JP2020114680A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2020114680A5
JP2020114680A5 JP2020071716A JP2020071716A JP2020114680A5 JP 2020114680 A5 JP2020114680 A5 JP 2020114680A5 JP 2020071716 A JP2020071716 A JP 2020071716A JP 2020071716 A JP2020071716 A JP 2020071716A JP 2020114680 A5 JP2020114680 A5 JP 2020114680A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
recess
film
film body
defect rate
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020071716A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2020114680A (ja
JP7237040B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2020114680A publication Critical patent/JP2020114680A/ja
Publication of JP2020114680A5 publication Critical patent/JP2020114680A5/ja
Priority to JP2022017813A priority Critical patent/JP2022060302A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7237040B2 publication Critical patent/JP7237040B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2020071716A 2014-10-28 2020-04-13 エンボスフィルム、枚葉フィルム、転写物、およびエンボスフィルムの製造方法 Active JP7237040B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022017813A JP2022060302A (ja) 2014-10-28 2022-02-08 エンボスフィルム、枚葉フィルム、転写物、およびエンボスフィルムの製造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014219753 2014-10-28
JP2014219753 2014-10-28

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015209376A Division JP6967832B2 (ja) 2014-10-28 2015-10-23 エンボスフィルム、枚葉フィルム、転写物、およびエンボスフィルムの製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022017813A Division JP2022060302A (ja) 2014-10-28 2022-02-08 エンボスフィルム、枚葉フィルム、転写物、およびエンボスフィルムの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2020114680A JP2020114680A (ja) 2020-07-30
JP2020114680A5 true JP2020114680A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) 2020-11-05
JP7237040B2 JP7237040B2 (ja) 2023-03-10

Family

ID=55973300

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015209376A Active JP6967832B2 (ja) 2014-10-28 2015-10-23 エンボスフィルム、枚葉フィルム、転写物、およびエンボスフィルムの製造方法
JP2020071716A Active JP7237040B2 (ja) 2014-10-28 2020-04-13 エンボスフィルム、枚葉フィルム、転写物、およびエンボスフィルムの製造方法
JP2022017813A Pending JP2022060302A (ja) 2014-10-28 2022-02-08 エンボスフィルム、枚葉フィルム、転写物、およびエンボスフィルムの製造方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015209376A Active JP6967832B2 (ja) 2014-10-28 2015-10-23 エンボスフィルム、枚葉フィルム、転写物、およびエンボスフィルムの製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022017813A Pending JP2022060302A (ja) 2014-10-28 2022-02-08 エンボスフィルム、枚葉フィルム、転写物、およびエンボスフィルムの製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (3) US10245780B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP (3) JP6967832B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
KR (2) KR20170038913A (cg-RX-API-DMAC7.html)
CN (2) CN107073806B (cg-RX-API-DMAC7.html)
TW (2) TWI819231B (cg-RX-API-DMAC7.html)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI889679B (zh) * 2019-04-30 2025-07-11 日商迪睿合股份有限公司 對滑動對象物之表面提供或排除滑動處理物之方法
KR20230041658A (ko) * 2020-07-31 2023-03-24 니폰 제온 가부시키가이샤 장척 필름
CN116273802A (zh) * 2023-03-13 2023-06-23 深圳市长松科技有限公司 压花膜的制作方法、压花膜和压花设备

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5711021A (en) * 1980-06-25 1982-01-20 Diafoil Co Ltd Embossing of film or sheet
US6930818B1 (en) * 2000-03-03 2005-08-16 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display and novel process for its manufacture
US6858253B2 (en) * 2001-05-31 2005-02-22 3M Innovative Properties Company Method of making dimensionally stable composite article
US7995871B2 (en) 2002-05-07 2011-08-09 Nanoptek Corporation Stress-induced bandgap-shifted semiconductor photoelectrolytic/photocatalytic/photovoltaic surface and method for making same
TWI248859B (en) * 2004-11-24 2006-02-11 Ind Tech Res Inst Manufacture of mold core used in nanoimprint
JP4747769B2 (ja) 2005-10-04 2011-08-17 コニカミノルタオプト株式会社 凹凸パターンフイルムの製造方法
JP2007136680A (ja) * 2005-11-14 2007-06-07 Asia Genshi Kk 感熱孔版用版材
JP2010137358A (ja) * 2007-04-12 2010-06-24 Kyowa Hakko Chemical Co Ltd パターン形成方法およびパターン形成装置
TWI437256B (zh) * 2008-02-27 2014-05-11 Sony Corp Anti-reflective optical element and manufacturing method of original disk
JP2010033793A (ja) * 2008-07-28 2010-02-12 Tokai Rubber Ind Ltd 粒子転写膜の製造方法
JP2010132762A (ja) * 2008-12-04 2010-06-17 Nippon Paint Co Ltd 光硬化性樹脂組成物および凹凸フィルムの製造方法
JP2011098443A (ja) * 2009-11-04 2011-05-19 Hitachi Maxell Ltd 賦型フィルム用の金型ロールおよびそれを用いた賦型フィルムの製造方法
WO2012018048A1 (ja) * 2010-08-06 2012-02-09 綜研化学株式会社 ナノインプリント用樹脂製モールドおよびその製造方法
JP2012103315A (ja) 2010-11-08 2012-05-31 Three M Innovative Properties Co 浮いている合成画像を提供可能なマイクロレンズ積層体
JP5463279B2 (ja) * 2010-12-21 2014-04-09 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 防眩フィルム
CN102376484B (zh) * 2011-07-18 2014-02-12 健雄职业技术学院 一种膜基点电极及其制备方法
KR102018558B1 (ko) 2012-08-24 2019-09-05 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 이방성 도전 필름의 제조 방법 및 이방성 도전 필름
WO2014034741A1 (ja) * 2012-08-29 2014-03-06 デクセリアルズ株式会社 異方性導電フィルム及びその製造方法
CN104097431A (zh) * 2013-04-10 2014-10-15 日本联合化工股份有限公司 具有图形的感压转写带
CN103770492B (zh) * 2014-01-14 2015-05-20 汕头市龙湖昌丰化工有限公司 转移膜及转移镀铝纸的制作方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2020114680A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP6746806B2 (ja) 3d印刷されインプリントされた構造、印刷方法、3d物品、及び3d物品を有する照明システム
CN102712110B (zh) 制造用于形成应用于家用电器外部的微图案膜的主模的方法,以及使用主模的膜的制造设备和方法
TW200409353A (en) A method and a mold to arrange features on a substrate to replicate features having minimal dimensional variability
JP2014506202A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
WO2017181456A1 (zh) 纳米压印模板的制作方法及纳米压印模板
JP2017111248A (ja) 発色構造体およびその製造方法
TW201319636A (zh) 用於奈米壓印之模具的製造方法
JP6338938B2 (ja) テンプレートとその製造方法およびインプリント方法
CN101071183A (zh) 凹凸形状形成片及其制造方法、防反射体、相位差板、工序片原版以及光学元件的制造方法
JP6603218B2 (ja) 微細構造体の製造方法
JP2008298962A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
CN111427233A (zh) 压印模具的制作方法
CN107615111B (zh) 层叠体及其制造方法
KR101012079B1 (ko) 광발색 광결정 구조체와 그 제조방법 및 제조장치
CN114296168A (zh) 一种利用宽光栅纳米压印模板制作变周期窄光栅的方法
CN108957611B (zh) 一种光栅片的制造方法、光栅片及显示设备
KR101885174B1 (ko) 플라즈모닉 메타표면 제작방법
JP2015173060A (ja) 金属細線電極とその製造方法
KR102028599B1 (ko) 3d 프린트 출력물에 기능성 물질층을 전사하는 방법
CN214670075U (zh) 一种嵌合式压印模板
KR102164142B1 (ko) 다중 미세 패턴체 제조를 위한 포토 마스크 구조 및 그를 이용한 다중 미세 패턴체 제조 방법
KR102096608B1 (ko) 이형성을 높인 롤투롤 임프린트 유연 금형 및 이를 이용한 광도파로 제조 방법
JP6070023B2 (ja) 光学素子
CN113156761A (zh) 一种嵌合式压印模板及其制作方法