JP2019534245A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2019534245A5
JP2019534245A5 JP2019511918A JP2019511918A JP2019534245A5 JP 2019534245 A5 JP2019534245 A5 JP 2019534245A5 JP 2019511918 A JP2019511918 A JP 2019511918A JP 2019511918 A JP2019511918 A JP 2019511918A JP 2019534245 A5 JP2019534245 A5 JP 2019534245A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
pentyl
metal
carbon atoms
containing film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019511918A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6803460B2 (ja
JP2019534245A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/KR2017/009188 external-priority patent/WO2018048124A1/ko
Publication of JP2019534245A publication Critical patent/JP2019534245A/ja
Publication of JP2019534245A5 publication Critical patent/JP2019534245A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6803460B2 publication Critical patent/JP6803460B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2019511918A 2016-09-08 2017-08-23 ５族金属化合物、その製造方法、それを含む膜蒸着用前駆体組成物、及びそれを用いる膜の蒸着方法 Active JP6803460B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2016-0115708 2016-09-08
KR20160115708 2016-09-08
PCT/KR2017/009188 WO2018048124A1 (ko) 2016-09-08 2017-08-23 5족 금속 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 막 증착용 전구체 조성물, 및 이를 이용하는 막의 증착 방법

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2019534245A JP2019534245A (ja) 2019-11-28
JP2019534245A5 true JP2019534245A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) 2020-09-17
JP6803460B2 JP6803460B2 (ja) 2020-12-23

Family

ID=61561458

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019511918A Active JP6803460B2 (ja) 2016-09-08 2017-08-23 ５族金属化合物、その製造方法、それを含む膜蒸着用前駆体組成物、及びそれを用いる膜の蒸着方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10577385B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP (1) JP6803460B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
KR (1) KR101841444B1 (cg-RX-API-DMAC7.html)
CN (1) CN109689666B (cg-RX-API-DMAC7.html)
TW (1) TWI714802B (cg-RX-API-DMAC7.html)
WO (1) WO2018048124A1 (cg-RX-API-DMAC7.html)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102015276B1 (ko) 2018-02-08 2019-08-28 주식회사 메카로 유기금속화합물 및 이를 이용한 박막
EP3976852A4 (en) * 2019-06-05 2023-11-29 Versum Materials US, LLC NEW PRECURSORS OF GROUPS V AND VI TRANSITION METALS FOR THIN FILM DEPOSITION
KR102858491B1 (ko) 2019-10-08 2025-09-10 에스케이트리켐 주식회사 5족 금속 함유 박막 형성용 전구체 및 이를 이용한 5족 금속 함유 박막 형성 방법 및 상기 5족 금속 함유 박막을 포함하는 반도체 소자.
KR20220053482A (ko) * 2020-10-22 2022-04-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐 금속을 증착하는 방법, 구조체, 소자 및 증착 어셈블리
KR102621779B1 (ko) * 2021-08-31 2024-01-08 주식회사 이지티엠 박막 증착을 위한 니오비움 전구체 화합물 및 이를 이용한 니오비움 함유 박막의 형성 방법
KR102682682B1 (ko) * 2021-10-05 2024-07-09 주식회사 한솔케미칼 5족 금속 화합물, 이를 포함하는 증착용 전구체 조성물 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3766439B2 (ja) * 1995-09-13 2006-04-12 三井化学株式会社 樹脂組成物の製造方法
JPH09194526A (ja) * 1996-01-19 1997-07-29 Ube Ind Ltd 共役ジエン重合用触媒
US5981667A (en) * 1996-11-12 1999-11-09 Ube Industries, Ltd. Impact-resistant polystyrene resin composition
JPH10306116A (ja) * 1997-05-07 1998-11-17 Ube Ind Ltd ブタジエン重合用触媒
US7053159B2 (en) * 2000-07-04 2006-05-30 Mitsui Chemicals, Inc. Process for producing polar olefin copolymer and polar olefin copolymer obtained thereby
JP5375092B2 (ja) * 2006-05-22 2013-12-25 宇部興産株式会社 ポリブタジエンの製造方法
WO2010012595A1 (en) * 2008-08-01 2010-02-04 L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Method of forming a tantalum-containing layer on a substrate
ATE535534T1 (de) * 2008-10-07 2011-12-15 Air Liquide Metall-organische niobium- und vanadium-vorläufer zur dünnschichtablagerung
KR20100060481A (ko) * 2008-11-27 2010-06-07 주식회사 유피케미칼 5족 금속 산화물 또는 질화물 박막 증착용 유기금속 전구체화합물 및 이를 이용한 박막 증착 방법
JP5731519B2 (ja) * 2009-10-26 2015-06-10 エーエスエム インターナショナル エヌ．ヴェー．Ａｓｍ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｎ．Ｖ． Ｖａ族元素を含む薄膜のａｌｄのための前駆体の合成及び使用
US9956548B2 (en) * 2011-12-12 2018-05-01 Chevron Phillips Chemical Company Lp Preparation of an olefin oligomerization catalyst
KR20130078965A (ko) * 2012-01-02 2013-07-10 에스케이하이닉스 주식회사 다성분계 유전막 형성 방법 및 반도체장치 제조 방법
US9321854B2 (en) * 2013-10-29 2016-04-26 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Aluminum alkyl with C5 cyclic and pendent olefin polymerization catalyst
US9691771B2 (en) * 2015-04-16 2017-06-27 L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude Vanadium-containing film forming compositions and vapor deposition of vanadium-containing films

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2019534245A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2017125017A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP2009529579A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
TW200907096A (en) New cobalt precursors for semiconductor applications
WO2006131751A1 (en) Cyclopentadienyl type hafnium and zirconium precursors and use thereof in atomic layer deposition
EP3348667A1 (en) Chemical vapor deposition feedstock comprising organic ruthenium compound and chemical vapor deposition method using said chemical vapor deposition feedstock
JP2008502680A (ja) 銅薄膜の堆積前駆体として有用な銅（ｉ）化合物
TW200922940A (en) Copper precursors for thin film deposition
KR101841444B1 (ko) 5족 금속 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 막 증착용 전구체 조성물, 및 이를 이용하는 막의 증착 방법
KR101157701B1 (ko) 원자층 증착에 의한 확산층으로의 금속 필름의 증착법 및 이를 위한 유기금속 전구체 착물
KR20130049020A (ko) 탄탈륨 전구체 화합물 및 이의 제조방법
KR20230098067A (ko) 몰리브데늄 전구체 화합물, 이의 제조방법, 및 이를 이용한 몰리브데늄-함유 막의 증착 방법
JP2000026474A5 (cg-RX-API-DMAC7.html)
US10815260B2 (en) Chemical vapor deposition raw material including dinuclear ruthenium complex and chemical deposition method using chemical vapor deposition raw material
KR102504310B1 (ko) 코발트 화합물, 이를 포함하는 전구체 조성물, 및 이를 이용한 박막의 제조방법
Rische et al. New tungsten (VI) guanidinato complexes: Synthesis, characterization, and application in metal− organic chemical vapor deposition of tungsten nitride thin films
WO2016052288A1 (ja) 有機ルテニウム化合物からなる化学蒸着用原料及び該化学蒸着用原料を用いた化学蒸着法
US20090043119A1 (en) Tantalum compound, method for producing same, tantalum-containing thin film and method for forming same
EP1556394A2 (en) Asymmetric group 8 (viii) metallocene compounds
US20230094481A1 (en) Amino-silane compound and composition for the silicon-containing thin film comprising the same
KR102503603B1 (ko) 화합물, 박막 형성용 원료, 박막의 제조 방법 및 아미딘 화합물
KR20180115382A (ko) 신규한 텅스텐 전구체 화합물 및 이를 이용한 박막 형성 방법
KR20120058762A (ko) 신규의 탄탈 화합물 및 그 제조 방법
Lee et al. Amidoxime-Containing Ti Precursors for Atomic Layer Deposition of TiN Thin Films with Suppressed Columnar Microstructure
TWI761257B (zh) 有機金屬化合物、含有機金屬化合物之前驅組合物及用其製造薄膜的方法