JP2020112701A - ヒータおよび画像形成装置 - Google Patents
ヒータおよび画像形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020112701A JP2020112701A JP2019003779A JP2019003779A JP2020112701A JP 2020112701 A JP2020112701 A JP 2020112701A JP 2019003779 A JP2019003779 A JP 2019003779A JP 2019003779 A JP2019003779 A JP 2019003779A JP 2020112701 A JP2020112701 A JP 2020112701A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thermistor
- heater
- substrate
- mass
- heating element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/20—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
- G03G15/2003—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
- G03G15/2014—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat
- G03G15/2053—Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating
- G03G15/2057—Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating relating to the chemical composition of the heat element and layers thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B1/00—Details of electric heating devices
- H05B1/02—Automatic switching arrangements specially adapted to apparatus ; Control of heating devices
- H05B1/0227—Applications
- H05B1/023—Industrial applications
- H05B1/0241—For photocopiers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/20—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
- G03G15/2003—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
- G03G15/2014—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat
- G03G15/2039—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat with means for controlling the fixing temperature
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/20—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
- G03G15/2003—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
- G03G15/2014—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat
- G03G15/2053—Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/20—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
- G03G15/2003—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
- G03G15/2014—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat
- G03G15/2064—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat combined with pressure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/06—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
- H01C17/065—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thick film techniques, e.g. serigraphy
- H01C17/06506—Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits
- H01C17/06513—Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits characterised by the resistive component
- H01C17/06526—Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits characterised by the resistive component composed of metals
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C7/00—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
- H01C7/008—Thermistors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/0095—Heating devices in the form of rollers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/20—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater
- H05B3/22—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible
- H05B3/24—Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible heating conductor being self-supporting
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G2215/00—Apparatus for electrophotographic processes
- G03G2215/20—Details of the fixing device or porcess
- G03G2215/2003—Structural features of the fixing device
- G03G2215/2016—Heating belt
- G03G2215/2019—Heating belt the belt not heating the toner or medium directly, e.g. heating a heating roller
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G2215/00—Apparatus for electrophotographic processes
- G03G2215/20—Details of the fixing device or porcess
- G03G2215/2003—Structural features of the fixing device
- G03G2215/2016—Heating belt
- G03G2215/2035—Heating belt the fixing nip having a stationary belt support member opposing a pressure member
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
- H05B2203/013—Heaters using resistive films or coatings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
- Fixing For Electrophotography (AREA)
Abstract
Description
実施形態に係るヒータを図面に基づいて説明する。図1は、実施形態に係るヒータを基板の第1面側から示す平面図である。図2は、実施形態に係るヒータを基板の第2面側から示す平面図である。なお、図1、図2では、説明を分かりやすくするために、基板の第1面側を正方向、第2面側を負方向とするZ軸を含む3次元の直交座標系を図示している。
つぎに、一例として実施形態のヒータ1を用いた実施形態の定着装置について図面を参照して説明する。図3は、実施形態に係るヒータが用いられた実施形態の定着装置を示す断面図である。図3に示すように、定着装置200は、支持体202の周りに円筒状に巻き回された定着フィルムベルト201の底部にヒータ1が設けられている。定着フィルムベルト201は、例えばポリイミド等の耐熱性を有する樹脂材料によって形成されている。ヒータ1および定着フィルムベルト201に対向する位置には、加圧ローラ203が配置されている。加圧ローラ203は、表面に耐熱性の弾性材料、例えばシリコーン樹脂層204を有しており、定着フィルムベルト201を圧接した状態で、回転軸205まわり(図3中のP方向)に回転することができる。
最後に、一例として実施形態のヒータ1を備えた実施形態の画像形成装置について図面を参照して説明する。図4は、実施形態に係るヒータが用いられた実施形態の画像形成装置を示す断面図である。なお、本実施形態の画像形成装置は、複写機100として構成されている。図4に示すように、複写機100には、上述した定着装置200を含む各構成要素が筐体101内に設けられている。筐体101の上部には、ガラス等の透明材料からなる原稿載置台が取り付けられており、画像情報を読み取る対象となる原稿M1を原稿載置台上で往復移動させて(図4中のQ方向)原稿M1をスキャンするように構成されている。
11 基板
12 抵抗発熱体
13 第1導体
14 給電用電極
15、18 被覆層
16 サーミスタ
17 第2導体
Claims (7)
- 第1面および前記第1面とは反対側に位置する第2面を有する基板と;
前記第1面に配置された抵抗発熱体と;
前記第2面に配置され、鉛を含有しないサーミスタと;
を具備する、ヒータ。 - 第1面および前記第1面とは反対側に位置する第2面とを有する基板と;
前記第1面に配置された抵抗発熱体と;
前記第2面に配置され、マンガンと、コバルトと、銅およびニッケルの一方または両方と、を含有し、鉛を含有しないサーミスタと;
を具備する、ヒータ。 - 第1面および前記第1面とは反対側に位置する第2面とを有する基板と;
前記第1面に配置された抵抗発熱体と;
前記第2面に配置され、マンガン、コバルト、銅およびニッケルの一方または両方、の順で質量含有率が大きく、鉛を含有しない、サーミスタと;
を具備する、ヒータ。 - 前記サーミスタは、マンガンおよびコバルトの質量含有率が、他の成分の質量含有率よりも大きい、請求項1〜3のいずれか1つに記載のヒータ。
- 前記サーミスタは、マンガン、コバルト、銅、およびニッケルの質量含有率の合計が50[質量%]以上70[質量%]以下である、請求項1〜4のいずれか1つに記載のヒータ。
- 前記サーミスタは、2[質量%]以上15[質量%]以下のルテニウムを含有する、請求項1〜5のいずれか1つに記載のヒータ。
- 通過する媒体を加熱する請求項1〜6のいずれか1つに記載のヒータと;
前記媒体を加熱時に加圧する加圧ローラと;
を具備し、
前記媒体を前記加圧ローラにより前記加熱および前記加圧することで、前記媒体に付着したトナー像を定着させる、画像形成装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019003779A JP7176414B2 (ja) | 2019-01-11 | 2019-01-11 | ヒータおよび画像形成装置 |
US16/543,785 US10782638B2 (en) | 2019-01-11 | 2019-08-19 | Heater and image forming apparatus |
CN201910794206.9A CN111436166A (zh) | 2019-01-11 | 2019-08-27 | 加热器以及图像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019003779A JP7176414B2 (ja) | 2019-01-11 | 2019-01-11 | ヒータおよび画像形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020112701A true JP2020112701A (ja) | 2020-07-27 |
JP7176414B2 JP7176414B2 (ja) | 2022-11-22 |
Family
ID=71516636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019003779A Active JP7176414B2 (ja) | 2019-01-11 | 2019-01-11 | ヒータおよび画像形成装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10782638B2 (ja) |
JP (1) | JP7176414B2 (ja) |
CN (1) | CN111436166A (ja) |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6450501A (en) * | 1987-08-21 | 1989-02-27 | Ishizuka Denshi Kk | Manufacture of thin film thermistor |
JPH05198407A (ja) * | 1991-12-11 | 1993-08-06 | Toyama Pref Gov | 厚膜サーミスタ組成物 |
JPH08124658A (ja) * | 1994-10-26 | 1996-05-17 | Rohm Co Ltd | ライン型加熱体及びその製造方法 |
JPH10294204A (ja) * | 1997-04-22 | 1998-11-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 厚膜サーミスタ、およびその製造方法 |
JPH10301413A (ja) * | 1997-04-28 | 1998-11-13 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 発熱体、定着装置および画像形成装置 |
JPH11233237A (ja) * | 1998-02-19 | 1999-08-27 | Canon Inc | 加熱体、加熱装置、像加熱装置、及び画像形成装置 |
JPH11273836A (ja) * | 1998-01-26 | 1999-10-08 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 定着ヒ―タおよび画像形成装置 |
JP2001217102A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-08-10 | Murata Mfg Co Ltd | 負特性サーミスタペースト、負特性サーミスタ膜および負特性サーミスタ部品 |
JP2003017225A (ja) * | 2001-04-27 | 2003-01-17 | Harison Toshiba Lighting Corp | 板状ヒータおよび定着装置ならびに画像形成装置 |
JP2013254873A (ja) * | 2012-06-07 | 2013-12-19 | Hitachi Ltd | パワーモジュールおよびその製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6198372A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-16 | Canon Inc | 加熱定着装置 |
US6066271A (en) * | 1997-09-05 | 2000-05-23 | Ben Gurion University Of The Negev | Cobalt ruthenate thermistors |
JP2000019871A (ja) * | 1998-04-30 | 2000-01-21 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 定着ヒータおよび画像形成装置 |
JP2003240647A (ja) | 2002-11-25 | 2003-08-27 | Rohm Co Ltd | 発熱抵抗体を備えた絶縁基板における温度検出素子 |
JP4794140B2 (ja) * | 2004-05-26 | 2011-10-19 | 京セラ株式会社 | ヒータとウェハ加熱装置及びその製造方法 |
JP6167880B2 (ja) * | 2013-12-05 | 2017-07-26 | 東芝ライテック株式会社 | ヒータおよび画像形成装置 |
US9798279B2 (en) * | 2015-07-01 | 2017-10-24 | Xerox Corporation | Printed thermocouples in solid heater devices |
US9891565B1 (en) * | 2016-07-28 | 2018-02-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Fixing member, fixing apparatus and electrophotographic image forming apparatus |
-
2019
- 2019-01-11 JP JP2019003779A patent/JP7176414B2/ja active Active
- 2019-08-19 US US16/543,785 patent/US10782638B2/en active Active
- 2019-08-27 CN CN201910794206.9A patent/CN111436166A/zh active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6450501A (en) * | 1987-08-21 | 1989-02-27 | Ishizuka Denshi Kk | Manufacture of thin film thermistor |
JPH05198407A (ja) * | 1991-12-11 | 1993-08-06 | Toyama Pref Gov | 厚膜サーミスタ組成物 |
JPH08124658A (ja) * | 1994-10-26 | 1996-05-17 | Rohm Co Ltd | ライン型加熱体及びその製造方法 |
JPH10294204A (ja) * | 1997-04-22 | 1998-11-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 厚膜サーミスタ、およびその製造方法 |
JPH10301413A (ja) * | 1997-04-28 | 1998-11-13 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 発熱体、定着装置および画像形成装置 |
JPH11273836A (ja) * | 1998-01-26 | 1999-10-08 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 定着ヒ―タおよび画像形成装置 |
JPH11233237A (ja) * | 1998-02-19 | 1999-08-27 | Canon Inc | 加熱体、加熱装置、像加熱装置、及び画像形成装置 |
JP2001217102A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-08-10 | Murata Mfg Co Ltd | 負特性サーミスタペースト、負特性サーミスタ膜および負特性サーミスタ部品 |
JP2003017225A (ja) * | 2001-04-27 | 2003-01-17 | Harison Toshiba Lighting Corp | 板状ヒータおよび定着装置ならびに画像形成装置 |
JP2013254873A (ja) * | 2012-06-07 | 2013-12-19 | Hitachi Ltd | パワーモジュールおよびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200225608A1 (en) | 2020-07-16 |
CN111436166A (zh) | 2020-07-21 |
US10782638B2 (en) | 2020-09-22 |
JP7176414B2 (ja) | 2022-11-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6149638B2 (ja) | ヒータおよび画像形成装置 | |
JP2008166096A (ja) | 平板ヒータ、定着装置、画像処理装置 | |
JP5042525B2 (ja) | ヒータ、加熱装置、画像形成装置 | |
JP6398487B2 (ja) | ヒータおよび画像形成装置 | |
JP6167880B2 (ja) | ヒータおよび画像形成装置 | |
JP2015210989A (ja) | ヒータおよび画像形成装置 | |
JP7176414B2 (ja) | ヒータおよび画像形成装置 | |
JP5010365B2 (ja) | 板状ヒータ、加熱装置、画像形成装置 | |
JP6969256B2 (ja) | ヒータ及び画像形成装置 | |
JP5447932B2 (ja) | セラミックヒータ、加熱装置、画像形成装置 | |
JP6828523B2 (ja) | ヒータ及び画像形成装置 | |
JP5573348B2 (ja) | 加熱装置および画像形成装置 | |
JP2010129444A (ja) | 板状ヒータ、加熱装置、画像形成装置 | |
JP3923644B2 (ja) | 発熱体、定着装置および画像形成装置 | |
JP2015060711A (ja) | ヒータおよび画像形成装置 | |
JP7124594B2 (ja) | ヒータ | |
JP2019057472A (ja) | ヒータ及び画像形成装置 | |
JP2019114359A (ja) | ヒータ及び画像形成装置 | |
JP2015103475A (ja) | ヒータおよび画像形成装置 | |
JP2009009017A (ja) | 板状ヒータ、加熱装置、画像形成装置 | |
JP2008076934A (ja) | ヒータ、加熱装置、画像形成装置 | |
JP2008078064A (ja) | ヒータ、加熱装置、画像形成装置 | |
JP2010019965A (ja) | 板状ヒータ、加熱装置、画像形成装置 | |
JP2009158246A (ja) | セラミックヒータ、加熱装置、画像形成装置 | |
JP2001209264A (ja) | 定着ヒータ、定着装置および画像形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210805 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220511 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220517 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220713 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220802 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220929 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221011 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221024 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7176414 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |