JP2020158869A - 炭化ケイ素多結晶基板の製造方法 - Google Patents
炭化ケイ素多結晶基板の製造方法 Download PDFInfo
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まず、支持基板210に第1炭化ケイ素多結晶膜220a、220bを成膜させた。なお、本実施例においては、この工程を「第一工程」と称する。支持基板として、直径150mm、厚さ50μmの黒鉛基板を使用した。支持基板210を成膜装置1000の載置部1072に載置して成膜室1010内を不図示の排気ポンプにより真空引きをした後、1350℃まで加熱した。原料ガスとして、SiCl4、CH4を用い、キャリアガスとしてH2を用い、不純物ドーピングガスとしてN2を用いた。第1炭化ケイ素多結晶膜220a、220bの成膜は、SiCl4:CH4:H2:N2=1:1:10:10の比率で上記ガスを混合して成膜室1010内に供給し、100分間の成膜を実施した。以上により、支持基板210上に厚さ50μmの第1炭化ケイ素多結晶膜220a、220bが成膜した蒸着基板200を得た。
実施例2、実施例3、比較例1、比較例2として、第一工程、第二工程の成膜時間を実施例1とは変えて、異なる膜厚の炭化ケイ素多結晶膜を得たこと以外は、実施例1と同じ条件で炭化ケイ素多結晶基板の製造を行った。比較例1は、第二工程の時間を0として、第一工程のみにより厚さ350μmの炭化ケイ素多結晶基板の膜厚を得た。実施例2、実施例3、比較例1、比較例2においては、実施例1と同じ厚さ350μmの炭化ケイ素多結晶基板を製造した。成膜時間の条件、得られた膜厚は、表1に示した。第一工程、第二工程で得られた炭化ケイ素多結晶基板について、実施例1と同様に、反り量の確認を行った。
実施例4として、炭化ケイ素多結晶支持基板220a’を用いた成膜工程において、第1炭化ケイ素多結晶膜220aの成膜時に、ガス導入口1020と対向しない面(表面220a1)をガス導入口1020に向けて、載置部1072に載置したこと以外は、実施例3と同じ条件で炭化ケイ素多結晶基板の製造を行った。第一工程、第二工程で得られた炭化ケイ素多結晶基板について、実施例1と同様に、反り量の確認を行った。
220a、220b 第1炭化ケイ素多結晶膜
230a、230b 第2炭化ケイ素多結晶膜
220a’、220b’ 炭化ケイ素多結晶支持基板
210 支持基板
220a2、220b1 第1面
220a1、220b2 第2面
1020 ガス導入口(原料ガスの噴出位置)
Claims (4)
- 化学蒸着により支持基板の成膜対象面に第1炭化ケイ素多結晶膜を成膜させた後、前記支持基板を除去して得られる、膜厚が50μm〜250μmの炭化ケイ素多結晶支持基板の成膜対象面に、化学蒸着により第2炭化ケイ素多結晶膜を成膜する成膜工程を含む、炭化ケイ素多結晶基板の製造方法。
- 前記成膜工程で成膜する前記第2炭化ケイ素多結晶膜の厚さが、70μm以上である、請求項1に記載の炭化ケイ素多結晶基板の製造方法。
- 前記第1炭化ケイ素多結晶膜の成膜時において、
前記第1炭化ケイ素多結晶膜の原料ガスの噴出位置からの噴出方向と、前記支持基板の成膜対象面と、が垂直であり、
前記成膜工程において、
前記第2炭化ケイ素多結晶膜の原料ガスの噴出位置からの噴出方向と、前記炭化ケイ素多結晶支持基板の成膜対象面と、が垂直であり、
前記炭化ケイ素多結晶支持基板の前記成膜対象面が、前記第1炭化ケイ素多結晶膜の成膜時に、前記第1炭化ケイ素多結晶膜の前記原料ガスの噴出位置と対向する第1面と、前記第1面の裏側の面となる第2面と、からなり、
前記第2面を、前記第2炭化ケイ素多結晶膜の原料ガスの噴出位置に向けて、前記第2炭化ケイ素多結晶膜を成膜させる、
請求項1または2に記載の炭化ケイ素多結晶基板の製造方法。 - 前記成膜工程において、前記炭化ケイ素多結晶支持基板の両面に、前記第2炭化ケイ素多結晶膜を成膜する、請求項1から3のいずれか1項に記載の炭化ケイ素多結晶基板の製造方法。
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---|---|---|---|---|
JPH08188408A (ja) * | 1994-12-29 | 1996-07-23 | Toyo Tanso Kk | 化学蒸着法による炭化ケイ素成形体及びその製造方法 |
JPH08188468A (ja) * | 1994-12-29 | 1996-07-23 | Toyo Tanso Kk | 化学蒸着法による炭化ケイ素成形体及びその製造方法 |
WO2016117223A1 (ja) * | 2015-01-22 | 2016-07-28 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアーフィルムの製造装置および製造方法 |
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WO2016117223A1 (ja) * | 2015-01-22 | 2016-07-28 | コニカミノルタ株式会社 | ガスバリアーフィルムの製造装置および製造方法 |
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