JP2009103860A - 光導波路および光導波路製造方法 - Google Patents

光導波路および光導波路製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2009103860A
JP2009103860A JP2007274721A JP2007274721A JP2009103860A JP 2009103860 A JP2009103860 A JP 2009103860A JP 2007274721 A JP2007274721 A JP 2007274721A JP 2007274721 A JP2007274721 A JP 2007274721A JP 2009103860 A JP2009103860 A JP 2009103860A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
optical waveguide
cladding layer
resin
core
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007274721A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4962265B2 (ja
Inventor
Takashi Shimizu
敬司 清水
Masahiro Igusa
正寛 井草
Toru Fujii
徹 藤居
Toshihiko Suzuki
俊彦 鈴木
Kazutoshi Tanida
和敏 谷田
Shigemi Otsu
茂実 大津
Hidekazu Akutsu
英一 圷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP2007274721A priority Critical patent/JP4962265B2/ja
Priority to US12/188,452 priority patent/US7702206B2/en
Publication of JP2009103860A publication Critical patent/JP2009103860A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4962265B2 publication Critical patent/JP4962265B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1221Basic optical elements, e.g. light-guiding paths made from organic materials

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

【課題】繰り返し屈曲させても光学特性の劣化の小さい光導波路を提供すること。
【解決手段】同一面上に位置するように配置された2本以上のコア層110および互いに隣り合う2本のコア層間に設けられた第1クラッド層120を含む中心層と前記中心層の少なくとも表裏両面に設けられた第2クラッド層200と、を有し、前記コア層および前記第1クラッド層の少なくとも前記第2クラッド層と接する側の面が、水酸基を有する樹脂、および、主鎖にケイ素−ケイ素結合を含む樹脂から選択される少なくともいずれか一方の樹脂を含み、且つ、前記第2クラッド層がシリコーン樹脂を含むことを特徴とする光導波路。
【選択図】図1

Description

本発明は、光導波路および光導波路製造方法に関するものである。
近年、携帯電話に代表される小型機器では、操作性を向上させつつ持ち運びを容易にするため、表示部と操作部とを分離すること等を目的として、複数の基板をヒンジ機構やスライド機構により連結した構成が一般的になっている。また、小型機器の高性能化に伴い、付属の撮像素子などで発生する膨大なデジタルデータや、高精細な表示が可能な表示部に必要なデータなどを別基板に高速に双方向伝送する必要がある。そこで、ヒンジ機構部やスライド機構部を経由するように配置された高分子光導波路を用いた双方向データ伝送技術が待望されている。
よって小型機器に用いられる高分子光導波路では、ヒンジ機構やスライド機構に対応した高い屈曲性が要求される。たとえばスライド機構によって連結された携帯電話の基板間間隔Dを想定すると、少なくともD=4mm以下が要求され、携帯電話の薄型化により近年ではD=2mm程度までが要求されている。ここに用いられる高分子光導波路は、D値に対応した曲げ状態および長期使用を想定した繰り返し曲げ伸ばしを行っても、その挿入損失および損失変動を小さく抑えることが必要になる。
一方、十分なフレキシビリティを確保するために、コアおよびクラッド材料としてゲル状材料を用いた光導波路が提案されている(特許文献1参照)。
特開2003−207659号公報
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、繰り返し屈曲させても光学特性の劣化の小さい光導波路、および、厚みの薄い光導波路の作製が容易な光導波路製造方法を提供することを課題とする。
上記課題は以下の本発明により達成される。すなわち、
請求項1に係わる発明は、
同一面上に位置するように配置された2本以上のコア層および互いに隣り合う2本のコア層間に設けられた第1クラッド層を含む中心層と
前記中心層の少なくとも表裏両面に設けられた第2クラッド層と、を有し、
前記コア層および前記第1クラッド層の少なくとも前記第2クラッド層と接する側の面が、水酸基を有する樹脂、および、主鎖にケイ素−ケイ素結合を含む樹脂から選択される少なくともいずれか一方の樹脂を含み、且つ、
前記第2クラッド層がシリコーン樹脂を含むことを特徴とする光導波路である。
請求項2に係わる発明は、
前記中心層に、エポキシ系樹脂およびアクリル系樹脂から選択される少なくとも1種の樹脂を含み、且つ、
前記第2クラッド層に、無機材料からなるフィラーが含まれていることを特徴とする請求項1に記載の光導波路である。
請求項3に係わる発明は、
コア層として機能する層を2層以上含み、且つ、前記コア層として機能する層と、クラッド層として機能する層とを交互に積層したフィルムを、該フィルムの厚み方向に対して切断することにより、2本以上のコア層と、互いに隣接する2本のコア層間に位置するクラッド層とを含む中心層を形成する中心層形成工程と、
前記中心層の外周面を、クラッド層として機能する材料により被覆する被覆工程とを経て、光導波路を作製することを特徴とする光導波路製造方法である。
請求項4に係わる発明は、
前記フィルムの切断が、ダイシングソーを用いて実施されることを特徴とする請求項3記載の光導波路製造方法である。
請求項5に係わる発明は、
前記被覆工程が、
凹部を有する成形型の前記凹部の底部にクラッド層として機能する第1の材料を配置する工程と、
前記凹部の底部に配置された前記第1の材料上に、前記中心層を有する部材を配置する工程と、
前記凹部の底部に配置された前記第1の材料および前記中心層を被覆するように、クラッド層として機能する第2の材料を配置する工程と、を含むことを特徴とする請求項3に記載の光導波路製造方法である。
請求項6に係わる発明は、
前記中心層の外周面を被覆するクラッド層として機能する材料が、シリコーン樹脂を 含むことを特徴とする請求項3に記載の光導波路製造方法である。
請求項7に係わる発明は、
前記中心層の外周面を被覆するクラッド層として機能する材料が、無機材料からなるフィラーを分散させたシリコーン樹脂であることを特徴とする請求項3に記載の光導波路製造方法である。
以上に説明したように、請求項1に記載の発明によれば、繰り返し屈曲させても光学特性の劣化の小さい光導波路を提供することができる。
請求項2に記載の発明によれば、コア層やクラッド層に難燃性に乏しい材料が含まれる場合でも、難燃性に優れた光導波路を提供することができる。
請求項3に記載の発明によれば、厚みの薄い光導波路の作製が容易な光導波路製造方法を提供することができる。
請求項4に記載の発明によれば、スループット、切断面精度、切断装置価格のバランスに優れた光導波路製造方法を提供することができる。
請求項5に記載の発明によれば、新たな切断などの追加工程なしに、所望の寸法を持つ光導波路を作製できる光導波路製造方法を提供することができる。
請求項6に記載の発明によれば、屈曲性に優れた光導波路を作製できる光導波路製造方法を提供することができる。
請求項7に記載の発明によれば、難燃性に優れた光導波路を作製できる光導波路製造方法を提供することができる。
<光導波路>
本発明の光導波路は、同一面上に位置するように配置された2本以上のコア層および互いに隣り合う2本のコア層間に設けられた第1クラッド層を含む中心層と前記中心層の少なくとも表裏両面に設けられた第2クラッド層と、を有し、前記コア層および前記第1クラッド層の少なくとも前記第2クラッド層と接する側の面が、水酸基を有する樹脂、および、主鎖にケイ素−ケイ素結合を含む樹脂から選択される少なくともいずれか一方の樹脂を含み、且つ、前記第2クラッド層がシリコーン樹脂を含むことを特徴とする。
本発明の光導波路では、中心層の両面にシリコーン樹脂を含む第2クラッド層が配置されているため、光導波路を曲げた際に生じる最大曲げ歪は外殻になる柔らかいシリコーン樹脂に加わることになる。この構造により、中心層を導波路コア厚みまで薄くすることができるので、中心層に加わる曲げ歪を小さく抑えることができる。これに加えて、コア層や第1クラッド層の少なくとも第2クラッド層と接する側の面には、水酸基を有する樹脂、および/または、主鎖にケイ素−ケイ素結合を含む樹脂が含まれる。このため、中心層と第2クラッド層に含まれるシリコーン樹脂との密着性が高く、繰り返し屈曲しても中心層と第2クラッド層との界面の剥離を抑制することができる。それゆえ、本発明の光導波路は、繰り返し屈曲させても光学特性の劣化が小さい。
また、第2クラッド層に用いられるシリコーン樹脂は屈折率が低いため、コア層を構成する樹脂材料との屈折率差を大きくすることが容易である。従って、光導波路が屈曲した時でも導波光を閉じ込める効果を容易に高くすることができる。
なお、水酸基を有する樹脂としては、エポキシ系樹脂や、ポリメチルメタクリレート(PMMA)などのアクリル系樹脂が利用できる。この場合は、コア層や第1クラッド層全体がこれらの樹脂から構成される。
一方、光導波路の作製過程において、コア層や第1クラッド層の少なくとも第2クラッド層と接する側の面を親水化処理してもよい。この場合は、上述したエポキシ系樹脂やアクリル系樹脂の他に、樹脂分子中に水酸基を有さない樹脂(ポリオレフィン系樹脂やポリイミド系樹脂)も利用できる。親水化処理方法としては、例えば、エキシマレーザーの照射などが挙げられる。
また、主鎖にケイ素−ケイ素結合を含む樹脂としては、ポリシラン系樹脂が挙げられる。これに加えて、必要であれば、ポリシラン樹脂を含むコア層や第1クラッド層の表面を更に親水化処理することもできる。
また、外力や温度変化によるコア層の短手方向長さ(コア径)や、コア層間の距離(コアピッチ)の変動を抑制するためには、中心層は引張弾性率が高い樹脂材料から構成されることが好ましい。ここで引張弾性率としては、0.5GPa以上が好ましく、1GPa以上がより好ましい。なお、上限は特に限定されないが材料の入手容易性等の実用上の観点からは、3GPa以下であることが好ましい。上述した引張弾性率を満たす代表的な材料としてはエポキシ系樹脂が挙げられる。
なお、シリコーン樹脂は、クラッド層用に用いられる一般的な樹脂材料の中でも柔軟性に富み、光導波路の屈曲性を高める上では好適な材料であるが、引張弾性率が低すぎるという特性を有する。このため、第1クラッド層を構成する材料としてシリコーン樹脂を用いると外力や温度変化によって、コア径やコアピッチの変動が著しくなるという問題がある。しかし、本発明では、第1クラッド層を構成する材料としてシリコーン樹脂を用いていないため、このような問題を回避できる。
コア層と第1クラッド層とを構成する樹脂材料は、コア層の屈折率が、第1クラッド層の屈折率や第2クラッド層の屈折率よりも大きく且つ伝送する光に対して高い透過性が得られるように、樹脂の種類や、(2種類の樹脂を混合して用いる場合は)そのブレンド比が選択される。
また、コア層と、第1クラッド層、第2クラッド層との屈折率差は0.02以上であることが好ましく、0.03以上であることがより好ましい。本発明のように曲げを前提とした導波路では、屈折率差が0.02未満の場合には、曲げ損失が大きくなる恐れが大きくなる。なお、屈折率差の上限値は特に限定されないが、材料の入手容易性等の実用上の観点からは0.5以下であることが好ましく、0.3以下であることがより好ましい。
コア層を構成する樹脂材料の透過損失としては、伝送する光の波長域において0.3dB/cm以下であることが好ましく、0.1dB/cm以下であることがより好ましい。
なお、本発明の光導波路に用いることができるエポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリシラン系樹脂は、小型機器等に利用されることの多い低コストなデータ伝送系の実現が容易な波長850nmのマルチモードVCSEL(Vertical Cavity Surface Emitting LASER(垂直共振器面発光レーザ))を用いた光伝送系を構成する光導波路用の材料としても極めて好適である。
また、本発明の光導波路は、光導波路を用いる機器であればあらゆる機器で利用することができる。特に、本発明の光導波路は、繰り返し屈曲させても光学特性の劣化が小さいため、光導波路が繰り返し屈曲される装置で利用することが好適である。このような用途としては、特に限定されるものではないが、例えば、既述した携帯電話に代表される小型機器が挙げられる。
優れた屈曲性を確保するためには、中心層の厚みが薄ければ薄いほど望ましい。しかし波長850nm対応のマルチモード導波路のコアの寸法は、受光素子および発光素子への接続性を考慮し通常40μm〜80μmである。本発明の光導波路を構成する中心層の厚みはコア厚みで規定されるため、中心層の厚みは、屈曲性能を高くしたい場合は40μm、屈曲性能と接続の容易性の両方を勘案する場合は40μmから80μmの厚みで適宜定めることができる。
第2クラッド層の厚み(当該厚みとは、中心層の両側に位置する各々の第2クラッド層単体の厚みを意味する)は、塗布プロセスの安定性を考慮すると10μm以上、より望ましくは20μm以上が望ましい。また第2クラッド層自体は屈曲性能が高いため、厚膜化しても曲げ歪を吸収できる。しかし第2クラッド層が厚すぎると、小型機器への配線の都合上と、中心層に加わる実効曲率半径が小さくなることから、その厚みは300μm以下、より望ましくは150μm以下が望ましい。
なお、光導波路には、その用途によって難燃性が要求される場合もある。光導波路を有する機器が発火した場合、光導波路が導火線の役目を果たすのを防ぐためである。難燃性は、特に小型機器で要求される場合が多い。
参考までに述べれば、難燃性規格としては、たとえばアメリカの Underwriters Laboratories 社が定めたUL−94規格がある。これは試験片に炎を当て燃焼時間と滴下物の有無を確認する試験法である。小型機器に利用される高分子材料を利用した光導波路では少なくとも遅燃性「94HB」、できれば自己消火性「94V」規格が要求される。
一方、本発明の光導波路に用いることができるエポキシ系樹脂やアクリル系樹脂は難燃性に極めて乏しい。
このため、中心層に、エポキシ系樹脂およびアクリル系樹脂から選択される少なくとも1種の樹脂を含む場合には、第2クラッド層に、無機材料からなるフィラーが含まれていることが好ましい。これにより、光導波路の難燃性を向上させることができる。
また、これらのフィラーの使用は、通常、光導波路の屈曲性低下を招きやすい。しかし、本発明の光導波路では、第2クラッド層に、柔軟性に優れたシリコーン樹脂を利用しているため、上述した問題の発生を回避できる。
これに加えて、屈折率の低いシリコーン樹脂を利用しているため、コア層と第2クラッド層との屈折率差を大きく保つことが容易であるため、導波光を閉じ込める効果を容易に高くすることができる。それゆえ、フィラーの利用による損失増加も回避することが容易である。
なお、十分な難燃性を確保する観点からは、第2クラッド層に含まれるフィラーの含有量は10質量%以上であることが好ましく、20質量%以上であることがより好ましい。一方、フィラーの含有量が多すぎる場合には、光導波路の屈曲性が低下してしまう場合があるため含有量の上限は50質量%以下であることが好ましく、40質量%以下であることがより好ましい。
無機材料からなるフィラーとしては、公知の無機材料からなる粒子であれば特に限定されないが、例えば、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、酸化シリコン(シリカ)、酸化チタン等を挙げることができる。
本発明の光導波路の作製に際しては、公知の光導波路製造方法を利用することができ、例えば、後述する本発明の光導波路製造方法を利用することができる。なお、本発明の光導波路の厚みが60μm以下の場合は、後述する本発明の光導波路製造方法を利用することが特に好適である。
次に、本発明の光導波路の層構成の具体例について、図面を用いてより詳細に説明する。
図1は、本発明の光導波路の層構成の一例を示す模式断面図であり、光路に対して垂直に交わる面で光導波路を切断した場合の断面図を示したものである。図中、100は中心層、110はコア層、120は(コア層110間に位置する)第1クラッド層、122は(中心層100端部に位置する)第1クラッド層、200、200A、200Bは第2クラッド層、300、310、320、330は光導波路を表す。
図1(A)に示す光導波路300は、2本のコア層110と、これら2本のコア層110間に設けられた第1クラッド層120とからなる中心層100の両面および両端側を覆うように第2クラッド層200が設けられた構成を有するものである。
図1(B)に示す光導波路310は、図1(A)に示す光導波路300において中心層100の両端部に第1クラッド層122を更に設けた構成を有するものである。
また、図1(C)に示す光導波路320は、2本のコア層110と、これら2本のコア層110間に設けられた第1クラッド層120と、コア層110の第1クラッド層120が設けられた側と反対側に設けられた第1クラッド層122とからなる中心層100の両面のみを覆うように第2クラッド層200A、200Bが設けられた構成を有するものである。
さらに、図1(D)に示す光導波路330は、複数本のコア層110を有する場合について示したものであり、コア層110の数が異なる以外は基本的な層構成は図1(D)に示す場合と同様である。
図2は、本発明の光導波路の端面部分の一例を示す模式断面図であり、具体的には中心層を構成するコア層の部分で切断した場合の断面図について示したものである。図中、150は透光性部材、160は支持体、170はミラー、その他の符号で示される部材は図1中に示したものと同様である。
端面部分は、図2(A)に示されるように単純にコア層110の光路方向に対して垂直な面を成すように構成されていてもよいが、図2(B)に示すように必要に応じて、コア層110の光路方向に対して所定の角度θ1(例えば、45度)を成すように構成されていてもよい。なお、このような傾斜した端面は、例えば、ダイシングブレードなどを利用して切削加工することにより形成することができる。
また、コア層110の端部には、さらに図2(C)に示すようにミラー部を設けることもできる。
このミラー部は、コア層と同一の厚みを有し断面が方形状のブロックからなり、4隅の一端を基点としていずれか1辺と角度θ2(例えば、45度)を成すように分離された2つの透光性部材150、支持体160を、分離面で重ね合わせたものであり、透光性部材150と支持体160との界面にはミラー170が配置されている。このミラー部は、透光性部材150側の部分がコア層110の端面部分に密着し、且つ、ミラー170がコア層110の光路方向に対して所定の角度θ2(例えば、45度)を成すように配置されている。
透光性部材150としては、伝搬光の波長に対して高い透過率を有する材料であれば特に制限なく利用できるが、光導波路の端面部分との接着性を確保するために例えばUV硬化型光学接着剤(NTTアドバンステクノロジ社製)が利用できる。
支持体160としては、透明でも不透明な材料でもよく、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂などの樹脂材料が利用できる。
ミラー170としては、伝搬光の波長に対して高い反射率を有する材料であれば特に限定されないが、例えば、金、銀、アルミニウムやこれらの合金からなる金属膜を用いることができる。なお、これらの金属材料はVCSELとして用いられる波長850nmの光に対しても高い反射率を有する点で好適である。
ミラー部をコア層110の端面部分に取り付ける方法としては特に限定されないが、例えば、支持体160の角度θ2に切断された面にミラー170として金属膜を形成した部材を、光学接着剤を介して取り付けた後、中心層と共にクラッド層200を形成する材料で被覆してしまう方法が挙げられる。
<光導波路製造方法>
本発明の光導波路製造方法は、コア層として機能する層を2層以上含み、且つ、前記コア層として機能する層と、クラッド層として機能する層とを交互に積層したフィルム(以下、「多層フィルム」と称す場合がある)を、該フィルムの厚み方向に対して切断することにより、2本以上のコア層と、互いに隣接する2本のコア層間に位置するクラッド層とを含む中心層を形成する中心層形成工程と、前記中心層の外周面を、クラッド層として機能する材料により被覆する被覆工程とを経て、光導波路を作製することを特徴とする。
本発明の光導波路製造方法を利用すれば、多層フィルムをその厚み方向に切断する際に、その切断間隔を任意に選択できるため、中心層の薄膜化、すなわち光導波路の薄膜化が極めて容易である。
なお、切断間隔(ここでは切断されて形成される中心層の厚みを意味する)としては、作製する光導波路の用途にもよるが、例えば、携帯電話などの小型機器で利用する光導波路を作製する場合には、30μm〜100μmの範囲内が好ましく、40μm〜60μmの範囲内がより好ましい。
切断間隔が100μmを超える場合には、携帯電話などの小型機器に対応した屈曲性能をもつ光導波路を作製することが困難となる場合がある。一方、切断間隔が 30μm未満では、切断自体が困難となる場合がある。
多層フィルムは、スピンコートを繰り返したり、ロールコーターを用いることによって、容易に各層1μm程度の厚み精度で作製することができる。そして多層フィルムを構成する各層の厚みがそのままコア幅およびコアピッチとなる。また、多層フィルムの層構成や各層の厚みを選択することにより所望のコア幅、コアピッチおよびコア個数を有する光導波路を製造することができる。このように本発明の光導波路製造方法では、所望のコア幅やコアピッチを得るためのコアパターン形成工程が不要なため、この点で、製造工程をより簡易化できるというメリットもある。
多層フィルムに含まれるコア層として機能する層の数は2以上であれば特に限定されず、作製する光導波路の用途に応じて適宜選択できる。なお、コアとして機能する層の数の上限は特に限定されないが、製造上の容易さの観点から、多層フィルムの厚み、すなわち作製する光導波路の幅は1mm以下以下であることが好ましい。また、多層フィルムの表裏面を構成する層は、クラッド層として機能する層、又は、コア層として機能する層のいずれであってもよい。
多層フィルムの切断方法としては、切断面の面粗さが光導波路のコア層として適用可能な加工法ならばどのような方法でも適用できるが、スループット、切断面精度、切断装置価格のバランスから、ダイシングソーによる切断が望ましい。
また、被覆工程の実施形態としては特に限定されるものではなく、例えば、クラッド層として機能する材料を溶解させた溶液中に、中心層を構成する部材を浸漬した後引き上げるディッピング法など、公知の塗膜形成方法が利用できる。
しかしながら、被覆工程は、(1)凹部を有する成形型の凹部の底部にクラッド層として機能する第1の材料を配置する工程と、(2)凹部の底部に配置された第1の材料上に、中心層を有する部材を配置する工程と、(3)凹部の底部に配置された第1の材料および中心層を被覆するように、クラッド層として機能する第2の材料を配置する工程と、を含むものであることが好ましい。
このような成形型を利用して中心層を被覆するクラッド層を形成することにより、新たな切断などの追加工程なしに、所望の寸法を持つ光導波路を作製することができる。
なお、成形型としては、その凹部の内壁面がクラッド層を構成する材料に対して離型性を有するものが用いられる。凹部の内壁面に離型性を付与するためには、成形型を構成する材料そのものが離型性を有するものであってもよく、凹部の内壁面に離型剤をコーティング処理してもよい。
例えば、クラッド層を構成する材料として、熱や紫外線などの付与によって硬化するシリコーン樹脂を用いる場合、この材料が硬化した際に接着しない材料、すなわち表面に水酸基をもたない樹脂、たとえばPE(ポリエチレン)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PP(ポリプロピレン)、ポリオレフィンなどが好適に用いられる。
コア層およびクラッド層を構成する材料は、コア層の屈折率が、クラッド層の屈折率の屈折率よりも大きく且つ伝送する光に対して高い透過性が得られるように、材料の種類や、(2種類の材料を混合して用いる場合は)そのブレンド比が選択される。
また、コア層とクラッド層との屈折率差は0.02以上であることが好ましく、0.03以上であることがより好ましい。本発明の光導波路製造方法を利用して屈曲性を有する光導波路を作製する場合、屈折率差が0.02未満の場合には、伝搬損失が大きくなる場合がある。なお、屈折率差の上限値は特に限定されないが、材料の入手容易性等の実用上の観点からは0.5以下であることが好ましく、0.3以下であることがより好ましい。コア層を構成する材料の透過損失としては、伝送する光の波長域において0.3dB/cm以下であることが好ましく、0.1dB/cm以下であることがより好ましい。
また、光導波路に対して屈曲性を付与したい場合には、コア層およびクラッド層を構成する材料として、樹脂を用いることが好適である。
特に、中心層の外周面を被覆するクラッド層として機能する材料は、シリコーン樹脂を含むものであることが好ましい。
この場合、中心層の両面にシリコーン樹脂を含むクラッド層が配置されることになるため、光導波路を曲げた際に生じる曲げ歪は柔らかいシリコーン樹脂に加わることになる。それゆえ、屈曲性に優れた光導波路を作製することができる。
また、中心層の外周面を被覆するクラッド層として機能する材料は、無機材料からなるフィラーを分散させたシリコーン樹脂であることがより好ましい。この場合、光導波路の難燃性を向上させることができる。
なお、無機材料からなるフィラーとしては、公知の無機材料からなる粒子であれば特に限定されないが、例えば、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、酸化シリコン(シリカ)、酸化チタン等を挙げることができる。
次に、本発明の光導波路製造方法の具体例を図面を用いてより詳細に説明する。
図3は、本発明の光導波路製造方法の一例を示す模式図であり、図3(A)は、光導波路の製造に用いる多層フィルムの模式断面図を示したものであり、図3(B)は、多層フィルムを台に固定した状態を示した模式断面図であり、図3(C)は多層フィルムを切断して、中心層となりえる部材を形成した後の状態を示した模式断面図であり、図3(D)は、凹部を有する成形型の凹部にクラッド層として機能する材料を配置した状態を示した模式断面図であり、図3(E)は、成形型の凹部内に配置されたクラッド層として機能する材料上に中心層となりえる部材を配置した状態を示した模式断面図であり、図3(F)は、成形型の凹部内に配置されたクラッド層として機能する材料および中心層となりえる部材を被覆するように、さらに成形型の凹部内にクラッド層として機能する材料を配置した状態を示した模式断面図であり、図3(G)は、成形型から取り出した光導波路の模式断面図である。
ここで、図中、400はコア層(又はコア層として機能する層)、410はクラッド層(又はクラッド層として機能する層)、420は多層フィルム、420Aは中心層(又は中心層となりえる部材)、430Aはクラッド層として機能する材料、430Bはクラッド層(クラッド層として機能する材料430Aを硬化させたもの)、500は台、510は粘着層、600は成形型、610は凹部を表す。
ます、図3(A)に示す多層フィルム420を準備する。この多層フィルム420は、クラッド層として機能する層410とコア層として機能する層400とを交互に積層したものであり、3層のクラッド層として機能する層410と2層のコア層として機能する層400とを有する。なお、作製される光導波路のコアピッチは、中央に位置するコア層として機能する層410の厚みにより制御できる。
続いて、この多層フィルム420を台500の上に、両面テープや接着剤などの粘着層を介して固定する(図3(B))。この状態で、多層フィルム420をダイシングソーなどを利用して多層フィルム420の厚み方向に切断することにより、中心層となりえる部材420Aを切り出す(図3(C))。この際、多層フィルム420の幅方向に切断間隔を選択することにより、中心層となりえる部材420Aの厚みを制御することができる。
一方、中心層420Aを被覆するクラッド層430を形成するために、凹部610を有する成形型600の凹部610に、凹部610の底面から半分ぐらいの深さまでクラッド層として機能する材料430Aを配置する(図3(D))。
その後、台500から剥離した中心層となりえる部材420Aを、切断面が水平方向となるようにクラッド層として機能する材料430A上に配置して、クラッド層として機能する材料430A中に半分程度沈み込むように押し込む(図3(E))。
この状態で、中心層となりえる部材420Aを覆うと共に凹部610全体が埋め込まれるように、凹部610にクラッド層として機能する材料430Aを配置する(図3(F))。続いて、クラッド層として機能する材料430Aを硬化させる刺激(光や熱など)を付与してクラッド層として機能する材料430Aを硬化させた後、成形型600から中心層420Aがクラッド層430Bで被覆された光導波路を剥離して取り出すことができる(図3(G))。
なお、端面部分が、図2(A)に示されるように単純にコア層110の光路方向に対して垂直な面を成すように構成された光導波路を作製したい場合には、多層フィルムとして、図4に示す形状を有するものを用いることができる。ここで、図4は、光導波路の作製に用いる多層フィルムの形状の一例を示す概略模式図であり、図4(A)は多層フィルムの平面図を表し、図4(B)は多層フィルムの側面図(図4(A)において、矢印A方向から見た側面図)を表す。また、図中、420は多層フィルムを表し、点線は多層フィルム420の切断方向を示す。なお、図4中、多層フィルム420を構成する各々の層(コア層として機能する層、クラッド層として機能する層)については記載を省略してある。
図4に示す例では、長方形状で端面が垂直に切断された多層フィルム420を用い、この多層フィルム420の長辺と平行(図中、点線方向)に切断する工程を経て光導波路を作製する。
また、端面部分が、図2(B)コア層110の光路方向に対して所定の角度θ1(例えば、45度)を成すように構成された光導波路を作製したい場合には、図4に示す多層フィルム420を、その長辺に対して所定の角度を成すように更に切断すればよい。
図5は、光導波路の作製に用いる多層フィルムの形状の他の例を示す概略模式図であり、図5中に示す符号420および点線は図4に示すものと同様である。また、長方形の多層フィルム420の4隅のうち、対向する2隅の一方および他方をそれぞれ通過し、且つ、長辺に対して角度θa、θb(但し、θa、θbは、それぞれ0を超え90度未満の範囲の角度)を成す2本の一点鎖線も切断ラインを示す。
図5に示す例において、例えば、角度θa=θb=45度とした場合、光導波路の一方の端面から入射する光の伝搬方向と、他方の端面から照射される光の伝搬方向とを平行且つ同一方向とすることができる。
また、コア層110端面に図2(C)に示すようなミラー部を取り付けた光導波路を作製したい場合には、例えば、多層フィルム420の端面にミラー部を取り付けた後に、切断することができる。
図6は、光導波路の作製に用いる多層フィルムの形状の他の例を示す概略模式図であり、図6中に示す符号420および点線は図4に示すものと同様である。また、符号150、160、170は図2(C)に示すものと同様である。
図6に示す例は、多層フィルム420の一方の短辺側の端面と、片面が鋸刃状に加工され且つ鋸刃状の面にミラー170が形成された支持体160の鋸刃状の面とを、光学接着剤(硬化後に透光性部材150となる部材)により接着した後、点線に沿って切断する場合を示したものである。なお、接着は、切断ライン(点線)と鋸刃状の面の頂部および谷部とが略一致するように行う(すなわち、支持体160としては、鋸刃状の面の凹凸ピッチが切断間隔と略一致するものを用いる)。この後、被覆工程を実施することにより、図2(C)に示す構造を有する光導波路を得ることができる。
なお、切断に際しては、鋸刃状の面の頂部および谷部をアライメントマークとして利用できるため、切断時の位置決めが容易となる上に、切断精度を向上させることもできる。
また、図6に示す支持体160の鋸刃状の面は、”△”状(二等辺三角形状)の山が繰り返されたものであるが、これに限定されるものではなく、例えば、”Δ”状(直角三角形状)の山が繰り返されたものであってもよい。
ミラー170付きの支持体160の作製方法としては特に限定されないが、例えば、樹脂製シートをスタンパ加工により片面に鋸刃状の面が形成した部材に、真空蒸着やスパッタリング等によって、ミラー170を形成する金属膜を形成した後、この部材を、多層フィルム420の厚みに対応するように切断したものを利用できる。
以下、本発明を実施例を挙げて説明するが、本発明は以下の実施例にのみ限定されるものではない。
(実施例1)
−光導波路の作製−
図3に示す手順によって、図1(B)に示す構造を有する光導波路を以下の手順で作製した。
まず、引張弾性率1.5GPa、波長850nmでの屈折率1.60、材料損失0.06dB/cmのコア層用エポキシ樹脂A(NTTアドバンステクノロジ社製)、および、引張弾性率1.5GPa、波長850nmでの屈折率1.53の第1クラッド層用エポキシ樹脂B(NTTアドバンステクノロジ社製)が交互に合計5層積層された多層フィルムを準備した。各層の厚みはB層/A層/B層/A層/B層=10/45/205/45/10μmである(但し、「A層」はエポキシ樹脂Aからなる層、「B層」はエポキシ樹脂Bからなる層を意味する)。また多層フィルムの大きさは125mm×50mmである。
この多層フィルムをダイシングテープに貼り付けて、ダイシングソー(ディスコ社製DAD321)に固定する。幅50μmのダイシングブレードを用いて送りピッチ95μmで切断することにより、幅45μmの中心層となる部材を形成する。なお長手方向はダイシングソーにより120mm長に切断した。
切断して得られた中心層となる部材のそれぞれをピンセットで剥がしてポリエチレン製の成形型にセットした。この成形型には深さ0.3mm、幅1.5mm、長さ120mmの凹部が設けられている。そして、この凹部に予め、凹部の底部から高さ0.15mmところまで波長850nmでの屈折率1.4の熱硬化型シリコーン樹脂(信越シリコーン社製)が塗布されている。中心層となる部材は、導波路コア端断面に熱硬化型シリコーン樹脂が接着しないように予めフッ素フィルムで保護した上で、この凹部の幅方向の中心に設置した。そして、この上から更に凹部全体が完全に埋るように前記シリコーン樹脂を厚み0.15mmで塗布した後、80℃で1時間熱処理した。これにより長さ120mm、厚み300μm、コア径45μm、2本のコア層間ピッチ250μmの光導波路を得た。
−光導波路の評価−
得られた光導波路については、光導波路を直線状に伸ばした状態の伝搬損失と、光導波路の長手方向の1点を曲率半径が1mmとなるように屈曲させた場合の伝搬損失の増加量(=屈曲状態の伝搬損失−直線状態の伝搬損失)と、光導波路の長手方向の1点を曲率半径が1mmとなるように連続して10万回屈曲させた後の挿入損失の増加量(=繰り替し屈曲テスト後の伝搬損失−繰り替し屈曲テスト前の伝搬損失)と、を評価した。
その結果、直線状態の伝搬損失は0.08dB/cm、屈曲時の挿入損失増加量は0.1dB以下、10万回の繰り返し屈曲後の挿入損失増加量は0.1dB以下であった。
またこの光導波路を水平に置いて、片端から燃焼させたところ、その燃焼が進む速度は60mm/分相当であった。
以上の評価結果を表1に示す。
また、得られた光導波路のコアピッチは誤差2μm以下であり、さらに受発光素子へUV硬化型光学接着剤(波長365nmの強度100mW/cmで30秒)で固定した際も誤差4μm以下で接着可能であり、その接続損失は無視できる値であった。
(実施例2)
実施例1において、第2クラッド層の形成に用いたシリコーン樹脂の代わりに、このシリコーン樹脂100質量部に対してフィラー(水酸化アルミニウム、平均粒子径200nm)30質量部を混合したものを用い、且つ、シリコーン樹脂を常温(25℃)で24時間放置することにより硬化させた以外は、実施例1と同様にして光導波路を作製した。評価結果を表1に示す。
(実施例3)
実施例1において、多層フィルムを構成するA層用の樹脂として、引張弾性率1.6GPa、波長850nmでの屈折率1.6、材料損失0.08dB/cmのコア層用 アクリル樹脂A(NTTアドバンステクノロジ社製)を用い、且つ、多層フィルムを構成するB層用の樹脂として、引張弾性率1.6GPa、波長850nmでの屈折率 1.5、材料損失0.1dB/cmの第1クラッド層用アクリル樹脂B(NTTアドバンステクノロジ社製)を用いた以外は実施例1と同様にして光導波路を作製した。評価結果を表1に示す。
(実施例4)
実施例1において、多層フィルムを構成するA層用の樹脂として、引張弾性率1.2GPa、波長850nmでの屈折率1.53、材料損失0.03dB/cmのコア層用ポリシラン樹脂A(日本ペイント社製)を用い、且つ、多層フィルムを構成するB層用の樹脂として、引張弾性率1.2GPa、波長850nmでの屈折率1.50、材料損失 0.03dB/cmの第1クラッド層用 ポリシラン樹脂B(日本ペイント社製)を用いた以外は実施例1と同様にして光導波路を作製した。評価結果を表1に示す。
(実施例5)
実施例1において、層構成がA層/B層/A層(=45/205/45μm)である多層フィルムを用いた以外は、実施例1と同様にして光導波路を作製した。評価結果を表1に示す。
(実施例6)
実施例2において、層構成がA層/B層/A層(=45/205/45μm)である多層フィルムを用いた以外は、実施例1と同様にして光導波路を作製した。評価結果を表1に示す。
(比較例1)
実施例1において、多層フィルムを構成するA層用の樹脂として、引張弾性率1.8GPa、波長850nmでの屈折率 1.54、材料損失 0.04dB/cmのコア層用ファンクショナルノルボルネン樹脂A(JSR社製)を用い、且つ、多層フィルムを構成するB層用の樹脂として、引張弾性率1.8GPa、波長850nmでの屈折率1.51、材料損失 0.04dB/cmの第1クラッド層用ファンクショナルノルボルネン樹脂B(JSR社製)を用いた以外は実施例1と同様にして光導波路を作製した。評価結果を表1に示す。
(比較例2)
実施例1において、成形型の凹部に充填する樹脂として、常温硬化型のフッ素樹脂(フロロテクノロジー社製、FG−3030Z−40)を用いて導波路全体の厚みを180μmとして、常温硬化によりこの樹脂を硬化処理した以外は実施例1と同様にして光導波路を作製した。評価結果を表1に示す。
(比較例3)
銅をコーティングしたシリコンウエハ上にスピンコートにより、引張弾性率1.5GPa、波長850nmの屈折率1.51、材料損失0.06dB/cmのクラッド用UV硬化型エポキシ樹脂C(NTTアドバンステクノロジ社製)を厚み50μm積層し、UV露光硬化した。次に同様にスピンコートにより、引張弾性率1.5GPa、波長850nmの屈折率1.57、材料損失0.06dB/cmのコア用UV硬化型エポキシ樹脂D(NTTアドバンステクノロジ社製)を厚み50μm積層し、コアパターンに対応したフォトマスクを通してアライナーでUV露光し、有機溶媒で未硬化樹脂を洗い流すことによってコアパターンを形成した。さらに同様に樹脂CをスピンコートとUV露光で50μm積層した。ポストベークを120度で30分行った後、ダイシングソーで長さ120mm、幅1.5mmの形状をに切断し、アルカリ液に基板を付けて銅を溶かすことによって、基板から剥離し、クラッド樹脂Cにコアが埋め込まれた構造の光導波路を作製した。評価結果を表1に示す。
Figure 2009103860
本発明の光導波路の層構成の一例を示す模式断面図である。 本発明の光導波路の端面部分の一例を示す模式断面図である。 本発明の光導波路製造方法の一例を示す模式図である。 光導波路の作製に用いる多層フィルムの形状の一例を示す概略模式図である。 光導波路の作製に用いる多層フィルムの形状の他の例を示す概略模式図である。 光導波路の作製に用いる多層フィルムの形状の他の例を示す概略模式図である。
符号の説明
100 中心層
110 コア層
120 (コア層110間に位置する)第1クラッド層
122 (中心層100端部に位置する)第1クラッド層
150 透光性部材
160 支持体
170 ミラー
200、200A、200B 第2クラッド層
300、310、320、330 光導波路
400 コア層(又はコア層として機能する層)
410 クラッド層(又はクラッド層として機能する層)
420 多層フィルム
420A 中心層(又は中心層となりえる部材)
430A クラッド層として機能する材料
430B クラッド層(クラッド層として機能する材料430Aを硬化させたもの)
500 台
510 粘着層
600 成形型
610 凹部

Claims (7)

  1. 同一面上に位置するように配置された2本以上のコア層および互いに隣り合う2本のコア層間に設けられた第1クラッド層を含む中心層と、
    前記中心層の少なくとも表裏両面に設けられた第2クラッド層と、を有し、
    前記コア層および前記第1クラッド層の少なくとも前記第2クラッド層と接する側の面が、水酸基を有する樹脂、および、主鎖にケイ素−ケイ素結合を含む樹脂から選択される少なくともいずれか一方の樹脂を含み、且つ、
    前記第2クラッド層がシリコーン樹脂を含むことを特徴とする光導波路。
  2. 前記中心層に、エポキシ系樹脂およびアクリル系樹脂から選択される少なくとも1種の樹脂を含み、且つ、
    前記第2クラッド層に、無機材料からなるフィラーが含まれていることを特徴とする請求項1に記載の光導波路。
  3. コア層として機能する層を2層以上含み、且つ、前記コア層として機能する層と、クラッド層として機能する層とを交互に積層したフィルムを、該フィルムの厚み方向に対して切断することにより、2本以上のコア層と、互いに隣接する2本のコア層間に位置するクラッド層とを含む中心層を形成する中心層形成工程と、
    前記中心層の外周面を、クラッド層として機能する材料により被覆する被覆工程とを経て、光導波路を作製することを特徴とする光導波路製造方法。
  4. 前記フィルムの切断が、ダイシングソーを用いて実施されることを特徴とする請求項3記載の光導波路製造方法。
  5. 前記被覆工程が、
    凹部を有する成形型の前記凹部の底部にクラッド層として機能する第1の材料を配置する工程と、
    前記凹部の底部に配置された前記第1の材料上に、前記中心層を有する部材を配置する工程と、
    前記凹部の底部に配置された前記第1の材料および前記中心層を被覆するように、クラッド層として機能する第2の材料を配置する工程と、を含むことを特徴とする請求項3に記載の光導波路製造方法。
  6. 前記中心層の外周面を被覆するクラッド層として機能する材料が、シリコーン樹脂を 含むことを特徴とする請求項3に記載の光導波路製造方法。
  7. 前記中心層の外周面を被覆するクラッド層として機能する材料が、無機材料からなるフィラーを分散させたシリコーン樹脂であることを特徴とする請求項3に記載の光導波路製造方法。
JP2007274721A 2007-10-23 2007-10-23 光導波路製造方法 Expired - Fee Related JP4962265B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007274721A JP4962265B2 (ja) 2007-10-23 2007-10-23 光導波路製造方法
US12/188,452 US7702206B2 (en) 2007-10-23 2008-08-08 Optical waveguide and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007274721A JP4962265B2 (ja) 2007-10-23 2007-10-23 光導波路製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009103860A true JP2009103860A (ja) 2009-05-14
JP4962265B2 JP4962265B2 (ja) 2012-06-27

Family

ID=40563584

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007274721A Expired - Fee Related JP4962265B2 (ja) 2007-10-23 2007-10-23 光導波路製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7702206B2 (ja)
JP (1) JP4962265B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1695128A4 (en) * 2003-11-21 2011-06-22 Sumitomo Bakelite Co OPTICAL WAVE GUIDE AND METHOD THEREFOR
US9726818B1 (en) * 2013-05-30 2017-08-08 Hrl Laboratories, Llc Multi-wavelength band optical phase and amplitude controller
FR3049069B1 (fr) * 2016-03-17 2018-04-13 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Guide a onde lente

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002311263A (ja) * 2001-04-13 2002-10-23 Hitachi Cable Ltd ポリマ導波路及びその製造方法
JP2004012635A (ja) * 2002-06-04 2004-01-15 Nippon Paint Co Ltd 光電気配線複合実装基板及びその製造方法
JP2006106708A (ja) * 2004-09-08 2006-04-20 Toray Ind Inc 光配線用樹脂組成物および光電気複合配線基板

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08286064A (ja) 1995-04-19 1996-11-01 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 高分子光導波路の作製方法
JP3753508B2 (ja) 1996-07-31 2006-03-08 日本電信電話株式会社 光路変換素子の作製方法、および光路変換素子作製用のブレード
JP3285539B2 (ja) 1998-06-05 2002-05-27 日本電信電話株式会社 光モジュール実装構造
JP2000321442A (ja) * 1999-05-13 2000-11-24 Sumitomo Electric Ind Ltd 光部品
JP4097425B2 (ja) 2000-12-06 2008-06-11 イビデン株式会社 多層プリント配線板およびその製造方法
GB0122427D0 (en) * 2001-09-17 2001-11-07 Denselight Semiconductors Pte Fabrication of stacked photonic lightwave circuits
JP2003207659A (ja) 2002-01-11 2003-07-25 Yazaki Corp フレキシブル光導波路およびその製造方法
JP3941589B2 (ja) 2002-05-23 2007-07-04 日本電気株式会社 光導波路および光導波路の製造方法
JP3979225B2 (ja) 2002-08-22 2007-09-19 凸版印刷株式会社 光導波路の製造方法
US20070114684A1 (en) * 2005-11-21 2007-05-24 Fuji Xerox Co., Ltd. Optical waveguide and optical waveguide manufacturing method
JP4965135B2 (ja) 2006-02-10 2012-07-04 オムロン株式会社 光伝送路、光伝送モジュール、および電子機器

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002311263A (ja) * 2001-04-13 2002-10-23 Hitachi Cable Ltd ポリマ導波路及びその製造方法
JP2004012635A (ja) * 2002-06-04 2004-01-15 Nippon Paint Co Ltd 光電気配線複合実装基板及びその製造方法
JP2006106708A (ja) * 2004-09-08 2006-04-20 Toray Ind Inc 光配線用樹脂組成物および光電気複合配線基板

Also Published As

Publication number Publication date
US7702206B2 (en) 2010-04-20
JP4962265B2 (ja) 2012-06-27
US20090103875A1 (en) 2009-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4679580B2 (ja) 光導波路フィルムおよび光電気混載フィルム
TWI432806B (zh) 具有鏡面之光波導的製造方法
KR100926395B1 (ko) 광 도파로 필름과 그 제조 방법, 그것을 포함하는 광 전기혼재 필름 및 전자기기
JP5136260B2 (ja) 光導波路フィルム、及び光送受信モジュール
JP6866290B2 (ja) 光学式光ガイドの製造
JP2010113325A (ja) ミラー付き光伝送体及びその製造方法
JP2008040003A (ja) フレキシブル光導波路フィルム、光送受信モジュール、マルチチャンネル光送受信モジュール及びフレキシブル光導波路フィルムの製造方法
JP2006284925A (ja) フレキシブル光電気混載基板およびこれを用いた電子機器
US20090067786A1 (en) Optical waveguide device and light outputting module
JP4962265B2 (ja) 光導波路製造方法
US7749410B2 (en) Method of fabricating polymer optical circuit
TWI477835B (zh) 光波導之製造方法及光波導
JP2007183467A (ja) ミラー付光導波路及びその製造方法
JP2009069203A (ja) 高分子光導波路及びその製造方法
JP4469289B2 (ja) 光路変換ミラーの製法
JP2007108228A (ja) 光電気混載基板およびその製造方法
JP2008164943A (ja) 多チャンネル光路変換素子およびその作製方法
JPWO2007013208A1 (ja) 導波路フィルムケーブル
JP2010060821A (ja) フレキシブル光電気配線及びその製造方法
JP2009103804A (ja) 光導波路及びその製造方法
JP6168598B2 (ja) 光電気混載モジュール
JP5351101B2 (ja) 光導波路の製法
JP2008197380A (ja) 多チャンネル光路変換素子とその作製方法
JP5099002B2 (ja) 高分子光導波路の製造方法
JP2007133036A (ja) 光合分波素子

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100922

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111213

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111214

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120210

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120228

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120312

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4962265

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150406

Year of fee payment: 3

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees