JP2020201308A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020201308A5 JP2020201308A5 JP2019106111A JP2019106111A JP2020201308A5 JP 2020201308 A5 JP2020201308 A5 JP 2020201308A5 JP 2019106111 A JP2019106111 A JP 2019106111A JP 2019106111 A JP2019106111 A JP 2019106111A JP 2020201308 A5 JP2020201308 A5 JP 2020201308A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- torsion bar
- mirror
- swell
- manufacturing
- curved surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019106111A JP7297538B2 (ja) | 2019-06-06 | 2019-06-06 | 光偏向器及び製造方法 |
| US17/616,605 US12248138B2 (en) | 2019-06-06 | 2020-05-20 | Light deflector and manufacturing method |
| PCT/JP2020/019976 WO2020246245A1 (ja) | 2019-06-06 | 2020-05-20 | 光偏向器及び製造方法 |
| CN202080040745.4A CN113906325B (zh) | 2019-06-06 | 2020-05-20 | 光偏转器及其制造方法 |
| EP20818091.9A EP3982186A4 (en) | 2019-06-06 | 2020-05-20 | LIGHT DEFLECTOR AND METHOD OF MANUFACTURING |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019106111A JP7297538B2 (ja) | 2019-06-06 | 2019-06-06 | 光偏向器及び製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020201308A JP2020201308A (ja) | 2020-12-17 |
| JP2020201308A5 true JP2020201308A5 (enExample) | 2022-05-30 |
| JP7297538B2 JP7297538B2 (ja) | 2023-06-26 |
Family
ID=73652846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019106111A Active JP7297538B2 (ja) | 2019-06-06 | 2019-06-06 | 光偏向器及び製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US12248138B2 (enExample) |
| EP (1) | EP3982186A4 (enExample) |
| JP (1) | JP7297538B2 (enExample) |
| CN (1) | CN113906325B (enExample) |
| WO (1) | WO2020246245A1 (enExample) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7600030B2 (ja) * | 2021-05-14 | 2024-12-16 | スタンレー電気株式会社 | 光偏向器 |
| JP2023008577A (ja) * | 2021-07-06 | 2023-01-19 | スタンレー電気株式会社 | 光偏向器 |
| JP7751997B2 (ja) * | 2021-07-13 | 2025-10-09 | スタンレー電気株式会社 | Mems光偏向器及び光走査装置 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6613591B1 (en) * | 2002-03-07 | 2003-09-02 | Memc Electronic Materials, Inc. | Method of estimating post-polishing waviness characteristics of a semiconductor wafer |
| US6872319B2 (en) * | 2002-09-30 | 2005-03-29 | Rockwell Scientific Licensing, Llc | Process for high yield fabrication of MEMS devices |
| WO2005083493A1 (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 照明光源及びそれを用いた2次元画像表示装置 |
| JP2006319387A (ja) | 2005-05-10 | 2006-11-24 | Seiko Epson Corp | Memsレゾネータ |
| US7573625B2 (en) | 2005-07-07 | 2009-08-11 | Lexmark International, Inc. | Multiharmonic galvanometric scanning device |
| JP2009031643A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Canon Inc | 揺動体装置、光偏向器およびそれを用いた画像形成装置 |
| JP5172364B2 (ja) * | 2008-01-16 | 2013-03-27 | スタンレー電気株式会社 | 光偏向器 |
| JP5444968B2 (ja) * | 2009-05-11 | 2014-03-19 | ミツミ電機株式会社 | アクチュエータ及びこれを用いた光走査装置 |
| JP5397136B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-01-22 | 住友電気工業株式会社 | Iii族窒化物半導体レーザ素子、及びiii族窒化物半導体レーザ素子を作製する方法 |
| JP2012063413A (ja) | 2010-09-14 | 2012-03-29 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置およびこの光走査装置を組み込んだ画像形成装置ならびに投影装置 |
| JP6092589B2 (ja) | 2012-11-19 | 2017-03-08 | スタンレー電気株式会社 | 光偏向器 |
| JP6369742B2 (ja) * | 2014-02-26 | 2018-08-08 | 北陽電機株式会社 | 微小機械装置 |
| JP6809018B2 (ja) * | 2016-07-26 | 2021-01-06 | 株式会社リコー | 光偏向器、光走査装置、画像形成装置及び画像投影装置 |
| JP6455547B2 (ja) | 2017-05-24 | 2019-01-23 | ミツミ電機株式会社 | 光走査装置 |
-
2019
- 2019-06-06 JP JP2019106111A patent/JP7297538B2/ja active Active
-
2020
- 2020-05-20 WO PCT/JP2020/019976 patent/WO2020246245A1/ja not_active Ceased
- 2020-05-20 CN CN202080040745.4A patent/CN113906325B/zh active Active
- 2020-05-20 US US17/616,605 patent/US12248138B2/en active Active
- 2020-05-20 EP EP20818091.9A patent/EP3982186A4/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102085237B1 (ko) | 극자외 투영 노광 장치를 위한 반사 광학 소자를 제조하는 방법 및 이러한 유형의 소자 | |
| JP7678028B2 (ja) | 角度付き格子の形成 | |
| JP2020201308A5 (enExample) | ||
| JP5521655B2 (ja) | 反射型スクリーン、投影システム、フロントプロジェクションテレビ及び反射型スクリーンの製造方法 | |
| CN103831529B (zh) | 激光加工设备 | |
| TWI391233B (zh) | 大面積輥對輥壓印微影術 | |
| CN104854487B (zh) | 光栅 | |
| JP2006106758A (ja) | ワイヤーグリッド偏光子及びその製造方法 | |
| JP4875609B2 (ja) | 光ビーム均一化のための装置および方法 | |
| JP7555829B2 (ja) | 平坦化装置、平坦化方法及び物品の製造方法 | |
| JP2008500736A5 (enExample) | ||
| WO2020168295A1 (en) | Biased total thickness variations in waveguide display substrates | |
| JPWO2020153319A1 (ja) | 拡散板 | |
| JP2017211576A5 (enExample) | ||
| JP6478145B2 (ja) | インプリント用モールド、インプリント方法、ワイヤーグリッド偏光子の製造方法及びワイヤーグリッド偏光子 | |
| CN113906325B (zh) | 光偏转器及其制造方法 | |
| US20160172207A1 (en) | Pellicle membrane and method of manufacturing the same | |
| CN113454507B (zh) | 用于促进波导内的全内反射的气穴结构 | |
| JP2007041603A5 (ja) | 超紫外線リソグラフィ用の反射デバイス、それを適用した超紫外線リソグラフィ用マスク、プロジェクション光学系及びリソグラフィ装置 | |
| TW202323020A (zh) | 波導、顯示裝置、方法及設備 | |
| CN106707715B (zh) | 一种半导体器件及其制作方法 | |
| JP2010056379A5 (enExample) | ||
| JP2007101799A (ja) | 透過型光学素子 | |
| US11448955B2 (en) | Mask for lithography process and method for manufacturing the same | |
| JP6951483B2 (ja) | 質量速度変動フィーチャを有するテンプレート、テンプレートを使用するナノインプリントリソグラフィ装置、およびテンプレートを使用する方法 |