JP2019503057A - 能動的開放型memsスイッチデバイス - Google Patents
能動的開放型memsスイッチデバイス Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019503057A JP2019503057A JP2018537835A JP2018537835A JP2019503057A JP 2019503057 A JP2019503057 A JP 2019503057A JP 2018537835 A JP2018537835 A JP 2018537835A JP 2018537835 A JP2018537835 A JP 2018537835A JP 2019503057 A JP2019503057 A JP 2019503057A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hinge
- switch
- electrode
- mems
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
- B81B3/0035—Constitution or structural means for controlling the movement of the flexible or deformable elements
- B81B3/0051—For defining the movement, i.e. structures that guide or limit the movement of an element
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00015—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems
- B81C1/00134—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate for manufacturing microsystems comprising flexible or deformable structures
- B81C1/0015—Cantilevers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
- H01H59/00—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays
- H01H59/0009—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays making use of micromechanics
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2201/00—Specific applications of microelectromechanical systems
- B81B2201/01—Switches
- B81B2201/012—Switches characterised by the shape
- B81B2201/014—Switches characterised by the shape having a cantilever fixed on one side connected to one or more dimples
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2203/00—Basic microelectromechanical structures
- B81B2203/01—Suspended structures, i.e. structures allowing a movement
- B81B2203/0118—Cantilevers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2203/00—Basic microelectromechanical structures
- B81B2203/01—Suspended structures, i.e. structures allowing a movement
- B81B2203/0181—See-saws
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C2201/00—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems
- B81C2201/01—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate
- B81C2201/0101—Shaping material; Structuring the bulk substrate or layers on the substrate; Film patterning
- B81C2201/0102—Surface micromachining
- B81C2201/0105—Sacrificial layer
- B81C2201/0109—Sacrificial layers not provided for in B81C2201/0107 - B81C2201/0108
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C2201/00—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems
- B81C2201/01—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate
- B81C2201/0174—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate for making multi-layered devices, film deposition or growing
- B81C2201/0197—Processes for making multi-layered devices not provided for in groups B81C2201/0176 - B81C2201/0192
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
- H01H59/00—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays
- H01H59/0009—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays making use of micromechanics
- H01H2059/0027—Movable electrode connected to ground in the open position, for improving isolation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
- H01H59/00—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays
- H01H59/0009—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays making use of micromechanics
- H01H2059/0054—Rocking contacts or actuating members
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Micromachines (AREA)
Abstract
Description
本出願は、35U.S.C.§119(e)下で、2016年2月4日に出願された「ACTIVE OPENING MEMS SWITCH DEVICE」という名称の米国仮出願番号第62/291,111号に対して優先権を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
102 梁
104 アンカー
111 電極
112 電極
121 電極
122 電極
123 電極
131 電極
132 電極
141 バックコンデンサ
142 フロントコンデンサ
200 シーソー型スイッチ
201 基板
202 梁
204 アンカー
211 電極
212 電極
223 電極
2211 電極
2212 電極
2221 電極
2222 電極
2311 電極
2312 電極
2321 電極
2322 電極
240 アンカー
245 ヒンジ
250 開口部
252 軸
300 シーソー型スイッチ
302 梁
303 縁部
335 開口部
340 アンカー
345 ヒンジ
350 開口部
352 軸線
352 軸
354 軸線
360 シーソー型スイッチ
370 アンカー
375 ヒンジ
376 ヒンジ
378 軸
390 犠牲層
391 領域
392 領域
461 電極先端
462 電極先端
500 シーソー型スイッチ
502 梁
521 電極
522 電極
523 電極
550 シーソー型スイッチ
551 シーソー型スイッチ
552 梁
553 梁
572 電極
573 電極
574 電極
Claims (20)
- 微小電気機械システム(MEMS)スイッチであって、
基板と、
前記基板上のポストと、
その中央部分に開口部を有する微細加工された梁であって、前記ポストが、前記開口部内に配置される、微細加工された梁と、
前記微細加工された梁を前記ポストに機械的に結合するヒンジと、
を備える、MEMSスイッチ。 - 前記ヒンジが、第1の厚さを有し、前記梁が、前記第1の厚さよりも大きい第2の厚さを有する、請求項1に記載のMEMSスイッチ。
- 前記第1の厚さが、前記第2の厚さの半分よりも小さい、請求項2に記載のMEMSスイッチ。
- 前記梁が、前記基板と電気的に接触するように構成された第1の端部と、前記基板と電気的に接触するように構成された第2の端部と、前記第1の端部と前記第2の端部との間の長さと、を有し、前記ヒンジが、前記梁の前記長さと同一の方向の長さを有する、請求項1に記載のMEMSスイッチ。
- 前記梁が、前記基板と電気的に接触するように構成された第1の端部と、前記基板と電気的に接触するように構成された第2の端部と、前記第1の端部と前記第2の端部との間の長さと、を有し、前記ヒンジが、前記梁の前記長さに垂直な方向の長さを有する、請求項1に記載のMEMSスイッチ。
- 前記梁および前記ヒンジが同一の材料で形成されている、請求項1に記載のMEMSスイッチ。
- 微小電気機械システム(MEMS)スイッチの製作方法であって、
基板上にポストを製作することと、
前記ポストに結合されたヒンジを製作することと、
その中央部分に開口部を有する梁を製作することと、
を含み、
前記ポストが、前記開口部内に配置され、前記梁が、前記ヒンジを介して前記ポストに結合される、方法。 - 前記ヒンジを製作することおよび前記梁を製作することが、第1の厚さを有するように前記ヒンジを製作し、前記第1の厚さよりも大きい第2の厚さを有するように前記梁を製作することを含む、請求項7に記載の方法。
- 前記ヒンジを製作することおよび前記梁を製作することが、前記第2の厚さの半分よりも小さい前記第1の厚さを有するように前記ヒンジを製作することを含む、請求項8に記載の方法。
- 前記ヒンジを製作することおよび前記梁を製作することが、前記ヒンジの長さを前記梁の長さと同一の方向であるように製作することを含む、請求項7に記載の方法。
- 前記ヒンジを製作することおよび前記梁を製作することが、前記ヒンジの長さを前記梁の長さに実質的に垂直であるように製作することを含む、請求項7に記載の方法。
- 前記ヒンジを製作することおよび前記梁を製作することが、前記ヒンジと前記梁を同一の材料で製作することを含む、請求項7に記載の方法。
- 前記ポスト、前記ヒンジ、および前記梁を製作することが、3回未満の電気メッキステップを実行することを含む、請求項7に記載の方法。
- 前記ポスト、前記ヒンジ、および前記梁を製作することが、3つ未満の犠牲層を使用することを含む、請求項7に記載の方法。
- 微小電気機械システム(MEMS)スイッチであって、
基板と、
前記基板上のポストと、
その中央部分に開口部を有する微細加工された梁であって、前記ポストが、前記開口部内に配置される、微細加工された梁と、
前記微細加工された梁を前記ポストに結合する手段と、
を備える、MEMSスイッチ。 - 前記手段が、第1の厚さを有し、前記梁が、前記第1の厚さよりも大きい第2の厚さを有する、請求項15に記載のMEMSスイッチ。
- 前記第1の厚さが、前記第2の厚さの半分よりも小さい、請求項16に記載のMEMSスイッチ。
- 前記梁が、前記基板と電気的に接触するように構成された第1の端部と、前記基板と電気的に接触するように構成された第2の端部と、前記第1の端部と前記第2の端部との間の長さと、を有し、前記手段が、前記梁の前記長さと同一の方向の長さを有する、請求項15に記載のMEMSスイッチ。
- 前記梁が、前記基板と電気的に接触するように構成された第1の端部と、前記基板と電気的に接触するように構成された第2の端部と、前記第1の端部と前記第2の端部との間の長さと、を有し、前記手段が、前記梁の前記長さに垂直な方向の長さを有する、請求項15に記載のMEMSスイッチ。
- 前記梁および前記手段が同一の材料で形成されている、請求項15に記載のMEMSスイッチ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201662291111P | 2016-02-04 | 2016-02-04 | |
US62/291,111 | 2016-02-04 | ||
PCT/IB2017/000131 WO2017134518A1 (en) | 2016-02-04 | 2017-02-02 | Active opening mems switch device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019503057A true JP2019503057A (ja) | 2019-01-31 |
Family
ID=58413146
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018537835A Pending JP2019503057A (ja) | 2016-02-04 | 2017-02-02 | 能動的開放型memsスイッチデバイス |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10640363B2 (ja) |
EP (1) | EP3411894B1 (ja) |
JP (1) | JP2019503057A (ja) |
CN (1) | CN108604517B (ja) |
WO (1) | WO2017134518A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10640363B2 (en) | 2016-02-04 | 2020-05-05 | Analog Devices Global | Active opening MEMS switch device |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022243746A1 (en) * | 2021-05-18 | 2022-11-24 | Analog Devices International Unlimited Company | Active charge bleed methods for mems switches |
CN117321722A (zh) * | 2021-05-18 | 2023-12-29 | 亚德诺半导体国际无限责任公司 | 用于rf应用的改进mems开关 |
US11714102B2 (en) | 2021-06-08 | 2023-08-01 | Analog Devices, Inc. | Fully differential accelerometer |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003057572A (ja) * | 2001-08-16 | 2003-02-26 | Nec Corp | 薄膜電磁石およびこれを用いたスイッチング素子 |
JP2003522379A (ja) * | 2000-02-02 | 2003-07-22 | インフィネオン テクノロジーズ アクチェンゲゼルシャフト | マイクロリレー |
US20060180409A1 (en) * | 2005-02-15 | 2006-08-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Spring structure and micro-structure employing the same |
Family Cites Families (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US688235A (en) | 1901-01-30 | 1901-12-03 | John H Craddock | Tellurian. |
US4030943A (en) | 1976-05-21 | 1977-06-21 | Hughes Aircraft Company | Planar process for making high frequency ion implanted passivated semiconductor devices and microwave integrated circuits |
JPS6341049A (ja) | 1986-08-05 | 1988-02-22 | インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン | ヴアイア接続を有する多層回路 |
DE4113190C1 (en) | 1991-04-23 | 1992-07-16 | Rohde & Schwarz Gmbh & Co Kg, 8000 Muenchen, De | Electrostatically actuated microswitch - has armature attached to base via torsional struts to allow pivoting for contacting electrodes |
US6115231A (en) | 1997-11-25 | 2000-09-05 | Tdk Corporation | Electrostatic relay |
US6046659A (en) | 1998-05-15 | 2000-04-04 | Hughes Electronics Corporation | Design and fabrication of broadband surface-micromachined micro-electro-mechanical switches for microwave and millimeter-wave applications |
US6153839A (en) | 1998-10-22 | 2000-11-28 | Northeastern University | Micromechanical switching devices |
US6496351B2 (en) | 1999-12-15 | 2002-12-17 | Jds Uniphase Inc. | MEMS device members having portions that contact a substrate and associated methods of operating |
US6384353B1 (en) | 2000-02-01 | 2002-05-07 | Motorola, Inc. | Micro-electromechanical system device |
US6377438B1 (en) | 2000-10-23 | 2002-04-23 | Mcnc | Hybrid microelectromechanical system tunable capacitor and associated fabrication methods |
US6657759B2 (en) | 2001-07-03 | 2003-12-02 | Pts Corporation | Bistable micromirror with contactless stops |
US6635506B2 (en) | 2001-11-07 | 2003-10-21 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating micro-electromechanical switches on CMOS compatible substrates |
KR100419233B1 (ko) | 2002-03-11 | 2004-02-21 | 삼성전자주식회사 | 멤스소자 및 그의 제작방법 |
US6701779B2 (en) | 2002-03-21 | 2004-03-09 | International Business Machines Corporation | Perpendicular torsion micro-electromechanical switch |
US6853072B2 (en) | 2002-04-17 | 2005-02-08 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Semiconductor switching circuit device and manufacturing method thereof |
US6686820B1 (en) | 2002-07-11 | 2004-02-03 | Intel Corporation | Microelectromechanical (MEMS) switching apparatus |
US7106066B2 (en) | 2002-08-28 | 2006-09-12 | Teravicta Technologies, Inc. | Micro-electromechanical switch performance enhancement |
JP4109182B2 (ja) | 2003-11-10 | 2008-07-02 | 株式会社日立メディアエレクトロニクス | 高周波memsスイッチ |
US7352266B2 (en) | 2004-02-20 | 2008-04-01 | Wireless Mems, Inc. | Head electrode region for a reliable metal-to-metal contact micro-relay MEMS switch |
US7095545B2 (en) * | 2004-04-02 | 2006-08-22 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Microelectromechanical device with reset electrode |
US7436572B2 (en) * | 2004-08-25 | 2008-10-14 | Texas Instruments Incorporated | Micromirrors and hinge structures for micromirror arrays in projection displays |
KR100619110B1 (ko) | 2004-10-21 | 2006-09-04 | 한국전자통신연구원 | 미세전자기계적 스위치 및 그 제조 방법 |
US7280015B1 (en) | 2004-12-06 | 2007-10-09 | Hrl Laboratories, Llc | Metal contact RF MEMS single pole double throw latching switch |
KR100661176B1 (ko) * | 2004-12-17 | 2006-12-26 | 삼성전자주식회사 | Mems 스위치 및 그 제조 방법 |
WO2007145294A1 (ja) | 2006-06-15 | 2007-12-21 | Panasonic Corporation | 電気機械素子およびそれを用いた電気機器 |
KR20080001241A (ko) * | 2006-06-29 | 2008-01-03 | 삼성전자주식회사 | Mems 스위치 및 그 제조방법 |
US8063456B2 (en) | 2006-09-12 | 2011-11-22 | Alcatel Lucent | Mechanical switch with a curved bilayer |
KR100837741B1 (ko) | 2006-12-29 | 2008-06-13 | 삼성전자주식회사 | 미세 스위치 소자 및 미세 스위치 소자의 제조방법 |
JP4879760B2 (ja) | 2007-01-18 | 2012-02-22 | 富士通株式会社 | マイクロスイッチング素子およびマイクロスイッチング素子製造方法 |
JP2009009884A (ja) | 2007-06-29 | 2009-01-15 | Mitsubishi Electric Corp | Memsスイッチ及びその製造方法 |
DE102007044047B4 (de) | 2007-09-14 | 2017-08-03 | Infineon Technologies Ag | Schaltungsanordnung mit einem elektronischen Bauelement und einer ESD-Schutzanordnung |
US7692519B2 (en) | 2007-12-21 | 2010-04-06 | General Electric Company | MEMS switch with improved standoff voltage control |
WO2009147600A1 (en) | 2008-06-06 | 2009-12-10 | Nxp B.V. | Mems switch and fabrication method |
US7981765B2 (en) | 2008-09-10 | 2011-07-19 | Analog Devices, Inc. | Substrate bonding with bonding material having rare earth metal |
US8570122B1 (en) | 2009-05-13 | 2013-10-29 | Rf Micro Devices, Inc. | Thermally compensating dieletric anchors for microstructure devices |
US8487386B2 (en) | 2009-06-18 | 2013-07-16 | Imec | Method for forming MEMS devices having low contact resistance and devices obtained thereof |
US8576029B2 (en) | 2010-06-17 | 2013-11-05 | General Electric Company | MEMS switching array having a substrate arranged to conduct switching current |
US8722445B2 (en) | 2010-06-25 | 2014-05-13 | International Business Machines Corporation | Planar cavity MEMS and related structures, methods of manufacture and design structures |
US20130140155A1 (en) | 2011-02-14 | 2013-06-06 | Ilkka Urvas | MEMS Switch Having Cantilevered Actuation |
US20120313189A1 (en) | 2011-06-08 | 2012-12-13 | Invensense, Inc. | Method of preventing stiction of mems devices |
JP5720485B2 (ja) | 2011-08-12 | 2015-05-20 | オムロン株式会社 | 電子部品 |
US9748048B2 (en) | 2014-04-25 | 2017-08-29 | Analog Devices Global | MEMS switch |
US9583294B2 (en) | 2014-04-25 | 2017-02-28 | Analog Devices Global | MEMS swtich with internal conductive path |
US10033179B2 (en) * | 2014-07-02 | 2018-07-24 | Analog Devices Global Unlimited Company | Method of and apparatus for protecting a switch, such as a MEMS switch, and to a MEMS switch including such a protection apparatus |
JP2019503057A (ja) | 2016-02-04 | 2019-01-31 | アナログ・デヴァイシズ・グローバル | 能動的開放型memsスイッチデバイス |
-
2017
- 2017-02-02 JP JP2018537835A patent/JP2019503057A/ja active Pending
- 2017-02-02 US US15/422,508 patent/US10640363B2/en active Active
- 2017-02-02 WO PCT/IB2017/000131 patent/WO2017134518A1/en active Application Filing
- 2017-02-02 EP EP17713766.8A patent/EP3411894B1/en active Active
- 2017-02-02 CN CN201780008538.9A patent/CN108604517B/zh active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003522379A (ja) * | 2000-02-02 | 2003-07-22 | インフィネオン テクノロジーズ アクチェンゲゼルシャフト | マイクロリレー |
JP2003057572A (ja) * | 2001-08-16 | 2003-02-26 | Nec Corp | 薄膜電磁石およびこれを用いたスイッチング素子 |
US20060180409A1 (en) * | 2005-02-15 | 2006-08-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Spring structure and micro-structure employing the same |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10640363B2 (en) | 2016-02-04 | 2020-05-05 | Analog Devices Global | Active opening MEMS switch device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10640363B2 (en) | 2020-05-05 |
US20170225942A1 (en) | 2017-08-10 |
CN108604517A (zh) | 2018-09-28 |
EP3411894B1 (en) | 2023-06-14 |
EP3411894A1 (en) | 2018-12-12 |
WO2017134518A1 (en) | 2017-08-10 |
CN108604517B (zh) | 2020-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101288214B1 (ko) | 마이크로-전자기계 시스템 | |
JP2019503057A (ja) | 能動的開放型memsスイッチデバイス | |
JP4418465B2 (ja) | マルチステブルマイクロ電子機械スイッチスイッチ及びその製造方法 | |
JP5701772B2 (ja) | ビア構造及びその製造方法 | |
JP5449756B2 (ja) | 導電性機械的ストッパを有するmemsスイッチ | |
US6635837B2 (en) | MEMS micro-relay with coupled electrostatic and electromagnetic actuation | |
US8564176B2 (en) | Piezoelectric MEMS switch and method of manufacturing piezoelectric MEMS switch | |
US20050151444A1 (en) | Piezoelectric switch for tunable electronic components | |
JP4879760B2 (ja) | マイクロスイッチング素子およびマイクロスイッチング素子製造方法 | |
US20120235537A1 (en) | Electrostatic actuator | |
JP5579118B2 (ja) | 湾曲バイレイヤーによるメカニカルスイッチ | |
TWI501274B (zh) | 微機電系統裝置及其製造方法 | |
US20070116406A1 (en) | Switch | |
US20130169109A1 (en) | Comb electrode structure | |
JP2011060766A (ja) | 相互嵌合電極を備えた電気機械アクチュエータ | |
JP2008517777A (ja) | 変形可能なブリッジを含むマイクロシステム | |
US20220371882A1 (en) | Microelectromechanical systems (mems) switch and related methods | |
JP5812096B2 (ja) | Memsスイッチ | |
JP2009245876A (ja) | Memsスイッチ | |
WO2022153696A1 (ja) | Memsスイッチ | |
JP5679058B2 (ja) | 電子デバイスとその製造方法、及び電子デバイスの駆動方法 | |
JP2003323840A (ja) | リレー | |
Fritz et al. | Microscanner using self aligned vertical comb drives in a switched electrode configuration for large static rotation |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180719 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190719 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190729 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191028 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200702 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20200702 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20200715 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20200720 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20200911 |
|
C211 | Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C211 Effective date: 20200923 |
|
C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20201221 |
|
C13 | Notice of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13 Effective date: 20210215 |
|
C23 | Notice of termination of proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23 Effective date: 20210621 |
|
C03 | Trial/appeal decision taken |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03 Effective date: 20210719 |
|
C30A | Notification sent |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012 Effective date: 20210719 |