JP2020079893A - 光導波路搭載基板、光通信装置及び光導波路搭載基板の製造方法 - Google Patents
光導波路搭載基板、光通信装置及び光導波路搭載基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020079893A JP2020079893A JP2018213628A JP2018213628A JP2020079893A JP 2020079893 A JP2020079893 A JP 2020079893A JP 2018213628 A JP2018213628 A JP 2018213628A JP 2018213628 A JP2018213628 A JP 2018213628A JP 2020079893 A JP2020079893 A JP 2020079893A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- optical waveguide
- opening
- core layer
- wiring board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 103
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000004891 communication Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 208
- 239000012792 core layer Substances 0.000 claims abstract description 91
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 70
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 70
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 65
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 21
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 20
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 23
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 23
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 19
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229920006231 aramid fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/43—Arrangements comprising a plurality of opto-electronic elements and associated optical interconnections
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/132—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by deposition of thin films
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4204—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
- G02B6/4214—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms the intermediate optical element having redirecting reflective means, e.g. mirrors, prisms for deflecting the radiation from horizontal to down- or upward direction toward a device
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12035—Materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/138—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by using polymerisation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4219—Mechanical fixtures for holding or positioning the elements relative to each other in the couplings; Alignment methods for the elements, e.g. measuring or observing methods especially used therefor
- G02B6/4236—Fixing or mounting methods of the aligned elements
- G02B6/4239—Adhesive bonding; Encapsulation with polymer material
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
まず、第1の実施形態について説明する。第1の実施形態は、光導波路搭載基板に関する。
まず、光導波路搭載基板の構造について説明する。図1は、第1の実施形態に係る光導波路搭載基板の構造を示す平面図である。図2は、第1の実施形態に係る光導波路搭載基板の構造を示す断面図である。図2は、図1中のI−I線に沿った断面図に相当する。図3は、図2中の開口部25近傍の部分拡大断面図である。
次に、第1の実施形態に係る光導波路搭載基板100の製造方法について説明する。この製造方法では、光導波路102を含む支持体付光導波路105と、配線基板103とを個別に準備し、接着層104を介して支持体付光導波路105を配線基板103上に搭載し、支持体付光導波路105の支持体を除去する。
次に、第2の実施形態について説明する。第2の実施形態は、光導波路搭載基板を備えた光通信装置に関する。図15は、第2の実施形態に係る光通信装置を示す断面図である。
21 第1のクラッド層
22 コア層
23 第2のクラッド層
25、26、28、255、256、265、266 開口部
27、251m、261m 金属膜
39 外部接続端子
100 光導波路搭載基板
102 光導波路
103 配線基板
104 接着層
105 支持体付光導波路
110 発光素子
160 光学系
170 光ファイバ
251、261 第1の傾斜面
252、262 第2の傾斜面
253、263 第3の傾斜面
254、264 第4の傾斜面
Claims (9)
- 配線基板と、
前記配線基板上に接着層を介して搭載された光導波路と、
を有し、
前記光導波路は、
第1のクラッド層と、
前記第1のクラッド層の前記配線基板側の面に形成されたコア層と、
前記コア層の周囲を覆うように前記第1のクラッド層の前記配線基板側の面に形成された第2のクラッド層と、
前記第2のクラッド層側が開口され、前記第2のクラッド層及び前記コア層を貫通し、前記第1のクラッド層側が閉鎖された開口部と、
前記開口部内で前記コア層の端面に設けられた金属膜と、
を有し、
前記第2のクラッド層が前記接着層を介して前記配線基板と対向し、
前記コア層の前記端面は、前記金属膜の前記コア層と接する面が、前記配線基板とは反対側を向く方向に傾斜しており、
前記開口部内に前記接着層の一部が充填されていることを特徴とする光導波路搭載基板。 - 前記開口部は、前記コア層の前記端面を含み、開口側から閉鎖側に至る傾斜面を備え、
前記第2のクラッド層の前記配線基板側の面と前記傾斜面とのなす角θ1と、前記コア層の厚さT2と、前記第2のクラッド層の前記コア層より前記配線基板側の部分の厚さT3との間に、T2+T3<W×tanθ1の関係が成り立つことを特徴とする請求項1に記載の光導波路搭載基板。 - 前記角θ1が45deg±5degであることを特徴とする請求項2に記載の光導波路搭載基板。
- 前記第1のクラッド層の厚さをT3としたとき、W×tanθ1<T1+T2+T3の関係が成り立つことを特徴とする請求項2又は3に記載の光導波路搭載基板。
- 前記開口部内で前記金属膜が形成されている部分は、前記傾斜面の平面視で前記開口部の開口端と重なり合う範囲内にあることを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の光導波路搭載基板。
- 前記第1のクラッド層、前記コア層及び前記第2のクラッド層は、ポリマーから構成されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光導波路搭載基板。
- 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光導波路搭載基板と、
前記光導波路に光を出射する発光素子若しくは前記光導波路から出た光を入射する受光素子又はこれらの両方と、
を有することを特徴とする光通信装置。 - 支持体上に第1のクラッド層を形成する工程と、
前記第1のクラッド層の前記支持体とは反対側の面にコア層を形成する工程と、
前記コア層の周囲を覆うように前記第1のクラッド層の前記支持体とは反対側の面に第2のクラッド層を形成する工程と、
前記第2のクラッド層側からレーザ光を照射することにより、前記第2のクラッド層側が開口され、前記第2のクラッド層及び前記コア層を貫通し、前記第1のクラッド層側が閉鎖された開口部を形成する工程と、
前記開口部内で前記コア層の端面に金属膜を設ける工程と、
接着層を介して前記第2のクラッド層を配線基板に貼り付けながら、前記開口部に前記接着層の一部を充填する工程と、
を有し、
前記コア層の前記端面は、前記金属膜の前記コア層と接する面が、前記配線基板とは反対側を向く方向に傾斜することを特徴とする光導波路搭載基板の製造方法。 - 前記開口部を形成する工程の前に、前記第2のクラッド層の前記支持体とは反対側の面に保護フィルムを形成する工程を有し、
前記開口部を形成する工程は、前記開口部に繋がり、平面視で前記コア層の前記端面を露出する第2の開口部を前記保護フィルムに形成する工程を有し、
前記金属膜を設ける工程は、
蒸着法により前記金属膜を形成する工程と、
前記保護フィルムを、前記金属膜のうち前記保護フィルムの表面上の部分と共に除去する工程と、
を有することを特徴とする請求項8に記載の光導波路搭載基板の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018213628A JP7280031B2 (ja) | 2018-11-14 | 2018-11-14 | 光導波路搭載基板、光通信装置及び光導波路搭載基板の製造方法 |
US16/679,721 US10928598B2 (en) | 2018-11-14 | 2019-11-11 | Optical waveguide mounting substrate and optical communication device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018213628A JP7280031B2 (ja) | 2018-11-14 | 2018-11-14 | 光導波路搭載基板、光通信装置及び光導波路搭載基板の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020079893A true JP2020079893A (ja) | 2020-05-28 |
JP2020079893A5 JP2020079893A5 (ja) | 2021-12-02 |
JP7280031B2 JP7280031B2 (ja) | 2023-05-23 |
Family
ID=70551214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018213628A Active JP7280031B2 (ja) | 2018-11-14 | 2018-11-14 | 光導波路搭載基板、光通信装置及び光導波路搭載基板の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10928598B2 (ja) |
JP (1) | JP7280031B2 (ja) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10300961A (ja) * | 1996-07-31 | 1998-11-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光路変換素子と、その作製方法、および光路変換素子作製用のブレード |
JP2000326514A (ja) * | 1999-05-20 | 2000-11-28 | Konica Corp | インクジェットヘッド |
JP2001166167A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-22 | Toppan Printing Co Ltd | 光配線層及びその製造方法並びに光・電気配線基板及びその製造法並びに実装基板 |
US6438281B1 (en) * | 1999-03-30 | 2002-08-20 | Toppan Printing Co., Ltd. | Optical wiring layer, optoelectric wiring substrate, mounted substrate, and methods for manufacturing the same |
WO2004057397A1 (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-08 | Ngk Insulators, Ltd. | 光デバイス |
JP2008250007A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fuji Xerox Co Ltd | 光電子回路基板 |
JP2014074869A (ja) * | 2012-10-05 | 2014-04-24 | Fujitsu Ltd | 光モジュール |
JP2014106355A (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-09 | Nitto Denko Corp | 光電気混載基板およびその製法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4447428B2 (ja) * | 2004-10-19 | 2010-04-07 | 新光電気工業株式会社 | 光導波路の製造方法 |
JP5064109B2 (ja) * | 2007-05-11 | 2012-10-31 | 新光電気工業株式会社 | 光導波路及びその製造方法、並びに光電気混載基板及びその製造方法 |
JP5155596B2 (ja) * | 2007-05-14 | 2013-03-06 | 新光電気工業株式会社 | 光電気混載基板の製造方法 |
JP5670169B2 (ja) | 2010-12-15 | 2015-02-18 | 新光電気工業株式会社 | 光導波路の製造方法 |
JP2013003224A (ja) * | 2011-06-14 | 2013-01-07 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 光導波路及びその製造方法と光導波路装置 |
JP6395134B2 (ja) * | 2014-12-26 | 2018-09-26 | 新光電気工業株式会社 | 光導波路装置の製造方法及びレーザ加工装置 |
US9989713B1 (en) * | 2017-03-07 | 2018-06-05 | International Business Machines Corporation | Fluid control structure |
US10168495B1 (en) * | 2017-06-28 | 2019-01-01 | Kyocera Corporation | Optical waveguide and optical circuit board |
-
2018
- 2018-11-14 JP JP2018213628A patent/JP7280031B2/ja active Active
-
2019
- 2019-11-11 US US16/679,721 patent/US10928598B2/en active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10300961A (ja) * | 1996-07-31 | 1998-11-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光路変換素子と、その作製方法、および光路変換素子作製用のブレード |
US6438281B1 (en) * | 1999-03-30 | 2002-08-20 | Toppan Printing Co., Ltd. | Optical wiring layer, optoelectric wiring substrate, mounted substrate, and methods for manufacturing the same |
JP2000326514A (ja) * | 1999-05-20 | 2000-11-28 | Konica Corp | インクジェットヘッド |
JP2001166167A (ja) * | 1999-12-10 | 2001-06-22 | Toppan Printing Co Ltd | 光配線層及びその製造方法並びに光・電気配線基板及びその製造法並びに実装基板 |
WO2004057397A1 (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-08 | Ngk Insulators, Ltd. | 光デバイス |
JP2008250007A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fuji Xerox Co Ltd | 光電子回路基板 |
JP2014074869A (ja) * | 2012-10-05 | 2014-04-24 | Fujitsu Ltd | 光モジュール |
JP2014106355A (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-09 | Nitto Denko Corp | 光電気混載基板およびその製法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200150360A1 (en) | 2020-05-14 |
US10928598B2 (en) | 2021-02-23 |
JP7280031B2 (ja) | 2023-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7596289B2 (en) | Optical/electrical hybrid substrate | |
US9671575B2 (en) | Optical waveguide device and method of manufacturing the same | |
US11378763B2 (en) | Optical waveguide having support member, optical waveguide mounting substrate and optical transceiver | |
JP4704322B2 (ja) | 光電気混載基板の製造方法 | |
JP5964143B2 (ja) | 光電気混載フレキシブルプリント配線板の製造方法 | |
KR20090123790A (ko) | 광전기 혼재 모듈과 그 제조 방법 | |
JP4969379B2 (ja) | 光導波路搭載基板及びその製造方法 | |
JP2009175418A (ja) | 光電気混載基板及びその製造方法 | |
JP2010139562A (ja) | 光導波路、光導波路搭載基板及び光送受信装置 | |
US8693815B2 (en) | Optoelectronic composite substrate and method of manufacturing the same | |
US8737794B2 (en) | Two-layer optical waveguide and method of manufacturing the same | |
JP5078442B2 (ja) | 光伝送基板およびその製造方法、並びに光電子混載基板および光モジュール | |
US8611715B2 (en) | Optical waveguide and method of manufacturing the same, and optical waveguide device | |
JP7280031B2 (ja) | 光導波路搭載基板、光通信装置及び光導波路搭載基板の製造方法 | |
JP7321907B2 (ja) | 光導波路、光導波路装置及び光導波路の製造方法 | |
US20240027713A1 (en) | Substrate with optical waveguide and optical communication device | |
US11372175B2 (en) | Optical module | |
US20230221506A1 (en) | Substrate with optical waveguide, and optical communication device | |
JP2022084183A (ja) | 光導波路装置、光通信装置及び光導波路装置の製造方法 | |
JP2023008205A (ja) | 配線基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211020 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211020 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220714 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220726 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220920 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221221 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230418 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230511 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7280031 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |