JP2020043866A - スフェロイド捕捉用挿入体 - Google Patents

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Abstract

【課題】懸濁液中で移動性であるスフェロイドを培養する際の細胞培養培地の交換方法を提供する。【解決手段】細胞培養アセンブリ100において、開口118および天底116を有する1つ以上のウェル115を含む細胞培養容器、ウェルの内部に収まる構造の挿入体150であって、第1の開放端部、および開口を有する第2の端部を含み、第1の開放端部および第2の端部がそれらの間に空洞を画成した挿入体を備え、第2の端部が流体透過性メッシュ170を備え、細胞培養容器が細胞培養表面を備え、細胞培養表面が、マイクロウェルのアレイを有する基体から作られており、ウェル中で培養される細胞は、マイクロウェル中でスフェロイドを形成するように構成されており、各マイクロウェルは、上部開口、側壁、およびガス透過性底を備え、底は細胞に非接着性である、細胞培養アセンブリ。【選択図】図3

Description

本開示は、細胞培養アセンブリ、それを用いた培養方法、およびその培地を除去する方法に関する。
スフェロイドなどの三次元で培養された細胞は、単層などの二次元で培養されたそれらの対応物よりも、インビボ様機能性を示すことができる。二次元の細胞培養システムにおいて、細胞は、それらが培養される基体に接着し得る。しかしながら、スフェロイドなどの細胞が三次元で増殖する場合、それらの細胞は、基体に接着するよりもむしろ、互いに相互作用する。
したがって、細胞がその中で、懸濁液中で移動性であるスフェロイドとして培養される、培養システムに関する細胞培養培地の交換は、難題となり得る。
本開示の様々な実施の形態によれば、スフェロイドを吸引せずに、またはスフェロイドに損傷を与えずに、スフェロイドを収容するウェル中の培地を交換できるように構成された細胞培養挿入体が記載される。その細胞培養挿入体は、第1の開放端部、第2の開放端部、およびその第1の開放端部と第2の開放端部の間に延在する少なくとも1つの支持体を有するフレームを備えることができる。その挿入体は、そのフレームに連結され、第2の開放端部に亘り配置された流体透過性メッシュも備えている。そのメッシュは、10マイクロメートルから200マイクロメートルの範囲、例えば、10、20、50、100または200マイクロメートルと、先の値のいずれの間の範囲も含む、平均細孔径を有する細孔を画成する。実施の形態において、その細孔は、個々の細胞が、メッシュを横切ってまたは通って通り抜けるが、スフェロイド細胞クラスターが通り抜けるのを防ぐようなサイズである。
いくつかの実施の形態において、細胞培養ウェル挿入体において、第1の開放端部、開口を画成する第2の端部、およびその第1の開放端部と第2の端部の間に延在する少なくとも1つの支持体を有するフレームであって、その第2の端部の開口が、9mmと0.25mmの間(例えば、9、・・・5、・・・3、・・・2、・・・0.75、・・・0.25mm)の直径を有するものであるフレーム;およびそのフレームに連結され、第2の端部の開口に亘り配置された流体透過性メッシュであって、10マイクロメートルから200マイクロメートル(例えば、10、・・・35、・・・75、・・・200マイクロメートル)の範囲の平均細孔径を有する細孔を画成するメッシュを備えた細胞培養ウェル挿入体がここに提供される。いくつかの実施の形態において、そのフレームは、i)そのメッシュが細胞培養物品のウェルの天底からある距離をおいてそのウェル内に位置付けられ、かつii)スフェロイドが、そのウェル内に存在する場合には、ウェル内に捕捉されるように、そのウェル中に少なくとも部分的に挿入されるように構成されている。
いくつかの実施の形態において、第1の開放端部と、開口を持つ第2の端部を有するウェル挿入体であって、その第1の開放端部および第2の端部がそれらの間に空洞を画成し、その第2の端部の開口が9mmと0.25mmの間の直径を有するウェル挿入体;および第2の端部の開口に亘り配置された流体透過性メッシュであって、10マイクロメートルから200マイクロメートルの範囲の平均細孔径を有する細孔を画成するメッシュを備えた装置において、そのウェル挿入体が、i)そのメッシュが細胞培養物品のウェルの天底からある距離をおいてそのウェル内に位置付けられ、かつii)スフェロイドが、そのウェルに存在する場合には、ウェル内に捕捉されるように、そのウェル中に少なくとも部分的に挿入されるように構成されている、装置がここに提供される。ある実施の形態において、そのウェル挿入体は一体成形装置である。
特定の実施の形態において、前記フレームは、第1の開放端部から第2の端部の延在する複数の支持体を備えている。他の実施の形態において、そのメッシュは、フレームの第1の開放端部から第2の端部まで延在し、そのフレーム内に空洞を画成する。さらに別の実施の形態において、そのフレームの少なくとも1つの支持体は、第1の開放端部から第2の端部まで延在し、フレームの内部を画成する囲い側壁を有する。いくつかの実施の形態において、そのフレームの少なくとも1つの支持体は、第1の開放端部から第2の端部まで延在し、フレームの内部を画成する側壁を有する。さらに別の実施の形態において、そのフレームは、第1の開放端部から放射状に延在する1つ以上のフランジをさらに有する。追加の実施の形態において、そのフレームは、そのメッシュが細胞培養物品のウェルの天底からある距離をおいてそのウェル内に位置付けられるように、そのウェル中に少なくとも部分的に挿入されるように構成されている。
特定の実施の形態において、ここに記載されたような細胞培養挿入体を有するウェル中で細胞を培養する工程を有してなる方法が、ここに提供される。特定の実施の形態において、その細胞はスフェロイド内にある、および/または細胞がスフェロイドを形成する。さらに別の実施の形態において、挿入体の上に培地があり、その方法は、その挿入体の上でウェルから培地を除去する工程をさらに含む。
ある実施の形態において、天底を画成する内面を画成するウェル;およびここに記載されたような挿入体を備えた細胞培養アセンブリにおいて、その挿入体が、流体透過性メッシュが天底からある距離をおいてそのウェル内に位置付けられるようにウェル内に少なくとも部分的に挿入されるように構成されている、細胞培養アセンブリが、ここに提供される。いくつかの実施の形態において、そのウェルは、細胞に対して非接着性である。さらに別の実施の形態において、そのウェルは、そのウェル内で培養された細胞がスフェロイドを形成するように構成されている。追加の実施の形態において、そのメッシュの細孔は、個々の細胞がメッシュを通って通り抜けられ、それから形成されたスフェロイドがメッシュを通って通り抜けるのを防ぐサイズのものである。
ある実施の形態において、細胞培養アセンブリにおいて、a)天底を画成する内面を画成するウェルであって、その中で培養される細胞がスフェロイドを形成するように構成されたウェル、およびb)i)10マイクロメートルから200マイクロメートルの範囲の平均細孔径を有する細孔を画成する流体透過性メッシュであって、前記ウェルの少なくとも一部の中に、前記天底からある距離に位置付けられるように構成されたメッシュと、ii)そのメッシュに結合され、天底から離れて延在するように構成されたフレームとを含む挿入体を備えた細胞培養アセンブリが、ここに提供される。
ある実施の形態において、前記メッシュの細孔は、スフェロイドがメッシュを通り抜けるのを防ぐように構成されている。他の実施の形態において、フレームは、メッシュを天底からある距離に位置付けられるように構成されている。追加の実施の形態において、ウェルは上縁をさらに備え、フレームが上縁と接触して、メッシュを天底からある距離に位置付ける。他の実施の形態において、アセンブリは支持体をさらに備え、フレームがその支持体と接触して、メッシュを天底からある距離に位置付ける。追加の実施の形態において、メッシュは細孔を画成し、その細孔は40マイクロメートル以下(例えば、40、・・・35、・・・25、・・・15、・・・または10マイクロメートル)の平均細孔径を有する。ある実施の形態において、ウェルは天底と反対に開口をさらに画成し、そのウェルの内面は、開口から天底まで円錐形を画成する。いくつかの実施の形態において、メッシュは円形または正方形を画成する。
さらなる実施の形態において、前記アセンブリは複数のウェルをさらに備え、前記挿入体は複数の流体透過性メッシュをさらに備え、前記流体透過性メッシュおよび前記複数の流体透過性メッシュの各々は、ウェルおよび複数のウェルの異なるものの少なくとも一部中に配置されるように構成されている。他の実施の形態において、ウェルの内面は超低接着材料で被覆されている。さらなる実施の形態において、メッシュはメッシュ縁を画成し、フレームは、メッシュ縁に沿ってそのメッシュを取り囲み、天底から離れて延在する。他の実施の形態において、フレームは、流体透過性メッシュに結合した少なくとも1つの支持ワイヤを備える。いくつかの実施の形態において、ウェルは、内面に沿って少なくとも1つのサブウェルを含む。
特定の実施の形態において、細胞培養装置のウェルであって、天底を有する内面を画成するウェルから培地を除去する方法において、a)挿入体の端部をウェル内に配置する工程であって、挿入体の端部が挿入体の空洞と流体連通した開口を画成し、挿入体がその開口に亘り配置された流体透過性メッシュを有し、挿入体の端部が、メッシュが天底からある距離に位置付けられるようにウェル内に配置される工程、b)流体除去装置の先端を、その先端が、メッシュから天底までの距離と少なくとも同じくらい遠い、天底からの距離にあるように挿入体の空洞中に挿入する工程、およびc)流体除去装置により流体を吸い込むことによって、ウェルから流体を除去する工程を有してなる方法が、ここに提供される。
ある実施の形態において、細胞培養アセンブリにおいて、天底を画成する内面を画成する第1のウェル;10マイクロメートルから200マイクロメートルの範囲の平均細孔径を有する細孔を画成する流体透過性メッシュ;およびメッシュに結合し、第1のウェルの少なくとも一部の上の位置にメッシュを維持するように構成されたフレームを備えた細胞培養アセンブリが、ここに提供される。
いくつかの実施の形態において、前記メッシュは細孔を画成し、その細孔は20マイクロメートルから200マイクロメートルの範囲の平均細孔径を有する。さらなる実施の形態において、流体透過性メッシュは9mmと0.25mmの間(例えば、9、・・・7、・・・4、・・・2、・・・1、・・・0.25mm)の直径を有する。他の実施の形態において、メッシュは細孔を画成し、その細孔は40マイクロメートル以下の平均細孔径を有する。追加の実施の形態において、そのメッシュは、ウェルの少なくとも一部の内部で天底からある距離に位置付けられるように構成されている。他の実施の形態において、フレームは天底から離れて延在するように構成されている。追加の実施の形態において、第1のウェルは上縁を画成し、メッシュはウェルの上縁上に配置されるように構成されている。さらなる実施の形態において、前記アセンブリは第2のウェルを備え、メッシュは、第2のウェル上に位置付けられるように構成されている。特定の実施の形態において、メッシュはメッシュ周囲を画成し、フレームはそのメッシュ周囲に沿ってメッシュを取り囲む。
いくつかの実施の形態において、ウェル(例えば、マイクロウェル)は、正弦波に似た断面形状を有する。そのような実施の形態において、ウェルの底部は丸くなっており(例えば、半球状に丸い)、側壁は、ウェルの底部から上部まで直径が増加し、ウェルの間の境界は丸くなっている。このように、ウェルの上部は、直角に終わっていない。いくつかの実施の形態において、ウェルは、底部と上部の間の中間点での直径D(D中間点とも称する)、ウェルの上部での直径D上部、およびウェルの底部から上部の高さHを有する。これらの実施の形態において、D上部はDより大きい。ウェルの幅が隣接するウェルの間の障壁の幅より大きい、追加の実施の形態が図7に示されている。そのような実施の形態により、培養表面の所定の面積内のウェルを多くすることができる。
本開示の主題の追加の特徴および利点は、以下の詳細な説明に述べられており、一部は、その説明から当業者に容易に明白となるか、または以下の詳細な説明、特許請求の範囲、並びに添付図面を含む、ここに記載された本開示の主題を実施することにより認識されるであろう。
先の一般的な説明および以下の詳細な説明の両方とも、本開示の主題の実施の形態を提示しており、特許請求の範囲に記載されたような本開示の主題の性質および特徴を理解するための概要または骨子を提供することが意図されているのが理解されよう。添付図面は、本開示の主題のさらなる理解を与えるために含まれ、本明細書に包含され、その一部を構成する。図面は、本開示の主題の様々な実施の形態を示しており、説明と共に、本開示の主題の原理および作動を説明する働きをする。その上、その図面および説明は、単なる例示であることを意味し、請求項の範囲をいかようにも限定することは意図されていない。
本開示の特定の実施の形態の以下の詳細な説明は、同様の構造が同様の参照番号により示されている、以下の図面と共に読まれたときに、もっともよく理解できる。
ウェルを有する細胞培養装置の実施の形態の斜視図 図1Aに示された装置の実施の形態の断面図 構造化表面の実施の形態のウェル内でスフェロイドとして増殖した細胞の概略上面図 球体トラップまたはウェル挿入体の実施の形態の斜視図 ある形状のメッシュを示す、図2Aのウェル挿入体の実施の形態の上面図 異なる形状のメッシュを示す、図2Aのウェル挿入体の実施の形態の上面図 複数のウェルおよび複数のウェル挿入体の実施の形態の概略断面図 複数のサブウェルを含むウェルおよびウェル挿入体の実施の形態の概略断面図 複数のウェルおよび1つのウェル挿入体を有する細胞培養装置の実施の形態の斜視図 正弦波または放物線形状を有するウェルのアレイの図 実施の形態における、スフェロイドを収容するウェルのアレイの側面図 ここに記載された装置の実施の形態を使用するための例示の方法を示す概略図
ここで、そのいくつかの実施の形態が添付図面に示されている、本開示の主題の様々な実施の形態を詳しく参照する。図面に使用される同様の番号は、同様の構成要素、工程などを指す。しかしながら、所定の図面においてある構成要素を指すためのある番号の使用は、同じ番号がふられた別の図面の構成要素を制限することは意図されていないことを理解すべきである。その上、構成要素を指すための異なる番号の使用は、異なる番号がふられた構成要素が他の番号がふられた構成要素と同じまたは類似であり得ないことを示すことは意図されていない。
本開示は、とりわけ、1つ以上のウェルを画成する基体、およびその1つ以上のウェルの少なくとも1つの中に位置付けられるであろう細胞培養ウェル挿入体を有する細胞培養装置を記載する。
いくつかの実施の形態において、前記ウェルは、そのウェル内で培養される細胞がスフェロイドを形成するように構成されることがある。例えば、そのウェルは、ウェル内の細胞が互いに結合し、スフェロイドクラスターを形成するように、細胞に対して非接着性であり得る。そのスフェロイドは、ウェルの形状により課せられるサイズ限界まで拡大することがある。いくつかの実施の形態において、そのウェルは、ウェルを細胞に対して非接着性にするために超低結合材料で被覆されることがある。細胞はウェルの表面に対して非接着性であるので、スフェロイドを吸引せずにまたは乱さずに、細胞培養培地を交換することは難しくなり得る。
スフェロイドなどの三次元で培養された細胞は、単層などの二次元で培養されたそれらの対応物よりも、インビボ様機能性を示すことができる。二次元の細胞培養システムにおいて、細胞は、それらが培養される基体に接着し得る。しかしながら、スフェロイドなどの細胞が三次元で増殖する場合、それらの細胞は、基体に接着するよりもむしろ、互いに相互作用する。三次元で培養される細胞は、細胞間のやり取りおよび細胞外基質の開発の観点から、インビボ組織により密接に似ている。それゆえ、スフェロイドは、細胞移動、分化、生存、および増殖に関する優れたモデルを提供し、したがって、研究、診断、並びに薬効、薬理学、および毒性試験のためのより良好なシステムを提供する。
いくつかの実施の形態において、前記装置は、その装置内で培養される細胞がスフェロイドを形成するように構成される。例えば、中で細胞が増殖するウェルは、細胞に対して非接着性であり、ウェル内の細胞を互いに結合させ、球体を形成させることができる。そのスフェロイドは、ウェルの形状により課せられるサイズ限界まで拡大する。いくつかの実施の形態において、それらのウェルは、そのウェルを細胞に対して非接着性にするために超低結合材料で被覆される。
非接着性材料の例としては、過フッ素化高分子、オレフィン、または同様の高分子、もしくはそれらの混合物が挙げられる。他の例には、アガロース、ポリアクリルアミドなどの非イオン性ハイドロゲル、ポリエチレンオキシドなどのポリエーテル、およびポリビニルアルコールなどのポリオール、または同様の材料もしくはそれらの混合物がある。例えば、非接着性ウェル、ウェル形状(例えば、サイズと形)、および/または重力の組合せにより、ウェル内で培養される細胞のスフェロイドへの自己集合が誘発される。あるスフェロイドは、単層中で増殖した細胞に対して、よりインビボ様応答を示す、分化細胞機能を維持する。間葉間質細胞などの他の細胞種類は、スフェロイドとして培養された場合、それらの多能性を維持する。
いくつかの実施の形態において、ここに記載されたシステム、装置、および方法は、1種類以上の細胞を含む。いくつかの実施の形態において、その細胞は凍結保存されている。いくつかの実施の形態において、その細胞は三次元培養される。そのようないくつかの実施の形態において、前記システム、装置、および方法は、1種類以上のスフェロイドを含む。いくつかの実施の形態において、その細胞の1種類以上は積極的に分割している。いくつかの実施の形態において、前記システム、装置、および方法は、培地(例えば、栄養素(例えば、タンパク質、ペプチド、アミノ酸)、エネルギー(例えば、炭水化物)、必須金属およびミネラル(例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、リン酸塩、硫酸塩)、緩衝剤(例えば、リン酸塩、酢酸塩)、pH変化の指示薬(例えば、フェノールレッド、ブロモクレゾールパープル)、選択剤(例えば、化学薬品、抗菌剤)など)を含む。いくつかの実施の形態において、1種類以上の試験化合物(例えば、薬剤)が、そのシステム、装置、および方法に含まれる。
多種多様な細胞種類が培養されるであろう。いくつかの実施の形態において、スフェロイドは、ただ1つの細胞種類を含有する。いくつかの実施の形態において、スフェロイドは、複数の細胞種類を含有する。いくつかの実施の形態において、複数の細胞種類を増殖させる場合、各スフェロイドは同じ種類のものであり、一方で、他の実施の形態において、2種類以上の異なる種類のスフェロイドを増殖させる。スフェロイドとして増殖する細胞は、天然細胞または変性細胞(例えば、1つ以上の非天然遺伝子変化を含む細胞)であってよい。いくつかの実施の形態において、細胞は体細胞である。いくつかの実施の形態において、細胞は、任意の所望の分化状態(例えば、多能性、多分化能、運命決定、不死化など)にある幹細胞または前駆細胞(例えば、胚幹細胞、誘導多能性幹細胞)である。いくつかの実施の形態において、細胞は、疾患細胞または疾患モデル細胞である。例えば、いくつかの実施の形態において、スフェロイドは、1種類以上の癌細胞または高増殖状態に誘起できる細胞(例えば、形質転換細胞)を含む。細胞は、以下に限られないが、副腎、膀胱、血管、骨、骨髄、脳、軟骨、頚部、角膜、子宮内膜、食道、胃腸、免疫系(例えば、Tリンパ球、Bリンパ球、白血球、マクロファージ、および樹枝状細胞)、肝臓、肺、リンパ管、筋肉(例えば、心筋)、神経、卵巣、膵臓(例えば、島細胞)、下垂体、前立腺、腎臓、唾液、皮膚、腱、精巣、および甲状腺を含む、どのような所望の組織または器官種類からのものであっても、もしくはそれに由来してもよい。いくつかの実施の形態において、細胞は哺乳類細胞(例えば、ヒト、マウス、ラット、ウサギ、イヌ、ネコ、ウシ、ブタ、ニワトリ、ヤギ、ウマなど)である。
培養された細胞には、多種多様の研究、診断、薬剤スクリーニングおよび試験、治療、および工業的利用に用途が見出されている。
いくつかの実施の形態において、前記細胞は、タンパク質またはウイルスの産生のために使用される。多数のスフェロイドを並行して培養するシステム、装置、および方法は、タンパク質産生にとって特に効果的である。三次元培養により、細胞密度を増加させ、細胞増殖表面積の平方センチメートル当たりのタンパク質収量を高めることができる。ワクチン生産のためのどの所望のタンパク質またはウイルスを、細胞中で増殖させ、要求通りの使用のために単離または精製してもよい。いくつかの実施の形態において、そのタンパク質はその細胞に対して天然タンパク質である。いくつかの実施の形態において、そのタンパク質は非天然である。いくつかの実施の形態において、そのタンパク質は組換え的に発現される。そのタンパク質が非天然プロモーターを使用して過剰発現されることが好ましい。そのタンパク質は融合タンパク質として発現されることがある。いくつかの実施の形態において、精製または検出タグが、その精製および/または検出を容易にするために、関心のあるタンパク質に対する融合パートナーとして発現される。いくつかの実施の形態において、精製後に融合パートナーの分離を可能にするために、融合は、開裂可能なリンカーと共に発現される。
いくつかの実施の形態において、前記タンパク質は治療用タンパク質である。そのようなタンパク質としては、以下に限られないが、欠損または異常(例えば、インスリン)である、既存の経路(例えば、阻害剤または作動物質)を増強する、新規の機能または活性を提供する、分子または微生物を妨げる、もしくは他の化合物またはタンパク質(例えば、放射性核種、細胞毒性薬、エフェクター・タンパク質など)を送達するタンパク質を置き換えるタンパク質およびペプチドが挙げられる。いくつかの実施の形態において、そのタンパク質は、任意の種類(例えば、ヒト化、二重特異性、多特異的、など)の抗体(例えば、モノクローナル抗体)などのイムノグロブリンである。治療用タンパク質の部類としては、以下に限られないが、抗体に基づいた薬剤、Fc融合タンパク質、抗凝固剤、抗原、血液因子、骨形態形成タンパク質、改変タンパク質の骨組み、酵素、成長因子、ホルモン、インターフェロン、インターロイキン、および血栓溶解剤が挙げられる。治療用タンパク質を使用して、癌、免疫疾患、代謝異常、継承された遺伝性疾患、感染、および他の疾病および症状を予防するまたは治療してもよい。
いくつかの実施の形態において、前記タンパク質は診断用タンパク質である。診断用タンパク質としては、以下に限られないが、抗体、親和結合パートナー(例えば、受容体結合リガンド)、阻害剤、拮抗薬などが挙げられる。いくつかの実施の形態において、その診断用タンパク質は、検出可能な部分(例えば、蛍光部分、発光部分(例えば、ルシフェラーゼ)、発色部分など)と共に発現されるか、または検出可能な部分である。
いくつかの実施の形態において、前記タンパク質は工業用タンパク質である。工業用タンパク質としては、以下に限られないが、食品成分、工業用酵素、農業用タンパク質、分析用酵素などが挙げられる。
いくつかの実施の形態において、前記細胞は、創薬、特徴付け、有効性試験、および毒性試験に使用される。そのような試験としては、以下に限られないが、薬理的効果の評価、発癌性評価、医用造影剤特徴評価、半減期評価、放射線安全性評価、遺伝毒性試験、免疫毒性試験、生殖および発達試験、薬物間相互作用評価、線量評価、吸着評価、処分評価、代謝評価、排出研究などが挙げられる。特異的細胞種類を特定の試験(例えば、肝臓毒性に関する肝細胞、腎臓毒性に関する腎近位尿細管上皮細胞、血管毒性に関する血管内皮細胞、神経毒性に関する神経細胞およびグリア細胞、心臓毒性に関する心筋細胞、横紋筋融解症に関する骨格筋細胞など)に使用してよい。治療された細胞を、以下に限られないが、膜完全性、細胞内代謝物含有量、ミトコンドリア機能、リソソーム機能、アポトーシス、遺伝子変化、遺伝子発現差などを含むいくつの所望のパラメータについて評価してもよい。
いくつかの実施の形態において、前記細胞培養装置は、より大型のシステムの構成部材である。いくつかの実施の形態において、そのシステムは、そのような細胞培養装置を複数(例えば、2、3、4、5、・・・、10、・・・、20、・・・、50、・・・、100、・・・、1000など)備えている。いくつかの実施の形態において、そのシステムは、最適培養条件(例えば、温度、気圧、湿度など)で培養装置を維持するためのインキュベータを備えている。いくつかの実施の形態において、そのシステムは、細胞を撮像するまたは他の様式で分析するための検出器を備えている。そのような検出器としては、以下に限られないが、蛍光光度計、照度計、カメラ、顕微鏡、プレート・リーダー(例えば、PERKIN ELMER ENVISIONプレート・リーダー;PERKIN ELMER VIEWLUXプレート・リーダー)、細胞分析装置(例えば、GE IN Cell Analyzer 2000および2200;THERMO/CELLOMICS CELLNSIGHT High Content Screening Platform)、および共焦点撮像システム(例えば、PERKIN ELMER OPERAPHENIXハイスループットコンテントスクリーニングシステム; GE INCELL 6000 Cell Imaging System)が挙げられる。いくつかの実施の形態において、そのシステムは、培地または他の成分を、培養される細胞に供給する、補給する、循環させるためのかん流システムまたは他の構成要素を備えている。いくつかの実施の形態において、そのシステムは、培養装置の取扱い、使用、および/または分析を自動化するためのロボット構成要素(例えば、ピペット、アーム、プレート・ムーバーなど)を備えている。
いくつかの実施の形態において、ここに記載されたような挿入体を使用できる前記細胞培養装置は、96ウェル丸底プレートなどのマルチウェル丸底プレートである。
細胞培養容器100の実施の形態が、図1Aおよび1Bに示されている。図1Aは、複数のウェル115を有する96ウェルプレートである実施の形態を示している。一般に、「ウェル」は、図1Aに示されたものなどのマクロウェルを意味する。しかしながら、どのタイプの細胞培養容器を提供してもよい。例えば、皿、6ウェルプレート、12ウェルプレート、24ウェルプレート、96ウェルプレート、384ウェルプレート、または1536ウェルプレートを提供してもよい。「マイクロウェル」は、一般に、ただ1つのスフェロイドを収容するように構築された小さいウェルを意味する。複数のウェル115は、様々な異なる配列で提供してもよい。例えば、複数のウェル115は、積み重ねられた、六方最密充填などであるパターンを画成することがある。実施の形態において、ウェル115は主面112に形成される。ウェル115は、図1Aに示されるような規則正しく並べられたウェル構造のアレイを含むことがある。基体110内に形成された丸底ウェルを示す、マルチウェル細胞培養容器の実施の形態の垂直断面図が図1Bに示されている。この実施の形態において、複数のウェル115の各々は、細胞培養装置100の主面112の下に落ち込み、上述したような、スフェロイドを形成するための位置を提供する丸底を有する。
実施の形態において、細胞培養容器100は、ここに記載されたような、挿入体を収容するのに適した、図1Aおよび図1Bに示されるようなマクロウェルを有することがある。これらのマクロウェルは、例えば、1536ウェルプレート内のウェル(一般に、深さが5.01mmであり、上部直径は1.69mmである)のような比較的小さいことがあるが、それでも、マイクロウェル(深さが500μmであり、幅が約500μmであり得る)よりずっと大きい。その上、実施の形態において、マクロウェルは、マイクロウェル125(図4の125も参照のこと)を含有する細胞培養表面(図4の126)を有することがある。これらのマイクロウェルは、各マイクロウェル内にただ1つのスフェロイドを収容するように構築されている。マイクロウェルのサイズおよび形状は、先に述べたように、スフェロイドの形成を誘発することがある。図1Cは、六方最密充填マイクロウェルのアレイを含む構造化表面113の実施の形態のマイクロウェル125(125として図4に示されている)内で増殖される細胞200を示す概略図である。いくつかの実施の形態において、各ウェル125内の細胞200は、図1Cに示されるように、ただ1つのスフェロイドを形成する。マイクロウェルは、図1Cに示されたものを含むどの形態または形状または配置をとってもよい。
図2A〜Cは、実施の形態において、細胞培養容器100のウェル115内に挿入できる、細胞培養挿入体の実施の形態を示している。これらは、マクロウェル挿入体である。
複数のウェル115の各々は、図2Aに示されるように、スフェロイド捕捉用挿入体、またはウェル挿入体、または挿入体150を含むことがある。ウェル挿入体150は、ウェル115の少なくとも一部中に位置付けられるように構成されることがある。ウェル挿入体150、またはその一部は、どの適切な材料から作られてもよい。細胞または培地と接触することが意図されている材料が、その細胞および培地に適合していることが好ましい。典型的に、細胞培養構成要素は、高分子材料から形成される。適切な高分子材料の例としては、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリスチレン共重合体、フルオロポリマー、ポリエステル、ポリアミド、ポリスチレンブタジエン共重合体、完全に水素化されたスチレン重合体、ポリカーボネートPDMS共重合体、並びにポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリプロピレン共重合体および環状オレフィン共重合体などのポリオレフィン等が挙げられる。
図2Aに示されるように、ウェル挿入体150は、フレーム160を含むことがある。フレーム160は、第1の端部161、第2の端部162、および第1の端部161と第2の端部162の間に延在する少なくとも1つの支持体163を有することがある。図示されるように、第1の端部161は開口または開口部164を画成することがある。第1の端部161の開口164は、ウェルの上部開口と整列し、ウェルの内部の少なくとも一部へのアクセスを可能にすることがある。いくつかの実施の形態において、第1の端部161は、ウェルの外側にあり、ウェルの上部開口から離れて置かれることがある(図4参照)。フレーム160の第1の端部161は、様々な形状、例えば、円形、正方形、矩形、菱形、六角形などにより画成されることがある。いくつかの実施の形態において、第1の端部161の形状は、ウェルの上部開口の形状に一致することがある。
図2Aに示されるように、フレーム160の第1の端部161は、フレーム160がウェルの少なくとも一部の中に位置付けられるように構成されることがある。例えば、フレーム160は、ウェルの上部開口からウェル中に下方に延在することがある。いくつかの実施の形態において、第1の端部161の形状は、フレーム160をウェルの上部開口に近接した位置に保持するのに役立つことがある。図2Aに示されるように、フレーム160は、フレーム160の第1の端部161から延在する1つ以上のフランジ168を備えることがある。1つ以上のフランジ168は、フレーム160をウェルの少なくとも一部の中に位置付けるのに役立つことがある。例えば、1つ以上のフランジ168は、フレーム160をウェルの少なくとも一部の中に位置付けるようにウェルに近接した部分と接触することがある。いくつかの実施の形態において、1つ以上のフランジ168は、フレーム160をウェルの少なくとも一部の中に位置付けるように細胞培養装置のある他の部分と接触することがある。
支持体163は側壁であることがある。ウェル挿入体150のフレーム160の支持体163は、図2A〜2Cに示されるように、ウェル挿入体150の第1と第2の端部161、162の間に延在し、それらに連結されることがある。図2Bおよび2Cに示されるように、フレーム160は4つの支持体166を備える。フレーム160は、4つ未満の支持体(例えば、1つの支持体、2つの支持体、3つの支持体など)、4つの支持体、または5つ以上の支持体(例えば、5つの支持体、6つの支持体、8つの支持体、10の支持体など)を備えてもよい。1つ以上の支持体163としては、例えば、ワイヤ、バー、ロッドが挙げられる。第1と第2の端部161、162の間に延在する1つ以上の支持体163は、実質的に開いたフレームを画成することがある。言い換えると、第1と第2の端部161、162の間の空間は、概して開いている。いくつかの実施の形態において、1つ以上の支持体163は、第1と第2の端部161、162から延在し、それらに連結した側壁を含むことがある。いくつかの実施の形態において、その側壁は、第2の端部162の縁または周囲を完全に取り囲むことがある。言い換えると、その側壁は、第1と第2の端部161、162の間の区域を包囲し、したがって、フレーム160の閉じた管状構造を画成することがある。その側壁支持体は、様々な異なる特徴、例えば、中実、多孔質、流体透過性によって規定されることがある。
フレーム160の第2の端部162が開口165を画成することがある。第2の端部162の開口165は、フレーム160がウェルの少なくとも一部の中に位置付けられたときに、第1の端部161がウェルの底部に対するよりも、ウェルの底部により近いことがある。
ウェル挿入体150は、フレーム160に連結され、第2の端部162の開口165に亘り配置された流体透過性メッシュ170も備えることがある。メッシュ170は細孔171を画成することがある。細孔171は、およそ、例えば、5マイクロメートル以上、10マイクロメートル以上、20マイクロメートル以上、35マイクロメートル以上、50マイクロメートル以上など、または200マイクロメートル以下、90マイクロメートル以下、75マイクロメートル以下、60マイクロメートル以下、45マイクロメートル以下などの平均細孔径を有することがある。いくつかの実施の形態において、それらの細孔は、約40マイクロメートルの平均細孔径を有することがある。細孔171は、スフェロイドがメッシュ170を通り抜けるのを防ぐサイズであると規定されることがある。また、細孔171は、個々の細胞がメッシュ170を通り抜けられるサイズであると規定されることがある。メッシュは、以下に限られないが、トラックエッチング膜、もしくは織物または不織布多孔質材料を含む、様々な異なる材料から作られてよい。多孔質膜の材料を処理または被覆して、その膜をより接着性、湿潤性、または細胞に対してより非接着性にしてもよい。処理に、プラズマ放電、コロナ放電、気体プラズマ放電、イオン衝撃、イオン化放射、および高強度紫外線を含む、当該技術分野で公知のいくつの方法が伴ってもよい。コーティングは、印刷、吹き付け、凝縮、放射エネルギー、イオン化技術または浸漬を含む、当該技術分野で公知のどの適切な方法により導入しても差し支えない。ある実施の形態において、次いで、コーティングは、共有結合または非共有結合部位のいずれかを与えることがある。そのような部位は、細胞培養構成要素(例えば、増殖または接着を促進するタンパク質)などの部位に付着するのに使用できる。さらに、コーティングは、細胞(例えば、ポリリジン)の結合を向上させるために使用してもよい。あるいは、上述したような細胞非接着性コーティングを使用して、細胞結合を防ぐまたは阻害しても差し支えない。いくつかの実施の形態において、そのメッシュは、ナイロンまたはポリエステルメッシュを含む。
いくつかの実施の形態において、前記メッシュは、第1と第2の端部の間に配置されることもある。メッシュまたは側壁が第1と第2の端部の間に延在する、そのような実施の形態において、フレームは、フレームの内部空間または空洞を画成することがある。言い換えると、フレームの内部空間または空洞は、第2の開口に亘り配置されたメッシュおよび第1と第2の端部の間に延在する側壁(例えば、メッシュ、固体など)により画成されるであろう。
第2の端部162の開口165、およびそれゆえメッシュ170は、様々な形状、例えば、正方形、矩形、円形、六角形などにより画成されることがある。図2Bに示されるように、第2の端部162の開口165は円形により画成されることがある。図2Cに示されるように、第2の端部162の開口165は正方形により画成されることがある。第2の端部162の形状は、ウェル挿入体150が中に位置付けられたときに、スフェロイドがウェルを出るのを防ぐと記載されることがある。言い換えると、フレーム160の第2の端部162の形状は、フレーム160の第2の端部162とウェルの側部の間のどの空隙も、スフェロイドを通り抜けさせるほど十分に大きくはないようにウェルの形状に対応することがある。例えば、第2の端部162は、ウェルの側部により画成されるのと同じサイズの形状を画成し、それにより、それら2つの間にどのような空間もなくなることがある。
いくつかの実施の形態において、細胞培養容器100は、図3に示されるように、1つ以上のウェル115および1つ以上のウェル挿入体150を備えることがある。図示されるように、各ウェル115は対応するウェル挿入体150を収容している。ウェル挿入体150は、ウェル115の少なくとも一部の中に位置付けられるように構成される。言い換えると、ウェル挿入体150はウェル115の少なくとも一部の中に挿入されることがあり、ウェル挿入体150は、ウェル115の少なくとも一部から取り出されることがある。いくつかの実施の形態において、1つ以上のウェル挿入体150は、1つ以上のウェル挿入体150が1つ以上のウェル115に同時に出し入れできるように、互いに連結されることがある。1つ以上のウェル115はフレーム160を使用して連結されることがある。他の実施の形態において、1つ以上のウェル挿入体150の各々は、対応するウェル115から個々に出し入れできるように構成されることがある。言い換えると、実施の形態において、1つ以上のウェル挿入体150のいずれも互いに結合されていない。さらに他の実施の形態において、1つ以上のウェル挿入体は、用途に基づいて、様々な組合せで互いに結合されることがある。例えば、1つ以上のウェル挿入体は、約384、96、48、24、12、6などの群で結合されることがある。
図4に示されるような、追加の実施の形態において、ウェル115は、ウェルの底部に細胞培養表面126を有することがある。実施の形態において、その細胞培養表面は、少なくとも一部に、マイクロウェル125のアレイを有する構造化表面113を有する。
ここに記載されたような、細胞培養装置100の構造化表面113は、どのような適切なサイズまたは形状を有してもよい、いくつの適切な数のマイクロウェル125を画成してもよい。マイクロウェル125はそのサイズと形状に基づく容積を規定する。多くの実施の形態において、ウェル125の1つ以上または全ては、縦軸の周りに対称に回転可能である。いくつかの実施の形態において、マイクロウェル125の1つ以上または全ての縦軸は、互いに平行である。マイクロウェル125は、均一にまたは不均一に間隔が開けられていてもよい。マイクロウェル125が均一に間隔が開けられていることが好ましい。マイクロウェル125の1つ以上または全てが、同じサイズと形状を有することがあり、異なるサイズと形状を有しても差し支えない。
ある実施の形態において、ウェル115は、主面112の下に延在する、ウェルの底部を画成する基体110により画成されることがある。1つ以上のウェル115の各ウェルは、内面120、外面140、および上部開口118を画成する。いくつかの実施の形態において、ウェル115は、基体110を通じてガス透過性であることがある。基体110を通る外面140へのウェル115のガス透過性は、一部には、基体の材料およびウェル115に沿った基体の厚さに依存する。例えば、ウェルのガス透過性は、同一出願人による米国仮特許出願第62/072088号明細書に記載されたようなものであってよく、その米国仮特許出願は、本開示と矛盾しない程度までここに完全に引用される。
ウェルの内面は、上部開口118と反対の、天底116、または最低点を規定する。さらに図3を参照して、ウェル115は、天底116から上部開口118までの高さにより規定される深さdを有する。ウェル115は、上部開口118により規定されるウェルに亘り直径、幅などの直径寸法wも有する。ウェルはどのような適切な深さdおよび直径寸法wを有してもよい。いくつかの実施の形態において、ウェルの深さd、直径寸法wおよび形状は、ウェルを形成する材料と共に、細胞が中で増殖できる容積を画成する働きをする。
いくつかの実施の形態において、ここに記載されたウェル115は、約200マイクロメートルから約500マイクロメートルの範囲の直径寸法wを有する。そのような直径寸法は、スフェロイド130の内部の細胞が健康な状態に維持されるように、その中で増殖するスフェロイド130のサイズを制御することができる。いくつかの実施の形態において、ウェル115は、約100マイクロメートルから約500マイクロメートルの範囲の深さdを有する。もちろん、3000マイクロメートルまでまたはそれより大きい寸法などの他の適切な寸法も使用してもよい。
いくつかの実施の形態において、ウェル115の内面は細胞に対して非接着性である。ウェル115は、非接着性ウェルを形成するために、非接着性材料から形成されても、または非接着性材料で被覆されてもよい。いくつかの実施の形態において、その非接着性材料は、超低接着材料と記載されることがある。非接着性材料の例としては、過フッ素化高分子、オレフィン、または同様の高分子もしくはそれらの混合物が挙げられる。他の例には、アガロース、ポリアクリルアミドなどの非イオン性ハイドロゲル、またはポリエチレンオキシドなどのポリエーテル、またはポリビニルアルコールなどのポリオール、または同様の材料もしくはそれらの混合物があるであろう。例えば、非接着性ウェル、ウェル形状、および重力の組合せにより、ウェル内で培養される細胞のスフェロイド130への自己集合が誘発されることがある。あるスフェロイド130は、単層内で増殖した細胞に対して、よりインビボ様応答を示す分化細胞機能を維持することができる。
図4に示されるように、内面120は、上部開口118から天底116まで様々な異なる形状を画成することがある。例えば、いくつかの実施の形態において、1つ以上のウェル115は、半球または窪んだ表面、丸底を有する円錐表面、および同様の表面形状またはその組合せなどの弧状表面により画成されることがある。ウェル115の天底116は、窪み、へこみ、および同様の凹面円錐台状起伏表面、またはそれらの組合せなどの、スフェロイドを助長する丸まったまたは湾曲表面で、最終的に有限である、端部、または底になることがある。ガス透過性スフェロイド助長ウェルの他の形状および構造が、同一出願人による米国特許出願第14/087906号明細書に記載されており、この出願は、本開示と矛盾しない程度まで、ここに完全に引用される。
いくつかの実施の形態において、内面120は、平らまたは先細であることがある。内面120は、どの他の適切な形状または寸法を有してもよい。
いくつかの実施の形態において、メッシュ170は、細胞がウェル115内に播種されているときに、個々の細胞がメッシュを通り抜けるように構成されることがある。例えば、細孔171は、個々の細胞より大きい平均細孔径を有することがある。しかしながら、細胞がスフェロイド130の形を成した後、スフェロイド130は、メッシュ170を通って戻れないほど大きいであろう。スフェロイド130がメッシュ170と内面120の天底116の間に一旦位置付けられたら、メッシュ170は、誤りの見込みを減少させることによって、ユーザの効率を増加させるのに役立つこともある。例えば、メッシュ170が存在すると、ピペットがスフェロイド130と接触するのが防がれる。その上、メッシュ170は、ウェル115に導入されたり、そこから吸い出される培地の流れを拡散させたりするのに役立つであろう。この拡散は、渦がスフェロイド130を乱すのを防ぐのに役立つであろう。
いくつかの実施の形態において、ウェルの周りの基体の厚さおよび形状は、内面に入り、外面から出る光の屈折を補正するように構成されている。例えば、その形状および厚さは、同一出願人による米国仮特許出願第62/072019号明細書に記載されたようなものであってよく、その米国仮特許出願は、本開示と矛盾しない程度までここに完全に引用される。
いくつかの実施の形態において、前記ウェル挿入体150は、流体透過性メッシュ170およびフレーム160を備えることがある。図3に示されるように、ウェル挿入体150は、メッシュ170が天底116からある距離119でウェル115内に位置付けられるようにウェル115中に少なくとも部分的に挿入されるように構成されている。フレーム160は、メッシュ170に結合され、ウェル挿入体150がウェル115内に位置付けられているときに、天底116から離れて延在することがある。フレーム160は、ウェル挿入体150をウェル115に出し入れするのに役立てるために使用してもよい。いくつかの実施の形態において、フレーム160は、メッシュ170を天底116から距離119に位置付けるように構成されることがある。例えば、フレーム160は、ウェルの上縁121に接触して、メッシュ170を天底116から距離119に位置付けることがある。別の例において、細胞培養アセンブリ100は、メッシュ170が天底116から距離119に位置付けられることを確実にするようにフレーム160と接触する支持体を備えることがある。別の実施の形態において、メッシュ170は、ウェル115の内面120と接触し、それによって、メッシュ170の底116からの距離119を制御してもよい。
図4に示されるように、ウェル115は、ウェル115の内面に沿った細胞培養表面126上に少なくとも1つのマイクロウェル125を含むことがある。いくつかの実施の形態において、複数のマイクロウェル125が、ウェル115の内面120に沿って位置付けられている。マイクロウェル125は、上述したウェル115と同様の特徴を有することがある。あるいは、細胞培養装置は貯留部を備えることがあり、その貯留部は、ここに記載されたような複数のウェルを備えることがある。図4に示されるように、ウェル115は、図3と同様に、ウェル115の内面とウェル115の上部開口の間に位置付けられたウェル挿入体150をその中に収容してもよい。
いくつかの実施の形態において、細胞培養アセンブリ500は、図5に示されるように、ウェル515、525のアレイ、流体透過性メッシュ570、およびメッシュ570に結合したフレーム560を有する貯留部521を備えることがある。フレーム560は、メッシュ570を第1のウェル515の少なくとも一部の上の位置に維持するように構成されることがある。いくつかの実施の形態において、メッシュ570は、第1のウェル515の上縁520の上に配置されるように構成されている。いくつかの実施の形態において、細胞培養アセンブリ500は第2のウェル525を備えることがあり、メッシュ570は、第2のウェル525の上に位置付けられるように構成されている。
細胞培養容器のウェル115内にスフェロイドを収容する、すなわち、ウェル115内の細胞培養培地を交換することなどの過程の最中にスフェロイドがウェル115から出るのを防ぐのに役立てるために、ここに記載されたようなウェル挿入体を使用してもよい。いくつかの実施の形態において、ウェル挿入体150(例えば、図2A)がウェル115の少なくとも一部の中に位置付けられているときに、細胞培養装置100を傾けて細胞培養培地を除去してもよい。他の実施の形態において、ウェル挿入体150がウェル115の少なくとも一部の中に位置付けられているときに、ピペットを使用して、細胞培養培地を除去してもよい。ピペットと組み合わせてウェル挿入体150を使用すると、ピペットがスフェロイドに影響を与える虞が低下するであろう、例えば、ピペットはスフェロイドを吸引できない。
図6は、マイクロウェルのアレイ601が正弦波または放物線形状を有することがあることを示している。この正弦波または放物線形状は、丸まった上部および丸まったウェル底部を有する。図6に示されるように、ウェル615は、上部直径D上部を有する上部開口、ウェルの底部616からウェルの上部までの高さH、およびウェルの上部とウェルの底部616の間の高さの中間点613でのウェルの直径D中間を有する。実施の形態において、細胞培養容器のアレイのウェルは、細胞が挿入体と細胞培養ウェルの底面または天底との間に一旦捕捉されたら、スフェロイドの形成を誘発するために、ウェルのアレイの内部に、図6および図7に示されたものなどの構造を有するマイクロウェルのアレイを有することがある。
図7は、マイクロウェルのアレイの概略図である。図7は、構造化表面113のアレイに配列された複数のマイクロウェル615を示している。その複数のマイクロウェル615内に存在する複数のスフェロイド500も、図7に示されている。実施の形態において、細胞培養容器の天底または細胞培養表面、例えば、96ウェルプレートのウェルの床は、スフェロイドの形成を誘発する、マイクロウェルのアレイを有する基体であってよい。これは、構造化底面とも呼ばれる。
細胞培養装置のウェルから培地を除去するための方法800が、図8に示されている。そのウェルは、天底を含む内面を画成する。挿入体の端部がウェル内に位置され810、挿入体の端部が、挿入体の空洞を流体連通する開口を画成している。挿入体は開口に亘り配置された流体透過性メッシュを備え、その挿入体の端部は、そのメッシュが天底からある距離に位置付けられるようにウェル内に配置されている。流体除去装置の先端が、その先端が、メッシュから天底までの距離と少なくとも同じくらい遠い天底からの距離にあるように、挿入体の空洞中に挿入される820。流体除去装置により流体を吸い込むことによって、流体がウェルから除去される830。図8は、ここに記載されたような装置の実施の形態を使用するための例示の方法800を示す概略図である。最初に、810において、この方法は、メッシュが天底からある距離に位置付けられるように挿入体の端部をウェル中に配置する。第2に、820において、この方法は、流体除去装置の先端を、その先端が少なくとも天底からある距離にあるように挿入体の空洞中に挿入する。第3に、830において、その方法は、流体除去装置により流体を吸い込むことによって、流体をウェルから除去する。
ここに記載されたような構造化底面は、どのような適切な方法で形成しても差し支えない。例えば、基体を成形して構造化表面を形成しても差し支えなく、基体フイルムにエンボス加工して、構造化表面を形成して差し支えないなどである。
ここに記載されたような構造化底面は、どのような適切な方法で細胞培養装置に組み込んでも差し支えない。例えば、構造化底面および細胞培養装置の1つ以上の他の構成部材を単一部品として成形してもよい。いくつかの実施の形態において、構造化底面またはその一部が、細胞培養装置の1つ以上の他の構成部材に溶接(例えば、熱溶接、超音波溶接など)、接着または熱成形される。
ここに記載された細胞培養ウェル挿入体が、例えば、スフェロイドの上部にウェル挿入体を収容する複数のウェル/チャンバ上を培地が流れる細胞培養装置に使用されることがある。いくつかの実施の形態において、細胞培養挿入体は、細胞培養装置と一体(例えば、それに結合されている、またはその成形部品)である。ある実施の形態において、ウェル挿入体は、ウェル内のスフェロイドがウェルから出て、細胞培養かん流装置を通過する培地の流れに入るのを防ぐ。図5に示されるような特定の実施の形態において、複数のウェルを覆うために、ただ1つの挿入体が使用される。そのような挿入体は、細胞培養装置中に挿入できるか、またはその一体部品であり得る。その細胞培養装置は、酸素供給器の有無にかかわらずに使用してよい。酸素供給器を必要としない例示の細胞培養装置(例えば、ウェルがガス透過性であり、装置内に通気道が設けられている)が、図8および9を参照して、下記に記載されている。
ここに使用した全ての科学用語および技術用語は、特に明記のない限り、当該技術分野で一般に使用される意味を持つ。ここに与えられた定義は、ここに頻繁に使用される特定の用語の理解を促進するためであり、本開示の範囲を限定する意図はない。
ここに用いたように、名詞は、特に明記のない限り、複数の対象を指す。それゆえ、例えば、「構造化底面」は、特に明記のない限り、そのような「構造化底面」を2つ以上有する例を含む。
本明細書および付随する特許請求の範囲に使用されているように、「または」という用語は、特に明記のない限り、「および/または」を含む意味で一般に使用されている。「および/または」という用語は、列挙された要素の内の1つまたは全て、もしくは列挙された要素のいずれか2つ以上の組合せを意味する。
ここに用いたように、「持つ」、「有する」、「含む」、「備える」などは、制約のない包括的な意味で使用され、概して、「含むが、それに限られない」ことを意味する。
「随意的な」または「必要に応じて」は、その後に記載された事象、状況、または構成要素が、生じ得るまたは生じ得ないことを意味し、その記載が、その事象、状況、または構成要素が生じる場合と、生じない場合を含むことを意味する。
「好ましい」および「好ましくは」という単語は、特定の状況下で特定の恩恵を提供するであろう、本開示の実施の形態を指す。しかしながら、同じまたは他の状況下で、他の実施の形態が好ましいこともある。さらに、1つ以上の好ましい実施の形態の列挙は、他の実施の形態が有用ではないことを意味せず、本発明の技術の範囲から他の実施の形態を排除する意図はない。
範囲は、「約」1つの特定の値から、および/または「約」別の特定の値まで、とここに表現され得る。そのような範囲が表現された場合、例は、その1つの特定の値から、および/または他方の特定の値まで、を含む。同様に、値が、先行詞「約」の使用により、近似として表現される場合、特定の値は別の態様を形成することが理解されよう。範囲の各端点は、他の端点に関してと、他の端点とは関係なくの両方で有意であることがさらに理解されよう。
端点による数値範囲の列挙は、その範囲内に含まれる全ての数字を含む(例えば、1から5は、1,1.5、2、2.75、3、3.80、4、5など)。値の範囲が、たとえば、特定の値「より大きい」、「未満」などである場合、その値は、その範囲に含まれる。
「天」、「底」、「左」、「右」、「上部」、「下部」、「上」、「下」並びに他の方向および向きなどのここに称されるどの方向も、図面に関する明瞭さのためにここに記載され、実際の装置またはシステム、若しくはその装置またはシステムの使用を制限するものではない。ここに記載された装置、物品またはシステムの多くは、多数の方向および向きで使用してよい。細胞培養装置に関してここに記載される方向の記述語は、しばしば、その装置が、装置内で細胞を培養する目的のために向けられたときの方向を指す。
特に明記のない限り、ここに述べられたどの方法も、その工程が特定の順序で行われることを必要とすると解釈されることは決して意図されていない。したがって、方法の請求項が、その工程が従うべき順序を実際に列挙していない、または工程が特定の順序に限定されることが請求項または記載に他に具体的に述べられていない場合、どの特定の順序も推測されることは決して意図されていない。いずれか1つの請求項においてどの列挙された1つまたは多数の特徴または態様も、どの他の請求項におけるどの他の列挙された特徴または態様と組み合わせても、並べ替えられても差し支えない。
ここでの列挙は、特定の様式で機能するように「構成」または「適用」されている構成要素を指すことも留意のこと。この点に関して、そのような構成要素は、そのような列挙が、目的とする使用の列挙とは異なり、構造的列挙である場合、特定の性質を具体化する、または特定の様式で機能するように「構成」または「適用」されている。より詳しくは、構成要素が「構成」または「適用」される様式のここでの列挙は、その構成要素の既存の物理的条件を示し、それゆえ、その構成要素の構造的特徴の明白な列挙として解釈すべきである。
特定の実施の形態の様々な特徴、要素または工程が、移行句「含む」を使用して開示されることがあるが、移行句「からなる」または「から実質的になる」を使用して記載されることのあるものを含む代わりの実施の形態が暗示されることを理解すべきである。それゆえ、例えば、フレームおよびメッシュを含む挿入体に対して暗示される代わりの実施の形態は、挿入体がフレームおよびメッシュからなる実施の形態、並びに挿入体がフレームおよびメッシュから実質的になる実施の形態を含む。
本開示の精神および範囲から逸脱せずに、本発明の技術に対して様々な改変および変更が行えることが、当業者に明白であろう。本発明の技術の精神および実体を含む開示の実施の形態の改変、組合せ、下位の組合せ、および変更が、当業者に想起されるであろうから、本発明の技術は、付随の特許請求の範囲およびその同等物の範囲に全てを含むと解釈されるべきである。
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
実施形態1
細胞培養アセンブリにおいて、
開口および天底を有する少なくとも1つのウェルを含む細胞培養容器、および
前記細胞培養容器の前記少なくとも1つのウェルの内部に収まる構造の挿入体であって、第1の開放端部、および開口を有する第2の端部を含み、該第1の開放端部および該第2の端部がそれらの間に空洞を画成している、挿入体、
を備え、
前記第2の端部が、10マイクロメートルから200マイクロメートルの範囲の平均細孔径を有する細孔を含む流体透過性メッシュを備える、細胞培養アセンブリ。
実施形態2
前記細胞培養容器が細胞培養表面を備え、該細胞培養表面が、マイクロウェルのアレイを有する基体から作られている、実施形態1に記載の細胞培養アセンブリ。
実施形態3
前記挿入体が、前記第1の開放端部から前記第2の端部まで延在する、側壁、または複数の支持体をさらに備える、実施形態1または2に記載の細胞培養アセンブリ。
実施形態4
前記側壁の少なくとも一部が前記メッシュを構成する、実施形態3に記載の細胞培養アセンブリ。
実施形態5
前記挿入体が前記第1の開放端部から延在する1つ以上のフランジをさらに備える、実施形態1から4いずれか1つに記載の細胞培養アセンブリ。
実施形態6
前記挿入体が、側壁から延在する1つ以上のフランジをさらに備える、実施形態5に記載の細胞培養アセンブリ。
実施形態7
前記ウェルが上縁をさらに画成し、前記挿入体の第1の開放端部が該ウェルの上縁に接触して、前記メッシュを前記天底からある距離に位置付ける、実施形態1から6いずれか1つに記載の細胞培養アセンブリ。
実施形態8
支持体をさらに備え、前記挿入体が該支持体と接触して、前記メッシュを前記天底からある距離に位置付ける、実施形態7に記載の細胞培養アセンブリ。
実施形態9
前記メッシュが、40マイクロメートル以下の平均細孔径を有する、実施形態1から8いずれか1つに記載の細胞培養アセンブリ。
実施形態10
前記ウェルが、前記開口から前記天底まで円錐形状を構成する、実施形態3から9いずれか1つに記載の細胞培養アセンブリ。
実施形態11
前記挿入体の内面の少なくとも一部が、該挿入体の内面に対する細胞接着を防ぐように処理または被覆されている、実施形態1から10いずれか1つに記載の細胞培養アセンブリ。
実施形態12
前記ウェルの内面の少なくとも一部が、該ウェルの内面に対する細胞接着を防ぐように処理または被覆されている、実施形態1から11いずれか1つに記載の細胞培養アセンブリ。
実施形態13
実施形態1から12いずれか1つに記載の細胞培養アセンブリ内でスフェロイド細胞を培養する方法であって、
ウェル内に挿入体を位置付ける工程、
該挿入体の空洞中に細胞および培地を入れる工程、および
細胞を前記挿入体のメッシュに通過させ、前記ウェルの天底と該挿入体のメッシュとの間の空間にスフェロイドを形成させる工程、
を有してなる方法。
100 細胞培養容器、細胞培養装置、細胞培養アセンブリ
110 基体
112 主面
113 構造化表面
115、515、525、615 ウェル
116、616 天底
118 上部開口
120 内面
125 マイクロウェル
130 スフェロイド
140 外面
150 ウェル挿入体
160、560 フレーム
161 第1の端部
162 第2の端部
163 支持体
164 開口
168 フランジ
170、570 流体透過性メッシュ
171 細孔
200 細胞
500 細胞培養アセンブリ、スフェロイド

Claims (14)

  1. 細胞培養アセンブリにおいて、
    開口および天底を有する少なくとも1つのウェルを含む細胞培養容器、および
    前記細胞培養容器の前記少なくとも1つのウェルの内部に収まる構造の挿入体であって、第1の開放端部、および開口を有する第2の端部を含み、該第1の開放端部および該第2の端部がそれらの間に空洞を画成している、挿入体、
    を備え、
    前記第2の端部が流体透過性メッシュを備え、
    前記細胞培養容器が細胞培養表面を備え、該細胞培養表面が、マイクロウェルのアレイを有する基体から作られており、
    前記ウェル中で培養される細胞は、マイクロウェルのアレイにおけるマイクロウェル中でスフェロイドを形成するように構成されており、
    各マイクロウェルは、上部開口、側壁、およびガス透過性底を備え、前記底は細胞に非接着性である、細胞培養アセンブリ。
  2. 前記メッシュが、10マイクロメートルから200マイクロメートルの範囲の平均細孔径を有する細孔を含む、請求項1記載の細胞培養アセンブリ。
  3. 前記ウェルが、該ウェル内で培養された細胞が前記マイクロウェルのアレイ内にスフェロイドを形成するように構成されている、請求項1または2記載の細胞培養アセンブリ。
  4. 前記メッシュの細孔が、個々の細胞が該メッシュを通り抜けられるのを可能にし、前記マイクロウェルのアレイ内に形成されたスフェロイドが該メッシュを通り抜けるのを防ぐサイズのものである、請求項3記載の細胞培養アセンブリ。
  5. 前記挿入体が、前記第1の開放端部から前記第2の端部まで延在する、側壁、または複数の支持体をさらに備える、請求項1から4いずれか1項記載の細胞培養アセンブリ。
  6. 前記側壁の少なくとも一部が前記メッシュを構成する、請求項5記載の細胞培養アセンブリ。
  7. 前記挿入体が前記第1の開放端部から延在する1つ以上のフランジをさらに備える、請求項1から6いずれか1項記載の細胞培養アセンブリ。
  8. 前記ウェルが上縁をさらに画成し、前記挿入体の第1の開放端部が該ウェルの上縁に接触して、前記メッシュを前記天底からある距離に位置付ける、請求項1から7いずれか1項記載の細胞培養アセンブリ。
  9. 支持体をさらに備え、前記挿入体が該支持体と接触して、前記メッシュを前記天底からある距離に位置付ける、請求項8記載の細胞培養アセンブリ。
  10. 前記メッシュが、40マイクロメートル以下の平均細孔径を有する、請求項1から9いずれか1項記載の細胞培養アセンブリ。
  11. 前記ウェルが、前記開口から前記天底まで円錐形状を構成する、請求項1から9いずれか1項記載の細胞培養アセンブリ。
  12. 前記挿入体の内面の少なくとも一部が、該挿入体の内面に対する細胞接着を防ぐように処理または被覆されている、請求項1から11いずれか1項記載の細胞培養アセンブリ。
  13. 請求項1から12いずれか1つに記載の細胞培養アセンブリ内でスフェロイド細胞を培養する方法であって、
    ウェル内に挿入体を位置付ける工程、
    該挿入体の空洞中に細胞および培地を入れる工程、および
    細胞を前記挿入体のメッシュに通過させ、前記ウェルの天底と該挿入体のメッシュとの間の空間にスフェロイドを形成させる工程、
    を有してなる方法。
  14. 請求項1から12いずれか1つに記載の細胞培養アセンブリから培地を除去する方法であって、
    ウェル内に挿入体を位置付ける工程、
    該挿入体の空洞中に細胞および培地を入れる工程、
    細胞を前記挿入体のメッシュに通過させ、前記ウェルの天底と該挿入体のメッシュとの間の空間にスフェロイドを形成させる工程、および
    前記ウェルから前記挿入体の上より前記培地を除去する工程、
    を有してなる方法。
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