JP4490160B2 - 有機薄膜の成膜装置 - Google Patents
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Description
請求項2記載の発明は、請求項1記載の成膜装置であって、前記第一の開口上には、第一の放出口を有する第一の蒸気調整部材が、前記第一の開口上に前記第一の放出口が位置するように配置され、前記第一の放出口から放出される前記第一の有機材料の蒸気量は、前記第二の開口から放出される前記第二の有機材料の蒸気量よりも小さくなるように構成された成膜装置である。
請求項3記載の発明は、請求項2記載の成膜装置であって、前記第二の開口上には、第二の放出口を有する第二の蒸気調整部材が、前記第二の開口上に前記第二の放出口が位置するように配置され、前記第二の放出口から放出される前記第二の有機材料の蒸気量は、前記第一の放出口から放出される前記第一の有機材料の蒸気量よりも大きくされた成膜装置である。
請求項4記載の発明は、請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の成膜装置であって、前記第一のセンサーは、前記第一のセンサーを冷却するペルチェ素子を有する成膜装置である。
請求項5記載の発明は、請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の成膜装置であって、前記第一のセンサーは冷却板に取り付けられ、前記第一のセンサーは前記冷却板に配置された熱媒体によって冷却される成膜装置である。
請求項6記載の発明は、請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の成膜装置であって、前記第一のセンサーは冷却板に取り付けられ、前記第一のセンサーは前記第一のセンサーの熱を吸収するペルチェ素子を有し、前記ペルチェ素子が放出する熱は、前記冷却板に吸収される成膜装置である。
基板ホルダ4は真空槽3内部の天井側に配置されており、第一、第二の容器11、21は、第一、第二の開口14、24を基板ホルダ4側に向けた状態で、真空槽11内部の底壁側に配置されている。
第一、第二の容器11、21の周囲には第一、第二の加熱手段13、23が配置されている。第一、第二の加熱手段13、23は真空槽3外部に配置された第一、第二の制御装置39、49に接続されており、第一、第二の制御装置39、49から第一、第二の加熱手段13、23に通電すると、第一、第二の加熱手段13、23が昇温し、第一、第二の容器11、21が加熱される。
本発明では蓋57と保持部材58はステンレス鋼のように熱伝導性の高い材料で構成されており、水晶振動子35の熱は先ず蓋57に伝達される。
上述したように、保持部材58は熱伝導性の高い材料で構成されているので、軟金属フィルム53bに伝達された熱は、更に保持部材58に伝達される。
従って、第二の防着板48から放出された第二の有機材料の蒸気のうち、真空槽3の内壁に向かう蒸気の一部は第二のセンサー40の検出面46に到達する。
第一のセンサー30の検出面36に到達する蒸気量が非常に小さい場合には、蒸気量の測定誤差が非常に大きくなってしまう。
該冷却管65の内部に冷却媒体を循環させることで、保持部材58へ伝達された水晶振動子35の熱が吸熱されるようになっている。
図5の符号70は本発明に用いられる第三例のセンサーを示している。このセンサー70は、図2に示した第一のセンサー30と同じ構造の端子31と、冷却手段50と、水晶振動子35とを有している。
センサーカバー77は検出面36が露出する貫通孔72を有しており、有機材料の蒸気はこの貫通孔72を通って検出面36に到達するようになっている。
センサーカバー77は熱伝導性の高い物質で構成されているので、水晶振動子35の熱は先ずセンサーカバー77に伝達される。
ペルチェ素子は第一のセンサーだけに設けても良いし、第一、第二のセンサーの両方に設けてもよい。
Claims (6)
- 真空槽と、第一の有機材料が収容されるべき第一の容器と、第二の有機材料が収容されるべき第二の容器とを有し、
前記第一、第二の容器に前記第一、第二の有機材料を配置した状態で、前記第一、第二の有機材料を加熱し、前記第一、第二の有機材料の蒸気が前記第一、第二の容器の第一、第二の開口から前記真空槽内部に放出されると、前記真空槽内部に配置された基板に、前記第一、第二の有機材料の蒸気が到達し、前記基板表面に薄膜が形成されるように構成された成膜装置であって、
前記第一の有機材料の蒸気が付着すると、付着量に応じて固有振動数が変化する第一のセンサーが、前記第一の有機材料の蒸気が到達する位置に配置され、
前記第二の有機材料の蒸気が付着すると、付着量に応じて固有振動数が変化する第二のセンサーが、前記第二の有機材料の蒸気が到達する位置であって、前記第一のセンサーと前記第一の開口との間の距離よりも、前記第二のセンサーと前記第二の開口との間の距離が大きくなる位置に配置され、
前記第一の開口から、前記第一の有機材料の蒸気が放出される位置の近傍の領域を取り囲む防着板を有し、
前記第一のセンサーは前記防着板の外部に設置され、前記防着板に設けられた孔を通過した蒸気を検出する、
成膜装置。 - 前記第一の開口上には、第一の放出口を有する第一の蒸気調整部材が、前記第一の開口上に前記第一の放出口が位置するように配置され、前記第一の放出口から放出される前記第一の有機材料の蒸気量は、前記第二の開口から放出される前記第二の有機材料の蒸気量よりも小さくなるように構成された請求項1記載の成膜装置。
- 前記第二の開口上には、第二の放出口を有する第二の蒸気調整部材が、前記第二の開口上に前記第二の放出口が位置するように配置され、前記第二の放出口から放出される前記第二の有機材料の蒸気量は、前記第一の放出口から放出される前記第一の有機材料の蒸気量よりも大きくされた請求項2記載の成膜装置。
- 前記第一のセンサーは、前記第一のセンサーを冷却するペルチェ素子を有する請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の成膜装置。
- 前記第一のセンサーは冷却板に取り付けられ、前記第一のセンサーは前記冷却板に配置された熱媒体によって冷却される請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の成膜装置。
- 前記第一のセンサーは冷却板に取り付けられ、
前記第一のセンサーは前記第一のセンサーの熱を吸収するペルチェ素子を有し、
前記ペルチェ素子が放出する熱は、前記冷却板に吸収される請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の成膜装置。
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KR100762701B1 (ko) * | 2006-05-11 | 2007-10-01 | 삼성에스디아이 주식회사 | 크리스탈 센서 및 이를 구비한 유기 발광소자 증착장치. |
JP2010242202A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-10-28 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着装置 |
JP2012112034A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-06-14 | Canon Inc | 真空蒸着装置 |
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WO2013024769A1 (ja) * | 2011-08-12 | 2013-02-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置及び成膜方法 |
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KR101425864B1 (ko) * | 2012-09-11 | 2014-07-31 | (주)세미코아 | 설치 및 유지 보수가 용이한 센서유닛을 포함하는 핌스 로더 |
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WO2020049608A1 (ja) * | 2018-09-03 | 2020-03-12 | シャープ株式会社 | 蒸着装置および製造方法 |
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6372872A (ja) * | 1986-09-17 | 1988-04-02 | Hitachi Ltd | 真空蒸着装置 |
JPH0320465A (ja) * | 1989-06-15 | 1991-01-29 | Komatsu Ltd | 温度補正機能付き膜厚モニタ |
JPH03261812A (ja) * | 1990-03-12 | 1991-11-21 | Sharp Corp | 膜厚モニター装置 |
JPH06111322A (ja) * | 1992-09-29 | 1994-04-22 | Kao Corp | 蒸着装置 |
JPH0734248A (ja) * | 1993-07-23 | 1995-02-03 | Toyota Motor Corp | 水晶式膜厚計 |
JP2003193217A (ja) * | 2001-12-25 | 2003-07-09 | Nippon Seiki Co Ltd | 蒸着装置 |
-
2004
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6372872A (ja) * | 1986-09-17 | 1988-04-02 | Hitachi Ltd | 真空蒸着装置 |
JPH0320465A (ja) * | 1989-06-15 | 1991-01-29 | Komatsu Ltd | 温度補正機能付き膜厚モニタ |
JPH03261812A (ja) * | 1990-03-12 | 1991-11-21 | Sharp Corp | 膜厚モニター装置 |
JPH06111322A (ja) * | 1992-09-29 | 1994-04-22 | Kao Corp | 蒸着装置 |
JPH0734248A (ja) * | 1993-07-23 | 1995-02-03 | Toyota Motor Corp | 水晶式膜厚計 |
JP2003193217A (ja) * | 2001-12-25 | 2003-07-09 | Nippon Seiki Co Ltd | 蒸着装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111621764A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-09-04 | 华中科技大学 | 一种石英晶振膜厚仪及其镀膜控制方法 |
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