JP2020012892A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2020012892A5
JP2020012892A5 JP2018133431A JP2018133431A JP2020012892A5 JP 2020012892 A5 JP2020012892 A5 JP 2020012892A5 JP 2018133431 A JP2018133431 A JP 2018133431A JP 2018133431 A JP2018133431 A JP 2018133431A JP 2020012892 A5 JP2020012892 A5 JP 2020012892A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mark
exposure apparatus
central
sensitivity region
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018133431A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7186531B2 (ja
JP2020012892A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2018133431A external-priority patent/JP7186531B2/ja
Priority to JP2018133431A priority Critical patent/JP7186531B2/ja
Priority to TW108123212A priority patent/TWI764013B/zh
Priority to US16/508,616 priority patent/US10754255B2/en
Priority to KR1020190084200A priority patent/KR102520401B1/ko
Priority to CN201910626935.3A priority patent/CN110716395B/zh
Publication of JP2020012892A publication Critical patent/JP2020012892A/ja
Publication of JP2020012892A5 publication Critical patent/JP2020012892A5/ja
Publication of JP7186531B2 publication Critical patent/JP7186531B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2018133431A 2018-07-13 2018-07-13 露光装置、および物品製造方法 Active JP7186531B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018133431A JP7186531B2 (ja) 2018-07-13 2018-07-13 露光装置、および物品製造方法
TW108123212A TWI764013B (zh) 2018-07-13 2019-07-02 曝光裝置及物品製造方法
US16/508,616 US10754255B2 (en) 2018-07-13 2019-07-11 Exposure apparatus and article manufacturing method
CN201910626935.3A CN110716395B (zh) 2018-07-13 2019-07-12 曝光装置和物品制造方法
KR1020190084200A KR102520401B1 (ko) 2018-07-13 2019-07-12 노광 장치 및 물품 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018133431A JP7186531B2 (ja) 2018-07-13 2018-07-13 露光装置、および物品製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2020012892A JP2020012892A (ja) 2020-01-23
JP2020012892A5 true JP2020012892A5 (enExample) 2021-08-12
JP7186531B2 JP7186531B2 (ja) 2022-12-09

Family

ID=69138301

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018133431A Active JP7186531B2 (ja) 2018-07-13 2018-07-13 露光装置、および物品製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10754255B2 (enExample)
JP (1) JP7186531B2 (enExample)
KR (1) KR102520401B1 (enExample)
CN (1) CN110716395B (enExample)
TW (1) TWI764013B (enExample)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3667423B1 (en) * 2018-11-30 2024-04-03 Canon Kabushiki Kaisha Lithography apparatus, determination method, and method of manufacturing an article
JP7426845B2 (ja) * 2020-02-14 2024-02-02 キヤノン株式会社 計測方法、露光方法、物品の製造方法、プログラム及び露光装置
KR102874820B1 (ko) * 2020-05-07 2025-10-21 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 타겟 배열을 포함하는 기판, 및 연관된 적어도 하나의 패터닝 디바이스, 리소그래피 방법 및 계측 방법
JP7659388B2 (ja) * 2020-12-08 2025-04-09 キヤノン株式会社 検出装置、検出方法、露光装置、露光システム、物品製造方法、およびプログラム
JP7663351B2 (ja) * 2020-12-18 2025-04-16 キヤノン株式会社 計測装置、露光装置、および物品製造方法
JP7538790B2 (ja) * 2021-12-15 2024-08-22 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法及び物品の製造方法
CN116819907B (zh) * 2023-08-28 2023-11-14 成都思越智能装备股份有限公司 一种曝光机光罩位置校准方法及系统

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09237752A (ja) * 1996-03-01 1997-09-09 Nikon Corp 投影光学系の調整方法及び該方法を使用する投影露光装置
KR970072024A (ko) * 1996-04-09 1997-11-07 오노 시게오 투영노광장치
JP4323608B2 (ja) * 1999-03-12 2009-09-02 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
SG107560A1 (en) * 2000-02-25 2004-12-29 Nikon Corp Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution
US20020041377A1 (en) * 2000-04-25 2002-04-11 Nikon Corporation Aerial image measurement method and unit, optical properties measurement method and unit, adjustment method of projection optical system, exposure method and apparatus, making method of exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2003059817A (ja) 2001-08-21 2003-02-28 Nikon Corp 露光方法及び露光装置並びにマイクロデバイス製造方法
US7187431B2 (en) * 2004-11-16 2007-03-06 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, method of determining properties thereof and computer program
US7619747B2 (en) * 2004-12-17 2009-11-17 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, analyzer plate, subassembly, method of measuring a parameter of a projection system and patterning device
JP2007026091A (ja) 2005-07-15 2007-02-01 Oki Electric Ind Co Ltd 割込み制御回路およびその制御方法
JP2007184357A (ja) * 2006-01-05 2007-07-19 Canon Inc センサユニット、露光装置及びデバイス製造方法
JP2008294019A (ja) 2007-05-22 2008-12-04 Canon Inc 空中像計測方法および装置
JP2009158720A (ja) * 2007-12-26 2009-07-16 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP2009210359A (ja) * 2008-03-03 2009-09-17 Canon Inc 評価方法、評価装置および露光装置
JP5111225B2 (ja) 2008-05-01 2013-01-09 キヤノン株式会社 計測装置、計測方法、露光装置及びデバイス製造方法
JP2009277711A (ja) * 2008-05-12 2009-11-26 Canon Inc 露光装置、補正方法及びデバイス製造方法
JP5361322B2 (ja) * 2008-10-14 2013-12-04 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイスの製造方法
JP5523207B2 (ja) * 2010-06-01 2014-06-18 株式会社トプコン 露光装置
JP6470528B2 (ja) * 2014-09-05 2019-02-13 キヤノン株式会社 検出装置、計測装置、露光装置、物品の製造方法、および計測方法
CN105467781B (zh) * 2014-09-09 2017-12-29 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种具有调焦及倾斜校正设计的标记及对准方法
JP6552312B2 (ja) * 2015-07-16 2019-07-31 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP6588766B2 (ja) * 2015-08-10 2019-10-09 キヤノン株式会社 評価方法、露光方法、露光装置、プログラム、および物品の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2020012892A5 (enExample)
CN103309169B (zh) 检测装置、曝光装置和制造器件的方法
JP7186531B2 (ja) 露光装置、および物品製造方法
TWI534558B (zh) 偵測裝置、曝光設備及使用其之裝置製造方法
CN102087483B (zh) 一种用于投影光刻中焦面检测的光学系统
TW201348894A (zh) 量測方法以及曝光方法與設備
KR20090084754A (ko) 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법
JP2003007598A (ja) フォーカスモニタ方法およびフォーカスモニタ用装置ならびに半導体装置の製造方法
JPH0540013A (ja) ずれ測定方法及びこの方法を用いた露光装置
CN104375383B (zh) 用于光刻设备的调焦调平检测装置及方法
TW200952042A (en) Measurement apparatus, measurement method, exposure apparatus, and device manufacturing method
TW200941147A (en) Exposure apparatus, detection method, and method of manufacturing device
JP4882384B2 (ja) 面位置検出装置、面位置検出方法、露光装置及びデバイスの製造方法
KR100468725B1 (ko) 렌즈 수차 측정용 포토마스크 및 그 제조 방법과 렌즈수차 측정 방법
JP2010147109A (ja) 評価方法、露光装置およびデバイス製造方法
TW200937145A (en) Surface position detecting device, exposure apparatus, and device manufacturing method
CN115268219B (zh) 杂散光测量装置及其测量方法、杂散光测量系统
JP3327627B2 (ja) 露光用原板及びそれを用いた投影露光装置
JP2014232836A (ja) 瞳透過率分布の計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置
JP7735075B2 (ja) 変位計、及び物品の製造方法
KR100191349B1 (ko) 노광 공정의 초점면 측정 장치 및 그 방법
CN102200690A (zh) 一种光刻机投影物镜像面在线测量标记及测量方法
CN110967922A (zh) 一种掩模版及离焦量的方法
JPH11297614A (ja) コマ収差測定装置および該装置を備えた投影露光装置
JPH05259020A (ja) 投影露光装置