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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6890610B2 (ja) * 2016-11-18 2021-06-18 富士フイルム株式会社 薬液、薬液収容体、パターン形成方法、及び、キット
KR102828756B1 (ko) * 2018-07-13 2025-07-03 후지필름 가부시키가이샤 약액, 키트, 패턴 형성 방법, 약액의 제조 방법 및 약액 수용체
KR102837395B1 (ko) * 2018-10-03 2025-07-23 후지필름 가부시키가이샤 약액 및 약액 수용체
WO2020071042A1 (ja) 2018-10-03 2020-04-09 富士フイルム株式会社 薬液、薬液収容体、レジストパターン形成方法、半導体チップの製造方法
JP7166149B2 (ja) * 2018-11-15 2022-11-07 東京応化工業株式会社 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JPWO2020179428A1 (enExample) 2019-03-04 2020-09-10
JP7342941B2 (ja) * 2019-03-08 2023-09-12 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
JP7292378B2 (ja) * 2019-03-29 2023-06-16 富士フイルム株式会社 処理液、パターン形成方法
JP7390470B2 (ja) * 2020-03-12 2023-12-01 富士フイルム株式会社 薬液の精製方法、薬液の製造方法、薬液
WO2022176685A1 (ja) * 2021-02-19 2022-08-25 富士フイルム株式会社 混合比率の決定方法、および、現像装置
WO2024004598A1 (ja) * 2022-06-29 2024-01-04 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
KR102515739B1 (ko) * 2022-12-07 2023-03-30 타코마테크놀러지 주식회사 감광성 수지 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000062513A (ja) * 1998-08-21 2000-02-29 Hino Motors Ltd 容器ホルダ
JP2000288458A (ja) * 1999-02-03 2000-10-17 Tokyo Electron Ltd 塗布膜形成方法および塗布装置
JP5002360B2 (ja) * 2007-07-23 2012-08-15 富士フイルム株式会社 パターン形成方法
JP5719698B2 (ja) * 2010-06-30 2015-05-20 富士フイルム株式会社 パターン形成方法及び該パターン形成方法に用いられる現像液
JP5629520B2 (ja) * 2010-07-28 2014-11-19 富士フイルム株式会社 パターン形成方法及びこの方法に用いられる有機系処理液
JP5848869B2 (ja) 2010-08-25 2016-01-27 富士フイルム株式会社 パターン形成方法
JP6075124B2 (ja) * 2012-03-15 2017-02-08 Jsr株式会社 現像液の精製方法
JP5764589B2 (ja) * 2012-10-31 2015-08-19 富士フイルム株式会社 化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液の収容容器、並びに、これらを使用したパターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
JP6060012B2 (ja) * 2013-03-15 2017-01-11 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法
JP5728517B2 (ja) * 2013-04-02 2015-06-03 富士フイルム株式会社 化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液の製造方法、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法
JP6154653B2 (ja) * 2013-04-17 2017-06-28 アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ リソグラフィー用現像またはリンス液およびそれを用いたパターン形成方法
JP6185874B2 (ja) 2013-05-02 2017-08-23 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
JP6186168B2 (ja) * 2013-05-02 2017-08-23 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
JP6134619B2 (ja) * 2013-09-13 2017-05-24 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法
JP6384424B2 (ja) 2014-09-04 2018-09-05 信越化学工業株式会社 レジスト組成物及びパターン形成方法
JP6427590B2 (ja) 2014-09-30 2018-11-21 富士フイルム株式会社 レジスト膜のパターニング用有機系処理液の製造方法、及び、レジスト膜のパターニング用有機系処理液が収容された収容容器、並びに、これらを使用したレジスト膜のパターニング用有機系処理液の保管方法、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法
JP2015084122A (ja) * 2015-01-08 2015-04-30 富士フイルム株式会社 化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液
CN119846905A (zh) * 2016-03-31 2025-04-18 富士胶片株式会社 半导体制造用处理液、其制造方法、图案形成方法及电子器件的制造方法
JP6757411B2 (ja) * 2016-09-02 2020-09-16 富士フイルム株式会社 溶液、溶液収容体、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、半導体デバイスの製造方法

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