JP2020128539A - 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020128539A JP2020128539A JP2020071965A JP2020071965A JP2020128539A JP 2020128539 A JP2020128539 A JP 2020128539A JP 2020071965 A JP2020071965 A JP 2020071965A JP 2020071965 A JP2020071965 A JP 2020071965A JP 2020128539 A JP2020128539 A JP 2020128539A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- glass substrate
- particle size
- polishing liquid
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B7/00—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
- B24B7/20—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
- B24B7/22—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
- B24B7/24—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass
- B24B7/242—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass for plate glass
- B24B7/245—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass for plate glass discontinuous
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B1/00—Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/02—Lapping machines or devices; Accessories designed for working surfaces of revolution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/042—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor
- B24B37/044—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor characterised by the composition of the lapping agent
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B7/00—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
- B24B7/20—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
- B24B7/22—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
- B24B7/24—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass
- B24B7/241—Methods
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73921—Glass or ceramic substrates
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
Abstract
Description
ハードディスク装置では、基板に磁性層が設けられた磁気ディスクが用いられ、磁気ディスクの面上を僅かに浮上させた磁気ヘッドで磁性層に磁気記録情報が記録され、あるいは読み取られる。近年のハードディスク装置では、記憶容量を増大させるために、磁気記録の高密度化が図られる。この磁気密度の高密度化を可能にするために、磁気ディスクの基板として用いるガラス基板の主表面の表面凹凸は可能な限り小さくすることが求められている。また、これに伴って、端面の表面凹凸のわずかな隙間に付着した微粒子がガラス基板の主表面に飛散し移着することがないように、ガラス基板の内外周端面の表面凹凸も可能な限り小さくすることも求められている。
例えば、磁気ディスク用ガラス基板を製造する際に、ガラス素材の内外周端面を面取り加工した後、酸化セリウムを遊離砥粒として含む研磨液とブラシを用いて、ブラシ研磨により内外周端面の鏡面加工を行うことが行われる(例えば、特許文献1)。
前記酸化セリウムについてレーザー回折・散乱法により求められる粒度分布において、小粒径側からの積算粒子体積が全粒子体積のx[%]に達するときの粒径をDx[μm]としたとき、
D5は、1μm以下であり、D95とD5の差は、3μm以上である。
前記D95は、7μm以下である、ことが好ましい。
前記磁気ディスク用ガラス基板の外周の直径は、94mm以上である、ことが好ましい。
このような知見に基づいて、酸化セリウムの粒径の頻度分布(粒度分布)を種々変化させて、使用初期の研磨液の研磨レートの変化を調べた。この結果、研磨液に、遊離砥粒の粒度分布が従来よりもブロードな分布であり、小粒径領域がある程度含まれた所定の分布の酸化セリウムを用いることにより、研磨処理を繰り返しても、粒度分布の変化の影響を小さく抑えることができ、研磨レートの変化が小さく、長期間研磨処理に繰り返し用いることができることを見出した。このような背景のもとに、発明者は下記形態の研磨液を見出した。
研磨液に含まれる酸化セリウムについてレーザー回折・散乱法により求められる粒度分布において、小粒径(微粒子)側からの積算粒子体積が全粒子体積のx[%]に達するときの粒径(砥粒の直径)をDx[μm]としたとき、D5は、1μm以下であり、D95とD5の差は、3μm以上である。
言い換えると、研磨液に含まれる酸化セリウムの粒径に対する頻度[%]を示す粒度分布(体積基準の粒度分布)において、酸化セリウムの最小粒径から所定の粒径までの頻度を累積した粒径の累積頻度をx[%](xは、0以上100以下の数)とし、所定の粒径をDx[μm]としたとき、D5は、1μm以下であり、D95とD5の差は、3μm以上である。
また、磁気ディスク用ガラス基板の場合、板厚は0.3〜0.64mmであることがより好ましい。例えば、ブラシを用いて端面研磨処理を行う場合、薄板ほどブラシによる端面研磨が実施し難くなり、研磨液を繰り返し供給することが重要になる。したがって、研磨レートの変化を考慮して遊離砥粒の粒度分布を制限した本実施形態の研磨液は、板厚が0.3〜0.64mmである場合、生産性の低下を抑える効果は大きくなる。
磁気ディスク用ガラス基板は、円板形状であって、外周と同心の円形の中心孔がくり抜かれたリング状である。磁気ディスク用ガラス基板の両面の円環状領域に磁性層(記録領域)が形成されることで、磁気ディスクが形成される。
次に、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を説明する。先ず、一対の主表面を有する板状の磁気ディスク用ガラス基板の素材となるガラスブランクをプレス成形により作製する(プレス成形処理)。次に、作製されたガラスブランクの中心部分に円孔を形成しリング形状(円環状)とし(円孔形成処理)、次に、形状加工を行う(形状加工処理)。これにより、面取り面を有するガラス基板(ガラス素板)が生成される。次に、形状加工されたガラス基板(ガラス素板)の内外周端面に対して研磨を行う(端面研磨処理)。端面研磨の行われたガラス基板、すなわち、中間体のガラス基板の主表面に、固定砥粒による研削を行う(研削処理)。次に、ガラス基板(中間体のガラス基板)の主表面に第1研磨を行う(第1研磨処理)。次に、ガラス基板(中間体のガラス基板)に対して化学強化を行う(化学強化処理)。なお、化学強化処理については、行わなくてもよい。次に、化学強化されたガラス基板(中間体のガラス基板)の主表面に対して第2研磨を行う(第2研磨処理)。以上の処理を経て、磁気ディスクの素となるガラス基板(最終製品のガラス基板)が得られる。以下、各処理について、詳細に説明する。
熔融ガラス流の先端部を切断器により切断し、切断された熔融ガラス塊を一対の金型のプレス成形面の間に挟みこみ、プレスしてガラスブランクを成形する。所定時間プレスを行った後、金型を開いてガラスブランクが取り出される。
ガラスブランクに対してドリル等を用いて円孔を形成することにより円形状の孔があいたディスク状のガラス基板(ガラス素板)を得ることができる。例えば、スクライバを用いてガラスブランクの主表面に円形状にスクライブ線を形成した後、熱を加えてスクライブ線に沿ってクラックを進展させて円形状の内側部分を分離することにより、円孔を形成する。
形状加工処理では、円孔形成処理後のガラス基板(ガラス素板)の端部に対する面取り加工を行う。例えば、総型砥石を用いた面取り加工を行う。
端面研磨処理では、ガラス基板(ガラス素板)の内外周端面に対して、ブラシ研磨による仕上げを行う。このとき、所定の粒度分布を有する酸化セリウムの微粒子を遊離砥粒、すなわち研磨砥粒として含む研磨液が用いられる。酸化セリウムの粒度分布については後述する。この研磨処理によってガラス基板(ガラス素板)の端面を鏡面とすることが好ましい。端面研磨処理されたガラス素板が、中間体のガラス基板である。
研削処理では、遊星歯車機構を備えた両面研削装置を用いて、端面研磨処理されたガラス基板、すなわち、中間体のガラス基板の主表面に対して研削加工を行う。具体的には、ガラス基板(中間体のガラス基板)の外周端面を、両面研削装置の保持部材に設けられた保持孔内に保持しながらガラス基板(中間体のガラス基板)の両側の主表面の研削を行う。両面研削装置は、上下一対の定盤(上定盤および下定盤)を有しており、上定盤および下定盤の間にガラス基板が狭持される。そして、上定盤または下定盤のいずれか一方、または、双方を移動操作させ、ガラス基板(中間体のガラス基板)と各定盤とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の両主表面を研削することができる。
第1研磨は、例えば固定砥粒による研削を行った場合に主表面に残留したキズや歪みの除去、あるいは微小な表面凹凸(マイクロウェービネス、粗さ)の調整を目的とする。具体的には、ガラス基板(中間体のガラス基板)の外周端面を、両面研磨装置の研磨用キャリアに設けられた保持孔内に保持しながらガラス基板(中間体のガラス基板)の両側の主表面の研磨が行われる。第1研磨処理後、ガラス基板(中間体のガラス基板)の主表面は鏡面であることが好ましい。
化学強化処理では、ガラス基板(中間体のガラス基板)を化学強化液中に浸漬することで、ガラス基板(中間体のガラス基板)を化学強化する。化学強化液として、例えば硝酸カリウムと硫酸ナトリウムの混合熔融液等を用いることができる。
第2研磨処理は、ガラス基板(中間体のガラス基板)の主表面の鏡面研磨を目的とする。第2研磨においても、第1研磨に用いる両面研磨装置と同様の構成を有する両面研磨装置が用いられる。具体的には、ガラス基板(中間体のガラス基板)の外周端面を、両面研磨装置の研磨用キャリアに設けられた保持孔内に保持しながらガラス基板(中間体のガラス基板)の両側の主表面の研磨が行われる。第2研磨による取り代は、例えば1〜10μm程度である。第2研磨処理では、第1研磨処理に対して、遊離砥粒の種類及び粒子サイズを変え、樹脂ポリッシャの硬度を変更する。具体的には、粒径5〜100nm程度の二酸化ケイ素の微粒子を遊離砥粒として含む研磨液が両面研磨装置の研磨パッドとガラス基板(中間体のガラス基板)の主表面との間に供給され、ガラス基板(中間体のガラス基板)の主表面が研磨される。二酸化ケイ素の微粒子は、コロイダルシリカであることが好ましい。研磨されたガラス基(中間体のガラス基板)を中性洗剤、純水、イソプロピルアルコール等を用いて洗浄することで、磁気ディスクの素となる磁気ディスク用ガラス基板(最終製品のガラス基板)が得られる。
第2研磨処理を実施することで、主表面の粗さ(Ra)を0.3nm以下、好ましくは0.1nm以下とすることができる。また、主表面のマイクロウェービネスを0.1nm以下とすることができる。このようにして、第2研磨の施されたガラス基板(最終製品のガラス基板)は、適宜洗浄・乾燥されて磁気ディスク用ガラス基板となる。
その後、さらに、磁気ディスク用ガラス基板の表面に少なくとも磁性層を形成することで、磁気ディスクを得ることができる。
次に、一実施形態である上述の端面研磨処理に用いる研磨液に遊離砥粒として含まれる酸化セリウムの粒度分布について説明する。研磨液における酸化セリウムの濃度は、例えば1〜30質量%である。遊離砥粒の粒度分布は、レーザー回折・散乱法を用いる粒度分布測定装置により求めることができる。酸化セリウムの粒度分布において、一般的に小粒径側に頻度が偏ってしまうため、粒度分布を求める際の横軸(粒径)については粒径を対数変換して、粒径の対数を横軸に取ればよい。その上で、D5〜D95の間が10〜20個程度の粒径範囲の区分けができるように区分けの粒径範囲を調節すればよい。
一実施形態によれば、研磨処理に用いる研磨液は、所定の分散媒(例えば水)と、分散媒に分散している遊離砥粒とを含み、分散媒に遊離砥粒を分散させる分散剤を必要に応じてさらに含む。
なお、D5が0.5μm未満になると小径の砥粒が多くなりすぎて研磨レートが低下する場合がある。したがって、D5は0.5μm以上1μm以下であるとより好ましい。
また、計測される酸化セリウムの粒度分布における相対頻度のピークは2つ以下であることが好ましい。ピークが3つ以上の場合、粒度分布の管理が困難になる可能性がある。また、ピークが2つの場合、連続研磨処理の初期から高い研磨レートを得る観点から大粒径側のピークの方が高いことが好ましい。ピークが2つの場合、2つのピークは、D10〜D85の粒径の範囲内にあることが好ましい。2つのピークがこの範囲内にある場合、研磨レートや研磨品質はピークが1つの時とほぼ同等の性質を示すが、この範囲を逸脱する場合、表面欠陥が増大する場合がある。
また、D95とD5の差の上限は、10μmであることが好ましく、7μmであることがより好ましい。当該差が大きすぎる場合、ピットやスクラッチ等の表面欠陥が増大する恐れがある。
図1,2には、D5,D95が示されている。図1に実線で示す粒度分布は、図2に実線で示す粒度分布に比べて粒径の範囲が広く、相対頻度の最大値(頻度が最大となるときの頻度の値)が低く、図2に示す粒度分布に比べて小粒径側に分布が広がったブロードな分布になっている。このような粒度分布の遊離砥粒を含む研磨液を研磨処理に連続的に使用した場合、大きな粒子の一部は研磨処理により壊れて2つ以上の小さな粒子に分裂するので、図1,2に示す破線のような粒度分布を示す。具体的に粒度分布は、実線で示す粒度分布から全体的に小粒径の方向にシフトする。図1,2に示すように最大粒径近傍の粒径の頻度は小さくなるが、前述のとおり、壊れにくい粒子が含まれるため、最大粒径はほとんど低下しない。
このとき、図1に示す粒度分布では、実線と破線の重なる範囲は広く、図2に示す粒度分布では、実線と破線の重なる範囲は狭い。このため、研磨液を研磨処理に長期使用した場合、図1に示す粒度分布の遊離砥粒を含む研磨液では、研磨レートの変化が図2に示す粒度分布の遊離砥粒を含む研磨液に比べて小さい。
ブラシを構成する毛材の材料としては、例えば、ポリアミド合成繊維、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PP(ポリプロピレン)等が挙げられる。毛材の線径は例えば0.05〜1mm程度である。
なお、ガラス基板(中間体のガラス基板)の表面を研磨するために、発泡ポリウレタン製等の軟質の研磨パッドを用いる場合においてもブラシ研磨と同様の状態(様々な粒径の砥粒が研磨パッドにより同時に表面に押し付ける状態)になる場合がある。このため、軟質の研磨パッドを用いる場合においても、本実施形態の研磨液は有効に用いることができる。特に、発泡ポリウレタン製のスウェードタイプの研磨パッドは、表面が比較的軟質となりやすいため表面欠陥を減らしやすく好適である。
実施形態における研磨液の効果を確認するために、酸化セリウムの粒度分布を種々変化させた研磨液(酸化セリウムの濃度は10質量%)を作製し、ガラス基板(ガラス素板)の外周端面の端面研磨を行った。この端面研磨は、ブラシを用いたブラシ研磨である。このブラシ研磨では、1バッチにおける研磨処理条件(ガラス基板(ガラス素板)の積層枚数、研磨時間、研磨液の濃度、ブラシの押しつけ力)を一定にして、研磨液を交換せずに循環させながら連続20バッチの加工を実施した。1バッチ目のガラス基板(中間体のガラス基板)における研磨レートと、20バッチ目のガラス基板(中間体のガラス基板)における研磨レートを算出し、研磨レート比(20バッチ目の研磨レート/1バッチ目の研磨レート)を求めた。1バッチに用いたガラス基板(ガラス素板)は200枚とした。ガラス基板(ガラス素板)は、外周の直径が95mm、円孔の直径が25mm、板厚が0.635mmの、公称3.5インチサイズのものを用いた。なお、外周端面及び内周端面にはともに、面取り面が、主表面に対する角度が135°であって主表面に平行な方向に150μm、板厚方向に150μm、となるように形成されたものを用いた。
研磨レートは、ガラス基板(ガラス素板)の外周端面の研磨処理前後の外周寸法から求めた研磨量を研磨時間で割った値である。酸化セリウムの遊離砥粒は、D5を0.5μmに固定して、D95の粒径を変化させた。このとき、Dpeakは、いずれも1〜5μmの範囲内であった。また、D50はいずれも0.8〜2.4μmの範囲内であった。また、(Dpeak−D5)<(D95−Dpeak)であり、(D50−D5)<(D95−D50)であった。また、縦軸に相対頻度を取った粒度分布において、相対頻度のピークは2つ以下で、2つの場合はいずれのピークもD10〜D85の粒径の範囲内にあった。
下記表1には、D95とD5の差分と、そのときの研磨レート比を示す。
すなわち、表3に示す結果から、粒径が1μm以下の砥粒の粒子数の変動を緩和するためには、D5を1μm以下として、使用初期から粒径が1μm以下の砥粒をある程度研磨液に含ませておくことが重要と考えられる。
Claims (9)
- 酸化セリウムを遊離砥粒として含み、ガラス基板の表面を研磨する研磨処理に用いる研磨液であって、
前記酸化セリウムについてレーザー回折・散乱法により求められる粒度分布において、小粒径側からの積算粒子体積が全粒子体積のx[%]に達するときの粒径をDx[μm]としたとき、
D5は、1μm以下であり、
D95とD5の差は、3μm以上である、ことを特徴とする研磨液。 - 前記D95とD5の差は、4μm以上である、請求項1に記載の研磨液。
- 前記D95は、7μm以下である、請求項1又は2に記載の研磨液。
- ブラシを用いてガラス基板の端面を研磨する研磨処理に用いる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の研磨液。
- 基板の表面を研磨する処理を含むガラス基板の製造方法であって、
前記研磨は、請求項1〜4のいずれか1項に記載の研磨液を用いて前記基板を研磨する処理である、ガラス基板の製造方法。 - 二酸化ケイ素の微粒子を遊離砥粒として含む研磨液を用いて前記基板の主表面を研磨する処理をさらに含む、請求項5に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記ガラス基板は、磁気ディスク用ガラス基板である、請求項5又は6に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記磁気ディスク用ガラス基板の外周の直径は、94mm以上である、請求項7に記載のガラス基板の製造方法。
- 請求項7又は8に記載のガラス基板の製造方法で得られた前記磁気ディスク用ガラス基板の主表面に少なくとも磁性層を形成する処理を含む、磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022205494A JP2023052035A (ja) | 2017-10-31 | 2022-12-22 | 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017210817 | 2017-10-31 | ||
JP2017210817 | 2017-10-31 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019550479A Division JP6692006B2 (ja) | 2017-10-31 | 2018-10-31 | 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022205494A Division JP2023052035A (ja) | 2017-10-31 | 2022-12-22 | 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020128539A true JP2020128539A (ja) | 2020-08-27 |
JP2020128539A5 JP2020128539A5 (ja) | 2022-03-28 |
JP7201639B2 JP7201639B2 (ja) | 2023-01-10 |
Family
ID=66331926
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019550479A Active JP6692006B2 (ja) | 2017-10-31 | 2018-10-31 | 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 |
JP2020071965A Active JP7201639B2 (ja) | 2017-10-31 | 2020-04-13 | 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 |
JP2022205494A Pending JP2023052035A (ja) | 2017-10-31 | 2022-12-22 | 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019550479A Active JP6692006B2 (ja) | 2017-10-31 | 2018-10-31 | 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022205494A Pending JP2023052035A (ja) | 2017-10-31 | 2022-12-22 | 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US11214713B2 (ja) |
JP (3) | JP6692006B2 (ja) |
CN (2) | CN113913156B (ja) |
SG (1) | SG11202001636RA (ja) |
WO (1) | WO2019088209A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6692006B2 (ja) * | 2017-10-31 | 2020-05-13 | Hoya株式会社 | 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 |
CN112266729A (zh) * | 2020-11-17 | 2021-01-26 | 云南光电辅料有限公司 | 一种超低色散玻璃镜片用抛光液及其制备方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002180034A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-26 | Showa Denko Kk | 研磨材スラリー及び研磨微粉 |
JP2002301655A (ja) * | 2001-04-05 | 2002-10-15 | Showa Denko Kk | 研磨材スラリー及び研磨微粉 |
JP2002371267A (ja) * | 2001-06-15 | 2002-12-26 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | セリウム系研摩材粒子の製造方法及びセリウム系研摩材粒子 |
JP2008284679A (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-27 | Hitachi Chem Co Ltd | 研磨剤及びその製造方法 |
JP2012020377A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Asahi Glass Co Ltd | 研磨液及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
WO2013069720A1 (ja) * | 2011-11-09 | 2013-05-16 | Dowaエコシステム株式会社 | 研磨剤リサイクル方法 |
JP2014197449A (ja) * | 2012-08-29 | 2014-10-16 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク用ガラス基板 |
WO2016002825A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
JP2018506618A (ja) * | 2015-01-12 | 2018-03-08 | バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー | 化学機械平坦化組成物用の複合研磨粒子及びその使用方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9070399B2 (en) * | 2008-12-22 | 2015-06-30 | Kao Corporation | Polishing liquid composition for magnetic-disk substrate |
CN101486879A (zh) * | 2009-02-20 | 2009-07-22 | 包头迅博新材料有限公司 | 一种稀土精细抛光材料及其制造工艺 |
JP2011110637A (ja) * | 2009-11-25 | 2011-06-09 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
CN102079950A (zh) * | 2009-11-27 | 2011-06-01 | 东莞市卓越研磨材料有限公司 | 单分散稀土抛光粉制备方法 |
AU2011216058A1 (en) * | 2010-02-10 | 2012-08-30 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Ceramic particles and methods for making the same |
WO2012043214A1 (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-05 | コニカミノルタオプト株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体 |
US8421536B2 (en) * | 2011-09-21 | 2013-04-16 | Analog Devices, Inc. | Apparatus and methods for electronic amplification |
CN104137181A (zh) * | 2012-03-30 | 2014-11-05 | Hoya株式会社 | 磁盘用玻璃基板的制造方法 |
US20160239913A1 (en) | 2013-08-13 | 2016-08-18 | Cfph, Llc | Foreign exchange trading |
CN106479371A (zh) * | 2016-08-15 | 2017-03-08 | 惠州市米特仑科技有限公司 | 一种高精度复合抛光液及其制备方法 |
JP6692006B2 (ja) * | 2017-10-31 | 2020-05-13 | Hoya株式会社 | 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 |
-
2018
- 2018-10-31 JP JP2019550479A patent/JP6692006B2/ja active Active
- 2018-10-31 WO PCT/JP2018/040610 patent/WO2019088209A1/ja active Application Filing
- 2018-10-31 US US16/641,185 patent/US11214713B2/en active Active
- 2018-10-31 CN CN202111254736.8A patent/CN113913156B/zh active Active
- 2018-10-31 CN CN201880060448.9A patent/CN111094502B/zh active Active
- 2018-10-31 SG SG11202001636RA patent/SG11202001636RA/en unknown
-
2020
- 2020-04-13 JP JP2020071965A patent/JP7201639B2/ja active Active
-
2021
- 2021-12-30 US US17/566,200 patent/US11680187B2/en active Active
-
2022
- 2022-12-22 JP JP2022205494A patent/JP2023052035A/ja active Pending
-
2023
- 2023-05-22 US US18/321,385 patent/US20230287244A1/en active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002180034A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-26 | Showa Denko Kk | 研磨材スラリー及び研磨微粉 |
JP2002301655A (ja) * | 2001-04-05 | 2002-10-15 | Showa Denko Kk | 研磨材スラリー及び研磨微粉 |
JP2002371267A (ja) * | 2001-06-15 | 2002-12-26 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | セリウム系研摩材粒子の製造方法及びセリウム系研摩材粒子 |
JP2008284679A (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-27 | Hitachi Chem Co Ltd | 研磨剤及びその製造方法 |
JP2012020377A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Asahi Glass Co Ltd | 研磨液及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
WO2013069720A1 (ja) * | 2011-11-09 | 2013-05-16 | Dowaエコシステム株式会社 | 研磨剤リサイクル方法 |
JP2014197449A (ja) * | 2012-08-29 | 2014-10-16 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク用ガラス基板 |
WO2016002825A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
JP2018506618A (ja) * | 2015-01-12 | 2018-03-08 | バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー | 化学機械平坦化組成物用の複合研磨粒子及びその使用方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019088209A1 (ja) | 2019-05-09 |
JP7201639B2 (ja) | 2023-01-10 |
CN113913156A (zh) | 2022-01-11 |
CN111094502A (zh) | 2020-05-01 |
US11214713B2 (en) | 2022-01-04 |
SG11202001636RA (en) | 2020-03-30 |
CN113913156B (zh) | 2022-06-24 |
US20230287244A1 (en) | 2023-09-14 |
JP6692006B2 (ja) | 2020-05-13 |
JP2023052035A (ja) | 2023-04-11 |
US11680187B2 (en) | 2023-06-20 |
CN111094502B (zh) | 2021-11-16 |
US20220119680A1 (en) | 2022-04-21 |
JPWO2019088209A1 (ja) | 2020-06-11 |
US20200208015A1 (en) | 2020-07-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20230287244A1 (en) | Polishing liquid and method for manufacturing glass substrate | |
JP4234991B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及びその製造方法によって製造される情報記録媒体用ガラス基板 | |
JP2004243445A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法並びにそれに使用する研磨パッド | |
JP2011104713A (ja) | ガラス基板研磨パッド用ドレス治具 | |
WO2012090510A1 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法 | |
JP6313314B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに研削工具 | |
JP5853408B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法および磁気記録媒体用ガラス基板 | |
JP5297281B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2018200743A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の元となるガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び固定砥粒砥石 | |
JP6307407B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
WO2012090655A1 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
WO2016002825A1 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
WO2014156189A1 (ja) | ハードディスク用ガラス基板及びその製造方法 | |
CN109285565B (zh) | 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法 | |
JP5704777B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2011138589A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体 | |
JP2014203503A (ja) | ハードディスク用基板の製造方法 | |
WO2012133373A1 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
WO2015046596A1 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2015225687A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2010231845A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2014194833A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び研磨液 | |
JP2011138590A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211029 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220317 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221222 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7201639 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |