JP2020061469A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020061469A5 JP2020061469A5 JP2018191930A JP2018191930A JP2020061469A5 JP 2020061469 A5 JP2020061469 A5 JP 2020061469A5 JP 2018191930 A JP2018191930 A JP 2018191930A JP 2018191930 A JP2018191930 A JP 2018191930A JP 2020061469 A5 JP2020061469 A5 JP 2020061469A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- control unit
- sponge
- processed sheets
- pen sponge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 37
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000004441 surface measurement Methods 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 238000013473 artificial intelligence Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018191930A JP2020061469A (ja) | 2018-10-10 | 2018-10-10 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、基板処理装置、基板処理システム、および機械学習器 |
| US16/596,051 US20200116480A1 (en) | 2018-10-10 | 2019-10-08 | Substrate cleaning method, substrate cleaning apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing system, machine learning device, and prediction device |
| CN201910953017.1A CN111029243A (zh) | 2018-10-10 | 2019-10-09 | 基板清洗方法、基板清洗装置、基板处理装置、基板处理系统及机器学习器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018191930A JP2020061469A (ja) | 2018-10-10 | 2018-10-10 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、基板処理装置、基板処理システム、および機械学習器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020061469A JP2020061469A (ja) | 2020-04-16 |
| JP2020061469A5 true JP2020061469A5 (enExample) | 2021-05-06 |
Family
ID=70159992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018191930A Withdrawn JP2020061469A (ja) | 2018-10-10 | 2018-10-10 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、基板処理装置、基板処理システム、および機械学習器 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20200116480A1 (enExample) |
| JP (1) | JP2020061469A (enExample) |
| CN (1) | CN111029243A (enExample) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7426898B2 (ja) * | 2020-05-14 | 2024-02-02 | アルバック成膜株式会社 | 洗浄体、洗浄装置および洗浄方法 |
| JP7482768B2 (ja) * | 2020-12-16 | 2024-05-14 | 株式会社荏原製作所 | 洗浄部材用洗浄装置、洗浄部材の洗浄方法及び基板洗浄方法 |
| CN114659456B (zh) * | 2020-12-23 | 2024-06-18 | 中国科学院微电子研究所 | 一种软刷辊轴间距检测装置、调整系统及方法 |
| CN112992733B (zh) * | 2021-02-08 | 2022-03-11 | 江苏亚电科技有限公司 | 一种用于晶圆加工的刷洗装置 |
| JP7753124B2 (ja) * | 2022-02-04 | 2025-10-14 | 株式会社荏原製作所 | 情報処理装置、推論装置、機械学習装置、情報処理方法、推論方法、及び、機械学習方法 |
| JP7763140B2 (ja) * | 2022-03-30 | 2025-10-31 | 株式会社荏原製作所 | 情報処理装置、推論装置、機械学習装置、情報処理方法、推論方法、及び、機械学習方法 |
| JP2024034806A (ja) * | 2022-09-01 | 2024-03-13 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置及びブラシの脱落検知方法 |
| JP2024090296A (ja) * | 2022-12-22 | 2024-07-04 | 株式会社荏原製作所 | 情報処理装置、推論装置、機械学習装置、情報処理方法、推論方法、及び、機械学習方法 |
| WO2025100343A1 (ja) * | 2023-11-06 | 2025-05-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 情報処理方法、情報処理装置及びコンピュータプログラム |
| WO2025177658A1 (ja) * | 2024-02-20 | 2025-08-28 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| CN118427784B (zh) * | 2024-07-02 | 2024-10-25 | 深圳市林科超声波洗净设备有限公司 | 一种超声波清洗机运行多维度监测预警方法 |
-
2018
- 2018-10-10 JP JP2018191930A patent/JP2020061469A/ja not_active Withdrawn
-
2019
- 2019-10-08 US US16/596,051 patent/US20200116480A1/en not_active Abandoned
- 2019-10-09 CN CN201910953017.1A patent/CN111029243A/zh not_active Withdrawn
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2020061469A5 (enExample) | ||
| TWI739906B (zh) | 基板處理控制系統、基板處理控制方法、以及程式 | |
| TWI891688B (zh) | 基板清洗裝置、研磨裝置、擦光處理裝置、基板清洗方法、基板處理裝置、及機械學習器 | |
| KR102142893B1 (ko) | 기판 이면의 연마 방법 및 기판 처리 장치 | |
| JP2020061469A (ja) | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、基板処理装置、基板処理システム、および機械学習器 | |
| KR102401524B1 (ko) | 기판 세정 장치 및 기판 세정 장치에 의해 실행되는 방법 | |
| JP2018015890A5 (enExample) | ||
| JP2007290111A (ja) | 研磨方法および研磨装置 | |
| CN111146116B (zh) | 一种晶圆清洗方法和晶圆后处理装置 | |
| TWI669158B (zh) | 基板洗淨滾筒、基板洗淨裝置及基板洗淨方法 | |
| US12033847B2 (en) | Cleaning module, substrate processing apparatus including cleaning module, and cleaning method | |
| JP5645752B2 (ja) | 基板洗浄方法及びロール洗浄部材 | |
| JP2018067610A (ja) | 研磨装置、研磨方法およびプログラム | |
| JP6794275B2 (ja) | 研磨方法 | |
| KR20200010072A (ko) | 기판의 주연부를 연마하기 위한 연마 장치 및 연마 방법 | |
| US10376929B2 (en) | Apparatus and method for polishing a surface of a substrate | |
| JP2017147334A (ja) | 基板の裏面を洗浄する装置および方法 | |
| US20240302817A1 (en) | Information processing device, substrate processing device, and information processing method | |
| JP2018067609A (ja) | 局所研磨装置、局所研磨方法およびプログラム | |
| CN114472265B (zh) | 一种晶圆清洗方法及晶圆清洗装置 | |
| CN111051065A (zh) | 用于打印设备的清洁元件 | |
| JP6666214B2 (ja) | 基板の表面を研磨する装置および方法、プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
| JP2023127537A5 (enExample) | ||
| JP2025134181A (ja) | 基板洗浄装置、基板処理装置、基板洗浄方法、洗浄具の洗浄方法、基板洗浄プログラムおよび洗浄具の洗浄プログラム | |
| JP3501869B2 (ja) | 円筒状体または円柱状体の洗浄方法および装置 |