JP2020079893A5 - - Google Patents

Description

本開示の一形態によれば、配線基板と、前記配線基板上に接着層を介して搭載された光導波路と、を有し、前記光導波路は、第１のクラッド層と、前記第１のクラッド層の前記配線基板側の面に形成されたコア層と、前記コア層の周囲を覆うように前記第１のクラッド層の前記配線基板側の面に形成された第２のクラッド層と、前記第２のクラッド層側が開口され、前記第２のクラッド層及び前記コア層を貫通し、前記第１のクラッド層側が閉鎖された開口部と、前記開口部内で前記コア層の端面に設けられた金属膜と、を有し、前記第２のクラッド層が前記接着層を介して前記配線基板と対向し、前記コア層の前記端面は、前記金属膜の前記コア層と接する面が、前記配線基板とは反対側を向く方向に傾斜しており、前記開口部内に前記接着層の一部が充填されており、前記開口部は、前記コア層の前記端面を含み、開口側から閉鎖側に至る傾斜面を備え、前記第２のクラッド層の前記配線基板側の面と前記傾斜面とのなす角θ _１ と、前記コア層の厚さＴ _２ と、前記第２のクラッド層の前記コア層より前記配線基板側の部分の厚さＴ _３ との間に、Ｔ _２ ＋Ｔ _３ ＜Ｗ×ｔａｎθ _１ の関係が成り立ち、前記第１のクラッド層の厚さをＴ _３ としたとき、Ｗ×ｔａｎθ _１ ＜Ｔ _１ ＋Ｔ _２ ＋Ｔ _３ の関係が成り立つことを特徴とする光導波路搭載基板が提供される。

Claims (7)

1. 配線基板と、
   前記配線基板上に接着層を介して搭載された光導波路と、
   を有し、
   前記光導波路は、
   第１のクラッド層と、
   前記第１のクラッド層の前記配線基板側の面に形成されたコア層と、
   前記コア層の周囲を覆うように前記第１のクラッド層の前記配線基板側の面に形成された第２のクラッド層と、
   前記第２のクラッド層側が開口され、前記第２のクラッド層及び前記コア層を貫通し、前記第１のクラッド層側が閉鎖された開口部と、
   前記開口部内で前記コア層の端面に設けられた金属膜と、
   を有し、
   前記第２のクラッド層が前記接着層を介して前記配線基板と対向し、
   前記コア層の前記端面は、前記金属膜の前記コア層と接する面が、前記配線基板とは反対側を向く方向に傾斜しており、
   前記開口部内に前記接着層の一部が充填されており、
   前記開口部は、前記コア層の前記端面を含み、開口側から閉鎖側に至る傾斜面を備え、
   前記第２のクラッド層の前記配線基板側の面と前記傾斜面とのなす角θ _１ と、前記コア層の厚さＴ _２ と、前記第２のクラッド層の前記コア層より前記配線基板側の部分の厚さＴ _３ との間に、Ｔ _２ ＋Ｔ _３ ＜Ｗ×ｔａｎθ _１ の関係が成り立ち、
   前記第１のクラッド層の厚さをＴ _３ としたとき、Ｗ×ｔａｎθ _１ ＜Ｔ _１ ＋Ｔ _２ ＋Ｔ _３ の関係が成り立つことを特徴とする光導波路搭載基板。
2. 前記角θ_１が４５ｄｅｇ±５ｄｅｇであることを特徴とする請求項１に記載の光導波路搭載基板。
3. 前記開口部内で前記金属膜が形成されている部分は、前記傾斜面の平面視で前記開口部の開口端と重なり合う範囲内にあることを特徴とする請求項１又は２に記載の光導波路搭載基板。
4. 前記第１のクラッド層、前記コア層及び前記第２のクラッド層は、ポリマーから構成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光導波路搭載基板。
5. 請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光導波路搭載基板と、
   前記光導波路に光を出射する発光素子若しくは前記光導波路から出た光を入射する受光素子又はこれらの両方と、
   を有することを特徴とする光通信装置。
6. 支持体上に第１のクラッド層を形成する工程と、
   前記第１のクラッド層の前記支持体とは反対側の面にコア層を形成する工程と、
   前記コア層の周囲を覆うように前記第１のクラッド層の前記支持体とは反対側の面に第２のクラッド層を形成する工程と、
   前記第２のクラッド層側からレーザ光を照射することにより、前記第２のクラッド層側が開口され、前記第２のクラッド層及び前記コア層を貫通し、前記第１のクラッド層側が閉鎖された開口部を形成する工程と、
   前記開口部内で前記コア層の端面に金属膜を設ける工程と、
   接着層を介して前記第２のクラッド層を配線基板に貼り付けながら、前記開口部に前記接着層の一部を充填する工程と、
   を有し、
   前記コア層の前記端面は、前記金属膜の前記コア層と接する面が、前記配線基板とは反対側を向く方向に傾斜し、
   前記開口部は、前記コア層の前記端面を含み、開口側から閉鎖側に至る傾斜面を備え、
   前記第２のクラッド層の前記配線基板側の面と前記傾斜面とのなす角θ _１ と、前記コア層の厚さＴ _２ と、前記第２のクラッド層の前記コア層より前記配線基板側の部分の厚さＴ _３ との間に、Ｔ _２ ＋Ｔ _３ ＜Ｗ×ｔａｎθ _１ の関係が成り立ち、
   前記第１のクラッド層の厚さをＴ _３ としたとき、Ｗ×ｔａｎθ _１ ＜Ｔ _１ ＋Ｔ _２ ＋Ｔ _３ の関係が成り立つことを特徴とする光導波路搭載基板の製造方法。
7. 前記開口部を形成する工程の前に、前記第２のクラッド層の前記支持体とは反対側の面に保護フィルムを形成する工程を有し、
   前記開口部を形成する工程は、前記開口部に繋がり、平面視で前記コア層の前記端面を露出する第２の開口部を前記保護フィルムに形成する工程を有し、
   前記金属膜を設ける工程は、
   蒸着法により前記金属膜を形成する工程と、
   前記保護フィルムを、前記金属膜のうち前記保護フィルムの表面上の部分と共に除去する工程と、
   を有することを特徴とする請求項６に記載の光導波路搭載基板の製造方法。