JP2019505776A5

JP2019505776A5 -

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Publication number: JP2019505776A5
Application number: JP2018531514A
Authority: JP
Filing date: 2016-12-16
Publication date: 2020-01-30

Description

上記では本発明の特定の実施例が説明されたが、本発明は、説明したものとは別の方法で実施されることができる、ということが理解されることになる。上記の説明は例示的なものであり、限定するものではない。したがって、下記に示される請求項の範囲から逸脱することなく、説明された本発明に対して改変を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
［例１］複数の電気接点を有するデバイスを試験するための試験システムであって、当該試験システムが、
少なくとも１つの被試験デバイスを保持するように動作可能なデバイステーブルと、
前記被試験デバイスの電気接点に接触するための少なくとも１つのプローブ端部を含むプローブと、
前記デバイステーブルと前記プローブの一方又は両方を動かし、前記少なくとも１つのプローブ端部を被試験デバイスの少なくとも１つの電気接点に接触させるように動作可能な移動機構と、
被試験デバイスの前記電気接点のプロファイルを判定するように構成されたプロファイル判定システムとを備える、試験システム。
［例２］前記プロファイル判定システムが、
被試験デバイスの少なくとも一部を放射線で照射するように構成された放射線源と、
前記被試験デバイスの電気接点から散乱された放射線を検出するように構成された放射線センサと、
前記検出された散乱放射線から被試験デバイスの前記電気接点のプロファイルを判定するように構成された制御器とを備える、例１に記載の試験システム。
［例３］前記放射線センサが、異なる量だけ前記デバイステーブルから離れるように伸びる前記被試験デバイスの異なる部分が前記放射線センサの視野内の異なる位置に現れるように、配置される、例２に記載の試験システム。
［例４］前記放射線センサが、前記放射線源から放射された放射線の伝播方向に対して斜めの角度で配向される、例３に記載の試験システム。
［例５］前記放射線源が、前記被試験デバイスのストリップを放射線ストリップで照射するように構成される、例２から例４のいずれかに記載の試験システム。
［例６］前記放射線センサが、前記放射線ストリップ内に位置する電気接点から散乱された放射線を検出するように構成されるとともに、前記制御器が、前記被試験デバイスの前記照射されたストリップ内に位置する前記被試験デバイスの点の高さを判定するように構成される、例５に記載の試験システム。
［例７］前記移動機構が、前記デバイステーブルと前記放射線源の一方又は両方を動かし、前記被試験デバイス上の前記放射線ストリップを走査するように動作可能であるとともに、前記制御器が、前記放射線ストリップの異なる位置において、判定された前記被試験デバイスの点の高さを組み合わせて、被試験デバイスの前記電気接点のプロファイルを判定するように構成される、例６に記載の試験システム。
［例８］前記デバイステーブルが、前記デバイステーブルの外に、又は前記デバイステーブルの中に伸びる複数の基準構造物を含むとともに、前記プロファイル判定システムが、前記基準構造物の位置に対する被試験デバイスの前記電気接点の前記プロファイルの位置を判定するように構成される、例１から例７のいずれかに記載の試験システム。
［例９］前記基準構造物が、前記デバイステーブルの外に伸びるとともに、前記基準構造物のうちの少なくとも２つが、異なる距離だけ前記デバイステーブルの外に伸びる、例８に記載の試験システム。
［例１０］前記移動機構が、前記デバイステーブルと前記プローブの一方又は両方を動かし、前記プローブ端部のうちの少なくとも１つが前記基準構造物のうちの１つと接触する、ように動作可能である、例８又は例９に記載の試験システム。
［例１１］前記基準構造物に対する前記少なくとも１つのプローブ端部の位置の判定を可能にするように構成された較正システムを更に備える、例１０に記載の試験システム。
［例１２］前記プロファイル判定システムが、被試験デバイスの電気接点に対するプローブ端部の位置を判定するように更に構成される、例１から例１１のいずれかに記載の試験システム。
［例１３］被試験デバイスの前記電気接点の前記判定されたプロファイルから、前記少なくとも１つのプローブ端部を前記被試験デバイスの少なくとも１つの電気接点に接触させる前記移動機構の構成を判定するように構成された制御器を更に備える、例１から例１２のいずれかに記載の試験システム。
［例１４］複数の電気接点を有するデバイスを試験するための試験システムであって、当該試験システムが、
少なくとも１つの被試験デバイスを保持するように動作可能なデバイステーブルと、
前記被試験デバイスの電気接点に接触するための少なくとも１つのプローブ端部を含むプローブと、
前記デバイステーブルと前記プローブの一方又は両方を動かし、前記少なくとも１つのプローブ端部を被試験デバイスの少なくとも１つの電気接点に接触させるように動作可能な移動機構とを備え、
前記デバイステーブルが、前記デバイステーブルの外に、又は前記デバイステーブルの中に伸びる複数の基準構造物を含む、試験システム。
［例１５］前記基準構造物のうちの少なくとも２つが、異なる距離だけ前記デバイステーブルの外に、又は前記デバイステーブルの中に伸びる、例１４に記載の試験システム。
［例１６］前記移動機構が、前記デバイステーブルと前記プローブの一方又は両方を動かし、前記プローブ端部のうちの少なくとも１つが前記基準構造物のうちの１つと接触する、ように動作可能である、例１４又は例１５に記載の試験システム。
［例１７］前記基準構造物に対する前記少なくとも１つのプローブ端部の位置の判定を可能にするように構成された較正システムを更に備える、例１６に記載の試験システム。
［例１８］前記基準構造物のうちの少なくとも１つが、前記基準構造物上の基準点を示す基準特徴部を含み、前記移動機構が、前記デバイステーブルと前記プローブの一方又は両方を動かし、前記プローブ端部のうちの少なくとも１つが前記基準点と接触する、ように動作可能である、例１６又は例１７に記載の試験システム。
［例１９］前記基準特徴部が、基準構造物内に形成された、前記基準構造物の頂点の周りに伸びる実質的に円形の溝を含む、例１８に記載の試験システム。
［例２０］前記基準構造物が、基準構造物内に形成された複数の実質的に円形の溝を含み、各溝が、前記基準構造物の頂点の周りに伸びる、例１９に記載の試験システム。
［例２１］前記基準構造物のうちの少なくとも１つが、実質的に球形の先端部分を備える、例１４から例２０のいずれかに記載の試験システム。
［例２２］前記球形の先端部分が、実質的に平坦なリムによって囲まれている、例２１に記載の試験システム。
［例２３］前記基準構造物のうちの少なくとも１つが、５０ミクロン以下のスケールの粗さ特徴を有する表面を備える、例１４から例２２のいずれかに記載の試験システム。
［例２４］前記デバイステーブルが、複数の被試験デバイスを保持するように動作可能である、例１から例２３のいずれかに記載の試験システム。
［例２５］前記デバイステーブルが取り付けられている運動学的に制限されたマウントを更に備え、前記運動学的に制限されたマウントが、複数の自由度における前記デバイステーブルの動きを制限するように構成される、例１から例２４のいずれかに記載の試験システム。
［例２６］自動的に被試験デバイスをロードし前記デバイステーブルからアンロードするように動作可能なローディングデバイスを更に備える、例１から例２５のいずれかに記載の試験システム。
［例２７］信号を生成し、前記プローブ端部のうちの少なくとも１つを通して前記信号を導き、使用時に、被試験デバイスに前記被試験デバイスの電気接点を通して前記信号が導かれるように構成された信号発生器と、
前記プローブ端部のうちの少なくとも１つを通過する信号をサンプルするように構成された信号サンプラであって、使用中に、前記被試験デバイスにおいて反射されるとともに、プローブ端部を通過する信号が当該信号サンプラによってサンプルされる、信号サンプラとを更に備える、例１から例２６のいずれかに記載の試験システム。
［例２８］前記信号発生器が、０．０１ＧＨｚ〜１０ＴＨｚの範囲の周波数成分を有する広帯域信号を生成するように構成される、例２７に記載の試験システム。
［例２９］前記信号発生器が、
パルス放射線源と、
前記パルス放射線源からの放射線パルスを受信するように配置されるとともに、前記パルス放射線源からの照射に応答して信号パルスを出力するように構成された第１の信号変換デバイスと、
前記プローブ端部のうちの少なくとも１つを通して前記第１の信号変換デバイスからの前記信号パルスを導くように構成された伝送ライン構成とを備える、例２７又は例２８に記載の試験システム。
［例３０］前記信号サンプラが、
前記パルス放射線源からの放射線パルスを受信するように配置された第２の信号変換デバイスであって、前記パルス放射線源からの照射に応答して、当該第２の信号変換デバイスにおいて受信された信号パルスをサンプルする、第２の信号変換デバイスを備え、
前記伝送ライン構成が、被試験デバイスから反射されたか、又は被試験デバイスを通して伝送され、前記プローブ端部のうちの少なくとも１つを通過した信号パルスを、前記第２の信号変換デバイスに導くように構成される、例２９に記載の試験システム。
［例３１］デバイスを試験するための試験システムであって、当該試験システムが、
生成放射線ビーム及び受信放射線ビームを供給するように構成されたパルス放射線源であって、前記生成放射線ビーム及び前記受信放射線ビームがパルス放射線ビームである、パルス放射線源と、
前記生成放射線ビームのパルスを受信するように配置されるとともに、前記生成放射線ビームのパルスを受信することに応答して信号パルスを出力するように構成された第１の信号変換デバイスと、
前記受信放射線ビームのパルスを受信するように配置されるとともに、前記受信放射線ビームのパルスを受信することに応答して信号パルスをサンプルするように構成された第２の信号変換デバイスと、
前記第１の信号変換デバイスからの信号パルスを被試験デバイスに導くとともに、前記被試験デバイスから反射された信号パルスを、被試験デバイスを通して前記第２の信号変換デバイスに導くように構成された伝送ライン構成と、
前記生成放射線ビーム及び／又は前記受信放射線ビームの光路内に配置された直接駆動の遅延ラインであって、当該遅延ラインが、前記生成放射線ビームと前記受信放射線ビームとの間に光学遅延を導入するように構成され、前記生成放射線ビームのパルスが、前記第２の信号変換デバイスに入射する前記受信放射線ビームの対応するパルスとは異なる時間に、前記第１の信号変換デバイスに入射する、直接駆動の遅延ラインとを備え、
前記遅延ラインが、
前記生成放射線ビーム及び／又は前記受信放射線ビームの前記光路内に配置された少なくとも１つの反射器と、
前記反射器を移動させ、前記生成放射線ビーム及び／又は前記受信放射線ビームの光路長を変化させて、前記生成放射線ビームと前記受信放射線ビームとの間の前記光学遅延を変化させるように構成された同期リニアモータとを含む、試験システム。
［例３２］デバイスを試験するための試験システムであって、当該試験システムが、
生成放射線ビーム及び受信放射線ビームを供給するように構成されたパルス放射線源であって、前記生成放射線ビーム及び前記受信放射線ビームがパルス放射線ビームである、パルス放射線源と、
前記生成放射線ビームのパルスを受信するように配置されるとともに、前記生成放射線ビームのパルスを受信することに応答して信号パルスを出力するように構成された第１の信号変換デバイスと、
前記受信放射線ビームのパルスを受信するように配置されるとともに、前記受信放射線ビームのパルスを受信することに応答して信号パルスをサンプルするように構成された第２の信号変換デバイスと、
前記第１の信号変換デバイスからの信号パルスを被試験デバイスに導くとともに、前記被試験デバイスから反射された信号パルスを、被試験デバイスを通して前記第２の信号変換デバイスに導くように構成された伝送ライン構成と、
前記生成放射線ビームの光路内に配置された第１の反射器、
前記受信放射線ビームの光路内に配置された第２の反射器、及び
前記第１の反射器及び前記第２の反射器が取り付けられている可動ステージであって、当該可動ステージの第１の方向における移動が、前記生成放射線ビームの光路長を増加させ、かつ前記受信放射線ビームの光路長を減少させるとともに、当該可動ステージの第２の方向における移動が、前記生成放射線ビームの光路長を減少させ、かつ前記受信放射線ビームの光路長を増加させる、可動ステージを含む遅延ラインとを備える、試験システム。
［例３３］デバイスを試験するための試験システムであって、当該試験システムが、
生成放射線ビーム及び受信放射線ビームを供給するように構成されたパルス放射線源であって、前記生成放射線ビーム及び前記受信放射線ビームがパルス放射線ビームである、パルス放射線源と、
前記生成放射線ビームのパルスを受信するように配置されるとともに、前記生成放射線ビームのパルスを受信することに応答して信号パルスを出力するように構成された第１の信号変換デバイスと、
前記受信放射線ビームのパルスを受信するように配置されるとともに、前記受信放射線ビームのパルスを受信することに応答して信号パルスをサンプルするように構成された第２の信号変換デバイスと、
前記第１の信号変換デバイスからの信号パルスを被試験デバイスに導くとともに、前記被試験デバイスから反射された信号パルスを、被試験デバイスを通して前記第２の信号変換デバイスに導くように構成された伝送ライン構成と、
前記パルス放射線源から放射される放射線パルスの強度を検出するように構成された放射線センサ、
前記パルス放射線源から放射された放射線パルスの光路内に配置されるとともに、調整可能な量だけ前記放射線パルスの前記強度を減少させるように構成された減衰器、及び
前記放射線センサによる前記放射線パルスの前記強度の測定値に応答して、前記減衰器が前記放射線パルスの前記強度を減少させる前記量を調整するように構成された制御器を含む放射線フィードバックシステムと備える、試験システム。

Claims

複数の電気接点を有するデバイスを試験するための試験システムであって、当該試験システムが、
少なくとも１つの被試験デバイスを保持するように動作可能なデバイステーブルと、
前記被試験デバイスの電気接点に接触するための少なくとも１つのプローブ端部を含むプローブと、
前記デバイステーブルと前記プローブの一方又は両方を動かし、前記少なくとも１つのプローブ端部を被試験デバイスの少なくとも１つの電気接点に接触させるように動作可能な移動機構と、
被試験デバイスの前記電気接点のプロファイルを判定するように構成されたプロファイル判定システムとを備える、試験システム。
前記プロファイル判定システムが、
被試験デバイスの少なくとも一部を放射線で照射するように構成された放射線源と、
前記被試験デバイスの電気接点から散乱された放射線を検出するように構成された放射線センサと、
前記検出された散乱放射線から被試験デバイスの前記電気接点のプロファイルを判定するように構成された制御器とを備える、請求項１に記載の試験システム。
前記放射線センサが、異なる量だけ前記デバイステーブルから離れるように伸びる前記被試験デバイスの異なる部分が前記放射線センサの視野内の異なる位置に現れるように、配置される、請求項２に記載の試験システム。
前記放射線センサが、前記放射線源から放射された放射線の伝播方向に対して斜めの角度で配向される、請求項３に記載の試験システム。
前記放射線源が、前記被試験デバイスのストリップを放射線ストリップで照射するように構成される、請求項２から請求項４のいずれかに記載の試験システム。
前記放射線センサが、前記放射線ストリップ内に位置する電気接点から散乱された放射線を検出するように構成されるとともに、前記制御器が、前記被試験デバイスの前記照射されたストリップ内に位置する前記被試験デバイスの点の高さを判定するように構成される、請求項５に記載の試験システム。
前記移動機構が、前記デバイステーブルと前記放射線源の一方又は両方を動かし、前記被試験デバイス上の前記放射線ストリップを走査するように動作可能であるとともに、前記制御器が、前記放射線ストリップの異なる位置において、判定された前記被試験デバイスの点の高さを組み合わせて、被試験デバイスの前記電気接点のプロファイルを判定するように構成される、請求項６に記載の試験システム。
前記デバイステーブルが、前記デバイステーブルの外に、又は前記デバイステーブルの中に伸びる複数の基準構造物を含むとともに、前記プロファイル判定システムが、前記基準構造物の位置に対する被試験デバイスの前記電気接点の前記プロファイルの位置を判定するように構成される、請求項１から請求項７のいずれかに記載の試験システム。
前記基準構造物が、前記デバイステーブルの外に伸びるとともに、前記基準構造物のうちの少なくとも２つが、異なる距離だけ前記デバイステーブルの外に伸びる、請求項８に記載の試験システム。
前記移動機構が、前記デバイステーブルと前記プローブの一方又は両方を動かし、前記プローブ端部のうちの少なくとも１つが前記基準構造物のうちの１つと接触する、ように動作可能である、請求項８又は請求項９に記載の試験システム。
前記基準構造物に対する前記少なくとも１つのプローブ端部の位置の判定を可能にするように構成された較正システムを更に備える、請求項１０に記載の試験システム。
前記プロファイル判定システムが、被試験デバイスの電気接点に対するプローブ端部の位置を判定するように更に構成される、請求項１から請求項１１のいずれかに記載の試験システム。
被試験デバイスの前記電気接点の前記判定されたプロファイルから、前記少なくとも１つのプローブ端部を前記被試験デバイスの少なくとも１つの電気接点に接触させる前記移動機構の構成を判定するように構成された制御器を更に備える、請求項１から請求項１２のいずれかに記載の試験システム。