JP2020083755A - 酸化ジルコニウム製のセラミック成形体の3dインクジェット印刷による製造のためのプロセスおよびスリップ - Google Patents
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Abstract
Description
(項目1)
インクジェット印刷プロセスにおいて使用するためのスリップであって、液体媒体中に懸濁した酸化ジルコニウムを含有するものであり、該スリップは、68〜88重量%、好ましくは70〜86重量%、そして特に好ましくは75〜85重量%の酸化ジルコニウム含量を有し、該スリップは、該スリップの総質量に対して、5重量%以下、好ましくは3重量%以下、より好ましくは2重量%以下、そして特に好ましくは1重量%以下の有機成分を含有することを特徴とする、スリップ。
(項目2)
上記スリップ中の上記酸化ジルコニウムが、粒子の体積に対するd50値として測定される場合に、50〜250nm、特に60〜250nm、そして好ましくは80〜250nmの粒子サイズを有する、上記項目に記載のスリップ。
(項目3)
上記スリップ中の上記酸化ジルコニウムが、30〜100nmの一次粒子サイズを有する、上記項目のいずれかに記載のスリップ。
(項目4)
上記酸化ジルコニウムが、Y2O3、La2O3、CeO2、MgOおよび/またはCaOで安定化されており、そして上記酸化ジルコニウム含量に対して好ましくは2〜14mol%、より好ましくは2〜10mol%、そして特に好ましくは2〜8mol%の、これらの酸化物で安定化されている、上記項目のいずれかに記載のスリップ。
(項目5)
上記液体媒体が水を含有する、上記項目のいずれかに記載のスリップ。
(項目6)
上記スリップの総質量に対して、0.05〜5重量%、特に0.1〜3重量%、好ましくは0.1〜2重量%、そして特に好ましくは0.1〜1重量%の量の有機成分を含有する、上記項目のいずれかに記載のスリップ。
(項目7)
上記液体媒体が、アミノアルコール、グリコール、カルボン酸およびカルボン酸塩から選択される少なくとも1つの化合物、好ましくは、エタノールアミン、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、クエン酸およびクエン酸塩から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、上記項目のいずれかに記載のスリップ。
(項目8)
0.1〜1000s−1の剪断速度および25℃の温度で測定して、5〜1000mPas、特に5〜500mPas、そして好ましくは5〜250mPasの粘度を有する、上記項目のいずれかに記載のスリップ。
(項目9)
異なる組成を有する酸化ジルコニウム粉末の混合物、特に、異なる色合いおよび/または半透明性を有する酸化ジルコニウム粉末の混合物を含有する、上記項目のいずれかに記載のスリップ。
(項目10)
セラミック成形部品の製造のための、前述の上記項目のいずれかに記載のスリップの使用。
(項目11)
上記セラミック成形部品が、歯科用修復物、例えば、インレー、アンレー、前装、クラウン、ブリッジ、フレーム枠、インプラント、シェルまたは支台などである、上記項目のいずれかに記載の使用。
(項目12)
セラミック成分の製造のためのプロセスであって、該プロセスにおいて、
(i) 上記項目のいずれかに記載のスリップが、所望の成分の幾何学的形状に層状に成形され、個々の層がそれぞれ、好ましくは、印刷後に乾燥させられ、
(ii) 次いで、このように得られた未焼成コンパクトが、必要に応じて乾燥させられ、そして
(iii) 次いで、該未焼成コンパクトが焼成され、
ここで工程(i)の該未焼成コンパクトの層状構築が、好ましくは、層状インクジェット印刷プロセスによって行われる、
プロセス。
(項目13)
工程(i)において形成された上記未焼成体が、工程(ii)において、10〜100℃、好ましくは20〜80℃、そして特に好ましくは20〜60℃の温度で乾燥させられる、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目14)
上記未焼成体が、3.3〜4.0g/cm3、特に3.35〜3.9g/cm3、そして好ましくは3.4〜3.9g/cm3の密度、
および/または
0.08〜0.14cm3/g、特に0.08〜0.12cm3/g、そして好ましくは0.08〜0.10cm3/gの細孔容積、
および/または
粒子の体積に対するd50値として測定して、0.02〜0.12μm、特に0.03〜0.10μm、そして好ましくは0.04〜0.08μmの細孔直径
を有する、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目15)
上記未焼成体が、1200〜1600℃、特に1300〜1550℃、そして好ましくは1350〜1500℃の焼成温度で緻密焼成される、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目16)
上記未焼成体を室温から上記焼成温度まで加熱し、該焼成温度で保持し、そして最終温度まで冷却する期間が、6時間以下、好ましくは4時間以下、そして特に好ましくは2時間以下である、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目17)
(a) 上記未焼成体が、温度T1まで加熱され、
(b) 必要に応じて、温度T2までさらに加熱され、そして該温度T2で保持および焼成され、そして
(c) 温度T3まで冷却され、
ここで該温度T1は、該温度T2よりも、0〜500K、特に10〜250K、好ましくは25〜200K、そして特に好ましくは50〜100K低く、そして工程(a)は、工程(b)より低い圧力で行われる、
上記項目のいずれかに記載のプロセス。
(項目18)
上記セラミック成分が、歯科用修復物、好ましくは、インレー、アンレー、前装、クラウン、ブリッジ、フレーム枠、インプラント、シェルまたは支台である、上記項目のいずれかに記載のプロセス。
酸化ジルコニウムセラミック製のセラミック成形部品の、3Dインクジェット印刷プロセスによる製造のためのプロセスおよびスリップ。このスリップは、液体媒体中に懸濁した酸化ジルコニウムを含有し、このスリップは、68〜88重量%の酸化ジルコニウム含量を有し、そして5重量%以下の有機成分を含有する。セラミック成分の製造のためのプロセスは、このスリップからの所望の成分の層状成形およびその後の焼成を包含する。
(i) スリップが、所望の成分の幾何学的形状に層状に成形され、個々の層がそれぞれ、好ましくは、印刷後に乾燥され、
(ii) 次いで、このように得られた未焼成コンパクトが必要に応じて乾燥され、そして
(iii) 次いで、この未焼成コンパクトが必要に応じて焼成される。
− 60〜90重量%の酸化ジルコニウム粒子、
− 10〜40重量%の液体媒体、好ましくは水、
− 0.002〜2.0重量%の分散剤、
− 0.001〜2.0重量%の結合剤、および
− 0.001〜1.0重量%の、pHを設定するための薬剤
を含有する。
(a) 未焼成体が、温度T1まで加熱され、
(b) 必要に応じて、温度T2までさらに加熱され、そして温度T2で保持および焼成され、そして
(c) 温度T3まで冷却され、
ここで温度T1は、温度T2よりも、0〜500K、好ましくは10〜250K、より好ましくは25〜200K、そして最も好ましくは50〜100K低く、そして工程(a)は、工程(b)より低い圧力で行われる。ここで、工程(a)における圧力は、200mbar未満、好ましくは100mbar未満、そしてより好ましくは50mbar未満であることがさらに好ましく、そして好ましくは0.1〜200mbar、より好ましくは1〜150mbar、そして最も好ましくは50〜100mbarの範囲である。工程(b)は、500mbarより高い圧力で、そして好ましくは周囲圧力で、そして好ましくは酸素を含む大気(例えば、空気、酸素富化空気または酸素)中で行われることが、同様に好ましい。好ましい実施形態において、酸素を含む大気、好ましくは空気、酸素富化空気、または酸素が、工程(b)中に加熱のために使用される加熱チャンバを通って連続的に流れる。
76重量%の酸化ジルコニウムを含む懸濁物
3.15gのクエン酸またはクエン酸塩含有分散剤(Dolapix CE64, Zschimmer & Schwarz製)および1.5gの水酸化テトラメチルアンモニウムを、194.4gの蒸留水に、この順番に溶解させた。この溶液は、10〜10.5のpHを有した。
3Dインクジェット印刷による試験片の製造
ノズルで流体が直接循環するインクジェットプリントヘッド(Ricoh MH5421F)を、印刷プロセスのために使用した。このプリントヘッドを、供給端では一定の正圧(30〜120mbar)で、および戻り端では一定の負圧(−40〜−150mbar)で作動させた。以下の寸法を有する試験片を、実施例1からのスリップを用いて印刷した:長さ=25mm±1mm、幅=5mm±0.5mmおよび高さ=4mm±0.5mm。その線形収縮は15.43%であった。密度を測定するために、以下の寸法を有する試験片を調製した:長さ=5mm±1mm、幅=5mm±1mmおよび高さ=10mm±1mm。これらの試験片を500℃で脱結合させたところ、3.678g/cm3の密度を有した。次いで、これらの試験片を、焼成炉(Programat CS4、Ivoclar Vivadent AG製)内で、以下の温度スケジュールに従って緻密焼成した:
およそ25℃から900℃まで (6.7分)
900℃から1460℃まで (11.2分)
1460℃から1460℃まで (5.0分)
1460℃から1200℃まで (3.7分)
1200℃からおよそ1000〜950℃まで (45〜50秒)(炉を開く)
950℃〜1000℃からおよそ50℃まで (7分)
83重量%の酸化ジルコニウムを含む懸濁物
83重量%の酸化ジルコニウムを含む懸濁物の調製、ならびに試験片(A)および「臨床」用途のためのブロック(B)を形成するためのその加工のために、実施例1を、以下の変更を行って繰り返した:溶液が、164.5gの蒸留水、4.05gのクエン酸またはクエン酸塩含有分散剤(Dolapix CE64,Zschimmer & Schwarz製)および1.5gの水酸化テトラメチルアンモニウムを含有したこと、ならびに5mol%のY2O3で部分的に安定化された810gの酸化ジルコニウム粉末(TZ−PX−430、TOSOH Corporation製,一次粒子サイズ:90nm)を添加し、そして予備焼成を900℃で2時間実施し、その加熱速度は同様に0.250K/分であったこと。
3Dインクジェット印刷による試験片の製造
試験片を、実施例3からのスリップを用いて、実施例2に記載される方法で製造した。その線形収縮は14.43%であった。これらの試験片(長さ=5mm±1mm、幅=5mm±1mmおよび高さ=10mm±1mm)を500℃で脱結合させたところ、3.791g/cm3の密度を有した。次いで、これらの試験片を、焼成炉(Programat CS4、Ivoclar Vivadent AG製)内で、実施例2に記載される温度スケジュールに従って緻密焼成した。
80重量%の酸化ジルコニウムを含む懸濁物
80重量%の酸化ジルコニウムを含む懸濁物の調製、および試験片(A)を形成するためのその加工のために、実施例1を、以下の変更を行って繰り返した:溶液が、179.5gの蒸留水、3.6gのクエン酸またはクエン酸塩含有分散剤(Dolapix CE64,Zschimmer & Schwarz製)および1.5gの水酸化テトラメチルアンモニウムを含有したこと、ならびに4.25mol%のY2O3で部分的に安定化された720gの酸化ジルコニウム粉末(TZ−PX−551、TOSOH Corporation製,一次粒子サイズ:90nm)を添加したこと。
3Dインクジェット印刷による試験片の製造
試験片を、実施例5からのスリップを用いて、実施例2に記載される方法で製造した。その線形収縮は14.59%であった。これらの試験片を500℃で脱結合させたところ、密度:3.780g/cm3を有した。
83重量%の酸化ジルコニウムを含む懸濁物
83重量%の酸化ジルコニウムを含む懸濁物の調製、および試験片(A)を形成するためのその加工のために、実施例1を、以下の変更を行って繰り返した:溶液が、164.5gの蒸留水、3.15gのクエン酸またはクエン酸塩含有分散剤(Dolapix CE64,Zschimmer & Schwarz製)および1.5gの水酸化テトラメチルアンモニウムを含有したこと、ならびに3mol%のY2O3で部分的に安定化された810gの酸化ジルコニウム粉末(TZ−PX−245 TOSOH Corporation製,一次粒子サイズ:40nm)を添加したこと。
3Dインクジェット印刷による試験片の製造
試験片を、実施例7からのスリップを用いて、実施例2に記載される方法で製造した。これらの試験片を500℃で脱結合させたところ、以下の特性を有した:
− 細孔容積: 0.1139cm3/g
− 細孔半径: 0.0190μm
− 密度: 3.562g/cm3。
83重量%の酸化ジルコニウムを含む懸濁物
83重量%の酸化ジルコニウムを含む懸濁物の調製、および試験片(A)を形成するためのその加工のために、実施例1を、以下の変更を行って繰り返した:溶液が、164.5gの蒸留水、3.15gのクエン酸またはクエン酸塩含有分散剤(Dolapix CE64,Zschimmer & Schwarz製)および2.0gの水酸化テトラメチルアンモニウムを含有したこと、ならびに4.25mol%のY2O3で部分的に安定化された810gの酸化ジルコニウム粉末(TZ−PX−551、TOSOH Corporation製,一次粒子サイズ:90nm)を添加したこと。
3Dインクジェット印刷による試験片の製造
試験片を、実施例9からのスリップを用いて、実施例2に記載される方法で製造した。これらの試験片を500℃で脱結合させたところ、以下の特性を有した:
− 細孔容積: 0.1109cm3/g
− 細孔半径: 0.0248μm
− 密度: 3.547g/cm3。
83重量%の酸化ジルコニウムを含む懸濁物
83重量%の酸化ジルコニウムを含む懸濁物の調製、および試験片(A)を形成するためのその加工のために、実施例1を、以下の変更を行って繰り返した:溶液が、164.5gの蒸留水、3.15gのクエン酸またはクエン酸塩含有分散剤(Dolapix CE64,Zschimmer & Schwarz製)および2.0gの水酸化テトラメチルアンモニウムを含有したこと、ならびに5.0mol%のY2O3で部分的に安定化された810gの酸化ジルコニウム粉末(TZ−PX−430、TOSOH Corporation製,一次粒子サイズ:90nm)を添加したこと。
3Dインクジェット印刷による試験片の製造
試験片を、実施例11からのスリップを用いて、実施例2に記載される方法で製造した。これらの試験片を500℃で脱結合させたところ、以下の特性を有した:
− 細孔容積: 0.1056cm3/g
− 細孔半径: 0.0253μm
− 密度: 3.783g/cm3。
Claims (18)
- インクジェット印刷プロセスにおいて使用するためのスリップであって、液体媒体中に懸濁した酸化ジルコニウムを含有するものであり、該スリップは、68〜88重量%、好ましくは70〜86重量%、そして特に好ましくは75〜85重量%の酸化ジルコニウム含量を有し、該スリップは、該スリップの総質量に対して、5重量%以下、好ましくは3重量%以下、より好ましくは2重量%以下、そして特に好ましくは1重量%以下の有機成分を含有することを特徴とする、スリップ。
- 前記スリップ中の前記酸化ジルコニウムが、粒子の体積に対するd50値として測定される場合に、50〜250nm、特に60〜250nm、そして好ましくは80〜250nmの粒子サイズを有する、請求項1に記載のスリップ。
- 前記スリップ中の前記酸化ジルコニウムが、30〜100nmの一次粒子サイズを有する、請求項1または2に記載のスリップ。
- 前記酸化ジルコニウムが、Y2O3、La2O3、CeO2、MgOおよび/またはCaOで安定化されており、そして前記酸化ジルコニウム含量に対して好ましくは2〜14mol%、より好ましくは2〜10mol%、そして特に好ましくは2〜8mol%の、これらの酸化物で安定化されている、請求項1〜3のいずれか1項に記載のスリップ。
- 前記液体媒体が水を含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載のスリップ。
- 前記スリップの総質量に対して、0.05〜5重量%、特に0.1〜3重量%、好ましくは0.1〜2重量%、そして特に好ましくは0.1〜1重量%の量の有機成分を含有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載のスリップ。
- 前記液体媒体が、アミノアルコール、グリコール、カルボン酸およびカルボン酸塩から選択される少なくとも1つの化合物、好ましくは、エタノールアミン、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、クエン酸およびクエン酸塩から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載のスリップ。
- 0.1〜1000s−1の剪断速度および25℃の温度で測定して、5〜1000mPas、特に5〜500mPas、そして好ましくは5〜250mPasの粘度を有する、請求項1〜7のいずれか1項に記載のスリップ。
- 異なる組成を有する酸化ジルコニウム粉末の混合物、特に、異なる色合いおよび/または半透明性を有する酸化ジルコニウム粉末の混合物を含有する、請求項1〜8のいずれか1項に記載のスリップ。
- セラミック成形部品の製造のための、前述の請求項のいずれか1項に記載のスリップの使用。
- 前記セラミック成形部品が、歯科用修復物、例えば、インレー、アンレー、前装、クラウン、ブリッジ、フレーム枠、インプラント、シェルまたは支台などである、請求項10に記載の使用。
- セラミック成分の製造のためのプロセスであって、該プロセスにおいて、
(i) 請求項1〜9のいずれか1項に記載のスリップが、所望の成分の幾何学的形状に層状に成形され、個々の層がそれぞれ、好ましくは、印刷後に乾燥させられ、
(ii) 次いで、このように得られた未焼成コンパクトが、必要に応じて乾燥させられ、そして
(iii) 次いで、該未焼成コンパクトが焼成され、
ここで工程(i)の該未焼成コンパクトの層状構築が、好ましくは、層状インクジェット印刷プロセスによって行われる、
プロセス。 - 工程(i)において形成された前記未焼成体が、工程(ii)において、10〜100℃、好ましくは20〜80℃、そして特に好ましくは20〜60℃の温度で乾燥させられる、請求項12に記載のプロセス。
- 前記未焼成体が、3.3〜4.0g/cm3、特に3.35〜3.9g/cm3、そして好ましくは3.4〜3.9g/cm3の密度、
および/または
0.08〜0.14cm3/g、特に0.08〜0.12cm3/g、そして好ましくは0.08〜0.10cm3/gの細孔容積、
および/または
粒子の体積に対するd50値として測定して、0.02〜0.12μm、特に0.03〜0.10μm、そして好ましくは0.04〜0.08μmの細孔直径
を有する、請求項12または13に記載のプロセス。 - 前記未焼成体が、1200〜1600℃、特に1300〜1550℃、そして好ましくは1350〜1500℃の焼成温度で緻密焼成される、請求項12〜14のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記未焼成体を室温から前記焼成温度まで加熱し、該焼成温度で保持し、そして最終温度まで冷却する期間が、6時間以下、好ましくは4時間以下、そして特に好ましくは2時間以下である、請求項15に記載のプロセス。
- (a) 前記未焼成体が、温度T1まで加熱され、
(b) 必要に応じて、温度T2までさらに加熱され、そして該温度T2で保持および焼成され、そして
(c) 温度T3まで冷却され、
ここで該温度T1は、該温度T2よりも、0〜500K、特に10〜250K、好ましくは25〜200K、そして特に好ましくは50〜100K低く、そして工程(a)は、工程(b)より低い圧力で行われる、
請求項15または16に記載のプロセス。 - 前記セラミック成分が、歯科用修復物、好ましくは、インレー、アンレー、前装、クラウン、ブリッジ、フレーム枠、インプラント、シェルまたは支台である、請求項12〜16のいずれか1項に記載のプロセス。
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