JP2020176266A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2020176266A5
JP2020176266A5 JP2020112315A JP2020112315A JP2020176266A5 JP 2020176266 A5 JP2020176266 A5 JP 2020176266A5 JP 2020112315 A JP2020112315 A JP 2020112315A JP 2020112315 A JP2020112315 A JP 2020112315A JP 2020176266 A5 JP2020176266 A5 JP 2020176266A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hollow
meth
acrylate
hollow particles
nitrogen atom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020112315A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6995938B2 (ja
JP2020176266A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2020176266A publication Critical patent/JP2020176266A/ja
Publication of JP2020176266A5 publication Critical patent/JP2020176266A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6995938B2 publication Critical patent/JP6995938B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

(メタ)アクリル酸と炭素数1〜25のアルコールとのエステルとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ターシャリーブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、(シクロ)ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、(イソ)オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、(イソ)デシル(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、(イソ)ステアリル(メタ)アクリレート、フェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
単官能単量体は、1種のみ使用してもよく、2種以上併用してもよい。
エポキシ基又はオキセタン基を有するラジカル反応性単量体とシリル基を有するラジカル反応性単量体に由来する成分の含有量は、反応性単量体に由来する成分全体の10質量%以上であることが好ましい。10質量%未満であると、中空粒子とならないことがある。エポキシ基又はオキセタン基を有するラジカル反応性単量体とシリル基を有するラジカル反応性単量体に由来する成分の含有量は、より好ましくは30質量%以上であり、更に好ましくは50質量%以上である。
また、オキソ酸としては、酸基を有する重合体も使用することができる。例えば、ディスパービック103、ディスパービック110、ディスパービック118、ディスパービック111、ディスパービック190、ディスパービック194N、ディスパービック2015(以上ビックケミー社製)、ソルスパース3000、ソルスパース21000、ソルスパース26000、ソルスパース36000、ソルスパース36600、ソルスパース41000、ソルスパース41090、ソルスパース43000、ソルスパース44000、ソルスパース46000、ソルスパース47000、ソルスパース53095、ソルスパース55000(以上ルーブリゾール社製)、EFKA4401、EFKA4550(エフカ アディティブズ社製)、フローレンG−600、フローレンG−700、フローレンG−900、フローレンGW−1500、フローレンGW−1640(以上共栄社化学社製)、ディスパロン1210、ディスパロン1220、ディスパロン2100、ディスパロン2150、ディスパロン2200、ディスパロンDA−325、ディスパロンDA−375(楠本化成製)、アジスパーPB821、アジスパーPB822、アジスパーPB824、アジスパーPB881、アジスパーPN411(味の素ファインテクノ社製)等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
前記チタネート系カップリング剤としては、味の素ファインテクノ社製のプレンアクトTTS、プレンアクト46B、プレンアクト55、プレンアクト41B、プレンアクト38S、プレンアクト138S、プレンアクト238S、プレンアクト338X、プレンアクト44、プレンアクト9SA、プレンアクトETが挙げられるが、本発明に用いられるチタネート系カップリング剤はこれらに限定されるものではない。
前記アルミネート系カップリング剤としては、味の素ファインテクノ社製のプレンアクトAL−Mが挙げられるが、本発明に用いられるアルミネート系カップリング剤はこれらに限定されるものではない。
前記ジルコネート系カップリング剤としては、マツモトファインケミカル社製のオルガチックスZA−45、オルガチックスZA−65、オルガチックスZC−150、オルガチックスZC−540、オルガチックスZC−700、オルガチックスZC−580、オルガチックスZC−200、オルガチックスZC−320、オルガチックスZC−126、オルガチックスZC−300が挙げられるが、本発明に用いられるジルコネート系カップリング剤はこれらに限定されるものではない。
前記イソシアネート系化合物としては、エチルイソシアネート、プロピルイソシアネート、イソプロピルイソシアネート、ブチルイソシアネート、tert―ブチルイソシアネート、ヘキシルイソシアネート、ドデシルイソシアネート、オクタデシルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、ベンジルイソシアネート、フェニルイソシアネート、4−ブチルフェニルイソシアネート、2−イソシアナトエチルメタクリレート、2−イソシアナトエチルアクリラート、1,1−(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネートが挙げられるが、本発明に用いられるイソシアネート系化合物はこれらに限定されるものではない。
前記表面処理剤は、1種のみ使用してもよく、2種以上併用してもよい。
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエステルトリ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、アダマンチルジ(メタ)アクリレート、イソボニルジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の多官能性反応性単量体
が挙げられる。
(N/C)及び(Si/C)
以下のようにN含有樹脂、Si&N含有樹脂の(N/C)及び(Si/C)を測定する。
すなわち10wt%中空粒子メチルアルコール分散液を60℃の真空乾燥機で4時間乾燥し、乾燥粉体を得た後、IR用の錠剤成型器で圧縮成形し、試験片を作製する。試験片をX線光電子分光分析装置;XPS(島津製作所社製KRATOS AXIS−ULTRA DLD)を使用し、測定範囲:ワイドスペクトル(1350〜0eV)光電子取り込み角度:90度、パスエネルギー:ワイドスペクトル160eV又は80eVの測定条件で、N含有樹脂、Si&N含有樹脂の窒素原子の存在比N[atom%]と炭素原子の存在比[atom%]、ケイ素原子の存在比Si[atom%]を測定する。測定されたN、SiをCで割ることで、(N/C)及び(Si/C)を算出する。
なお、N/Cの評価は、0.03〜0.2で有れば○とし、0.03未満及び0.2を超える場合は×とする。Si/Cの評価は、0.002〜0.1で有れば○とし、0.002未満及び0.1を超える場合は×とする。
実施例1
攪拌機、温度計を備えた1Lの反応器に、グリシジルメタクリレート35質量部と3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン5質量部、n−オクチルメルカプタン0.8質量部、トルエン40質量部を入れて混合した。次に、p−スチレンスルホン酸ナトリウム0.8質量部、過硫酸カリウム0.4質量をイオン交換水720質量部溶解した水相を添加した。混合溶液を撹拌しつつ70℃で10時間加熱することでエポキシ基が残存した重合体粒子を得た。乳化重合にトルエンを添加していたため、エポキシ基が残存した重合体粒子はトルエンで膨潤されていた。
次に、残存しているエポキシ基を重合させるために、エチレンジアミン20質量部を添加し、24時間70℃で重合を行った。重合体粒子中のエポキシ基が反応することで、重合体とトルエンが相分離し、マイクロカプセル粒子分散体を得た。得られた分散体をイオン交換水で3回洗浄し、過剰なエチレンジアミンを除去した後に、固形分が10質量%となるようにイオン交換水を添加し、10質量%中空粒子水分散液を得た。得られた10質量%中空粒子水分散液400質量部に4.7質量部の20wt%塩酸水溶液を添加し、室温で1時間撹拌することで、表面処理された中空粒子を得た。次にメチルアルコールで3回洗浄し、内部のトルエンの除去及び不要分の洗浄を行った後に、固形分が10質量%となるようにメチルアルコールを適宜添加し、10質量%中空粒子メチルアルコール分散液を得た。
得られた中空粒子の平均粒子径は65nm、CV値は17%であり、単分散性の高い中空粒子であった。また、中空率は34%と高く、シェルの屈折率は1.54と低かった。N/Cは0.06、Si/Cは0.007であった。
更に、得られた中空粒子を用いてフィルムを作製し、反射率を測定したところ、反射率は7.2%であり、低反射性に優れていた。
比較例2
グリシジルメタクリレート及び3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシランに代えてjER828(三菱化学社製、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂、エポキシ当量184〜194)を40質量使用し、エチレンジアミンに代えてN−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランを使用し、過硫酸カリウムを使用せず、トルエンに代えてトルエン30質量部とシクロヘキサン10質量部とを使用し、p−トルエンスルホン酸ナトリウムに代えてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを0.4質量部使用し、表面処理しないこと以外は実施例1と同様にして、中空粒子を得た。
得られた中空粒子の平均粒子径は103nm、CV値は39%であり、単分散性の低い中空粒子であった。また、中空率は32%と高く、シェルの屈折率は1.59と高かった。N/Cは0.02、Si/Cは0.005であった。得られた中空粒子を用いてフィルムを作製し、反射率を測定したところ、反射率は8.1%であり、低反射性に劣っていた。
以下の表1及び表2に、中空粒子の製造に使用した原料及び物性をまとめて示す。

Claims (12)

  1. 少なくとも一つ以上の層からなるシェルを有する中空粒子であり、
    前記少なくとも一つ以上の層が、屈折率が1.57以下の窒素原子を含有する樹脂を含有し、
    前記窒素原子を含有する樹脂が、XPSでの測定において、0.03≦N/C≦0.2の関係を満たす窒素原子の存在比Nと炭素原子の存在比Cとを有する中空粒子。
  2. 前記窒素原子を含有する樹脂が、架橋されている請求項1に記載の中空粒子。
  3. 前記窒素原子を含有する樹脂が、ケイ素成分を含有する有機−無機ハイブリッド樹脂である請求項1又は2に記載の中空粒子。
  4. 前記ケイ素成分を含有する有機−無機ハイブリッド樹脂が、XPSでの測定において、0.001≦Si/C≦0.1の関係を満たすケイ素原子の存在比Siと炭素原子の存在比Cとを有する請求項3に記載の中空粒子。
  5. 前記中空粒子が、10〜150nmの平均粒子径を有する請求項1〜4のいずれかに記載の中空粒子。
  6. 少なくとも一つ以上のアニオン性基を有する化合物で処理された表面を有する請求項1〜5のいずれかに記載の中空粒子。
  7. 前記アニオン性基を有する化合物が、塩酸、オキソ酸から選択される請求項6に記載の中空粒子。
  8. 前記オキソ酸が、カルボン酸化合物、スルホン酸化合物、リン酸エステル化合物から選択される請求項7に記載の中空粒子。
  9. 請求項1〜8のいずれかに記載の中空粒子を含有した分散体。
  10. 請求項1〜8のいずれかに記載の中空粒子を含有したコーティング剤。
  11. 請求項1〜8のいずれかに記載の中空粒子を含有した断熱フィルム。
  12. 請求項1〜8のいずれかに記載の中空粒子と、基材樹脂とを含有したマスターペレット。
JP2020112315A 2016-03-22 2020-06-30 中空粒子及びその用途 Active JP6995938B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016057134 2016-03-22
JP2016057134 2016-03-22

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018506747A Division JP6728334B2 (ja) 2016-03-22 2016-07-07 中空粒子及びその用途

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2020176266A JP2020176266A (ja) 2020-10-29
JP2020176266A5 true JP2020176266A5 (ja) 2020-12-17
JP6995938B2 JP6995938B2 (ja) 2022-01-17

Family

ID=59900996

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018506747A Active JP6728334B2 (ja) 2016-03-22 2016-07-07 中空粒子及びその用途
JP2020112315A Active JP6995938B2 (ja) 2016-03-22 2020-06-30 中空粒子及びその用途

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018506747A Active JP6728334B2 (ja) 2016-03-22 2016-07-07 中空粒子及びその用途

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11220585B2 (ja)
EP (1) EP3434707B1 (ja)
JP (2) JP6728334B2 (ja)
KR (1) KR102123800B1 (ja)
CN (2) CN108713035B (ja)
TW (1) TWI627190B (ja)
WO (1) WO2017163439A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3514192B8 (en) * 2016-09-16 2022-12-21 Sekisui Plastics Co., Ltd. Hollow particles and use thereof
JP7197563B2 (ja) * 2018-03-14 2022-12-27 積水化成品工業株式会社 中空粒子分散体
KR102506017B1 (ko) * 2018-03-14 2023-03-03 세키스이가세이힝코교가부시키가이샤 중공 입자, 그 제조 방법 및 그 용도
JP7297559B2 (ja) 2019-06-28 2023-06-26 東京応化工業株式会社 硬化性樹脂組成物及び硬化物
JP7452959B2 (ja) * 2019-08-19 2024-03-19 東京応化工業株式会社 カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター、及び樹脂組成物
US20240124631A1 (en) * 2021-02-26 2024-04-18 Zeon Corporation Thermal conductivity modifier and molded body

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57142450A (en) * 1978-08-28 1982-09-03 Torobin Leonard B Solar energy collector
JPS61187904A (ja) 1985-02-15 1986-08-21 Agency Of Ind Science & Technol 流体分離用選択透過性架橋膜
JP4448930B2 (ja) 2000-09-04 2010-04-14 財団法人新産業創造研究機構 中空高分子微粒子及びその製造法
KR101236024B1 (ko) * 2004-01-26 2013-02-21 제이에스알 가부시끼가이샤 중공 입자 함유 액상 조성물, 그의 제조 방법, 및 광학물품
JP4238147B2 (ja) * 2004-01-29 2009-03-11 積水化学工業株式会社 中空樹脂微粒子及び反射防止フィルム
JP4238148B2 (ja) 2004-01-29 2009-03-11 積水化学工業株式会社 中空樹脂微粒子及び反射防止フィルム
CN100543070C (zh) * 2004-04-05 2009-09-23 积水化学工业株式会社 中空树脂微粒、有机·无机混合微粒及中空树脂微粒的制造方法
KR101238514B1 (ko) 2004-04-05 2013-02-28 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 중공 수지 미립자, 유기·무기 하이브리드 미립자 및 중공수지 미립자의 제조 방법
JP4217200B2 (ja) 2004-09-24 2009-01-28 積水化学工業株式会社 中空樹脂微粒子の製造方法、中空樹脂微粒子、反射防止フィルム用コーティング剤及び反射防止フィルム
JP2007075698A (ja) 2005-09-13 2007-03-29 Sanyo Chem Ind Ltd 中空樹脂粒子
JP4180096B2 (ja) 2006-03-29 2008-11-12 財団法人川村理化学研究所 中空ポリマー粒子、着色中空ポリマー粒子及びそれらの製造方法
TWI422597B (zh) 2006-03-29 2014-01-11 Kawamura Inst Chem Res 中空聚合物粒子、著色中空聚合物粒子及彼等之製法
WO2008026514A1 (fr) * 2006-09-01 2008-03-06 Konica Minolta Opto, Inc. Procédé de fabrication d'un film d'acylate de cellulose, film d'acylate de cellulose, plaque de polarisation et dispositif d'affichage à cristaux liquides
JP5526468B2 (ja) * 2006-09-29 2014-06-18 大日本印刷株式会社 反射防止積層体
JP2009080196A (ja) 2007-09-25 2009-04-16 Fujifilm Corp 熱現像感光材料
CN101470216A (zh) * 2007-12-27 2009-07-01 达信科技股份有限公司 抗眩膜及抗眩涂液组合物
JP2009242475A (ja) * 2008-03-28 2009-10-22 Sekisui Chem Co Ltd 中空有機・無機ハイブリッド微粒子、反射防止性樹脂組成物、反射防止フィルム用コーティング剤、反射防止積層体及び反射防止フィルム
JP2010032719A (ja) * 2008-07-28 2010-02-12 Sekisui Chem Co Ltd 光学シート及びバックライトユニット
KR101092573B1 (ko) * 2010-04-06 2011-12-13 주식회사 엘지화학 반사 방지 코팅용 조성물, 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
KR101452207B1 (ko) * 2010-09-28 2014-10-22 세키스이가세이힝코교가부시키가이샤 수지 입자 및 그 제조 방법, 및 방현 필름, 광확산성 수지 조성물, 및 외용제
KR101725585B1 (ko) * 2011-05-16 2017-04-10 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 반사 방지 필름의 제조 방법, 반사 방지 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
TWI609907B (zh) * 2012-04-27 2018-01-01 Toagosei Co Ltd 光擴散性樹脂組成物及其成形品
JP6206963B2 (ja) 2013-03-12 2017-10-04 国立大学法人 千葉大学 有機−無機ハイブリッド粒子の製造方法及び無機中空粒子の製造方法
JP6302693B2 (ja) * 2013-03-28 2018-03-28 日東電工株式会社 中空封止用樹脂シート及び中空パッケージの製造方法
KR20190105127A (ko) * 2015-01-08 2019-09-11 세키스이가세이힝코교가부시키가이샤 중공 입자 및 그 용도
WO2016111314A1 (ja) 2015-01-08 2016-07-14 積水化成品工業株式会社 中空粒子、その製造方法、その用途及びマイクロカプセル粒子の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2020176266A5 (ja)
EP2791178B1 (en) Dispersion of adsorbing emulsion polymer particles
CN104955903B (zh) 具有可逆交联的功能材料
JP6995938B2 (ja) 中空粒子及びその用途
MX2012009849A (es) Monomero asociativo a base de alcoholes oxo, polimero acrilico que contiene este monomero, uso de dicho polimero como espesante en una formulacion acuosa, formulacion obtenida.
JP2010540762A (ja) 乳化重合体、水性分散液およびそれらを製造するための方法
CN108368205B (zh) 基于氯乙烯的树脂组合物及其制备方法
KR102506017B1 (ko) 중공 입자, 그 제조 방법 및 그 용도
JPWO2018051794A1 (ja) 中空粒子及びその用途
KR20110051231A (ko) (메트)아크릴레이트 단량체, 중합체 및 코팅제
JP2023036714A (ja) 中空粒子分散体
JP5324726B2 (ja) クリヤー塗料組成物及びそれを用いた複層塗膜の形成方法
JP7258709B2 (ja) 中空粒子及びその用途
Srivastava Co-polymerization of Acrylates
JP6225375B2 (ja) 活性エネルギー線硬化性組成物、活性エネルギー線硬化性塗料、及び該塗料で塗装された物品
CA2782153A1 (en) N-allyl carbamate compounds and use thereof, in particular in radiation-curing coatings
JP2020059836A (ja) 触媒内包ポリビニル樹脂微粒子、該微粒子組成物、触媒内包ポリビニル樹脂微粒子及び該微粒子組成物の製造方法
JP6044537B2 (ja) アクリル変性ポリオレフィンが極性溶媒に分散している非水分散液及びその製造方法
JP6255626B2 (ja) 塗料組成物、及び該塗料組成物で塗装された物品
CN110713764B (zh) 注塑模具的涂层的涂布材料以及注塑模具的涂层的制备方法
JPWO2013031976A1 (ja) クリヤー塗料組成物及びそれを用いた複層塗膜の形成方法
Pojnar et al. Progress in the development of acrylic resin-based powder coatings–an overview
CN112029386A (zh) 一种水性涂料及其制备方法
CN115417953A (zh) 水性铝银浆处理剂的制备方法以及水性金属漆的制备方法
JPS5918424B2 (ja) 新規な粉末状塗料