の電子メモリ装置。
  33. 前記電圧構成要素と電子通信する第3のスイッチであって、前記電圧構成要素は、前記スイッチを使用して前記基準電圧信号を提供する、前記第3のスイッチ
    をさらに備える、請求項32に記載の電子メモリ装置。
  34. 前記第1の強誘電体メモリ・セルおよび第2の強誘電体メモリ・セルと電子通信するワード線であって、前記第1の強誘電体メモリ・セルおよび前記第2の強誘電体メモリ・セルを選択する前記ワード線
    をさらに備える、請求項29に記載の電子メモリ装置。
  35. 前記第1の強誘電体メモリ・セルおよび前記第2の強誘電体メモリ・セルは前記揮発性
    動作モードで動作する、請求項34に記載の電子メモリ装置。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10867653B2 (en) 2018-04-20 2020-12-15 Micron Technology, Inc. Access schemes for protecting stored data in a memory device
US10622050B2 (en) * 2018-05-09 2020-04-14 Micron Technology, Inc. Ferroelectric memory plate power reduction
US10636469B2 (en) * 2018-05-09 2020-04-28 Micron Technology, Inc. Cell voltage accumulation discharge
US10964372B2 (en) 2019-06-14 2021-03-30 Micron Technology, Inc. Memory cell biasing techniques
US11170853B2 (en) * 2020-03-04 2021-11-09 Micron Technology, Inc. Modified write voltage for memory devices
US11081204B1 (en) * 2020-06-22 2021-08-03 Micron Technology, Inc. Method for setting a reference voltage for read operations
US11222668B1 (en) * 2020-08-27 2022-01-11 Micron Technology, Inc. Memory cell sensing stress mitigation
US11763860B2 (en) * 2021-12-16 2023-09-19 Microsoft Technology Licensing, Llc Multi-port SDRAM

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07244988A (ja) * 1994-03-07 1995-09-19 Hitachi Ltd 半導体記憶装置
JPH098247A (ja) * 1995-06-15 1997-01-10 Hitachi Ltd 半導体記憶装置
JPH09180466A (ja) * 1995-12-27 1997-07-11 Hitachi Ltd 半導体記憶装置
JPH1050074A (ja) * 1996-08-01 1998-02-20 Hitachi Ltd 強誘電体シャドーram及びデータ処理システム
JP2007073141A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 強誘電体メモリ装置

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH035996A (ja) 1989-06-01 1991-01-11 Mitsubishi Electric Corp 不揮発性半導体記憶装置
JP3101296B2 (ja) * 1990-03-30 2000-10-23 株式会社東芝 半導体記憶装置
US5297077A (en) * 1990-03-30 1994-03-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Memory having ferroelectric capacitors polarized in nonvolatile mode
US5768182A (en) * 1991-05-21 1998-06-16 The Regents Of The University Of California Ferroelectric nonvolatile dynamic random access memory device
JPH06302179A (ja) * 1993-04-13 1994-10-28 Casio Comput Co Ltd 電子機器
US5539279A (en) * 1993-06-23 1996-07-23 Hitachi, Ltd. Ferroelectric memory
US5381364A (en) * 1993-06-24 1995-01-10 Ramtron International Corporation Ferroelectric-based RAM sensing scheme including bit-line capacitance isolation
JP3400899B2 (ja) * 1994-08-17 2003-04-28 シャープ株式会社 不揮発性半導体記憶装置
JPH08203266A (ja) * 1995-01-27 1996-08-09 Nec Corp 強誘電体メモリ装置
US5680344A (en) * 1995-09-11 1997-10-21 Micron Technology, Inc. Circuit and method of operating a ferrolectric memory in a DRAM mode
US5737260A (en) * 1996-03-27 1998-04-07 Sharp Kabushiki Kaisha Dual mode ferroelectric memory reference scheme
JP3741232B2 (ja) * 1996-07-01 2006-02-01 株式会社日立製作所 強誘電体メモリ
US5828596A (en) * 1996-09-26 1998-10-27 Sharp Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device
JP3784229B2 (ja) 2000-01-21 2006-06-07 シャープ株式会社 不揮発性半導体記憶装置およびそれを用いたシステムlsi
US7198603B2 (en) * 2003-04-14 2007-04-03 Remon Medical Technologies, Inc. Apparatus and methods using acoustic telemetry for intrabody communications
JP2005092922A (ja) * 2003-09-12 2005-04-07 Fujitsu Ltd 強誘電体メモリ
US7209384B1 (en) * 2005-12-08 2007-04-24 Juhan Kim Planar capacitor memory cell and its applications
JP2007234166A (ja) * 2006-03-02 2007-09-13 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置
JP5162276B2 (ja) * 2008-02-28 2013-03-13 ローム株式会社 強誘電体メモリ装置
JP2010277615A (ja) * 2009-05-26 2010-12-09 Panasonic Corp 半導体記憶装置、および半導体集積回路
US8018768B2 (en) * 2009-08-18 2011-09-13 United Microelectronics Corp. Non-volatile static random access memory (NVSRAM) device
US20140075174A1 (en) * 2012-09-10 2014-03-13 Texas Instruments Incorporated Boot State Restore from Nonvolatile Bitcell Array
US8953380B1 (en) * 2013-12-02 2015-02-10 Cypress Semiconductor Corporation Systems, methods, and apparatus for memory cells with common source lines
US9368182B2 (en) * 2013-12-09 2016-06-14 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. Memory cell
US10056140B2 (en) * 2014-01-30 2018-08-21 Hewlett Packard Enterprise Development Lp Memristor memory with volatile and non-volatile states
US9768181B2 (en) * 2014-04-28 2017-09-19 Micron Technology, Inc. Ferroelectric memory and methods of forming the same
KR102579876B1 (ko) * 2016-02-22 2023-09-18 삼성전자주식회사 반도체 패키지
US10283181B2 (en) * 2016-03-01 2019-05-07 Texas Instruments Incorporated Time tracking circuit for FRAM
US10109350B2 (en) * 2016-07-29 2018-10-23 AP Memory Corp., USA Ferroelectric memory device
US10497438B2 (en) 2017-04-14 2019-12-03 Sandisk Technologies Llc Cross-point memory array addressing

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07244988A (ja) * 1994-03-07 1995-09-19 Hitachi Ltd 半導体記憶装置
JPH098247A (ja) * 1995-06-15 1997-01-10 Hitachi Ltd 半導体記憶装置
JPH09180466A (ja) * 1995-12-27 1997-07-11 Hitachi Ltd 半導体記憶装置
JPH1050074A (ja) * 1996-08-01 1998-02-20 Hitachi Ltd 強誘電体シャドーram及びデータ処理システム
JP2007073141A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 強誘電体メモリ装置

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