JP2019206733A - 蒸発源装置、蒸着装置、および蒸着システム - Google Patents
蒸発源装置、蒸着装置、および蒸着システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019206733A JP2019206733A JP2018102198A JP2018102198A JP2019206733A JP 2019206733 A JP2019206733 A JP 2019206733A JP 2018102198 A JP2018102198 A JP 2018102198A JP 2018102198 A JP2018102198 A JP 2018102198A JP 2019206733 A JP2019206733 A JP 2019206733A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation source
- vapor deposition
- cooling
- container
- source device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 124
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 123
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims abstract description 121
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 153
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 100
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 19
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 claims description 108
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 58
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 58
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 27
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 37
- 239000010408 film Substances 0.000 description 20
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 11
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 6
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/225—Oblique incidence of vaporised material on substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【課題】制限部材の温度上昇を抑制する。【解決手段】蒸着材料を収容する容器と、冷却部材と、容器の開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下に制限する制限部材と、を備える蒸発源装置であって、制限部材は、冷却部材と対向する対向面を有し、開口の開口面の法線方向を含み、制限部材の有する対向面に垂直な断面において、冷却部材は、容器の少なくとも一部を挟むように配置され、制限部材は、冷却部材の少なくとも一部を挟むように配置されることを特徴とする蒸発源装置を用いる。【選択図】図１
Description
本発明は、蒸発源装置、蒸着装置、および蒸着システムに関する。
近年、ディスプレイの一種として、有機材料の電界発光を用いた有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ装置が注目を集めている。かかる有機ＥＬディスプレイ等の有機電子デバイス製造において、蒸発源装置を用いて、基板上に有機材料や金属電極材料などの蒸着材料を蒸着させて成膜を行う工程がある。
特許文献１の蒸着装置では、蒸発源装置を構成する容器の内部に発生した有機材料の蒸気は、該容器の開口から放出されると、蒸気調整部材によって規定される放出口を通って真空槽の内部に放出される。さらに、該蒸気調整部材の上には、筒状の防着板が、筒の一端を基板ホルダ側に向け、他端を放出口に向けた状態で配置されている。放出口から放出された有機材料の蒸気は、筒状の防着板の内部を通り、基板ホルダ側の端部の開口から放出される。
特許文献１に記載の防着板は、蒸着材料の放射角度を制限する制限部材として機能する。防着板には、輻射によって直接的に、あるいは有機材料の蒸気を介して間接的に、容器または容器を加熱するヒータからの熱が加わる。防着板に熱が加わると、その熱によって成膜対象の基板が加熱されてしまう可能性がある。成膜対象の基板が過度に加熱されると、基板上に形成されている回路や画素が損傷してしまう可能性があるため、好ましくない。
そこで本発明では、上述の課題に鑑み、制限部材の温度上昇を抑制することを目的とする。
本発明の一側面としての蒸発源装置は、蒸着材料を収容する容器と、冷却部材と、前記容器の開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下に制限する制限部材と、を備える蒸発源装置であって、前記制限部材は、前記冷却部材と対向する対向面を有し、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、前記冷却部材は、前記容器の少なくとも一部を挟むように配置され、前記制限部材は、前記冷却部材の少なくとも一部を挟むように配置されることを特徴とする。
本発明の別の一側面としての蒸発源装置は、蒸着材料をそれぞれ収容する複数の容器と、複数の冷却部材と、前記複数の容器のそれぞれの開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下にそれぞれ制限する複数の制限部材と、を備える蒸発源装置であって、前記複数の制限部材のそれぞれは、前記冷却部材のそれぞれと対向する対向面を有し、前記複数の容器のそれぞれについて、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、前記複数の冷却部材のそれぞれは、前記複数の容器のそれぞれの少なくとも一部を挟むように配置され、前記複数の制限部材のそれぞれは、前記複数の冷却部材のそれぞれの少なくとも一部を挟むに配置され、前記複数の容器は並んで配置されて
おり、隣り合う２つの前記容器のそれぞれに対応する２つの前記制限部材は、対向して配置されることを特徴とする。
本発明の別の一側面としての蒸発源装置は、蒸着材料をそれぞれ収容する複数の容器と、複数の冷却部材と、前記複数の容器のそれぞれの開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下にそれぞれ制限する複数の制限部材と、を備える蒸発源装置であって、前記複数の制限部材のそれぞれは、前記冷却部材のそれぞれと対向する対向面を有し、前記複数の容器のそれぞれについて、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、前記複数の冷却部材のそれぞれは、前記複数の容器のそれぞれの少なくとも一部を挟むように配置され、前記複数の制限部材のそれぞれは、前記複数の冷却部材のそれぞれの少なくとも一部を挟むに配置され、前記複数の容器は並んで配置されて
おり、隣り合う２つの前記容器のそれぞれに対応する２つの前記制限部材は、対向して配置されることを特徴とする。
本発明によれば、制限部材の温度上昇を抑制することができる。
以下に図面を参照して、この発明を実施するための形態を、実施例に基づいて例示的に詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状それらの相対配置などは、発明が適用される装置の構成や各種条件により適宜変更されるべきものである。すなわち、この発明の範囲を以下の実施の形態に限定する趣旨のものではない。なお、以下で説明する各実施例を適宜組み合わせたものも、本発明の範囲に含まれることは言うまでもない。
［実施例１］
＜真空装置の概略構成＞
図１は、蒸着装置（成膜装置）１００の構成を示す模式図である。蒸着装置１００は、真空チャンバ２００を有する。真空チャンバ２００の内部は、減圧雰囲気に維持される。真空チャンバ２００の内部には、被処理体設置台（基板ホルダ）２１０によって保持された被処理体である基板１０と、マスク２２０と、蒸発源装置２４０が設けられる。被処理体設置台２１０は、基板１０を載置するための受け爪などの支持具や、基板を押圧保持するためのクランプなどの押圧具を備え、基板を保持する。
＜真空装置の概略構成＞
図１は、蒸着装置（成膜装置）１００の構成を示す模式図である。蒸着装置１００は、真空チャンバ２００を有する。真空チャンバ２００の内部は、減圧雰囲気に維持される。真空チャンバ２００の内部には、被処理体設置台（基板ホルダ）２１０によって保持された被処理体である基板１０と、マスク２２０と、蒸発源装置２４０が設けられる。被処理体設置台２１０は、基板１０を載置するための受け爪などの支持具や、基板を押圧保持するためのクランプなどの押圧具を備え、基板を保持する。
基板１０は、基板搬送装置に配置される搬送ロボット（不図示）により真空チャンバ２００内に搬送されたのち、被処理体設置台２１０によって保持され、成膜時には水平面（ＸＹ平面）と平行となるよう固定される。基板搬送装置には、蒸着装置１００を含む複数の蒸着装置が接続され、蒸着システムを構築している。マスク２２０は、基板１０上に形成する所定パターンの薄膜パターンに対応する開口パターンをもつマスクであり、例えばメタルマスクである。成膜時にはマスク２２０の上に基板１０が載置される。
真空チャンバ２００内には、その他、基板１０の温度上昇を抑制する冷却板（不図示）を備えていてもよい。また、真空チャンバ２００の上には、基板１０およびマスク２２０の少なくとも一方をアライメントするためのアライメント機構（不図示）を備えていてもよい。アライメント機構は、例えば、基板１０およびマスク２２０の少なくとも一方をＸ方向またはＹ方向に移動させるアクチュエータや、基板１０およびマスク２２０の少なくとも一方を保持するためのクランプ機構用アクチュエータなどの駆動手段を備えていてもよい。また、アライメント機構は、基板１０およびマスク２２０の少なくとも一方を撮像するカメラを備えていてもよい。
蒸発源装置２４０は、蒸着材料２４２を収容して保持する容器４００と、蒸着材料２４２を加熱し、蒸着材料２４２の蒸気を容器４００の開口から放出させるために、容器４０
０を加熱する加熱部４３０を備える。その他の各構成要素については、後ほど詳しく述べる。蒸着装置１００は、蒸発源装置２４０の他に、蒸着材料２４２の放出を抑えるシャッタや、基板１０に形成された膜の膜厚を計測するための膜厚モニタなどを備えていてよい（いずれも不図示）。また、蒸着装置１００は、成膜を一様に行うために蒸発源装置２４０を移動させる、移動機構２５０を備えてもよい。移動機構２５０は、蒸発源装置２４０をＸＹ方向、すなわち、基板１０の基板面に平行な方向に移動させる機構であることが好ましいが、これに限定はされず、Ｚ方向、すなわち基板１０の基板面に垂直な方向に移動させる機構であってもよい。移動機構２５０は、蒸発源装置２４０を搭載できる構成が好ましい。なお、図１における蒸発源装置２４０の各構成要素の形状、位置関係、サイズ比は例示にすぎない。
０を加熱する加熱部４３０を備える。その他の各構成要素については、後ほど詳しく述べる。蒸着装置１００は、蒸発源装置２４０の他に、蒸着材料２４２の放出を抑えるシャッタや、基板１０に形成された膜の膜厚を計測するための膜厚モニタなどを備えていてよい（いずれも不図示）。また、蒸着装置１００は、成膜を一様に行うために蒸発源装置２４０を移動させる、移動機構２５０を備えてもよい。移動機構２５０は、蒸発源装置２４０をＸＹ方向、すなわち、基板１０の基板面に平行な方向に移動させる機構であることが好ましいが、これに限定はされず、Ｚ方向、すなわち基板１０の基板面に垂直な方向に移動させる機構であってもよい。移動機構２５０は、蒸発源装置２４０を搭載できる構成が好ましい。なお、図１における蒸発源装置２４０の各構成要素の形状、位置関係、サイズ比は例示にすぎない。
容器４００の材質としては、例えば、セラミック、金属、カーボン材料などを用いることができるが、これに限定されず、蒸着材料２４２の物性や加熱部４３０による加熱温度との関係で好ましいものを用いる。中でも、容器４００の材質としては、タングステン、レニウム、タンタル、モリブデン、ニオブ、バナジウム、ハフニウム、ジルコニウム、チタンなどの高融点金属、あるいは上記金属を含む合金が好ましい。ここで、高融点金属とは、鉄の融点より高い融点を有する金属を指す。
加熱部４３０としては、例えば、シース加熱部や金属ワイヤ線などの抵抗加熱式の加熱部が挙げられるが、これに限定されず、蒸着材料２４２を蒸発させる加熱性能があればよい。また加熱部の形状についても、図１のようなプレート状のほか、ワイヤ状、メッシュ状など任意の形状を採用できる。蒸着時には、加熱部４３０の温度は、蒸着材料２４２が気体状態となるような温度に制御されることが好ましく、２５０℃以上１４００℃以下となるように制御されることが好ましい。蒸着時には、加熱部４３０の温度は、蒸着材料２４２が有機材料の場合には２５０℃以上４５０℃以下となるように制御されることが好ましく、蒸着材料２４２が金属材料の場合には６５０℃以上１４００℃以下となるように制御されることが好ましい。
蒸着装置１００は、制御部２７０を有する。制御部２７０は、蒸発源装置２４０の制御、例えば、加熱の開始や終了のタイミング制御、温度制御、シャッタを設ける場合はその開閉タイミング制御、移動機構２５０を設ける場合はその移動制御などを行う。なお、複数の制御手段を組み合わせて制御部２７０を構成してもよい。複数の制御手段とは、例えば、加熱制御手段、シャッタ制御手段、蒸発源移動機構の移動制御手段などである。制御部２７０は、基板１０の搬送およびアライメント制御手段など、蒸発源装置２４０以外の機構の制御手段を兼ねていてもよい。
制御部２７０は、例えば、プロセッサ、メモリ、ストレージ、Ｉ／Ｏ、ＵＩなどを有するコンピュータにより構成可能である。この場合、制御部２７０の機能は、メモリまたはストレージに記憶されたプログラムをプロセッサが実行することにより実現される。コンピュータとしては、汎用のコンピュータを用いてもよいし、組込型のコンピュータ又はＰＬＣ（ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ ｌｏｇｉｃ ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）を用いてもよい。あるいは、制御部２７０の機能の一部または全部をＡＳＩＣやＦＰＧＡのような回路で構成してもよい。なお、蒸着装置ごとに制御部２７０が設けられていてもよいし、１つの制御部２７０が複数の蒸着装置を制御してもよい。
容器４００内部に蒸着材料２４２が収容され、基板１０のマスク２２０への載置（あるいはマスク２２０の基板１０への載置）やアライメントなどの準備が完了すると、制御部２７０の制御によって加熱部４３０が動作を開始し、蒸着材料２４２が加熱される。温度が十分に高まると、蒸着材料２４２が蒸発し、容器４００の開口４０１から気体状態の蒸着材料２４２が放出され、基板１０の表面に付着し、膜を形成する。容器４００から放出
される蒸着材料２４２は、蒸着材料２４２の気体（蒸気）であり、この蒸気は加熱部４３０によって加熱されている。複数の容器に別種の蒸着材料をそれぞれ収容しておくことで、共蒸着を行うことも可能である。
される蒸着材料２４２は、蒸着材料２４２の気体（蒸気）であり、この蒸気は加熱部４３０によって加熱されている。複数の容器に別種の蒸着材料をそれぞれ収容しておくことで、共蒸着を行うことも可能である。
形成された膜の膜厚を膜厚モニタ（不図示）等で測定しながら制御を行うことで、基板上に所望の厚さを持った膜が形成される。一様な厚さで成膜するために、例えば、基板１０を回転させたり、移動機構２５０により蒸発源装置２４０を移動させたりしながら蒸着を行ってもよい。また、基板１０の大きさによっては、複数の容器４００を並行して加熱することも好ましい。
容器４００の形状は任意である。蒸発源装置２４０は、蒸着材料２４２を放出する開口が一つである点状の蒸発源装置であってもよいし、蒸着材料２４２を放出する開口を複数有しており、複数の開口が一列に配列された線状の蒸発源装置であってもよい。あるいは、蒸着材料２４２を放出する開口を複数有し、複数の開口が二次元的に面状に配列された面状の蒸発源装置であってもよいし、点状の蒸発源装置を複数用意し、材料がなくなった場合に使用する蒸発源装置を交換するリボルバ式の蒸発源装置であってもよい。
後述するように、ある種類の蒸着材料が成膜された基板上に別種の蒸着材料を成膜することで、複層構造を形成できる。その場合、容器内の蒸着材料を交換したり、容器自体を別種の蒸着材料が格納されたものに交換したりしてもよい。また、真空チャンバ内に複数の蒸発源装置を設けて交換しながら用いてもよいし、基板１０を現在の蒸着装置から搬出し、別種の蒸着材料が収納された蒸発源装置を備える他の蒸着装置に搬入してもよい。
＜蒸発源装置の詳細構成＞
図２（ａ）は、本実施形態の蒸発源装置２４０の構成を説明するための概略断面図である。図２（ｂ）は、線状の蒸発源装置２４０の概略上面図であり、図２（ｃ）は、点状の蒸発源装置２４０の概略上面図である。図２（ｂ）、（ｃ）のＡ−Ａ断面が、図２（ａ）で示されている。なお、Ａ−Ａ断面は、後述する容器４００の開口４０１の開口面の法線方向を含み、制限部材４１０の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な断面である。図２（ａ）〜（ｃ）の図１と共通する構成については同じ符号を付し、説明を簡略化する。
図２（ａ）は、本実施形態の蒸発源装置２４０の構成を説明するための概略断面図である。図２（ｂ）は、線状の蒸発源装置２４０の概略上面図であり、図２（ｃ）は、点状の蒸発源装置２４０の概略上面図である。図２（ｂ）、（ｃ）のＡ−Ａ断面が、図２（ａ）で示されている。なお、Ａ−Ａ断面は、後述する容器４００の開口４０１の開口面の法線方向を含み、制限部材４１０の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な断面である。図２（ａ）〜（ｃ）の図１と共通する構成については同じ符号を付し、説明を簡略化する。
蒸発源装置２４０は、容器４００、制限部材４１０、冷却部材４２０、加熱部４３０、反射部材４４０を備える。容器４００は、蒸着材料を保持する。本実施例では、容器４００は、タンタルで構成される。容器４００をタンタルで構成することで、加熱部４３０による加熱温度を１４００℃にまで上げても、容器４００の変形を抑制することができる。容器４００の側面には、加熱部４３０が設けられ、容器４００内に保持された蒸着材料を加熱し、容器４００に設けられた開口４０１から気体状態の蒸着材料を放出する。本実施例の加熱部４３０は、容器４００側面のみに配置されているが、容器４００の上面や底面にも設けてもよい。
冷却部材４２０は、蒸着材料を加熱する熱により、真空チャンバ内全体の温度が上昇することを防ぐために、蒸着材料が保持される容器４００の少なくとも一部を覆うように配置される。本実施例では、冷却部材４２０は、容器４００と加熱部４３０を取り囲むように設けられている。冷却部材４２０の内部には、冷却用の液体を流動させるための流路（不図示）が設けられ、冷却部材４２０を冷却する。本実施例では、冷却部材４２０は、ステンレスで構成される。
反射部材４４０は、加熱部４３０と冷却部材４２０との間に配置される。反射部材４４０は、冷却部材４２０により冷却され、冷却部材４２０と同様に蒸着材料を加熱する熱により、真空チャンバ内全体の温度が上昇することを防ぐ。本実施例では、反射部材４４０
は、モリブデンで構成されるが、タングステン、イリジウム、ルデニウム等の材料で構成されてもよい。また、反射部材４４０は、複数枚で構成され、それぞれの反射部材の間に空間を設ける構造としてもよい。
は、モリブデンで構成されるが、タングステン、イリジウム、ルデニウム等の材料で構成されてもよい。また、反射部材４４０は、複数枚で構成され、それぞれの反射部材の間に空間を設ける構造としてもよい。
制限部材４１０は、容器４００の開口４０１から放出される気体状の蒸着材料の放射角度を一定の角度以下に制限する機能を有する。制限部材４１０は、図２のＡ−Ａ断面において容器４００を挟むように配置され、容器４００の開口端部から蒸着材料が放出する方向に延びる構成になっている。容器４００から放出された蒸着材料は、制限部材４１０によって、放射角度が一定の角度以下に制限される。これにより、蒸着装置において蒸着を行う際の、蒸着材料の基板１０への入射角度を一定の角度以下に制限することができ、マスク２２０を介した成膜におけるパターニング精度を高めることができる。また、蒸着材料が、真空チャンバ２００の壁面など、基板１０およびマスク２２０以外の部分に付着してしまうことを抑制することができる。なお、本明細書において、放射角度とは、容器の開口から放射される蒸着材料の放射方向と、容器の開口の法線とがなす角度をいう。また、本明細書において、入射角度とは、基板に入射する蒸着材料の入射方向と、基板の基板面の法線とがなす角度をいう。
本実施形態では、制限部材４１０は、図２のＡ−Ａ断面において冷却部材４２０を挟むように配置されている。制限部材４１０は、冷却部材４２０の少なくとも一部を覆うように配置されており、冷却部材４２０と対向する対向面を有している。このように構成することで、容器４００を冷却する冷却部材４２０は、容器４００のみならず、制限部材４１０も冷却することができる。制限部材４１０は、容器４００の開口４０１から放出された気体状の蒸着材料の一部を物理的に遮蔽することで蒸着材料の放射角度を制限するため、制限部材４１０は蒸着材料の熱によって温度が上昇しやすい。本実施形態のように、制限部材４１０が冷却部材４２０の少なくとも一部を挟むように配置されていることで、制限部材４１０は冷却部材４２０によって冷却されるため、蒸着中も制限部材４１０の温度上昇を抑制することができる。
本実施形態において、制限部材４１０は、固定部材（不図示）によって、冷却部材４２０に固定されている。固定部材は特に限定されるものではないが、ボルトなどを用いることができる。金属など、熱伝導率の高い材料で構成された固定部材によって制限部材４１０を冷却部材４２０に固定することで、制限部材４１０と冷却部材４２０とを熱的に接続することができる。これにより、冷却部材４２０による制限部材４１０の冷却効率を高めることができる。一方、制限部材４１０と冷却部材４２０との間には空間が設けられていることが好ましい。これにより、制限部材４１０が冷却部材４２０によって過度に冷却されることを抑制することができる。
なお、制限部材４１０の冷却部材４２０または容器４００に対する固定方法は特に限定はされない。例えば、制限部材４１０の重力方向の下方に冷却部材４２０を延在させて制限部材４１０を突き当て支持する突き当て部（不図示）を形成し、これにより制限部材４１０を突き当て支持してもよい。これによれば、制限部材４１０の位置決めを容易にすることができ、その結果、蒸着材料の放射角度を容易に設定できるようになる。なお、突き当て部による突き当て支持と、上述の固定部材による固定とを組み合わせてもよい。
本実施形態において、制限部材４１０、冷却部材４２０、反射部材４４０は、それぞれ板状の部材であるため、制限部材４１０を制限板、冷却部材４２０を冷却板、反射部材４４０を反射板とそれぞれ呼ぶこともできる。制限部材４１０は、ステンレス、アルミ、チタン、カーボン等の材料で形成されるが、これに限定されない。また、制限部材４１０は、単一の材料で構成される形態に限らず、複数の材料で構成される形態でもよい。また、制限部材４１０は、単一の部品で構成される形態に限らず、複数の部品を溶接やネジ止め
などによって組み合わせて構成されてもよい。制限部材４１０を構成する複数の部品は、制限部材４１０のうちの蒸気の制限をする部分（制限部）を構成する部品と、制限部材４１０のうちの冷却部材４２０で冷却される部分（基部、冷却部）を構成する部品とを含みうる。これらの部品は、制限部が基部を介して冷却部材４２０で冷却されるように、複数の部品が熱的に接続されていればよい。
などによって組み合わせて構成されてもよい。制限部材４１０を構成する複数の部品は、制限部材４１０のうちの蒸気の制限をする部分（制限部）を構成する部品と、制限部材４１０のうちの冷却部材４２０で冷却される部分（基部、冷却部）を構成する部品とを含みうる。これらの部品は、制限部が基部を介して冷却部材４２０で冷却されるように、複数の部品が熱的に接続されていればよい。
蒸着を行うと蒸着材料が制限部材４１０に付着するため、一定期間、蒸着工程が行われた後には、制限部材４１０を交換または洗浄する等のメンテナンスが必要となる。本実施形態では、制限部材４１０を冷却部材４２０に固定するための固定部材を取り外すことによって固定を解除することで、制限部材４１０を取り外すことができる。すなわち、制限部材４１０は、冷却部材４２０から取り外し可能に設けられている。これにより、上述のメンテナンス作業を容易に行うことができる。
より具体的には、制限部材４１０を冷却部材４２０よりもひと回り大きな筒状の部材とすることで、筒状の制限部材４１０に冷却部材４２０を脱挿入可能な構成とすることができる。これによれば、制限部材４１０の冷却部材４２０への固定を解除した状態で制限部材４１０を引き抜くことで、冷却部材４２０の表面に沿って制限部材４１０を移動させて取り外すことができる。この結果、メンテナンス作業をより一層容易に行うことができる。あるいは、制限部材４１０を筒状の部材とせずとも、制限部材４１０および冷却部材４２０の少なくとも一方に、制限部材４１０に対する冷却部材４２０の相対移動をガイドするガイド部を設けておいてもよい。これによっても、制限部材４１０を冷却部材４２０の表面に沿って移動させて取り外すことができるようにすることができる。
本実施例で制限部材４１０は、冷却部材４２０の側面を囲むように設けているが、冷却部材４２０の側面一部に配置されない構成としてもよい。
［実施例２］
図３に示す本実施例の蒸発源装置２４０は、容器４００の高さ方向に対して、制限部材の構成が実施例１と異なる例を示す。他の実施例と共通する構成については同じ符号を付し、説明を簡略化する。図３に示すように、容器４００を以下のように分けて説明する。ノズル部４００（ａ）は、開口４０１を形成し、容器４００の面（第１の面）に突出して設けられる領域である。収容部４００（ｃ）は、固体状態または液体状態の蒸着材料を収容する領域である。蒸発部４００（ｂ）は、ノズル部４００（ａ）と収容部４００（ｃ）の間に位置し、気体状態の蒸着材料を収容する領域である。蒸発部４００（ｂ）は、収容部４００（ｃ）と連通しており、収容部４００（ｃ）で生じた気体状態の蒸着材料が移動可能に構成されている。なお、図３は図２（ａ）と同様に、容器４００の開口４０１の開口面の法線方向を含み、制限部材４１２の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な断面（Ａ−Ａ断面）を示している。
図３に示す本実施例の蒸発源装置２４０は、容器４００の高さ方向に対して、制限部材の構成が実施例１と異なる例を示す。他の実施例と共通する構成については同じ符号を付し、説明を簡略化する。図３に示すように、容器４００を以下のように分けて説明する。ノズル部４００（ａ）は、開口４０１を形成し、容器４００の面（第１の面）に突出して設けられる領域である。収容部４００（ｃ）は、固体状態または液体状態の蒸着材料を収容する領域である。蒸発部４００（ｂ）は、ノズル部４００（ａ）と収容部４００（ｃ）の間に位置し、気体状態の蒸着材料を収容する領域である。蒸発部４００（ｂ）は、収容部４００（ｃ）と連通しており、収容部４００（ｃ）で生じた気体状態の蒸着材料が移動可能に構成されている。なお、図３は図２（ａ）と同様に、容器４００の開口４０１の開口面の法線方向を含み、制限部材４１２の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な断面（Ａ−Ａ断面）を示している。
また、本実施例では、容器４００の内部に蒸着材料を収容するための坩堝部材４５０と坩堝部材４５０の上部に配置された仕切部材４６０を有する。坩堝部材４５０と仕切部材４６０は、収容部４００（ｃ）と対向する位置に配置されている。坩堝部材４５０を設けることで、蒸着材料の交換を簡単に行うことができる。仕切部材４６０は、気体状態の蒸着材料が通過する開口を有しており、蒸着材料の突沸による飛び散りを防止することができる。仕切部材４６０の有する開口の形状や個数については特に限定はされないが、仕切部材４６０の有する開口は、ノズル部４００（ａ）と対向する位置以外の位置に設けられていることが好ましい。これにより、蒸着材料の突沸による飛び散りをより一層防止することができる。
加熱部４３０は、蒸発部４００（ｂ）に対向する第１の加熱部４３０（ａ）と、収容部
４００（ｃ）に対向する第２の加熱部４３０（ｂ）に分かれた構成となっている。このような構成にすることにより、蒸発部４００（ｂ）への加熱温度と収容部４００（ｃ）への加熱温度とを個別に調節することが可能となる。
４００（ｃ）に対向する第２の加熱部４３０（ｂ）に分かれた構成となっている。このような構成にすることにより、蒸発部４００（ｂ）への加熱温度と収容部４００（ｃ）への加熱温度とを個別に調節することが可能となる。
一般的には、収容部４００（ｃ）に収容される固体状態または液体状態の蒸着材料に関して、高温の熱による材料の劣化が懸念される。そのため第２の加熱部４３０（ｂ）は、固体状態または液体状態の蒸着材料を気体状態に変化させられる程度の温度で制御されることが好ましい。具体的には、蒸着材料の昇華温度または沸点付近の温度で制御されることが好ましい。それに対し、蒸発部４００（ｂ）に収容される気体状態の蒸着材料は、ノズル部４００（ａ）に蒸着材料が凝固しないように気体状態を維持する必要がある。そのため第１の加熱部４３０（ａ）は、第２の加熱部４３０（ｂ）よりも高い温度で制御される。
本実施例において、冷却部材４２０は、容器４００の開口４０１の開口面の法線方向を含み、制限部材４１２の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な断面において、蒸発部４００（ｂ）と収容部４００（ｃ）とを挟むように配置されている。
制限部材４１２は、容器４００の開口４０１の開口面の法線方向を含み、制限部材４１２の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な断面において、冷却部材４２０と蒸発部４００（ｂ）を挟むように配置されている。制限部材４１２の冷却部材４２０に対する固定方法は実施例１と同様である。制限部材４１２は、蒸発部４００（ｂ）の少なくとも一部および冷却部材４２０の少なくとも一部を覆うように配置されている。本実施例では、制限部材４１２は、第１の加熱部４３０（ａ）に対向し、第２の加熱部４３０（ｂ）とは対向しない構成になっている。ただし、この構成に限定はされず、制限部材４１２が、第２の加熱部４３０（ｂ）の一部と対向する構成であってもよい。
［実施例３］
図４に示す本実施例の蒸発源装置２４０は、容器４００のノズル部４００（ａ）周辺の制限部材の構成が実施例１、２と異なる例を示す。他の実施例と共通する構成については同じ符号を付し、説明を簡略化する。冷却部材４２０を以下のように分けて説明する。対向部４２０（ａ）は、ノズル部４００（ａ）が配置される容器４００の上面である面（第１の面）に対向して配置される領域である。側面部４２０（ｂ）は、容器４００の側面に対向して配置される領域である。底面部４２０（ｃ）は、容器４００の底面に対向して配置される領域である。なお、図４は図２（ａ）と同様に、容器４００の開口４０１の開口面の法線方向を含み、制限部材４１４の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な断面（Ａ−Ａ断面）を示している。
図４に示す本実施例の蒸発源装置２４０は、容器４００のノズル部４００（ａ）周辺の制限部材の構成が実施例１、２と異なる例を示す。他の実施例と共通する構成については同じ符号を付し、説明を簡略化する。冷却部材４２０を以下のように分けて説明する。対向部４２０（ａ）は、ノズル部４００（ａ）が配置される容器４００の上面である面（第１の面）に対向して配置される領域である。側面部４２０（ｂ）は、容器４００の側面に対向して配置される領域である。底面部４２０（ｃ）は、容器４００の底面に対向して配置される領域である。なお、図４は図２（ａ）と同様に、容器４００の開口４０１の開口面の法線方向を含み、制限部材４１４の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な断面（Ａ−Ａ断面）を示している。
制限部材４１４は、容器４００の側面に対向する基部４１４（ｃ）、ノズル部４００（ａ）の開口端部から蒸着材料が放出する方向に位置する制限部４１４（ｂ）、冷却部材４２０の対向部４２０（ａ）に対向して延びる延在部４１４（ａ）を含む。制限部材４１４の冷却部材４２０に対する固定方法は実施例１と同様である。この構成により、実施例１、２に比べて、制限部材４１４が冷却部材４２０との対向する面積を増やすことができ、制限部材４１４の冷却効率を向上させることができる。
［実施例４］
図５に示す本実施例の蒸発源装置２４０は、蒸発部４００（ｂ）と収容部４００（ｃ）をつなぐ中間部４００（ｄ）を設ける例を示す。他の実施例と共通する構成については同じ符号を付し、説明を簡略化する。なお、図５は図２（ａ）と同様に、容器４００の開口４０１の開口面の法線方向を含み、制限部材４１６の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な断面（Ａ−Ａ断面）を示している。
図５に示す本実施例の蒸発源装置２４０は、蒸発部４００（ｂ）と収容部４００（ｃ）をつなぐ中間部４００（ｄ）を設ける例を示す。他の実施例と共通する構成については同じ符号を付し、説明を簡略化する。なお、図５は図２（ａ）と同様に、容器４００の開口４０１の開口面の法線方向を含み、制限部材４１６の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な断面（Ａ−Ａ断面）を示している。
中間部４００（ｄ）は、蒸発部４００（ｂ）および収容部４００（ｃ）のそれぞれと連通している。中間部４００（ｄ）は、蒸発部４００（ｂ）と収容部４００（ｃ）より蒸着材料を収容する領域の体積が小さい。Ａ−Ａ断面において、中間部４００（ｄ）の制限部材４１６の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な方向における幅５０２は、蒸発部４００（ｂ）および収容部４００（ｃ）の制限部材４１６の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な方向における幅（５０１、５０３）のいずれよりも小さい。さらに、蒸発部４００（ｂ）は、収容部４００（ｃ）より蒸着材料を収容する領域の体積が小さい。Ａ−Ａ断面において、蒸発部４００（ｂ）の制限部材４１６の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な方向における幅５０１は、収容部４００（ｃ）の制限部材４１６の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な方向における幅５０３よりも小さい。なお、本実施例の場合は、上記の各幅は、「制限部材に挟まれる方向における幅」と言い換えることもできる。
反射部材４４０は、蒸発部４００（ｂ）に対向する第１の反射部材４４０（ａ）と、収容部４００（ｃ）に対向する第２の反射部材４４０（ｂ）に分かれた構成となっている。また本実施例では、第１の反射部材４４０（ａ）は、蒸発部４００（ｂ）のみに対向しているが、中間部４００（ｄ）に対向してもよいし、中間部４００（ｄ）に対向する反射部材を別途設けてもよい。
冷却部材４２０は、蒸発部４００（ｂ）の少なくとも一部を取り囲む第１の冷却部と、収容部４００（ｃ）の少なくとも一部を取り囲む第２の冷却部と、を有する。本実施例では、第１の冷却部は中間部４００（ｄ）の少なくとも一部も取り囲んでいる。Ａ−Ａ断面において、第１の冷却部の制限部材４１６の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な方向における幅５０４は、第２の冷却部の制限部材４１６の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な方向における幅５０５よりも小さい。制限部材４１６は、冷却部材４２０の蒸発部４００（ｂ）と中間部４００（ｄ）に対向する領域を挟むように配置され、冷却部材４２０の収容部４００（ｃ）に対向する領域には対向しない構成となっている。制限部材４１６の蒸発部４００（ｂ）と冷却部材４２０を挟む方向における間隔５０６は、冷却部材４２０の収容部４００（ｃ）を挟む方向における幅５０５より小さい。このことにより、スペースを活用して蒸発源装置２４０を構成することができる。
［実施例５］
本実施例の蒸発源装置２４０は、容器４００を複数設ける例を示す。図６に示すように、蒸発源装置２４０は、実施例４での蒸発源装置が２つ並べられた構成を有している。なお、図６は図２（ａ）と同様に、容器４００の開口４０１の開口面の法線方向を含み、制限部材４１６の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な断面（Ａ−Ａ断面）を示している。
本実施例の蒸発源装置２４０は、容器４００を複数設ける例を示す。図６に示すように、蒸発源装置２４０は、実施例４での蒸発源装置が２つ並べられた構成を有している。なお、図６は図２（ａ）と同様に、容器４００の開口４０１の開口面の法線方向を含み、制限部材４１６の冷却部材４２０と対向する対向面に垂直な断面（Ａ−Ａ断面）を示している。
制限部材４１６は、固定部材であるボルト６００により冷却部材４２０に固定されている。制限部材４１６と冷却部材４２０との間には、空間が設けられている。このように制限部材４１６と冷却部材４２０の間に空間を設け、輻射により制限部材４１６を冷却することにより、制限部材４１６が過度に冷却されることを抑制することができる。ボルト６００を外すことによって固定を解除すれば、制限部材４１６を冷却部材４２０の側面に沿って移動させることができるようになり、制限部材４１６を冷却部材４２０から取り外すことができる。容器４００は、冷却部材４２０に設けられたボルト状の突起部６１０に配置されている。加熱部４３０、反射部材４４０は、冷却部材４２０にボルト６００とは異なるボルト（不図示）で固定されている。
蒸発源装置２４０は、移動機構２５０上に設けられている。移動機構２５０の内部は、真空チャンバ２００とは遮蔽された大気空間になっており、蒸発源装置２４０に接続され
る配線等（不図示）を収納することができる。この移動機構２５０が移動されることで、蒸発源装置２４０を移動しながら、蒸着することが可能となる。
る配線等（不図示）を収納することができる。この移動機構２５０が移動されることで、蒸発源装置２４０を移動しながら、蒸着することが可能となる。
［実施例６］
＜有機電子デバイスの製造方法の具体例＞
本実施形態では、蒸発源装置を備える蒸着装置（蒸着装置）を用いた有機電子デバイスの製造方法の一例を説明する。以下、有機電子デバイスの例として有機ＥＬ表示装置の構成および製造方法を例示する。まず、製造する有機ＥＬ表示装置について説明する。図７（ａ）は有機ＥＬ表示装置６０の全体図、図７（ｂ）は１画素の断面構造を表している。本実施形態の蒸着装置が備える蒸発源装置２４０としては、上記の各実施形態にいずれかに記載の装置を用いる。
＜有機電子デバイスの製造方法の具体例＞
本実施形態では、蒸発源装置を備える蒸着装置（蒸着装置）を用いた有機電子デバイスの製造方法の一例を説明する。以下、有機電子デバイスの例として有機ＥＬ表示装置の構成および製造方法を例示する。まず、製造する有機ＥＬ表示装置について説明する。図７（ａ）は有機ＥＬ表示装置６０の全体図、図７（ｂ）は１画素の断面構造を表している。本実施形態の蒸着装置が備える蒸発源装置２４０としては、上記の各実施形態にいずれかに記載の装置を用いる。
図７（ａ）に示すように、有機ＥＬ表示装置６０の表示領域６１には、発光素子を複数備える画素６２がマトリクス状に複数配置されている。詳細は後で説明するが、発光素子のそれぞれは、一対の電極に挟まれた有機層を備えた構造を有している。なお、ここでいう画素とは、表示領域６１において所望の色の表示を可能とする最小単位を指している。本図の有機ＥＬ表示装置の場合、互いに異なる発光を示す第１発光素子６２Ｒ、第２発光素子６２Ｇ、第３発光素子６２Ｂの組合せにより画素６２が構成されている。画素６２は、赤色発光素子と緑色発光素子と青色発光素子の組合せで構成されることが多いが、黄色発光素子とシアン発光素子と白色発光素子の組み合わせでもよく、少なくとも１色以上であれば特に制限されるものではない。
図７（ｂ）は、図７（ａ）のＡ−Ｂ線における部分断面模式図である。画素６２は、被蒸着体である基板６３上に、第１電極（陽極）６４と、正孔輸送層６５と、発光層６６Ｒ，６６Ｇ，６６Ｂのいずれかと、電子輸送層６７と、第２電極（陰極）６８と、を備える有機ＥＬ素子を有している。これらのうち、正孔輸送層６５、発光層６６Ｒ，６６Ｇ，６６Ｂ、電子輸送層６７が有機層に当たる。また、本実施形態では、発光層６６Ｒは赤色を発する有機ＥＬ層、発光層６６Ｇは緑色を発する有機ＥＬ層、発光層６６Ｂは青色を発する有機ＥＬ層である。発光層６６Ｒ，６６Ｇ，６６Ｂは、それぞれ赤色、緑色、青色を発する発光素子（有機ＥＬ素子と記述する場合もある）に対応するパターンに形成されている。また、第１電極６４は、発光素子ごとに分離して形成されている。正孔輸送層６５と電子輸送層６７と第２電極６８は、複数の発光素子６２Ｒ，６２Ｇ，６２Ｂと共通で形成されていてもよいし、発光素子毎に形成されていてもよい。なお、第１電極６４と第２電極６８とが異物によってショートするのを防ぐために、第１電極６４間に絶縁層６９が設けられている。さらに、有機ＥＬ層は水分や酸素によって劣化するため、水分や酸素から有機ＥＬ素子を保護するための保護層７０が設けられている。
次に、有機ＥＬ表示装置の製造方法の例について具体的に説明する。
まず、有機ＥＬ表示装置を駆動するための回路（不図示）および第１電極６４が形成された基板６３を準備する。
まず、有機ＥＬ表示装置を駆動するための回路（不図示）および第１電極６４が形成された基板６３を準備する。
第１電極６４が形成された基板６３の上にアクリル樹脂をスピンコートで形成し、アクリル樹脂をリソグラフィ法により、第１電極６４が形成された部分に開口が形成されるようにパターニングし絶縁層６９を形成する。この開口部が、発光素子が実際に発光する発光領域に相当する。
絶縁層６９がパターニングされた基板６３を第１の蒸着装置に搬入し、被処理体設置台２１０にて基板を保持し、正孔輸送層６５を、表示領域の第１電極６４の上に共通する層として成膜する。正孔輸送層６５は真空蒸着により成膜される。実際には正孔輸送層６５は表示領域６１よりも大きなサイズに形成されるため、高精細なマスクは不要である。こ
こで、本ステップでの成膜や、以下の各レイヤーの成膜において用いられる蒸着装置は、上記各実施形態のいずれかに記載された蒸発源装置を備えている。
こで、本ステップでの成膜や、以下の各レイヤーの成膜において用いられる蒸着装置は、上記各実施形態のいずれかに記載された蒸発源装置を備えている。
次に、正孔輸送層６５までが形成された基板６３を第２の蒸着装置に搬入し、被処理体設置台２１０にて保持する。基板とマスクとのアライメントを行い、基板をマスクの上に載置し、基板６３の赤色を発する素子を配置する部分に、赤色を発する発光層６６Ｒを成膜する。本例によれば、マスクと基板とを良好に重ね合わせることができ、高精度な成膜を行うことができる。
発光層６６Ｒの成膜と同様に、第３の蒸着装置により緑色を発する発光層６６Ｇを成膜し、さらに第４の蒸着装置により青色を発する発光層６６Ｂを成膜する。発光層６６Ｒ、６６Ｇ、６６Ｂの成膜が完了した後、第５の蒸着装置により表示領域６１の全体に電子輸送層６７を成膜する。電子輸送層６７は、３色の発光層６６Ｒ、６６Ｇ、６６Ｂに共通の層として形成される。
電子輸送層６７までが形成された基板をスパッタリング装置に移動し、第２電極６８を成膜し、その後プラズマＣＶＤ装置に移動して保護層７０を成膜して、有機ＥＬ表示装置６０が完成する。
絶縁層６９がパターニングされた基板６３を蒸着装置に搬入してから保護層７０の成膜が完了するまでは、水分や酸素を含む雰囲気にさらしてしまうと、有機ＥＬ材料からなる発光層が水分や酸素によって劣化してしまうおそれがある。したがって、本例において、蒸着装置間の基板の搬入搬出は、真空雰囲気または不活性ガス雰囲気の下で行われる。
このようにして得られた有機ＥＬ表示装置は、発光素子ごとに発光層が精度よく形成される。上記製造方法を用いれば、基板や有機ＥＬ表示装置を駆動するための回路の損傷に起因する有機ＥＬ表示装置の不良の発生を抑制することができる。本実施形態に係る蒸着装置によれば、蒸発源装置の制限部材の温度上昇を抑制することができるため、成膜対象の基板の加熱を抑制することができるため、良好な蒸着が可能となる。
２４０：蒸発源装置，４００：容器，４２０：冷却部材，４１０：制限部材
本発明の一側面としての蒸発源装置は、蒸着材料を収容する容器と、冷却部材と、前記容器の開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下に制限する制限部材と、を備える蒸発源装置であって、前記制限部材は、前記冷却部材と対向する対向面を有し、
前記容器は、固体状態または液体状態の前記蒸着材料を収容する収容部と、前記開口と前記収容部との間に配置され、前記収容部と連通し、気体状態の前記蒸着材料を収容する蒸発部と、前記収容部と前記蒸発部との間に配置され、前記収容部および前記蒸発部のそれぞれと連通する中間部と、を有し、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、前記冷却部材は、前記容器の少なくとも一部を挟むように配置され、前記制限部材は、前記冷却部材の少なくとも一部を挟むように配置され、前記中間部の幅は、前記蒸発部の幅および前記収容部の幅よりも小さいことを特徴とする。
本発明の別の一側面としての蒸発源装置は、蒸着材料をそれぞれ収容する複数の容器と、複数の冷却部材と、前記複数の容器のそれぞれの開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下にそれぞれ制限する複数の制限部材と、を備える蒸発源装置であって、前記複数の制限部材のそれぞれは、前記冷却部材のそれぞれと対向する対向面を有し、前記複数の容器のそれぞれについて、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、前記複数の冷却部材のそれぞれは、前記複数の容器のそれぞれの少なくとも一部を挟むように配置され、前記複数の制限部材のそれぞれは、前記複数の冷却部材のそれぞれの少なくとも一部を挟むように配置され、前記複数の容器は並んで配置されており、隣り合う２つの前記容器のそれぞれに対応する２つの前記制限部材は、対向して配置されることを特徴とする。
本発明の別の一側面としての蒸発源装置は、蒸着材料を収容する容器と、冷却部材と、前記容器の開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下に制限する制限部材と、を備える蒸発源装置であって、前記制限部材は、前記冷却部材と対向する対向面を有し、前記冷却部材は、前記蒸発部の少なくとも一部を取り囲む第１の冷却部と、前記収容部の少なくとも一部を取り囲む第２の冷却部と、を有し、前記容器は、固体状態または液体状態の前記蒸着材料を収容する収容部と、前記開口と前記収容部との間に配置され、前記収容部と連通し、気体状態の前記蒸着材料を収容する蒸発部と、を含み、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、前記冷却部材は、前記容器の少なくとも一部を挟むように配置され、前記制限部材は、前記冷却部材の少なくとも一部を挟むように配置され、前記蒸発部の前記対向面に垂直な方向の幅は、前記収容部の前記対向面に垂直な方向の幅よりも小さく、前記第１の冷却部の前記対向面に垂直な方向における幅は、前記第２の冷却部の前記対向面に垂直な方向における幅よりも小さいことを特徴とする。
本発明の別の一側面としての蒸発源装置は、蒸着材料を収容する容器と、冷却部材と、前記容器の開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下に制限する制限部材と、を備える蒸発源装置であって、前記制限部材は、前記冷却部材と対向する対向面を有し、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、前記冷却部材は、前記容器の少なくとも一部を挟むように配置され、前記制限部材は、前記冷却部材の少なくとも一部を挟むように配置され、前記容器は、前記開口を形成するノズル部を含み、前記ノズル部は、前記容器の第１の面に対して突出して設けられ、前記冷却部材は、前記容器の前記第１の面に対向して配置される対向部を含み、前記制限部材は、前記対向部に対向するように延在する延在部を含むことを特徴とする。
本発明の別の一側面としての蒸発源装置は、蒸着材料を収容する容器と、冷却部材と、前記容器の開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下に制限する制限部材と、を備える蒸発源装置であって、前記制限部材は、前記冷却部材と対向する対向面を有し、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、前記冷却部材は、前記容器の少なくとも一部を挟むように配置され、前記制限部材は、前記冷却部材の少なくとも一部を挟むように配置され、前記容器は、固体状態または液体状態の前記蒸着材料を収容する収容部と、前記開口と前記収容部との間に配置され、前記収容部と連通し、気体状態の前記蒸着材料を収容する蒸発部と、を含み、前記容器の前記収容部には、前記蒸着材料を収容するための坩堝部材と、前記坩堝部材の上部に配置された仕切部材が配置されることを特徴とする。
前記容器は、固体状態または液体状態の前記蒸着材料を収容する収容部と、前記開口と前記収容部との間に配置され、前記収容部と連通し、気体状態の前記蒸着材料を収容する蒸発部と、前記収容部と前記蒸発部との間に配置され、前記収容部および前記蒸発部のそれぞれと連通する中間部と、を有し、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、前記冷却部材は、前記容器の少なくとも一部を挟むように配置され、前記制限部材は、前記冷却部材の少なくとも一部を挟むように配置され、前記中間部の幅は、前記蒸発部の幅および前記収容部の幅よりも小さいことを特徴とする。
本発明の別の一側面としての蒸発源装置は、蒸着材料をそれぞれ収容する複数の容器と、複数の冷却部材と、前記複数の容器のそれぞれの開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下にそれぞれ制限する複数の制限部材と、を備える蒸発源装置であって、前記複数の制限部材のそれぞれは、前記冷却部材のそれぞれと対向する対向面を有し、前記複数の容器のそれぞれについて、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、前記複数の冷却部材のそれぞれは、前記複数の容器のそれぞれの少なくとも一部を挟むように配置され、前記複数の制限部材のそれぞれは、前記複数の冷却部材のそれぞれの少なくとも一部を挟むように配置され、前記複数の容器は並んで配置されており、隣り合う２つの前記容器のそれぞれに対応する２つの前記制限部材は、対向して配置されることを特徴とする。
本発明の別の一側面としての蒸発源装置は、蒸着材料を収容する容器と、冷却部材と、前記容器の開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下に制限する制限部材と、を備える蒸発源装置であって、前記制限部材は、前記冷却部材と対向する対向面を有し、前記冷却部材は、前記蒸発部の少なくとも一部を取り囲む第１の冷却部と、前記収容部の少なくとも一部を取り囲む第２の冷却部と、を有し、前記容器は、固体状態または液体状態の前記蒸着材料を収容する収容部と、前記開口と前記収容部との間に配置され、前記収容部と連通し、気体状態の前記蒸着材料を収容する蒸発部と、を含み、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、前記冷却部材は、前記容器の少なくとも一部を挟むように配置され、前記制限部材は、前記冷却部材の少なくとも一部を挟むように配置され、前記蒸発部の前記対向面に垂直な方向の幅は、前記収容部の前記対向面に垂直な方向の幅よりも小さく、前記第１の冷却部の前記対向面に垂直な方向における幅は、前記第２の冷却部の前記対向面に垂直な方向における幅よりも小さいことを特徴とする。
本発明の別の一側面としての蒸発源装置は、蒸着材料を収容する容器と、冷却部材と、前記容器の開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下に制限する制限部材と、を備える蒸発源装置であって、前記制限部材は、前記冷却部材と対向する対向面を有し、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、前記冷却部材は、前記容器の少なくとも一部を挟むように配置され、前記制限部材は、前記冷却部材の少なくとも一部を挟むように配置され、前記容器は、前記開口を形成するノズル部を含み、前記ノズル部は、前記容器の第１の面に対して突出して設けられ、前記冷却部材は、前記容器の前記第１の面に対向して配置される対向部を含み、前記制限部材は、前記対向部に対向するように延在する延在部を含むことを特徴とする。
本発明の別の一側面としての蒸発源装置は、蒸着材料を収容する容器と、冷却部材と、前記容器の開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下に制限する制限部材と、を備える蒸発源装置であって、前記制限部材は、前記冷却部材と対向する対向面を有し、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、前記冷却部材は、前記容器の少なくとも一部を挟むように配置され、前記制限部材は、前記冷却部材の少なくとも一部を挟むように配置され、前記容器は、固体状態または液体状態の前記蒸着材料を収容する収容部と、前記開口と前記収容部との間に配置され、前記収容部と連通し、気体状態の前記蒸着材料を収容する蒸発部と、を含み、前記容器の前記収容部には、前記蒸着材料を収容するための坩堝部材と、前記坩堝部材の上部に配置された仕切部材が配置されることを特徴とする。
Claims (23)
- 蒸着材料を収容する容器と、
冷却部材と、
前記容器の開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下に制限する制限部材と、を備える蒸発源装置であって、
前記制限部材は、前記冷却部材と対向する対向面を有し、
前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、
前記冷却部材は、前記容器の少なくとも一部を挟むように配置され、
前記制限部材は、前記冷却部材の少なくとも一部を挟むように配置される
ことを特徴とする蒸発源装置。 - 前記制限部材は、前記冷却部材により冷却される
ことを特徴とする請求項１に記載の蒸発源装置。 - 前記制限部材は、前記冷却部材と熱的に接続されている
ことを特徴とする請求項１または２に記載の蒸発源装置。 - 前記制限部材は、前記制限部材を前記冷却部材に対して固定する固定部材を介して、前記冷却部材と熱的に接続されている
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の蒸発源装置。 - 前記冷却部材は、前記容器の少なくとも一部を取り囲むように配置されている
ことを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の蒸発源装置。 - 前記容器は、固体状態または液体状態の前記蒸着材料を収容する収容部と、前記開口と前記収容部との間に配置され、前記収容部と連通し、気体状態の前記蒸着材料を収容する蒸発部と、を含み、
前記制限部材は、前記蒸発部の少なくとも一部および前記冷却部材の少なくとも一部を挟むように配置されている
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の蒸発源装置。 - 前記容器は、前記収容部と前記蒸発部との間に配置され、前記収容部および前記蒸発部のそれぞれと連通する中間部をさらに含む
ことを特徴とする請求項６に記載の蒸発源装置。 - 前記制限部材は、前記冷却部材と対向する対向面を有し、
前記冷却部材は、前記蒸発部の少なくとも一部を取り囲む第１の冷却部と、前記収容部の少なくとも一部を取り囲む第２の冷却部と、を有し、
前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、
前記蒸発部の前記対向面に垂直な方向の幅は、前記収容部の前記対向面に垂直な方向の幅よりも小さく、
前記第１の冷却部の前記対向面に垂直な方向における幅は、前記第２の冷却部の前記対向面に垂直な方向における幅よりも小さい
ことを特徴とする請求項６または７に記載の蒸発源装置。 - 前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、
前記制限部材の前記蒸発部の少なくとも一部を挟む部分の前記対向面に垂直な方向における間隔は、前記第２の冷却部の前記対向面に垂直な方向における幅よりも小さい
ことを特徴とする請求項８に記載の蒸発源装置。 - 前記容器を加熱する加熱部をさらに備え、
前記加熱部は、前記容器と前記冷却部材との間に配置される
ことを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の蒸発源装置。 - 前記容器を加熱する加熱部をさらに備え、
前記加熱部は、第１の加熱部と第２の加熱部とを含み、
前記第１の加熱部は、前記蒸発部に対向するように配置され、
前記第２の加熱部は、前記収容部に対向するように配置され、
前記第１の加熱部および前記第２の加熱部は、前記容器と前記冷却部材との間に配置されることを特徴とする請求項６から９のいずれか一項に記載の蒸発源装置。 - 前記第１の加熱部は、前記第２の加熱部よりも高い温度で制御される
ことを特徴とする請求項１１に記載の蒸発源装置。 - 前記加熱部の温度が２５０℃以上１４００℃以下となるように制御される
ことを特徴とする請求項１０から１２のいずれか一項に記載の蒸発源装置。 - 前記加熱部と前記冷却部材との間に配置され、前記加熱部からの熱を反射する反射部材をさらに備え、
前記反射部材は、前記冷却部材により冷却される
ことを特徴とする請求項１０から１３のいずれか一項に記載の蒸発源装置。 - 前記反射部材はモリブデンにより構成され、前記容器はタンタルにより構成され、前記制限部材は、ステンレスにより構成される
ことを特徴とする請求項１４に記載の蒸発源装置。 - 前記制限部材は、前記冷却部材の表面に沿って取り外し可能に設けられている
ことを特徴とする請求項１から１５のいずれか一項に記載の蒸発源装置。 - 前記容器は、前記開口を形成するノズル部を含み、
前記ノズル部は、前記容器の第１の面に対して突出して設けられ、
前記冷却部材は、前記容器の前記第１の面に対向して配置される対向部を含み、
前記制限部材は、前記対向部に対向するように延在する延在部を含む
ことを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の蒸発源装置。 - 前記冷却部材は、前記冷却部材の内部に、冷却用の液体を流動させるための流路が設けられている
ことを特徴とする請求項１から１７のいずれか一項に記載の蒸発源装置。 - 前記容器は、前記開口を複数有する
ことを特徴とする請求項１から１８のいずれか一項に記載の蒸発源装置。 - 蒸着材料をそれぞれ収容する複数の容器と、
複数の冷却部材と、
前記複数の容器のそれぞれの開口から放出される蒸着材料の放射角度を一定の角度以下にそれぞれ制限する複数の制限部材と、を備える蒸発源装置であって、
前記複数の制限部材のそれぞれは、前記冷却部材のそれぞれと対向する対向面を有し、
前記複数の容器のそれぞれについて、前記開口の開口面の法線方向を含み、前記対向面に垂直な断面において、
前記複数の冷却部材のそれぞれは、前記複数の容器のそれぞれの少なくとも一部を挟むように配置され、
前記複数の制限部材のそれぞれは、前記複数の冷却部材のそれぞれの少なくとも一部を挟むに配置され、
前記複数の容器は並んで配置されており、
隣り合う２つの前記容器のそれぞれに対応する２つの前記制限部材は、対向して配置される
ことを特徴とする蒸発源装置。 - 請求項１から２０のいずれか一項に記載の蒸発源装置と、
前記蒸発源装置が配置され、蒸着が行われる真空チャンバと、を備える
ことを特徴とする蒸着装置。 - 前記蒸着装置は、前記蒸発源装置が搭載される移動機構を有し、
前記移動機構を移動させて蒸着を行う
ことを特徴とする請求項２１に記載の蒸着装置。 - 各々が請求項１から請求項２０のいずれか一項の蒸発源装置を備える複数の蒸着装置と、
前記複数の蒸着装置が接続される基板搬送装置と、を備える蒸着システム。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018102198A JP6686069B2 (ja) | 2018-05-29 | 2018-05-29 | 蒸発源装置、蒸着装置、および蒸着システム |
| KR1020180125114A KR102590304B1 (ko) | 2018-05-29 | 2018-10-19 | 증발원 장치, 증착 장치 및 증착 시스템 |
| CN201811362781.3A CN110541146B (zh) | 2018-05-29 | 2018-11-16 | 蒸发源装置、蒸镀装置及蒸镀系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018102198A JP6686069B2 (ja) | 2018-05-29 | 2018-05-29 | 蒸発源装置、蒸着装置、および蒸着システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019206733A true JP2019206733A (ja) | 2019-12-05 |
| JP6686069B2 JP6686069B2 (ja) | 2020-04-22 |
Family
ID=68701307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018102198A Active JP6686069B2 (ja) | 2018-05-29 | 2018-05-29 | 蒸発源装置、蒸着装置、および蒸着システム |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6686069B2 (ja) |
| KR (1) | KR102590304B1 (ja) |
| CN (1) | CN110541146B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7346329B2 (ja) | 2020-02-28 | 2023-09-19 | 株式会社アルバック | 材料供給装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109321883B (zh) * | 2018-10-15 | 2020-10-27 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种蒸镀机 |
| CN112011762B (zh) * | 2020-07-28 | 2023-05-23 | 云谷（固安）科技有限公司 | 一种蒸镀装置 |
| JP7242626B2 (ja) * | 2020-12-10 | 2023-03-20 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜装置 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004214120A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Sony Corp | 有機電界発光素子の製造装置及び製造方法 |
| JP2007186787A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-07-26 | Hitachi Displays Ltd | 蒸着坩堝並びにこれを備えた薄膜形成装置、及び表示装置の製造方法 |
| JP2011049163A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-03-10 | Fujifilm Corp | 有機電界発光素子用材料入り容器、並びに、有機電界発光素子用材料、蒸着膜及びその製造方法、有機電界発光素子、及び容器のスクリーニング方法 |
| JP2012207238A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 蒸着方法および蒸着装置 |
| JP2014015637A (ja) * | 2012-07-06 | 2014-01-30 | Hitachi High-Technologies Corp | 蒸着装置 |
| JP2018003122A (ja) * | 2016-07-05 | 2018-01-11 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸着装置及び蒸発源 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2967784B2 (ja) * | 1989-12-11 | 1999-10-25 | キヤノン株式会社 | 堆積膜形成方法及びその装置 |
| JP4490160B2 (ja) | 2004-05-13 | 2010-06-23 | 株式会社アルバック | 有機薄膜の成膜装置 |
| JP4728882B2 (ja) * | 2006-06-09 | 2011-07-20 | 長州産業株式会社 | 薄膜堆積用分子線源用坩堝の製造方法 |
| JP2009064631A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 表示装置の製造装置 |
| KR101224773B1 (ko) * | 2012-02-23 | 2013-01-21 | 박철수 | 유도가열 방식을 이용한 초고속 진공 증착기 |
| JP6641226B2 (ja) * | 2016-04-28 | 2020-02-05 | キヤノントッキ株式会社 | 真空蒸着装置並びに蒸発源の冷却方法 |
-
2018
- 2018-05-29 JP JP2018102198A patent/JP6686069B2/ja active Active
- 2018-10-19 KR KR1020180125114A patent/KR102590304B1/ko active IP Right Grant
- 2018-11-16 CN CN201811362781.3A patent/CN110541146B/zh active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004214120A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Sony Corp | 有機電界発光素子の製造装置及び製造方法 |
| JP2007186787A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-07-26 | Hitachi Displays Ltd | 蒸着坩堝並びにこれを備えた薄膜形成装置、及び表示装置の製造方法 |
| JP2011049163A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-03-10 | Fujifilm Corp | 有機電界発光素子用材料入り容器、並びに、有機電界発光素子用材料、蒸着膜及びその製造方法、有機電界発光素子、及び容器のスクリーニング方法 |
| JP2012207238A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 蒸着方法および蒸着装置 |
| JP2014015637A (ja) * | 2012-07-06 | 2014-01-30 | Hitachi High-Technologies Corp | 蒸着装置 |
| JP2018003122A (ja) * | 2016-07-05 | 2018-01-11 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸着装置及び蒸発源 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7346329B2 (ja) | 2020-02-28 | 2023-09-19 | 株式会社アルバック | 材料供給装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN110541146A (zh) | 2019-12-06 |
| KR102590304B1 (ko) | 2023-10-16 |
| KR20190135901A (ko) | 2019-12-09 |
| JP6686069B2 (ja) | 2020-04-22 |
| CN110541146B (zh) | 2023-08-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6686069B2 (ja) | 蒸発源装置、蒸着装置、および蒸着システム | |
| JP5502092B2 (ja) | 蒸着方法および蒸着装置 | |
| JP2019081949A (ja) | 蒸発源装置、成膜装置、成膜方法、および、電子デバイスの製造方法 | |
| JP6436544B1 (ja) | 蒸発源装置およびその制御方法 | |
| KR20130113302A (ko) | 진공 증착 방법 및 그 장치 | |
| JP6429491B2 (ja) | 蒸着装置用マスク、蒸着装置、蒸着方法、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
| JP2014065973A (ja) | 蒸着粒子射出装置および蒸着装置 | |
| KR102638573B1 (ko) | 증발원 장치 및 증착 장치 | |
| TW201814073A (zh) | 爐床單元、蒸發源及成膜裝置 | |
| JP2014189878A (ja) | 蒸着装置 | |
| JP7241604B2 (ja) | 加熱装置、蒸発源装置、成膜装置、成膜方法および電子デバイスの製造方法 | |
| JP6556802B2 (ja) | 真空装置、蒸着装置及びゲートバルブ | |
| JP7314209B2 (ja) | 成膜装置、成膜方法及び蒸発源ユニット | |
| JP7241603B2 (ja) | 加熱装置、蒸発源装置、成膜装置、成膜方法および電子デバイスの製造方法 | |
| JP7088891B2 (ja) | 蒸発源装置及び蒸着装置 | |
| JP7202971B2 (ja) | 蒸発源装置、成膜装置、成膜方法および電子デバイスの製造方法 | |
| JP7314210B2 (ja) | 成膜装置、成膜方法及び蒸発源ユニット | |
| JP7291197B2 (ja) | 成膜装置、成膜方法及び蒸発源ユニット | |
| JP2023013263A (ja) | 成膜装置、成膜方法及び蒸発源 | |
| JP2023006678A (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
| JP2024063338A (ja) | 蒸発源、成膜装置、及び成膜方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181026 |
|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20181026 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190221 |
|
| A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20190329 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190402 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190603 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190827 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20191021 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191225 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200303 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200401 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6686069 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |