JP2020114911A - 重合性液晶組成物、位相差板、楕円偏光板および有機ｅｌ表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】保管時の安定性が高く、かつ、高重合率で重合させることが可能な重合性液晶組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】重合性液晶化合物、少なくとも１種の一次酸化防止剤、少なくとも１種の二次酸化防止剤および光ラジカル重合開始剤を含む重合性液晶組成物であって、前記重合性液晶化合物がエステル構造と（メタ）アクリロイル基とを有し、かつ、波長３００〜４００ｎｍに極大吸収を示す、重合性液晶組成物。
【選択図】なし

Description

本発明は、重合性液晶組成物、前記重合性液晶組成物の硬化物である液晶硬化膜を含む位相差板、前記位相差板を含む楕円偏光板および有機ＥＬ表示装置に関する。

フラットパネルディスプレイに用いられる位相差板として、逆波長分散性を示す位相差板が知られている（特許文献１）。特に近年では、フラットパネルディスプレイの薄型化が求められており、重合性液晶化合物を配向状態で紫外線照射により硬化させて形成された液晶硬化層からなる位相差板が開発されている（特許文献２）。

特開２０１２−２１４８０１号公報 特開２０１５−１６３９３５号公報

近年、フラットパネルディスプレイは、カーナビゲーション装置やバックモニターなどの車載用の画像表示装置としても使用されるなど、その用途は広がっている。これに伴い、過酷な条件下でも性能変化が生じ難い優れた耐久性を有する位相差板が求められている。このような性能変化の生じ難い位相差板を得るためには、重合性液晶化合物を十分に硬化させることが必要であり、十分な紫外線を照射して重合性液晶化合物を硬化させることが望ましい。

しかしながら、重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物は、一般的に安定性が低く、保管時に重合性液晶化合物のゲル化を生じることがあり、そのようなゲル化を防止するために重合禁止剤を配合すると、重合禁止剤が重合性液晶化合物の硬化を阻害し、得られる位相差板の重合率が低下するという問題がある。また、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物は、一般的に紫外線領域に極大吸収を有しており、重合性液晶化合物の重合率を高めるために高強度の紫外線を照射した場合、その光学特性が低下することがあり、得られる位相差板の光学性能は必ずしも十分に満足できないことがある。

本発明は、保管時の安定性が高く、かつ、高重合率で重合させることが可能な重合性液晶組成物を提供することを目的とする。

本発明は、以下の好適な態様を提供するものである。
［１］重合性液晶化合物、少なくとも１種の一次酸化防止剤、少なくとも１種の二次酸化防止剤および光ラジカル重合開始剤を含む重合性液晶組成物であって、前記重合性液晶化合物がエステル構造と（メタ）アクリロイル基とを有し、かつ、波長３００〜４００ｎｍに極大吸収を示す、重合性液晶組成物。
［２］一次酸化防止剤の含有量が、重合性液晶化合物１００質量部に対して０．１〜５質量部である、前記［１］に記載の重合性液晶組成物。
［３］一次酸化防止剤がフェノール化合物である、前記［１］または［２］に記載の重合性液晶組成物。
［４］一次酸化防止剤の分子量が４００ｇ／ｍｏｌ以下である、前記［１］〜［３］のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
［５］二次酸化防止剤の含有量が、重合性液晶化合物１００質量部に対して０．１〜１５質量部である、前記［１］〜［４］のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
［６］二次酸化防止剤が亜リン酸エステル化合物である、前記［１］〜［５］のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
［７］二次酸化防止剤の分子量が２００ｇ／ｍｏｌ以上である、前記［１］〜［６］のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
［８］光ラジカル重合開始剤がオキシム系光重合開始剤である、前記［１］〜［７］のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
［９］単独重合体の複屈折率が逆波長分散性を示す重合性液晶化合物を含む、前記［１］〜［８］のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
［１０］前記［１］〜［９］のいずれかに記載の重合性液晶組成物の硬化物であり、該重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物が配向した状態で硬化した液晶硬化膜を含む位相差板。
［１１］液晶硬化膜中の一次酸化防止剤の含有量が、重合性液晶化合物の重合体１００質量部に対して０．００１質量部以下である、前記［１０］に記載の位相差板。
［１２］液晶硬化膜中の二次酸化防止剤の含有量が、重合性液晶化合物の重合体１００質量部に対して０．０５〜１５質量部である、前記［１０］または［１１］に記載の位相差板。
［１３］液晶硬化膜が下記式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）：
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （Ｉ）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （ＩＩ）
１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１８０ｎｍ （ＩＩＩ）
〔式中、Ｒｅ（λ）は液晶硬化膜の波長λｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ＝（ｎｘ（λ）−ｎｙ（λ））×ｄである（ｄは液晶硬化膜の厚みを表し、ｎｘは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に平行な方向の波長λｎｍにおける主屈折率を表し、ｎｙは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘの方向に対して直交する方向の波長λｎｍにおける屈折率を表す）〕
で表される光学特性を有する、前記［１０］〜［１２］のいずれかに記載の位相差板。
［１４］液晶硬化膜が下記式（ＩＶ）、（Ｖ）および（ＶＩ）：
Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．００ （ＩＶ）
１．００≦Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０） （Ｖ）
−１００ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−４０ｎｍ （ＶＩ）
〔式中、Ｒｔｈ（λ）は液晶硬化膜の波長λｎｍにおける厚み方向の位相差値を表し、Ｒｔｈ＝（（ｎｘ（λ）＋ｎｙ（λ））／２―ｎｚ）×ｄである（ｄは液晶硬化膜の厚みを表し、ｎｘは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に平行な方向の波長λｎｍにおける主屈折率を表し、ｎｙは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘの方向に対して直交する方向の波長λｎｍにおける屈折率を表し、ｎｚは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に対して垂直な方向の波長λｎｍにおける屈折率を表す）〕
で表される光学特性を有する、前記［１０］〜［１２］のいずれかに記載の位相差板。
［１５］前記［１０］〜［１４］のいずれかに記載の位相差板の製造方法であって、
重合性液晶組成物の塗膜を形成し、該塗膜を乾燥して一次酸化防止剤を除去し、かつ該重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物を配向させる工程と、
配向状態を保持したまま光照射により重合性液晶化合物を重合させ、液晶硬化膜を形成する工程
を含む、製造方法。
［１６］前記［１０］〜［１４］のいずれかに記載の位相差板と偏光フィルムとを含む楕円偏光板。
［１７］前記［１６］に記載の楕円偏光板を含む有機ＥＬ表示装置。

本発明によれば、保管時の安定性が高く、かつ、高重合率で重合させることが可能な重合性液晶組成物を提供することができる。

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。

＜重合性液晶組成物＞
本発明の重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物、少なくとも１種の一次酸化防止剤、少なくとも１種の二次酸化防止剤および光ラジカル重合開始剤を含む。本発明の重合性液晶組成物は、一次酸化防止剤と二次酸化防止剤とを組み合わせて含むことにより、重合性液晶組成物として長期保管した際の重合性液晶化合物の劣化を抑制し、安定性を向上させることができる。さらに、上記重合性液晶組成物は、高強度の紫外線等による損傷を抑えながら重合性液晶化合物を十分に硬化させることが可能であるため、該重合性液晶組成物から光学特性に優れる液晶硬化膜を得ることができる。ゆえに、過酷な環境下においても性能変化の生じ難い液晶硬化膜を備えた位相差板を得ることができると考えられる。

本発明の重合性液晶組成物は、エステル構造と（メタ）アクリロイル基とを有し、かつ、波長３００〜４００ｎｍに極大吸収を示す重合性液晶化合物（以下、「重合性液晶化合物（Ａ）」ともいう）を含む。
分子構造中にエステル構造を有する重合性液晶化合物は、紫外線等の光が暴露されることにより該エステル構造部分で分解されて劣化を生じやすい。このため、例えば、硬化時に高強度の紫外線照射をすることにより、該重合性液晶化合物から形成される液晶硬化膜の光学特性は低下しやすい傾向にある。本発明の重合性液晶組成物は重合性液晶化合物の光劣化抑制効果に優れるため、光劣化を生じやすいエステル構造を有する重合性液晶化合物を用いる場合に本発明の効果を特に顕著に発揮し得る。

一方、光重合開始剤を含む重合性液晶組成物においては、長期保管時に重合性液晶化合物の重合反応やゲル化が進行することがあるが、波長３００〜４００ｎｍに極大吸収を示す重合性液晶化合物を含むことにより、保管中に紫外光が曝露されても、光重合開始剤からの反応活性種の発生および該反応活性種による重合性液晶化合物の重合反応およびゲル化の進行を有効に抑制できる。したがって、光ラジカル重合開始剤を含む本発明の重合性液晶組成物においては、波長３００〜４００ｎｍに極大吸収を示す重合性液晶化合物を含むことにより、重合性液晶組成物の長期安定性の点で有利となり、得られる液晶硬化膜の配向性および膜厚の均一性を向上できる。なお、重合性液晶化合物の極大吸収波長は、溶媒中で紫外可視分光光度計を用いて測定できる。該溶媒は重合性液晶化合物を溶解し得る溶媒であり、例えばクロロホルム等が挙げられる。

本発明において重合性液晶化合物（Ａ）は、光重合性基を有する液晶化合物を意味し、エステル構造と（メタ）アクリロイル基とを有し、かつ、波長３００〜４００ｎｍに極大吸収を示す重合性液晶化合物であれば特に限定されるものではなく、例えば位相差板の分野において従来公知の重合性液晶化合物を用いることができる。

本発明において、光重合性基とは、重合性基であって、光重合開始剤から発生した反応活性種、例えば活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいい、例えばビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、オキシラニル基、オキセタニル基が挙げられる。重合性液晶化合物（Ａ）が１つの光重合性基を有する液晶化合物である場合には、該光重合性基は（メタ）アクリロイル基である。重合性液晶化合物（Ａ）が２つ以上の光重合性基を有する場合、そのうちの少なくとも１つは（メタ）アクリロイル基であり、重合性液晶化合物（Ａ）に含まれる全ての光重合性基が（メタ）アクリロイル基であることが好ましい。なお、本明細書において（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル基またはメタクリロイル基を意味する。

本発明において、重合性液晶化合物（Ａ）が示す液晶性はサーモトロピック性液晶であってもよいし、リオトロピック性液晶であってもよいが、緻密な膜厚制御が可能な点でサーモトロピック性液晶が好ましい。また、サーモトロピック性液晶における相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。重合性液晶化合物（Ａ）として、１種のみを用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

重合性液晶化合物（Ａ）としては、例えば、下記（ア）〜（エ）の特徴を有する化合物が挙げられる。
（ア）ネマチック相またはスメクチック相を形成し得る化合物である。
（イ）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する。
（ウ）長軸方向（ａ）に対して交差する方向〔交差方向（ｂ）〕上にπ電子を有する。
（エ）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ） （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ） （ｉｉ）
とが、式（ｉｉｉ）
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕＜１ （ｉｉｉ）
の関係にある〔すなわち、交差方向（ｂ）のπ電子密度が、長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きい〕。また、上記記載のように長軸およびそれに対して交差方向上にπ電子を有する重合性液晶化合物は、一般にＴ字構造となりやすい。

上記（ア）〜（エ）の特徴において、長軸方向（ａ）およびπ電子数Ｎは以下のように定義される。
・長軸方向（ａ）は、例えば棒状構造を有する化合物であれば、その棒状の長軸方向である。
・長軸方向（ａ）上に存在するπ電子数Ｎ（πａ）には、重合反応により消失するπ電子は含まない。
・長軸方向（ａ）上に存在するπ電子数Ｎ（πａ）には、長軸上のπ電子およびこれと共役するπ電子の合計数であり、例えば長軸方向（ａ）上に存在する環であって、ヒュッケル則を満たす環に存在するπ電子の数が含まれる。
・交差方向（ｂ）に存在するπ電子数Ｎ（πｂ）には、重合反応により消失するπ電子は含まない。
上記を満たす重合性液晶化合物は、長軸方向にメソゲン構造を有している。このメソゲン構造によって、液晶相（ネマチック相、スメクチック相）を発現する。

上記（ア）〜（エ）を満たす重合性液晶化合物は、基材または配向膜上に塗布し、相転移温度以上に加熱することにより、ネマチック相やスメクチック相を形成することが可能である。この重合性液晶化合物が配向して形成されたネマチック相またはスメクチック相では通常、重合性液晶化合物の長軸方向が互いに平行になるように配向しており、この長軸方向がネマチック相の配向方向となる。このような重合性液晶化合物を膜状とし、ネマチック相またはスメクチック相の状態で重合させると、長軸方向（ａ）に配向した状態で重合した重合体からなる重合体膜を形成することができる。この重合体膜は、長軸方向（ａ）上のπ電子と交差方向（ｂ）上のπ電子により紫外線を吸収する。ここで、交差方向（ｂ）上のπ電子により吸収される紫外線の吸収極大波長をλｂｍａｘとする。λｂｍａｘは通常３００ｎｍ〜４００ｎｍである。π電子の密度は、上記式（ｉｉｉ）を満足していて、交差方向（ｂ）のπ電子密度が長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きいので、交差方向（ｂ）に振動面を有する直線偏光紫外線（波長はλｂｍａｘ）の吸収が、長軸方向（ａ）に振動面を有する直線偏光紫外線（波長はλｂｍａｘ）の吸収よりも大きな重合体膜となる。その比（直線偏光紫外線の交差方向（ｂ）の吸光度／長軸方向（ａ）の吸光度の比）は、例えば１．０超、好ましくは１．２以上、通常３０以下であり、例えば１０以下である。

上記特徴を有する重合性液晶化合物は、一般に、その配向状態の単独重合体の複屈折率が逆波長分散性を示すものであることが多い。光学特性により優れる液晶硬化膜を得やすい観点から、本発明の重合性液晶組成物に含まれる重合性化合物（Ａ）は、その単独重合体が逆波長分散性を示すものであることが好ましい。

そのような重合性液晶化合物（Ａ）として、具体的には例えば、下記式（Ａ１）：

で表される化合物が挙げられる。

式（Ａ１）中、Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族基を有する二価の基を表す。ここでいう芳香族基とは、該環構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い［４ｎ＋２］個であるものをさし、例えば後述する（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２３）で例示されるようなＡｒ基を、二価の連結基を介して２個以上有していてもよい。ここでｎは整数を表す。−Ｎ＝や−Ｓ−等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。二価の基Ａｒに含まれる芳香族基は１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。芳香族基が１つである場合、二価の基Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基であってもよい。二価の基Ａｒに含まれる芳香族基が２つ以上である場合、２つ以上の芳香族基は互いに単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−などの二価の結合基で結合していてもよい。
Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子または窒素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、エステル構造を有する二価の連結基である。
Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０〜３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ^１およびＢ^２、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ｅ^１およびＥ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基を表し、ここで、炭素数４〜１２のアルカンジイル基がより好ましい。また、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳｉＨ_２−、−Ｃ（＝Ｏ）−で置換されていてもよい。
Ｐ^１およびＰ^２は、それぞれ独立に、光重合性基または水素原子を表し、少なくとも１つは（メタ）アクリロイル基である。

Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子および炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−フェニレンジイル基、ハロゲン原子および炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４−フェニレンジイル基、無置換の１，４−フェニレンジイル基、または無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４−フェニレンジイル基、または無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロへキサンジイル基である。
また、複数存在するＧ^１およびＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ^１またはＬ^２に結合するＧ^１およびＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。

Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、好ましくは−Ｒ^ａ１ＣＯＯＲ^ａ２−（Ｒ^ａ１およびＲ^ａ２はそれぞれ独立に単結合または炭素数１〜４のアルキレン基を表す）であり、より好ましくは−ＣＯＯＲ^ａ２−１−（Ｒ^ａ２−１は単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−のいずれかを表す）であり、さらに好ましくは−ＣＯＯ−または−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−である。

Ｂ^１およびＢ^２は、それぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒ^ａ３ＯＲ^ａ４−、−Ｒ^ａ５ＣＯＯＲ^ａ６−、−Ｒ^ａ７ＯＣＯＲ^ａ８−、または−Ｒ^ａ９ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ１０−である。ここで、Ｒ^ａ３〜Ｒ^ａ１０はそれぞれ独立に単結合、または炭素数１〜４のアルキレン基を表す。Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲ^ａ４−１−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯＲ^ａ６−１−、または−ＯＣＯＲ^ａ８−１−である。ここで、Ｒ^ａ４−１、Ｒ^ａ６−１、Ｒ^ａ８−１はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−のいずれかを表す。Ｂ^１およびＢ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−または−ＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２−である。

ｋおよびｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるため好ましい。

Ｐ^１またはＰ^２で表される光重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、オキシラニル基、およびオキセタニル基等が挙げられる。Ｐ^１またはＰ^２のうち、少なくとも１つはアクリロイル基またはメタクリロイル基であり、Ｐ^１およびＰ^２はいずれもアクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましく、アクリロイル基がより好ましい。

Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、および電子吸引性基から選ばれる少なくとも１つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、およびフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、またはベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。

式（Ａ１）中、Ａｒで表される二価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎ_πは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。

Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。

式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２３）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。また、Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、重合性基を含んでいてもよい。

Ｑ^１およびＱ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^１’Ｒ^２’−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^１’−、−ＣＯ−または−Ｏ−を表し、Ｒ^１’およびＲ^２’は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。

Ｊ^１およびＪ^２は、それぞれ独立に、炭素原子、または窒素原子を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。

Ｗ^１およびＷ^２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基またはハロゲン原子を表し、ｍは０〜６の整数を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、または芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、または芳香環集合に由来する基をいう。

Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ^０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ^１およびＺ^２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。また、Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は重合性基を含んでいてもよい。

Ｑ^１およびＱ^２は、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＮＲ^１’−、−Ｏ−が好ましく、Ｒ^１’は水素原子が好ましい。中でも−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−が特に好ましい。

式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２３）の中でも、式（Ａｒ−６）および式（Ａｒ−７）が分子の安定性の観点から好ましい。

式（Ａｒ−１６）〜（Ａｒ−２３）において、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。

本発明の重合性液晶組成物は、本発明の効果に影響を及ぼさない限りにおいて、重合性液晶化合物（Ａ）以外の重合性液晶化合物を含んでいてもよい。そのような重合性液晶化合物としては、例えば、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２０１０−２７０１０８号公報、特開２０１１−６３６０号公報および特開２０１１−２０７７６５号公報に記載されるような重合性液晶化合物、正波長分散性を示す重合性液晶化合物などが挙げられる。

重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶組成物の固形分１００質量部に対して、例えば７０〜９９．５質量部であり、好ましくは８０〜９９質量部であり、より好ましくは８５〜９８質量部であり、さらに好ましくは９０〜９５質量部である。重合性液晶化合物の含有量が上記範囲内であれば、得られる液晶硬化膜の配向性の観点から有利である。なお、本明細書において、重合性液晶組成物の固形分とは、重合性液晶組成物から有機溶媒等の揮発性成分を除いた全ての成分を意味する。

本発明の重合性液晶組成物は一次酸化防止剤を含む。一次酸化防止剤を含むことにより、重合性液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物のゲル化が抑制され、重合性液晶組成物の保管安定性を高めることができる。一次酸化防止剤としては、発生したラジカルを捕捉する作用を有するフェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤等が挙げられる。一次酸化防止剤として、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジシクロヘキシル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−オクチル−４−ｎ−プロピルフェノール、２，６−ジシクロヘキシル−４−ｎ−オクチルフェノール、２−イソプロピル−４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−２−エチル−６−ｔｅｒｔ−オクチルフェノール、２−イソブチル−４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ヘキシルフェノール、２−シクロヘキシル−４−ｎ−ブチル−６−イソプロピルフェノール、ｄｌ−α−トコフェロール、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（１−メチルシクロヘキシル）−ｐ−クレゾール］、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−ブチリデンビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、トリエチレングリコールビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル、トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、トリス［（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル］イソシアヌレート、トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−２，６−ジメチル−３−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）テレフタレート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−｛β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、２，２−ビス［４−（２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ））エトキシフェニル］プロパン、β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリルエステル等が挙げられる。

フェノール系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているフェノール系酸化防止剤としては、例えば、スミライザー（登録商標）ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、スミライザーＧＭ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート）、スミライザーＧＳ（Ｆ）（２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート）、スミライザーＧＡ−８０（３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカン）、スミライザーＭＤＰ−Ｓ（２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール））、スミライザーＢＢＭ−Ｓ（４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール））、スミライザーＷＸ−Ｒ（４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール））、スミライザーＬ（Ｓ）（以上、全て住友化学（株）製）、イルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）（登録商標）１０１０（テトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン）、イルガノックス１０３５（２，２−チオ［ジエチルビス−３（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］）、イルガノックス１０７６（β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリルエステル）、イルガノックス１０９８（Ｎ，Ｎ’−（１，６−ヘキサンジイル）ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］）、イルガノックス１１３５（３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジイソプロピルフェニル）プロピオン酸オクチル）、イルガノックス１３３０（１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン）、イルガノックス１７２６（２，４−ビス（ドデシルチオメチル）−６−メチルフェノール）、イルガノックス１４２５ＷＬ、イルガノックス１５２０Ｌ（２，４−ビス（オクチルチオメチル）−６−メチルフェノール）、イルガノックス２４５（３，６−ジオキサオクタン−１，８−ジオールビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパノアート］）、イルガノックス２５９（１，６−ヘキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート］）、イルガノックス３１１４（トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート）、イルガノックス５６５（６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−２，４−ビス（オクチルチオ）−１，３，５−トリアジン）、イルガノックス２９５、イルガノックス３１２５（トリス［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル］イソシアヌレート）（以上、全てＢＡＳＦジャパン（株）製）、シアノックス１７９０（トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチルベンジル）イソシアヌレート）（Ｃｙａｎｏｘ １７９０、サイテック製）、ビタミンＥ（ｄｌ−α−トコフェロール）（エーザイ製）等が挙げられる。フェノール系酸化防止剤は、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

アミン系酸化防止剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ'−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ'−ジメチル−Ｎ，Ｎ'−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、アルキル化ジフェニルアミン等が挙げられる。

アミン系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているアミン系酸化防止剤としては、例えば、スミライザーＢＰＡ（Ｎ，Ｎ'−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン）、スミライザーＢＰＡ−Ｍ１、スミライザー４ＭＬ（ｐ−フェニレンジアミン誘導体）、スミライザー９Ａ（アルカリ化ジフィニルアミン）等が挙げられる。アミン系酸化防止剤は、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

重合性液晶組成物のゲル化を効率的に抑制し、高い保管安定性を得る観点から、本発明の重合性液晶組成物は、一次酸化防止剤としてフェノール化合物を含むことが好ましい。

一次酸化防止剤の分子量は、好ましくは４００ｇ／ｍｏｌ以下であり、より好ましくは３５０ｇ／ｍｏｌ以下、さらに好ましくは３００ｇ／ｍｏｌ以下、特に好ましくは２５０ｇ／ｍｏｌ以下である。一次酸化防止剤の分子量が上記上限以下であると、重合性液晶組成物においてラジカル捕捉機能を十分に発揮し、重合性液晶組成物を長期保管した際の重合性液晶化合物のゲル化を抑制することができるとともに、重合性液晶組成物から液晶硬化膜を作製する際には、例えば乾燥工程等で該一次酸化防止剤は気化しやすく、重合性液晶化合物の重合に対する影響を抑えて高い重合率を実現することができる。一次酸化防止剤の分子量の下限値は特に限定されるものではなく、例えば９０ｇ／ｍｏｌ以上であってよい。

本発明の重合性液晶組成物における一次酸化防止剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１〜５質量部であり、より好ましくは０．５質量部以上、また、より好ましくは３質量部以下である。一次酸化防止剤の含有量が上記下限値以上であると重合性液晶組成物においてラジカル捕捉剤としての機能を十分に果たすことができ、上記上限値以下であると重合性液晶化合物の重合に対する影響を抑えて高い重合率を実現することができる。

本発明の重合性液晶組成物は二次酸化防止剤を含む。二次酸化防止剤を含むことにより、重合性液晶組成物から液晶硬化膜を形成するために紫外線等を照射する際の重合性液晶化合物への損傷を抑えることができ、光学特性に優れる液晶硬化膜を得ることができる。また、重合性液晶化合物を硬化させる際、重合性液晶化合物の損傷を抑えながら、より高強度の紫外線照射が可能となるため、重合性液晶化合物を十分に硬化させることができる。ゆえに、上記重合性液晶組成物から、高温環境下などの過酷な環境下においても光学性能に変化の生じ難い高い耐久性を有する液晶硬化膜を作製することができると考えられる。
二次酸化防止剤としては、ラジカルから生じる過酸化物を分解する作用を有するリン系酸化防止剤およびイオウ系酸化防止剤等が挙げられる。二次酸化防止剤として、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

リン系酸化防止剤としては、例えば、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリデシルホスファイト、（オクチル）ジフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス（ブトキシエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタンジホスファイト、テトラ（Ｃ１２〜Ｃ１５混合アルキル）−４，４’−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）ジホスファイト、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ホスファイト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、水素化−４，４’−イソプロピリデンジフェノールポリホスファイト、ビス（オクチルフェニル）ビス［４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）］−１，６−ヘキサンジオールジホスファイト、フェニル（４，４’−イソプロピリデンジフェノール）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス［４，４’−イソプロピリデンビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）］ホスファイト、ジ（イソデシル）フェニルホスファイト、４，４’−イソプロピリデンビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）ビス（ノニルフェニル）ホスファイト、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルフォスファイト、２−［｛２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］−ジオキサホスフェピン−６−イル｝オキシ］−Ｎ，Ｎ−ビス〔２−［｛２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］−ジオキサホスフェピン−６−イル｝オキシ］エチル〕エタンアミン、６−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］−ジオキサホスフェピン等が挙げられる。

リン系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているリン系酸化防止剤としては、例えば、スミライザーＧＰ（６−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン）（住友化学（株）製）、イルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）（登録商標）１６８（トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト）、イルガフォス１２（２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン６−イル］オキシ］−Ｎ，Ｎ−ビス［２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２，］ジオキサホスフェピン−６−イル］オキシ］−エチル］エタナミン）、イルガフォス３８（以上、全てＢＡＳＦジャパン（株）製）、アデカスタブＴＴＰ（トリフェニルホスファイト）、アデカスタブ３２９Ｋ、アデカスタブＰＥＰ３６（サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト）、アデカスタブＰＥＰ−８（ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト）（以上、全てＡＤＥＫＡ製）、Ｓａｎｄｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱ（クラリアント製）、ウェストン６１８、ウェストン６１９Ｇ、ウルトラノックス６２６（以上、全てＧＥ製）等が挙げられる。リン系酸化防止剤は、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート等のジアルキルチオジプロピオネート；ブチルチオプロピオン酸の多価アルコールエステル、オクチルチオプロピオン酸の多価アルコールエステル、ラウリルチオプロピオン酸の多価アルコールエステル、ステアリルチオプロピオン酸の多価アルコールエステル（前記の多価アルコールとしては、例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート等が挙げられる）や、ペンタエリスリルテトラキス−３−ラウリルチオプロピオネート等のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコールエステルが挙げられる。

イオウ系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているイオウ系酸化防止剤としては、例えば、スミライザーＴＰＬ−Ｒ（ジラウリル−３，３’−チオジプロピオナート）、スミライザーＴＰＭ（ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオナート）、スミライザーＴＰＳ（ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート）、スミライザーＴＰ−Ｄ（ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオナート）、スミライザーＭＢ（２−メルカプトベンズイミダゾール）（以上、全て住友化学（株）製）、ＤＴＤＰＡ（ジチオプロピオン酸）（ＳＣ有機化学社製）等が挙げられる。イオウ系酸化防止剤は、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

光照射時の液晶劣化を効率的に抑制する観点から、本発明の重合性液晶組成物は、二次酸化防止剤として亜リン酸エステル化合物を含むことが好ましい。

二次酸化防止剤の分子量は、好ましくは２００ｇ／ｍｏｌ以上であり、より好ましくは２５０ｇ／ｍｏｌ以上、さらに好ましくは２８０ｇ／ｍｏｌ以上である。二次酸化防止剤の分子量が上記下限以上であると、重合性液晶組成物から液晶硬化膜を形成する過程で二次酸化防止剤が消失し難く、紫外線等を照射する際の重合性液晶化合物への損傷を抑えることができ、光学特性に優れる液晶硬化膜を得ることができる。また、より高強度の紫外線照射が可能となり、これにより重合性液晶化合物を十分に硬化させることができる。このため、高温環境下などの過酷な環境下においても光学性能に変化の生じ難い高い耐久性を有する液晶硬化膜を作製することができると考えられる。一方、二次酸化防止剤の分子量が大き過ぎると、二次酸化防止剤による重合性液晶化合物の配向欠陥が生じやすくなるため、二次酸化防止剤の分子量は、好ましくは１５００ｇ／ｍｏｌ以下、より好ましくは１０００ｇ／ｍｏｌ以下である。

本発明の重合性液晶組成物における二次酸化防止剤の分子量は、それぞれ好ましくは上記上限下限の範囲内で、一次酸化防止剤の分子量より大きいことが好ましい。二次酸化防止剤の分子量が一次酸化防止剤の分子量より大きいと、高い保管安定性を実現し得る一方で、重合率の低下を抑制しながら、高い耐久性を有する液晶硬化膜を得ることができる。

本発明の重合性液晶組成物における二次酸化防止剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１５質量部であり、より好ましくは０．５質量部以上、さらに好ましくは１質量部以上、特に好ましくは２質量部以上、また、より好ましくは１４質量部以下、さらに好ましくは１２質量部以下である。二次酸化防止剤の含有量が上記下限値以上であるとラジカルから生じる過酸化物の分解剤としての機能を十分に果たすことができ、上記上限値以下であると重合性液晶化合物の配向に影響を与えにくく、配向欠陥の少ない液晶硬化膜を得ることができる。

本発明の重合性液晶組成物における二次酸化防止剤の含有量は、一次酸化防止剤の含有量より多いことが好ましい。二次酸化防止剤の含有量が一次酸化防止剤の含有量より多いと、重合性液晶組成物中の一次酸化防止剤の他成分との分子間相互作用に影響を及ぼし、乾燥工程で一次酸化防止剤が気化しやすくなることがある。例えば、二次酸化防止剤と一次酸化防止剤の含有量（質量比 二次酸化防止剤：一次酸化防止剤）は、好ましくは２：１〜１５０：１、より好ましくは５：１〜１００：１である。

本発明の重合性液晶組成物は、光ラジカル重合開始剤を含む。光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、オキシム化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。光ラジカル重合開始剤として、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

光ラジカル重合開始剤として市販品を用いてもよい。そのような市販品として、具体的には、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ、登録商標）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア１２７、イルガキュア２９５９、イルガキュア７５４、イルガキュア３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、精工化学株式会社製）、カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＮ−１７１７、アデカオプトマーＮ−１９１９、アデカアークルズＮＣＩ−８３１、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）およびＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製）が挙げられる。

光ラジカル重合開始剤は、光源から発せられるエネルギーを十分に活用でき、生産性に優れるため、極大吸収波長が３００ｎｍ〜４００ｎｍであると好ましく、３００ｎｍ〜３８０ｎｍであるとより好ましく、中でも、α−アセトフェノン系重合開始剤、オキシム系光重合開始剤が好ましい。

α−アセトフェノン化合物としては、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンおよび２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−（４−メチルフェニルメチル）ブタン−１−オン等が挙げられ、より好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オンおよび２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンが挙げられる。α−アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）およびセイクオールＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。

オキシム系光重合開始剤は、光が照射されることによってフェニルラジカルやメチルラジカル等のラジカルを生成させる。このラジカルにより重合性液晶化合物の重合が好適に進行するが、中でもメチルラジカルを発生させるオキシム系光重合開始剤は重合反応の開始効率が高い点で好ましい。また、重合反応をより効率的に進行させるという観点から、波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤を使用することが好ましい。波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光ラジカル重合開始剤としては、オキシム構造を含むトリアジン化合物やカルバゾール化合物が好ましく、感度の観点からはオキシムエステル構造を含むカルバゾール化合物がより好ましい。また、光学特性が良好な液晶硬化膜を得やすくなる点で、チオエーテル構造を有するオキシムエステル化合物も好ましい。オキシム構造を含むカルバゾール化合物としては、１，２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。オキシムエステル系光重合開始剤の市販品としては、イルガキュアＯＸＥ−０１、イルガキュアＯＸＥ−０２、イルガキュアＯＸＥ−０３（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アデカオプトマーＮ−１９１９、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

光ラジカル重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常、０．１〜３０質量部であり、好ましくは１〜２０質量部であり、より好ましくは１〜１５質量部である。上記範囲内であれば、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、重合性液晶化合物の配向を乱し難い。
本発明の重合性液晶組成物において、光ラジカル重合開始剤が２種以上含まれる場合、光ラジカル重合開始剤の合計含有量は上記範囲内であることが好ましい。

本発明の重合性液晶組成物は、オキシム系光重合開始剤を少なくとも１種含むことが好ましく、チオエーテル構造を有するオキシムエステル化合物を含むことがより好ましい。本発明の重合性液晶組成物は、光ラジカル重合開始剤を２種以上含む場合、オキシム系光重合開始剤とα−アセトフェノン系重合開始剤とを含有することが好ましい。α−アセトフェノン系重合開始剤としては、アルキルフェノン系重合開始剤が好ましく、α−アミノアルキルフェノン系重合開始剤がより好ましい。

本発明の重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物、一次酸化防止剤、二次酸化防止剤および光ラジカル重合開始剤に加えて、溶媒、レベリング剤、光増感剤などの添加剤をさらに含んでいてもよい。これらの成分は、それぞれ、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

重合性液晶組成物は、通常、溶媒に溶解した状態で基材等に塗布されるため、溶媒を含むことが好ましい。溶媒としては、重合性液晶化合物を溶解し得る溶媒が好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶媒であることが好ましい。溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−ブトキシエタノールおよびプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートおよび乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサンおよびヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒；トルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフランおよびジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルムおよびクロロベンゼン等の塩素含有溶媒；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等のアミド系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または二種以上組み合わせて使用できる。これらの中でも、アルコール溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、塩素含有溶媒、アミド系溶媒および芳香族炭化水素溶媒が好ましい。

重合性液晶組成物中の溶媒の含有量は、重合性液晶組成物１００質量部に対して、好ましくは５０〜９８質量部、より好ましくは７０〜９５重量部である。従って、重合性液晶組成物１００質量部に占める固形分は、２〜５０質量部が好ましい。固形分が５０質量部以下であると、重合性液晶組成物の粘度が低くなることから、膜の厚みが略均一になり、ムラが生じ難くなる傾向がある。上記固形分は、製造しようとする液晶硬化膜の厚みを考慮して適宜定めることができる。

レベリング剤とは、重合性液晶組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる塗膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、シリコーン系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。レベリング剤として市販品を用いてもよく、具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３、同Ｆ−５５６（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３およびＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。レベリング剤は単独または２種以上を組み合わせて使用できる。

レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．０５〜３質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物を配向させることが容易であり、かつ得られる液晶硬化膜がより平滑となる傾向にあるため好ましい。

また、光増感剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。光増感剤は単独または２種以上を組み合わせて使用できる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．０５〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。

本発明の重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物、一次酸化防止剤、二次酸化防止剤および光ラジカル重合開始剤と、必要に応じて溶媒や添加剤などの重合性液晶化合物、酸化防止剤および光ラジカル重合開始剤以外の成分とを所定温度で撹拌等することにより得ることができる。

＜位相差板＞
本発明の重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物の損傷を抑えながら、高強度の紫外線等により高度に重合させることが可能であるため、優れた光学特性を有するとともに、高温環境下などの過酷な環境下においても光学性能変化を生じ難い高い耐久性を示す液晶硬化膜を作製するのに好適に使用することができ、これにより得られる液晶硬化膜は位相差板などの光学用途に好適である。したがって、本発明は、本発明の重合性液晶組成物の硬化物であり、該重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物が配向した状態で硬化した液晶硬化膜を含む位相差板を対象とする。

本発明において、位相差板を構成する液晶硬化膜中に含まれる一次酸化防止剤の含有量は、重合性液晶化合物の重合体１００質量部に対して０．００１質量部以下であることが好ましく、０．８×１０^−３質量部以下であることがより好ましく、０．５×１０^−３質量部以下であることがさらに好ましく、通常０．１×１０^−３質量部以上である。

また、位相差板を構成する液晶硬化膜中に含まれる二次酸化防止剤の含有量は、重合性液晶化合物の重合体１００質量部に対して０．０５〜１５質量部であることが好ましく、０．１〜１５質量部であることがより好ましく、１〜１０質量部であることがさらに好ましい。

本発明の一態様において、本発明の位相差板は、本発明の重合性液晶組成物の硬化物であり、下記式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される光学特性を有する液晶硬化膜を含む。該液晶硬化膜は、通常、重合性液晶化合物が該液晶硬化膜平面に対して水平方向に配向した状態で硬化してなる硬化物（以下、「水平配向液晶硬化膜」ともいう）である。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （Ｉ）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （ＩＩ）
１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１８０ｎｍ （ＩＩＩ）
〔式中、Ｒｅ（λ）は液晶硬化膜の波長λｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ＝（ｎｘ（λ）−ｎｙ（λ））×ｄである（ｄは液晶硬化膜の厚みを表し、ｎｘは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に平行な方向の波長λｎｍにおける主屈折率を表し、ｎｙは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘの方向に対して直交する方向の波長λｎｍにおける屈折率を表す）。〕

水平配向液晶硬化膜が式（Ｉ）および（ＩＩ）を満たす場合、当該水平配向液晶硬化膜は、短波長での面内位相差値が長波長での面内位相差値よりも小さくなる、いわゆる逆波長分散性を示す。逆波長分散性が向上し、位相差板の光学特性がより向上することから、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．７０以上、より好ましくは０．７８以上であり、また、好ましくは０．９２以下、より好ましくは０．９０以下、さらに好ましくは０．８７以下、特に好ましくは０．８６以下、より特に好ましくは０．８５以下である。また、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１．０以上、より好ましくは１．０１以上であり、さらに好ましくは１．０２以上である。

上記面内位相差値は、水平配向液晶硬化膜の厚みｄによって調整することができる。面内位相差値は、上記式Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ（λ）−ｎｙ（λ））×ｄによって決定されることから、所望の面内位相差値（Ｒｅ（λ）：波長λ（ｎｍ）における水平配向液晶硬化膜の面内位相差値）を得るには、３次元屈折率と膜厚ｄとを調整すればよい。

また、水平配向液晶硬化膜が式（ＩＩＩ）を満たす場合、該水平配向液晶硬化膜を含む位相差板を備える楕円偏光板を有機ＥＬ表示装置に適用した場合の正面反射色相の向上効果（着色を抑制させる効果）に優れる。面内位相差値のより好ましい範囲は、１２０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１７０ｎｍであり、さらに好ましい範囲は１３０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５０ｎｍである。

本発明の一態様において、本発明の位相差板は、本発明の重合性液晶組成物の硬化物であり、下記式（ＩＶ）、（Ｖ）および（ＶＩ）で表される光学特性を有する液晶硬化膜を含む。該液晶硬化膜は、通常、重合性液晶化合物が該液晶硬化膜平面に対して垂直方向に配向した状態で硬化してなる硬化物（以下、「垂直配向液晶硬化膜」ともいう）である。
Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．００ （ＩＶ）
１．００≦Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０） （Ｖ）
−１００ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−４０ｎｍ （ＶＩ）
〔式中、Ｒｔｈ（λ）は液晶硬化膜の波長λｎｍにおける厚み方向の位相差値を表し、Ｒｔｈ＝（（ｎｘ（λ）＋ｎｙ（λ））／２―ｎｚ）×ｄである（ｄは液晶硬化膜の厚みを表し、ｎｘは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に平行な方向の波長λｎｍにおける主屈折率を表し、ｎｙは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘの方向に対して直交する方向の波長λｎｍにおける屈折率を表し、ｎｚは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に対して垂直な方向の波長λｎｍにおける屈折率を表す）。〕

垂直配向液晶硬化膜が式（ＩＶ）および（Ｖ）を満たす場合、当該垂直配向液晶硬化膜を含む位相差板を備える楕円偏光板において、短波長側で楕円率の低下を抑制することができ、斜方反射色相を向上させることができる。垂直配向液晶硬化膜におけるＲｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）の値は、好ましくは０．７０以上、より好ましくは０．７８以上であり、また、好ましくは０．９２以下、より好ましくは０．９０以下、さらに好ましくは０．８７以下、特に好ましくは０．８６以下、より特に好ましくは０．８５以下である。また、Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは１．０以上、より好ましくは１．０１以上であり、さらに好ましくは１．０２以上である。

また、垂直配向液晶硬化膜が式（ＶＩ）を満たす場合、該垂直配向液晶硬化膜を含む位相差板を備える楕円偏光板を有機ＥＬ表示装置に適用した場合の斜方反射色相を向上させることができる。垂直配向液晶硬化膜の膜厚方向の位相差値Ｒｔｈ（５５０）は、より好ましくは−９０ｎｍ以上、さらに好ましくは−８０ｎｍ以上であり、また、より好ましくは−５０ｎｍ以下である。

本発明の位相差板は、例えば、
本発明の重合性液晶組成物の塗膜を形成し、該塗膜を乾燥して一次酸化防止剤を除去し、かつ、該重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物を配向させる工程、および、
配向状態を保持したまま光照射により重合性液晶化合物を重合させ、液晶硬化膜を形成する工程
を含む方法により製造することができる。

重合性液晶組成物の塗膜は、基材上または後述する配向膜上などに重合性液晶組成物を塗布することにより形成することができる。
基材としては、例えば、ガラス基材やフィルム基材等が挙げられるが、加工性の観点から樹脂フィルム基材が好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、およびノルボルネン系ポリマーのようなポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、およびセルロースアセテートプロピオネートのようなセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシドのようなプラスチックが挙げられる。このような樹脂を、溶媒キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して基材とすることができる。基材表面には、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂等から形成される保護層を有していてもよく、シリコーン処理のような離型処理、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理が施されていてもよい。

基材として市販の製品を用いてもよい。市販のセルロースエステル基材としては、例えば、フジタックフィルムのような富士写真フィルム株式会社製のセルロースエステル基材；「ＫＣ８ＵＸ２Ｍ」、「ＫＣ８ＵＹ」、および「ＫＣ４ＵＹ」のようなコニカミノルタオプト株式会社製のセルロースエステル基材などが挙げられる。市販の環状オレフィン系樹脂としては、たとえば、「Ｔｏｐａｓ（登録商標）」のようなＴｉｃｏｎａ社（独）製の環状オレフィン系樹脂；「アートン（登録商標）」のようなＪＳＲ株式会社製の環状オレフィン系樹脂；「ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）（登録商標）」、および「ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）（登録商標）」のような日本ゼオン株式会社製の環状オレフィン系樹脂；「アペル」（登録商標）のような三井化学株式会社製の環状オレフィン系樹脂が挙げられる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、「エスシーナ（登録商標）」および「ＳＣＡ４０（登録商標）」のような積水化学工業株式会社製の環状オレフィン系樹脂基材；「ゼオノアフィルム（登録商標）」のようなオプテス株式会社製の環状オレフィン系樹脂基材；「アートンフィルム（登録商標）」のようなＪＳＲ株式会社製の環状オレフィン系樹脂基材が挙げられる。

積層体の薄型化、基材の剥離容易性、基材のハンドリング性等の観点から、基材の厚みは、通常、５〜３００μｍであり、好ましくは１０〜１５０μｍである。

重合性液晶組成物を基材等に塗布する方法としては、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法等の公知の方法が挙げられる。

次いで、溶媒を乾燥等により除去することにより、乾燥塗膜が形成される。乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。この際、重合性液晶組成物から得られた塗膜を加熱することにより、塗膜から溶媒を乾燥除去させるとともに一次酸化防止剤を除去し、かつ、重合性液晶化合物を塗膜平面に対して所望の方向（例えば、水平または垂直方向）に配向させることができる。塗膜の加熱温度は、用いる重合性液晶化合物および塗膜を形成する基材等の材質などを考慮して、適宜決定し得るが、一次酸化防止剤を揮発させ得る温度以上であり、かつ、重合性液晶化合物を液晶相状態へ相転移させるために、通常、液晶相転移温度以上の温度であることが必要である。重合性液晶組成物に含まれる溶媒および一次酸化防止剤を除去しながら、重合性液晶化合物を所望の配向状態とするため、例えば、前記重合性液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物の液晶相転移温度（スメクチック相転移温度またはネマチック相転移温度）程度以上の温度まで加熱することができる。
なお、液晶相転移温度は、例えば、温度調節ステージを備えた偏光顕微鏡や、示差走査熱量計（ＤＳＣ）、熱重量示差熱分析装置（ＴＧ−ＤＴＡ）等を用いて測定することができる。また、重合性液晶化合物として２種以上を組み合わせて用いる場合、上記相転移温度は、重合性液晶組成物を構成する全重合性液晶化合物を重合性液晶組成物における組成と同じ比率で混合した重合性液晶化合物の混合物を用いて、１種の重合性液晶化合物を用いる場合と同様にして測定される温度を意味する。また、一般に前記重合性液晶組成物中における重合性液晶化合物の液晶相転移温度は、重合性液晶化合物単体としての液晶相転移温度よりも下がる場合もあることが知られている。

加熱時間は、加熱温度、用いる重合性液晶化合物の種類、溶媒の種類やその沸点およびその量等に応じて適宜決定し得るが、通常、１５秒〜１０分であり、好ましくは０．５〜５分である。

塗膜からの溶媒の除去は、重合性液晶化合物の液晶相転移温度以上への加熱と同時に行ってもよいし、別途で行ってもよいが、生産性向上の観点から同時に行うことが好ましい。重合性液晶化合物の液晶相転移温度以上への加熱を行う前に、重合性液晶組成物から得られた塗膜中に含まれる重合性液晶化合物が重合しない条件で塗膜中の溶媒を適度に除去させるための予備乾燥工程を設けてもよい。かかる予備乾燥工程における乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられ、該乾燥工程における乾燥温度（加熱温度）は、用いる重合性液晶化合物の種類、溶媒の種類やその沸点およびその量等に応じて適宜決定し得る。

次いで、得られた乾燥塗膜において、重合性液晶化合物の配向状態を保持したまま、光照射により重合性液晶化合物を重合させることにより、所望の配向状態で存在する重合性液晶化合物の重合体である液晶硬化膜が形成される。本発明の重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物に対する損傷を抑えながら、高強度の紫外線等の光照射により高度に重合させることが可能であるため、重合方法としては、通常、光重合法が用いられる。光重合において、乾燥塗膜に照射する光としては、当該乾燥塗膜に含まれる光ラジカル重合開始剤の種類、重合性液晶化合物の種類（特に、該重合性液晶化合物が有する重合性基の種類）およびその量に応じて適宜選択される。その具体例としては、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線およびγ線からなる群より選択される１種以上の光や活性電子線が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点や、光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって、光重合可能なように、重合性液晶組成物に含有される重合性液晶化合物や光ラジカル重合開始剤の種類を選択しておくことが好ましい。また、重合時に、適切な冷却手段により乾燥塗膜を冷却しながら光照射することで、重合温度を制御することもできる。このような冷却手段の採用により、より低温で重合性液晶化合物の重合を実施すれば、基材が比較的耐熱性が低いものを用いたとしても、適切に液晶硬化膜を形成できる。また、光照射時の熱による不具合（基材の熱による変形等）が発生しない範囲で重合温度を高くすることにより重合反応を促進することも可能である。光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた硬化膜を得ることもできる。

前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。

紫外線照射強度は、通常、１０〜３，０００ｍＷ／ｃｍ^２である。紫外線照射強度は、好ましくは光重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．１秒〜５分、より好ましくは０．１秒〜３分、さらに好ましくは０．１秒〜１分である。このような紫外線照射強度で１回または複数回照射すると、その積算光量は、１０〜３，０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ^２、より好ましくは１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ^２である。

液晶硬化膜の厚みは、適用される表示装置に応じて適宜選択でき、好ましくは０．２〜３μｍ、より好ましくは０．２〜２μｍである。

重合性液晶組成物の塗膜は配向膜上に形成されてもよい。配向膜は、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。この中でも、重合性液晶化合物を水平方向に配向させる配向規制力を有する配向膜を水平配向膜、垂直方向に配向させる配向規制力を有する配向膜を垂直配向膜と呼ぶことがある。配向規制力は、配向膜の種類、表面状態やラビング条件等によって任意に調整することが可能であり、配向膜が光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。

配向膜としては、重合性液晶組成物の塗布等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や後述する重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜および表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜、配向方向に延伸してある延伸フィルム等が挙げられ、配向角の精度および品質の観点から光配向膜が好ましい。

配向性ポリマーとしては、例えば、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。配向性ポリマーは単独または２種以上を組み合わせて使用できる。

配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶媒に溶解した組成物（以下、「配向性ポリマー組成物」ということがある）を基材に塗布し、溶媒を除去する、または、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶媒を除去し、ラビングする（ラビング法）ことで得られる。溶媒としては、重合性液晶組成物に用い得る溶媒として先に例示した溶媒と同様のものが挙げられる。

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマー材料が、溶媒に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で０．１〜２０％が好ましく、０．１〜１０％程度がさらに好ましい。

配向性ポリマー組成物として、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、重合性液晶組成物を基材へ塗布する方法として例示したものと同様のものが挙げられる。

配向性ポリマー組成物に含まれる溶媒を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。

配向膜に配向規制力を付与するために、必要に応じてラビング処理を行うことができる（ラビング法）。ラビング法により配向規制力を付与する方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向性ポリマー組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。

光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーと溶媒とを含む組成物（以下、「光配向膜形成用組成物」ともいう）を基材に塗布し、溶媒を除去後に偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる点でも有利である。

光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起または異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）および炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基等が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、および、アゾキシベンゼン構造を有する基等が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。

中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光配向膜形成用組成物を基材上に塗布することにより、基材上に光配向誘起層を形成することができる。該組成物に含まれる溶媒としては、重合性液晶組成物に用い得る溶媒として先に例示した溶媒と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマーあるいはモノマーの溶解性に応じて適宜選択することができる。

光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマーまたはモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚みによって適宜調節できるが、光配向膜形成用組成物の質量に対して、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコールやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。

光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶媒を除去する方法としては例えば、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。

偏光を照射するには、基材上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶媒を除去したものに直接、偏光ＵＶを照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レーザーなどが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプがより好ましい。これらの中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラーなどの偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。

なお、ラビングまたは偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向膜は、膜表面に凹凸パターンまたは複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。

グルブ配向膜を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像およびリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂の層を形成し、形成された樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、および、基材に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。

さらに、重合性液晶化合物を液晶硬化膜平面に対して垂直方向に配向させる配向規制力を示す材料としては、上述した配向性ポリマー等の他にパーフルオロアルキル等のフッ素系ポリマーおよびシラン化合物並びにそれらの縮合反応により得られるポリシロキサン化合物などを用いてもよい。

配向膜を形成する材料としてシラン化合物を使用する場合には、表面張力を低下させやすく、配向膜に隣接する層との密着性を高めやすい観点から、構成元素にＳｉ元素とＣ元素とを含む化合物が好ましく、シラン化合物を好適に使用することができる。シラン化合物としてはシラン含有イオン性化合物等が使用可能であり、このようなシラン化合物を使用することにより垂直配向規制力を高めることができる。シラン化合物としては、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよく、その他の材料と混合して使用してもよい。シラン化合物が非イオン性シラン化合物である場合には、垂直配向規制力を高めやすい観点から分子末端にアルキル基を有するシラン化合物が好ましく、炭素数３〜３０のアルキル基を有するシラン化合物がより好ましい。

配向膜（配向性ポリマーを含む配向膜または光配向膜）の厚みは、通常１０〜１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０〜１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは１０〜５００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０〜３００ｎｍ、特に好ましい５０〜２５０ｎｍの範囲である。

本発明は、本発明の位相差板と偏光フィルムとを含む楕円偏光板を包含する。
偏光フィルムは、偏光機能を有するフィルムであり、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムや吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムを偏光子として含むフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、例えば、二色性色素が挙げられる。

吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムを偏光子として含むフィルムは通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、およびホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造された偏光子の少なくとも一方の面に接着剤を介して透明保護フィルムで挟み込むことで作製される。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類などが挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５〜１００モル％程度であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールも使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１，０００〜１０，０００程度であり、好ましくは１，５００〜５，０００の範囲である。

このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光フィルムの原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものでなく、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系原反フィルムの膜厚は、例えば、１０〜１５０μｍ程度とすることができる。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色の前、染色と同時、または染色の後で行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前に行ってもよいし、ホウ酸処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行うことも可能である。一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶媒を用い、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は、通常３〜８倍程度である。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの二色性色素による染色は、例えば、二色性色素を含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬する方法によって行われる。

二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性の有機染料が用いられる。二色性の有機染料としては、Ｃ．Ｉ．ＤＩＲＥＣＴ ＲＥＤ ３９などのジスアゾ化合物からなる二色性直接染料および、トリスアゾ、テトラキスアゾなどの化合物からなる二色性直接染料等が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理前に、水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。

二色性色素としてヨウ素を用いる場合は通常、ヨウ素およびヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、水１００質量部あたり、通常、０．０１〜１質量部程度である。またヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部あたり、通常、０．５〜２０質量部程度である。染色に用いる水溶液の温度は、通常２０〜４０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常２０〜１，８００秒程度である。

一方、二色性色素として二色性の有機染料を用いる場合は通常、水溶性二色性染料を含む水溶液にポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液における二色性有機染料の含有量は、水１００質量部あたり、通常、１×１０^−４〜１０質量部程度であり、好ましくは１×１０^−３〜１質量部であり、さらに好ましくは１×１０^−３〜１×１０^−２質量部である。この水溶液は、硫酸ナトリウム等の無機塩を染色助剤として含んでいてもよい。染色に用いる二色性染料水溶液の温度は、通常、２０〜８０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常、１０〜１，８００秒程度である。

二色性色素による染色後のホウ酸処理は通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に浸漬する方法により行うことができる。このホウ酸水溶液におけるホウ酸の含有量は、水１００質量部あたり、通常２〜１５質量部程度であり、好ましくは５〜１２質量部である。二色性色素としてヨウ素を用いた場合には、このホウ酸水溶液はヨウ化カリウムを含有することが好ましく、その場合のヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部あたり、通常０．１〜１５質量部程度であり、好ましくは５〜１２質量部である。ホウ酸水溶液への浸漬時間は、通常６０〜１，２００秒程度であり、好ましくは１５０〜６００秒、さらに好ましくは２００〜４００秒である。ホウ酸処理の温度は、通常５０℃以上であり、好ましくは５０〜８５℃、さらに好ましくは６０〜８０℃である。

ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬する方法により行うことができる。水洗処理における水の温度は、通常５〜４０℃程度である。また浸漬時間は、通常１〜１２０秒程度である。

水洗後に乾燥処理が施されて、偏光子が得られる。乾燥処理は例えば、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。乾燥処理の温度は、通常３０〜１００℃程度であり、好ましくは５０〜８０℃である。乾燥処理の時間は、通常６０〜６００秒程度であり、好ましくは１２０〜６００秒である。乾燥処理により、偏光子の水分率は実用程度にまで低減される。その水分率は、通常５〜２０質量％程度であり、好ましくは８〜１５質量％である。水分率が上記範囲内であると適度な可塑性有し、熱安定性が良好な偏光子を得ることができる。

こうしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗および乾燥をして得られる偏光子の厚さは好ましくは５〜４０μｍである。

吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物または、二色性色素と重合性液晶とを含む組成物を塗布して得られるフィルム等が挙げられる。当該フィルムは、好ましくは、その片面または両面に保護フィルムを有する。当該保護フィルムとしては、液晶硬化膜の製造に用い得る基材として先に例示した樹脂フィルムと同一のものが挙げられる。

吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムは薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。当該フィルムの厚さは、通常２０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．５〜３μｍである。

前記吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、具体的には、特開２０１２−３３２４９号公報等に記載のフィルムが挙げられる。

このようにして得られた偏光子の少なくとも一方の面に、接着剤を介して透明保護フィルムを積層することにより偏光フィルムが得られる。透明保護フィルムとしては、液晶硬化膜の製造に用い得る基材として先に例示した樹脂フィルムと同様の透明フィルムを好ましく用いることができる。

本発明の楕円偏光板は、本発明の位相差板と偏光フィルムとを含んで構成されるものであり、例えば、本発明の位相差板と偏光フィルムとを接着剤層または粘着剤層等を介して積層させることにより本発明の楕円偏光板を得ることができる。

本発明の一態様においては、水平配向液晶硬化膜を含む本発明の位相差板と偏光フィルムとが積層される場合、位相差板を構成する水平配向液晶硬化膜の遅相軸（光軸）と偏光フィルムの吸収軸との成す角が４５±５°となるように積層することが好ましい。

本発明の楕円偏光板は、従来の一般的な楕円偏光板、または偏光フィルムおよび位相差板が備えるような構成を有していてよい。そのような構成としては、例えば、楕円偏光板を有機ＥＬ等の表示素子に貼合するための粘着剤層（シート）、偏光フィルムや位相差板の表面を傷や汚れから保護する目的で用いられるプロテクトフィルム等が挙げられる。

本発明の楕円偏光板は、さまざまな表示装置に用いることができる。
表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子または発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置）および圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置および投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に本発明の楕円偏光板は有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置および無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置に好適に用いることができ、本発明の位相差板は液晶表示装置およびタッチパネル表示装置に好適に用いることができる。これらの表示装置は、光学特性に優れる本発明の楕円偏光板を備えることにより、良好な画像表示特性を発現することができる。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。尚、例中の「％」および「部」は、特記ない限り、それぞれ質量％および質量部を意味する。

１．実施例１
（１）水平配向膜形成用組成物の調製
下記構造の光配向性材料５部（重量平均分子量：３００００）とシクロペンタノン（溶媒）９５部とを成分として混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、水平配向膜形成用組成物（１）を得た。
光配向性材料：

（２）重合性液晶組成物の調製
特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法に準じて製造した重合性液晶化合物（Ａ−１）１００質量部に対して、ポリアクリレート化合物（レベリング剤）（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）０．１質量部と、光重合開始剤として、イルガキュアＯＸＥ−０３（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）７．５質量部、２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）；ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３．０質量部と、一次酸化防止剤として、Ｓｕｍｉｒｉｚｅｒ ＧＳ（フェノール系酸化防止剤、住友化学（株）製）１．０質量部と、二次酸化防止剤として、アデカスタブ ＴＴＰ（リン系酸化防止剤、ＡＤＥＫＡ社製）５．０質量部とを混合した。更に、固形分濃度が１３％となるようにＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、重合性液晶組成物を得た。
なお、重合性液晶化合物（Ａ−１）の１ｍｇ／５０ｍＬテトラヒドロフラン溶液を調製し、光路長１ｃｍの測定用セルに測定用試料として該溶液を入れ、紫外可視分光光度計（株式会社島津製作所製「ＵＶ−２４５０」）にセットして吸収スペクトルを測定した。得られた吸収スペクトルから極大吸収度となる波長を読み取ったところ、波長３００〜４００ｎｍの範囲における極大吸収波長λ_ｍａｘは３５０ｎｍであった。

重合性液晶化合物（Ａ−１）：

（３）重合性液晶組成物の保管安定性評価
得られた重合性液晶組成物を、透明バイアル瓶内で、蛍光灯（三菱電機製 ＦＨＦ３２ＥＸ−Ｎ−Ｈ、全光束：３５２０ｌｍ（３２Ｗ））照射下で１５時間保管した後に、目視でゲル化の有無を確認した。
＜評価基準＞
〇：目視でゲル化が視認されなかった。
×：目視でゲル化が視認された。

（４）水平配向液晶硬化膜の作製
基材としての日本ゼオン社製のシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム（ＺＦ−１４）を、コロナ処理装置を用いてコロナ処理した。次いで、コロナ処理を施したＣＯＰフィルムの表面に、バーコーターを用いて上述した水平配向膜形成用組成物（１）を塗布し、８０℃で１分間乾燥した後、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−９；ウシオ電機株式会社製）を用いて、波長３１３ｎｍにおける積算光量：１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施して水平配向膜を得た。
続いて、上記配向膜上にバーコーターを用いて上述した重合性液晶組成物を塗布し、１２０℃で９０秒間熱をかけ、かつ熱風を当てて乾燥した。その後高圧水銀ランプを用いて、重合性液晶組成物の塗布面側から紫外線を照射（波長３６５ｎｍにおける積算光量：２０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、水平配向液晶硬化膜を形成し、ＣＯＰフィルム／水平配向膜／水平配向液晶硬化膜からなる光学フィルムを形成した。得られた液晶硬化膜の極大吸収波長は３５０ｎｍであった。

（５）水平配向液晶硬化膜の物性／特性評価
［水平配向液晶硬化膜の面内位相差値測定］
得られた水平配向液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍ、並びに波長６５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、王子計測機器株式会社製のＫＯＢＲＡ−ＷＲを用いて測定した。面内位相差値は、Ｒｅ（４５０）＝１１８ｎｍ、Ｒｅ（５５０）＝１４２ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４８ｎｍであり、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８４であった。
得られた面内位相差値を表１に示す。本発明においては、水平液晶硬化膜の面内位相差値を初期光学特性の一指標として、以下のように評価する。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８５未満の場合：初期光学特性は高い
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８５以上０．８７未満の場合：初期光学特性は良好
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８７以上の場合：初期光学特性は低い

［液晶硬化膜のヘイズ測定］
得られた水平配向液晶硬化膜のヘイズ値を、ヘイズメーターを用いて測定した。結果を表１に示す。

［液晶硬化膜の配向性評価］
得られた液晶硬化膜を、偏光顕微鏡（オリンパス株式会社製「ＢＸ−５１」）を用いて倍率２００倍の条件で観察し、視野４８０μｍ×３２０μｍにおける配向欠陥の有無を観察した。結果を表１に示す。
＜評価基準＞
○：配向欠陥がなかった。
△：配向欠陥が部分的にみられた。
×：配向欠陥が液晶硬化膜全体に発生または多数発生した。

［液晶硬化膜の重合率評価］
得られた液晶硬化膜に対して赤外全反射吸収スペクトルの測定（入射角４５°）を行い、得られた測定結果（エチレン性不飽和結合の面内変角振動（１４０８ｃｍ^−１）由来のピーク強度Ｉ（１）と、芳香環の不飽和結合の伸縮振動（１５０４ｃｍ^−１）由来のピーク強度Ｉ（２）の値）から、Ｐ’（液晶硬化膜の厚さ方向に対して垂直な面のうち、紫外線を照射した面におけるＰ値（ピーク強度Ｉ（１）／ピーク強度Ｉ（２）））を算出した。
また、重合性液晶化合物（Ａ−１）をクロロホルムに溶解して得た溶液を、ゲルマニウム結晶に滴下して乾燥することで、重合性液晶化合物（Ａ−１）の薄層を得た。得られた薄層に対して赤外全反射吸収スペクトルの測定を行い、得られた測定結果（エチレン性不飽和結合の面内変角振動（１４０８ｃｍ^−１）由来のピーク強度Ｉ（１）＝０．０１６３、芳香環の不飽和結合の伸縮振動（１５０４ｃｍ^−１）由来のピーク強度Ｉ（２）＝０．０５６１）から、Ｐ０（重合性液晶化合物（Ａ−１）のＰ値）を算出した。
Ｐ’とＰ０の値から、（１−Ｐ’／Ｐ０）×１００の値を算出し、液晶硬化膜の重合率とした。
後述する評価基準に従い、液晶硬化膜の重合率を評価した。結果を表１に示す。

［液晶硬化膜中の酸化防止剤含有量評価］
液晶硬化膜中の酸化防止剤含有量を以下の通りで分析した。
基材から単離した液晶硬化膜（５０ｍｇ）に抽出溶媒として、テトラヒドロフラン５ｍＬを添加し、超音波を２０分間かけることにより、液晶硬化膜から酸化防止剤を抽出した。抽出液をフィルターで濾過した後、液体クロマトグラフィー測定（島津製作所製 Ｐｒｏｍｉｎａｎｎｃｅシリーズ、移動相：アセトニトリル、検出波長：２５４ｎｍ）により酸化防止剤含有量を定量した。また、得られた定量結果、及び分析に用いた液晶硬化膜の総質量から、液晶硬化膜中の重合性液晶化合物の重合体１００質量部に対する酸化防止剤含有量を算出した。
上記の方法にて測定した液晶硬化膜中の一次酸化防止剤（Ｓｕｍｉｒｉｚｅｒ ＧＳ）含有量は８００ｐｐｍ（０．８×１０^−３質量部）、二次酸化防止剤（ＴＴＰ）含有量は、４．７質量部であった。

２．比較例１
表１に記載の通り、酸化防止剤を添加しなかったこと、紫外線照射時の積算光量を変更（波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）したこと以外は、実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物を含む比較重合性液晶組成物を調製し、比較水平配向液晶硬化膜１を得た。
実施例１と同様の方法にて、比較重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた比較水平配向液晶硬化膜１の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定および顕微鏡観察を実施した。また、実施例１と同様の方法にて、比較水平配向液晶硬化膜１の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

上記［液晶硬化膜の重合率評価］における各水平配向液晶硬化膜の比較水平配向液晶硬化膜１に対する相対重合率は、以下の通り算出した。
水平配向液晶硬化膜の相対重合率（％）
＝（水平配向液晶硬化膜の重合率／比較水平配向液晶硬化膜の重合率）×１００
＜評価基準＞
〇（非常に良い）：比較水平配向液晶硬化膜１の重合率に対する、相対重合率が１０３％以上
△（良い）：比較水平配向液晶硬化膜１の重合率に対する、相対重合率が１０１％以上１０３％未満
×（悪い）：比較水平配向液晶硬化膜１の重合率に対する、相対重合率が１００％以下

３．実施例２
表１に記載の通り、重合性液晶化合物を重合性液晶化合物（Ｂ−１）に変更した以外は、実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ｂ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。重合性液晶化合物（Ｂ−１）は、特開２０１６−８１０３５号公報を参考にして調製した。
尚、液晶化合物（Ｂ）の１ｍｇ／５０ｍＬテトラヒドロフラン溶液を調製し、光路長１ｃｍの測定用セルに測定用試料として該溶液を入れ、紫外可視分光光度計（株式会社島津製作所製「ＵＶ−２４５０」）にセットして吸収スペクトルを測定した。得られた吸収スペクトルから極大吸収度となる波長を読み取ったところ、波長３００〜４００ｎｍの範囲における極大吸収波長λ_ｍａｘは３５２ｎｍであった。

重合性液晶化合物（Ｂ−１）：

実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

４．実施例３
表１に記載の通り、重合性液晶化合物を重合性液晶化合物（Ｃ−１）に変更した以外は、実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ｃ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、液晶硬化膜を得た。重合性液晶化合物Ｃは、国際特許公開２０１５／０２５７９３号公報を参考にして調製した。
尚、液晶化合物（Ｃ−１）の１ｍｇ／５０ｍＬテトラヒドロフラン溶液を調製し、光路長１ｃｍの測定用セルに測定用試料として該溶液を入れ、紫外可視分光光度計（株式会社島津製作所製「ＵＶ−２４５０」）にセットして吸収スペクトルを測定した。得られた吸収スペクトルから極大吸収度となる波長を読み取ったところ、波長３００〜４００ｎｍの範囲における極大吸収波長λ_ｍａｘは３５２ｎｍであった。

重合性液晶化合物（Ｃ−１）：

実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

５．実施例４〜７
一次酸化防止剤を２，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）（フェノール系酸化防止剤、東京化成工業製）に変更し、表１に記載の添加量にて、一次酸化防止剤および二次酸化防止剤をそれぞれ添加したこと以外は、実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

６．実施例８
表１に記載の通り、一次酸化防止剤を２，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）（フェノール系酸化防止剤、東京化成工業製）に、二次酸化防止剤をＣｈｅｌｅｘ−Ｏ（リン系酸化防止剤、ＳＣ有機化学社製）に変更したこと以外は、実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

７．実施例９
表１に記載の通り、一次酸化防止剤を２，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）（フェノール系酸化防止剤、東京化成工業製）に、二次酸化防止剤をＤＴＤＰＡ（イオウ系酸化防止剤、ＳＣ有機化学社製）に変更したこと以外は、実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

８．比較例２および４
表１に記載の通り、一次酸化防止剤を２，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）（フェノール系酸化防止剤、東京化成工業製）に変更し、表１に記載の添加量で配合し、二次酸化防止剤を含まなかったこと以外は、実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

９．比較例３
表１に記載の通り、一次酸化防止剤を含まなかったこと以外は、実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

１０．比較例５
表１に記載の通り、重合性液晶化合物を重合性液晶化合物（Ｂ−１）とし、一次酸化防止剤および二次酸化防止剤を添加しなかったこと以外は、実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ｂ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

１１．実施例１０
表１に記載の通り、重合性液晶化合物（Ａ−１）を重合性液晶化合物（Ｃ−１）に、一次酸化防止剤をＢＨＴに変更した以外は、実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ｃ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

１２．比較例６
表１に記載の通り、重合性液晶化合物を重合性液晶化合物（Ｃ−１）として、一次および二次酸化防止剤を添加しなかったこと以外は、実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ｃ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

１３．比較例７
表１に記載の通り、重合性液晶化合物を重合性液晶化合物（Ｃ−１）として、一次酸化防止剤を２，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）（フェノール系酸化防止剤、東京化成工業製）に変更し、二次酸化防止剤を添加しなかったこと以外は、実施例１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ｃ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

１４．実施例１５
光重合開始剤として、イルガキュアＯＸＥ−０３とイルガキュア３６９に代えて、イルガキュアＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）６．０質量部を用いた以外は、実施例４と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

１５．実施例１６
光重合開始剤として、イルガキュアＯＸＥ−０３とイルガキュア３６９に代えて、イルガキュアＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）６．０質量部を用いた以外は、実施例７と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

１６．実施例１７
光重合開始剤として、イルガキュアＯＸＥ−０３とイルガキュア３６９に代えて、イルガキュアＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）６．０質量部を用いた以外は、実施例８と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

１７．実施例１８
光重合開始剤として、イルガキュアＯＸＥ−０３とイルガキュア３６９に代えて、イルガキュアＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）６．０質量部を用いた以外は、実施例９と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

１８．実施例１９
光重合開始剤として、イルガキュアＯＸＥ−０３とイルガキュア３６９に代えて、イルガキュアＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）６．０質量部を用いた以外は、実施例１０と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ｃ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

１９．比較例１１
光重合開始剤として、イルガキュアＯＸＥ−０３とイルガキュア３６９に代えて、イルガキュアＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）６．０質量部を用いた以外は、比較例１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、水平配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、得られた液晶硬化膜の波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの面内位相差値からＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、及び顕微鏡観察を実施した。また、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表１に示す。

２０．実施例１１
（１）垂直配向膜形成用組成物の調製
配向性ポリマーであるサンエバーＳＥ−６１０（日産化学工業株式会社製）０．５部に、溶媒としてＮ−メチル−２−ピロリドン７２．３部、２−ブトキシエタノール１８．１部、及びエチルシクロヘキサン９．１部、および０．０１質量％のＤＰＨＡ（新中村化学製）を混合して、垂直配向膜形成用組成物（１）を得た。

（２）重合性液晶組成物の調製
重合性液晶化合物（Ａ−１）１００質量部に対して、レベリング剤としてＦ−５５６（ＤＩＣ社製）０．１質量部と、光重合開始剤として、２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）；ＢＡＳＦジャパン株式会社製）６．０質量部と、一次酸化防止剤として、Ｓｕｍｉｒｉｚｅｒ ＧＳ（フェノール系酸化防止剤、住友化学（株）製）１．０質量部と、二次酸化防止剤として、アデカスタブ ＴＴＰ（リン系酸化防止剤、ＡＤＥＫＡ社製）５．０質量部とを混合した。次いで、固形分濃度が１３％となるようにＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、重合性液晶組成物を得た。

実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行った。

（３）垂直配向液晶硬化膜の形成
基材としてのシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルムを、コロナ処理装置を用いてコロナ処理した。次いで、コロナ処理を施したＣＯＰフィルム（基材）の表面に、バーコーターを用いて上述した垂直配向膜形成用組成物（１）を塗布し、乾燥して、配向膜を形成した。
続いて、上記配向膜上にバーコーターを用いて上述した塗工液を塗布し、１２０℃で６０秒間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、塗工液の塗布面側から紫外線を照射（波長３６５ｎｍにおける積算光量：２０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、液晶硬化膜を形成した。

（４）垂直配向液晶硬化膜の物性／特性評価
［垂直配向液晶硬化膜のＲｔｈ測定］
垂直配向液晶硬化膜のＲｔｈを測定するために、垂直配向液晶硬化膜を粘着剤（リンテック社製感圧式粘着剤 １５μｍ）を介してガラスと貼合し、ＣＯＰに位相差がないことを確認した上で、エリプソメータによりサンプルへの光の入射角を変えて位相差値を測定した。また、４５０ｎｍおよび５５０ｎｍの波長λにおける平均屈折率は屈折率計（株式会社アタゴ製、「多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ４」）を用いて測定した。得られた膜厚、平均屈折率およびエリプソメータの測定結果から算出されるＲｔｈＣはそれぞれ、ＲｔｈＣ（４５０）＝−５８ｎｍ、ＲｔｈＣ（５５０）＝−７０ｎｍであり、ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）＝０．８３であった。

［垂直配向液晶硬化膜の評価］
実施例１と同様の方法にて、垂直配向液晶硬化膜のヘイズ値の測定、および顕微鏡観察を実施した。また、垂直配向液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表２に示す。なお、本発明においては、垂直配向液晶硬化膜の位相差値を初期光学特性の一指標として、以下のように評価する。
＜評価基準＞
ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）が０．８５未満の場合：初期光学特性は高い
ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）が０．８５以上０．８７未満の場合：初期光学特性は良好
ＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）が０．８７以上の場合：初期光学特性は低い

２１．比較例８
表２に記載の通り、酸化防止剤を添加しなかったこと、紫外線照射時の積算光量を変更（波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）したこと以外は、実施例１１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む比較重合性液晶組成物を調製し、比較垂直配向液晶硬化膜１を得た。
実施例１と同様の方法にて、比較重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、実施例１１と同様の方法にて、得られた比較垂直配向液晶硬化膜１のＲｔｈＣ（４５０）、ＲｔｈＣ（５５０）、およびＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定および顕微鏡観察を実施した。

実施例１と同様の方法にて、比較垂直配向液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。さらに、各垂直配向液晶硬化膜の比較垂直配向液晶硬化膜１に対する相対重合率を、以下の基準で判断した。
垂直配向液晶硬化膜の相対重合率（％）
＝（垂直配向液晶硬化膜の重合率／比較垂直配向液晶硬化膜１の重合率）×１００
＜評価基準＞
〇（非常に良い）：比較垂直配向液晶硬化膜１の重合率に対する、相対重合率が１０３％以上
△（良い）：比較垂直配向液晶硬化膜１の重合率に対する、相対重合率が１０１％以上１０３％未満
×（悪い）：比較垂直配向液晶硬化膜１の重合率に対する、相対重合率が１００％以下

２２．実施例１２
表２に記載の通り、一次酸化防止剤を２，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）（フェノール系酸化防止剤、東京化成工業製）に変更した以外は、実施例１１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、垂直配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、実施例１１と同様の方法にて、得られた垂直配向液晶硬化膜のＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、および顕微鏡観察を実施した。また、実施例１と同様に、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表２に示す。

２３．実施例１３
表２に記載の通り、一次酸化防止剤を２，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）（フェノール系酸化防止剤、東京化成工業製）に、二次酸化防止剤をＣｈｅｌｅｘ−Ｏ（リン系酸化防止剤、ＳＣ有機化学社製）に変更した以外は、実施例１１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、垂直配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、実施例１１と同様の方法にて、得られた垂直配向液晶硬化膜のＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、および顕微鏡観察を実施した。また、実施例１と同様に、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表２に示す。

２４．比較例９
表２に記載の通り、一次酸化防止剤を２，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）（フェノール系酸化防止剤、東京化成工業製）に変更し、二次酸化防止剤を添加しなかったこと以外は、実施例１１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ａ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、垂直配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、実施例１１と同様の方法にて、得られた垂直配向液晶硬化膜のＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、および顕微鏡観察を実施した。また、実施例１と同様に、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表２に示す。

２５．実施例１４
表２に記載の通り、重合性液晶化合物を重合性液晶化合物（Ｃ−１）に、一次酸化防止剤を２，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）（フェノール系酸化防止剤、東京化成工業製）に変更した以外は、実施例１１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ｃ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、垂直配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、実施例１１と同様の方法にて、得られた垂直配向液晶硬化膜のＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、および顕微鏡観察を実施した。また、実施例１と同様に、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表２に示す。

２６．比較例１０
表２に記載の通り、重合性液晶化合物を重合性液晶化合物（Ｃ−１）に、一次酸化防止剤を２，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）（フェノール系酸化防止剤、東京化成工業製）に変更し、二次酸化防止剤を添加しなかったこと以外は、実施例１１と同じ操作を行い、重合性液晶化合物（Ｃ−１）を含む重合性液晶組成物を調製し、垂直配向液晶硬化膜を得た。
実施例１と同様の方法にて、重合性液晶組成物の保管安定性評価を行うとともに、実施例１１と同様の方法にて、得られた垂直配向液晶硬化膜のＲｔｈＣ（４５０）／ＲｔｈＣ（５５０）値の算出、ヘイズ値の測定、および顕微鏡観察を実施した。また、実施例１と同様に、液晶硬化膜の赤外全反射吸収スペクトルを測定し、重合率を算出した。結果を表２に示す。

Claims (17)

1. 重合性液晶化合物、少なくとも１種の一次酸化防止剤、少なくとも１種の二次酸化防止剤および光ラジカル重合開始剤を含む重合性液晶組成物であって、前記重合性液晶化合物がエステル構造と（メタ）アクリロイル基とを有し、かつ、波長３００〜４００ｎｍに極大吸収を示す、重合性液晶組成物。
2. 一次酸化防止剤の含有量が、重合性液晶化合物１００質量部に対して０．１〜５質量部である、請求項１に記載の重合性液晶組成物。
3. 一次酸化防止剤がフェノール化合物である、請求項１または２に記載の重合性液晶組成物。
4. 一次酸化防止剤の分子量が４００ｇ／ｍｏｌ以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
5. 二次酸化防止剤の含有量が、重合性液晶化合物１００質量部に対して０．１〜１５質量部である、請求項１〜４のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
6. 二次酸化防止剤が亜リン酸エステル化合物である、請求項１〜５のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
7. 二次酸化防止剤の分子量が２００ｇ／ｍｏｌ以上である、請求項１〜６のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
8. 光ラジカル重合開始剤がオキシム系光重合開始剤である、請求項１〜７のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
9. 単独重合体の複屈折率が逆波長分散性を示す重合性液晶化合物を含む、請求項１〜８のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
10. 請求項１〜９のいずれかに記載の重合性液晶組成物の硬化物であり、該重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物が配向した状態で硬化した液晶硬化膜を含む位相差板。
11. 液晶硬化膜中の一次酸化防止剤の含有量が、重合性液晶化合物の重合体１００質量部に対して０．００１質量部以下である、請求項１０に記載の位相差板。
12. 液晶硬化膜中の二次酸化防止剤の含有量が、重合性液晶化合物の重合体１００質量部に対して０．０５〜１５質量部である、請求項１０または１１に記載の位相差板。
13. 液晶硬化膜が下記式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）：
    Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （Ｉ）
    １．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （ＩＩ）
    １００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１８０ｎｍ （ＩＩＩ）
    〔式中、Ｒｅ（λ）は液晶硬化膜の波長λｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ＝（ｎｘ（λ）−ｎｙ（λ））×ｄである（ｄは液晶硬化膜の厚みを表し、ｎｘは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に平行な方向の波長λｎｍにおける主屈折率を表し、ｎｙは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘの方向に対して直交する方向の波長λｎｍにおける屈折率を表す）〕
    で表される光学特性を有する、請求項１０〜１２のいずれかに記載の位相差板。
14. 液晶硬化膜が下記式（ＩＶ）、（Ｖ）および（ＶＩ）：
    Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．００ （ＩＶ）
    １．００≦Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０） （Ｖ）
    −１００ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−４０ｎｍ （ＶＩ）
    〔式中、Ｒｔｈ（λ）は液晶硬化膜の波長λｎｍにおける厚み方向の位相差値を表し、Ｒｔｈ＝（（ｎｘ（λ）＋ｎｙ（λ））／２―ｎｚ）×ｄである（ｄは液晶硬化膜の厚みを表し、ｎｘは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に平行な方向の波長λｎｍにおける主屈折率を表し、ｎｙは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘの方向に対して直交する方向の波長λｎｍにおける屈折率を表し、ｎｚは、液晶硬化膜が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化膜の平面に対して垂直な方向の波長λｎｍにおける屈折率を表す）〕
    で表される光学特性を有する、請求項１０〜１２のいずれかに記載の位相差板。
15. 請求項１０〜１４のいずれかに記載の位相差板の製造方法であって、
    重合性液晶組成物の塗膜を形成し、該塗膜を乾燥して一次酸化防止剤を除去し、かつ該重合性液晶組成物中の重合性液晶化合物を配向させる工程と、
    配向状態を保持したまま光照射により重合性液晶化合物を重合させ、液晶硬化膜を形成する工程
    を含む、製造方法。
16. 請求項１０〜１４のいずれかに記載の位相差板と偏光フィルムとを含む楕円偏光板。
17. 請求項１６に記載の楕円偏光板を含む有機ＥＬ表示装置。