JP6154653B2 - リソグラフィー用現像またはリンス液およびそれを用いたパターン形成方法 - Google Patents
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Description
Ar2−(CH2)n−O−(CH2)p−Ar3 (II)
(式中、Ar1、Ar2、Ar3は、各々、置換基を有していてもよいフェニル基または芳香族性複素環基を表し、R1は水素原子またはアシル基を表し、m、n、pは各々0〜3の整数を表す。)
1−オクタノン、2−オクタノン、1−ノナノン、2−ノナノン、アセトン、4−ヘプタノン、1−ヘキサノン、2−ヘキサノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、フェニルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、アセチルアセトン、アセトニルアセトン、イオノン、ジアセトニルアルコール、アセチルカービノール、アセトフェノン、メチルナフチルケトン、イソホロン、プロピレンカーボネートなど。
メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、n−ヘキシルアルコール、n−ヘプチルアルコール、n−オクチルアルコール、n−デカノールなどのアルコールや、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールなどのグリコール系溶剤、プロピレングリコールなど。
酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチル−3−エトキシプロピオネート、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸ブチル、蟻酸プロピル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸プロピルなど。
エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、メトキシメチルブタノール等のグリコールエーテル系溶剤、メチルイソブチルカルビノールなどのアルキルエーテル類、ジオキサン、テトラヒドロフランなど。
N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンなど。
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素系(アルカン系)溶剤。
Ar2−(CH2)n−O−(CH2)p−Ar3 (II)
(式中、Ar1、Ar2、Ar3は、置換基を有していてもよいフェニル基または芳香族性複素環基を表し、R1は水素原子またはアシル基を表し、m、n、pは各々0〜3の整数を表す。)
シリコン基板上にArF露光に対応した底面反射防止膜用組成物(AZエレクトロニックマテリアルズマニュファクチャリング株式会社製 AZ Kr−F 17B(商品名))をスピン塗布し、180℃、60秒間ベークして、80nm厚の反射防止膜を製膜した。その上に化学増幅型ArFレジスト組成物(PHS−アクリレートハイブリッドタイプのレジスト)をスピン塗布し、100℃で60秒間ソフトベークして、100nm厚のレジスト膜を形成した。得られた基板をKrF露光装置(キャノン株式会社製FPA3000−EX5(商品名);NA=0.63、Quad Mask:Binary)でマスクサイズ250nm(L:S=1:1)を通して露光し、100℃、60秒のポスト エクスポジャー ベーク(PEB)を行った後、酢酸n−ブチル(nBA)30ccで現像を行い、1:1のライン アンド スペースを有するネガパターンを形成した。このネガパターンを酢酸n−ブチル(nBA)99.9質量部とフルフリルアルコール0.1質量部(1000ppm)からなるリンス液40ccを用いて回転塗布法によりリンスを行い、スピンドライすることにより乾燥を行った。
リンス液で使用されるフルフリルアルコールに替えて、ベンジルアルコール(実施例2)、2−チオフェンメタノール(実施例3)、ジフェニルエーテル(実施例4)、ベンジルアセテート(実施例5)、4−フルオロベンジルアルコール(実施例6)、メチルイミダゾール(実施例7)を用いることを除き、実施例1と同様にしてリンスされたレジストパターンを形成した。形成されたパターンのレジスト表面上の表面欠陥(異物付着数)及びパターン形状の評価を、実施例1と同様の方法で行った。
リンス液で使用されるベンジルアルコールの添加量を、0質量部(0ppm)(比較例1)、0.01質量部(100ppm)(比較例2)、0.02質量部(200ppm)(実施例8)、0.05質量部(500ppm)(実施例9)、0.2質量部(2,000ppm)(実施例10)、0.5質量部(5,000ppm)(比較例3)とし、酢酸n−ブチルとベンジルアルコールの合計量を100質量部とすることを除き実施例2と同様にして、レジストパターンを形成した。この形成されたレジストパターンの表面欠陥(異物付着数)およびパターン形状の評価を、実施例2と同様の方法で行った。結果を表2に示す。なお、表2には、参考のため実施例2についても掲載する。
現像液を酢酸n−ブチルに替えてメチルアミルケトン(MAK)とし、またリンス液のベース溶剤を酢酸n−ブチルに替えてメチルアミルケトン(MAK)とすることを除き実施例1と同様にして、レジストパターンを形成した。この形成されたレジストパターンの表面欠陥(異物付着数)およびパターン形状の評価を、実施例1と同様の方法で行った。結果を表3に示す。
リンス液で使用されるベース溶剤の酢酸n−ブチルをメチルイソブチルカルビノール(MIBC)とすることを除き実施例1と同様にして、レジストパターンを形成した。この形成されたレジストパターンの表面欠陥(異物付着数)およびパターン形状の評価を、実施例1と同様の方法で行った。結果を表3に示す。
ネガ型現像液として酢酸n−ブチル(nBA)単独溶液に替えて、酢酸nブチル99.9質量部とベンジルアルコール0.1質量部からなる現像液を用い、またリンス液として酢酸n−ブチル(nBA)99.9質量部とフルフリルアルコール0.1質量部(1000ppm)からなるリンス液を用いることに替えて酢酸nブチル単独からなるリンス液を用いることを除き実施例1と同様にして、レジストパターンを形成した。形成されたレジストパターンの表面欠陥(異物付着数)及びパターン形状の評価を、実施例1と同様の方法で行った。結果を表4に示す。
酢酸n−ブチル99.9質量部とベンジルアルコール0.1質量部からなる現像液に替えて、酢酸n−ブチル99.9質量部とフルフリルアルコール0.1質量部からなる現像液(実施例14)または酢酸n−ブチル99.9質量部とジフェニルエーテル0.1質量部からなる現像液(実施例15)を用いることを除き実施例13と同様にして、レジストパターンを形成した。形成されたパターンの表面欠陥(異物付着数)及びパターン形状の評価を、実施例13と同様の方法で行った。結果を表4に示す。
なお、表4には、参考のため比較例1をも掲載する。
Claims (8)
- 酸の作用により極性が増大する樹脂を含有し、活性光線または放射線の照射によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する感光性レジスト組成物を用い、露光後ネガ型現像し、リンスすることによりネガパターンを形成するレジストパターン形成方法に用いられるネガ型現像またはリンス液において、該現像またはリンス液が、有機溶剤と、ネガ型現像またはリンス液の全質量に対し0.015〜0.4質量%の芳香族化合物と、を含有し、前記芳香族化合物が、下記一般式(I)または(II)で表される化合物またはアルキル基で置換された芳香族性複素環化合物から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とするネガ型現像またはリンス液。
Ar 1 −(CH 2 )m−OR 1 (I)
Ar 2 −(CH 2 )n−O−(CH 2 )p−Ar 3 (II)
(式中、Ar 1 、Ar 2 、Ar 3 は、各々、置換基を有していてもよいフェニル基または芳香族性複素環基を表し、R 1 は水素原子またはアシル基を表し、m、n、pは各々0〜3の整数を表す。) - 請求項1に記載のネガ型現像またはリンス液において、前記芳香族化合物が常温で液体であることを特徴とするネガ型現像またはリンス液。
- 請求項1または2に記載のネガ型現像またはリンス液において、前記一般式(I)または(II)のAr1、Ar2、Ar3が、各々、置換基を有していてもよい、ピロール、フラン、チオフェン、ピリジン、イミダゾールまたはベンゼン環基であることを特徴とするネガ型現像またはリンス液。
- 請求項3に記載のネガ型現像またはリンス液において、前記一般式(I)または(II)で表される化合物またはアルキル基で置換された複素環化合物が、ベンジルアルコール、4−フルオロベンジルアルコール、ベンジルアセテート、フルフリルアルコール、2−チオフェンメタノール、ジフェニルエーテルまたはメチルイミダゾールであることを特徴とするネガ型現像またはリンス液。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載のネガ型現像またはリンス液において、前記有機溶剤が、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、アミド系溶剤および炭化水素系溶剤から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とするネガ型現像またはリンス液。
- 請求項5に記載のネガ型現像またはリンス液において、前記有機溶剤が、酢酸n−ブチル、メチルアミルケトンまたはメチルイソブチルカルビノールであることを特徴とするネガ型現像またはリンス液。
- (1)酸の作用により極性が増大する樹脂を含有し、活性光線または放射線の照射によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する感光性レジスト組成物を基板に塗布して感光性レジスト組成物膜を形成する工程、
(2)前記感光性レジスト組成物層を露光する工程、
(3)露光された感光性レジスト組成物層をネガ型現像液を用いて現像する工程、
を含んでなるレジストパターン形成方法において、
前記ネガ型現像液が、請求項1〜6のいずれか1項に記載のネガ型現像液であることを特徴とするレジストパターン形成方法。 - (1)酸の作用により極性が増大する樹脂を含有し、活性光線または放射線の照射によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する感光性レジスト組成物を基板に塗布して感光性レジスト膜を形成する工程、
(2)前記感光性レジスト膜を露光する工程、
(3)露光された感光性レジスト膜をネガ型現像液を用いて現像する工程、および
(4)ネガ型現像液による現像の後に有機溶剤リンス処理を行う工程を含んでなるレジストパターン形成方法において、
前記ネガ型現像またはリンス処理の少なくともいずれかが、請求項1〜6のいずれか1項に記載のネガ型現像またはリンス液を用いて行われることを特徴とするレジストパターン形成方法。
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