JPS6372872A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPS6372872A JPS6372872A JP21715786A JP21715786A JPS6372872A JP S6372872 A JPS6372872 A JP S6372872A JP 21715786 A JP21715786 A JP 21715786A JP 21715786 A JP21715786 A JP 21715786A JP S6372872 A JPS6372872 A JP S6372872A
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- JP
- Japan
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- monitor
- crystal
- crystal resonator
- temperature
- vapor deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 37
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- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野〕
本発明は、蒸着量を水晶振動子よりなる蒸着量モニタに
より検出、制御するようにした自動真空蒸着装置におい
て、蒸着対象基板や其の付近の温度が高くなるにもかか
わらず、水晶振動子モニタの温度を所定値に保持し、Ｎ
着量の制御精度を向上させた真空蒸着装置に関する。
より検出、制御するようにした自動真空蒸着装置におい
て、蒸着対象基板や其の付近の温度が高くなるにもかか
わらず、水晶振動子モニタの温度を所定値に保持し、Ｎ
着量の制御精度を向上させた真空蒸着装置に関する。
従来の技術たとえば特公昭５５４５５４９号公報に示さ
れた技術では、薄着物質蒸発口の制御および蒸着対象基
板へ蒸着量の制御の夫々を１個の水晶振動子モニタで行
い、この水晶振動子モニタが回転円板の回転と対応して
、各蒸発源からの蒸発量、被着量を時系列的に演算処理
して検出し制御していた。しかし、従来の蒸着作業では
、蒸着材料の蒸発温度も低く、蒸着対象基板の加熱も行
っていなかったので、水晶振動子モニタの温度上郊の影
響については考慮していなかった。
れた技術では、薄着物質蒸発口の制御および蒸着対象基
板へ蒸着量の制御の夫々を１個の水晶振動子モニタで行
い、この水晶振動子モニタが回転円板の回転と対応して
、各蒸発源からの蒸発量、被着量を時系列的に演算処理
して検出し制御していた。しかし、従来の蒸着作業では
、蒸着材料の蒸発温度も低く、蒸着対象基板の加熱も行
っていなかったので、水晶振動子モニタの温度上郊の影
響については考慮していなかった。
第２ｖｌＪは従来の水晶振動子モニタの断面を示し、モ
ニタ・ホルダ３に絶縁リング４が入れられ、そこに水晶
板２がはめられ、その上に接触板６がには表裏面で互い
に絶縁された金電極９が形成されており、その一方がモ
ニタ・ホルダ３に、他方が接触板６に接触し、水晶の厚
み振動を検出している。
ニタ・ホルダ３に絶縁リング４が入れられ、そこに水晶
板２がはめられ、その上に接触板６がには表裏面で互い
に絶縁された金電極９が形成されており、その一方がモ
ニタ・ホルダ３に、他方が接触板６に接触し、水晶の厚
み振動を検出している。
本発明は、上記従来の技術で考慮していなかった水晶振
動子モニタの温度上昇の影口（固有周波数の変動）を被
らないようにした真空蒸着装置を提供することを目的と
する。
動子モニタの温度上昇の影口（固有周波数の変動）を被
らないようにした真空蒸着装置を提供することを目的と
する。
（問題点を解決するための手段）
上記問題点を解決するために本発明においては、水晶振
動子モニタの周辺部をベルチェ素子で囲んで所定温度に
保持するようにした。
動子モニタの周辺部をベルチェ素子で囲んで所定温度に
保持するようにした。
水晶振動子モニタは蒸発量、即ち水晶振動子に材料が蒸
着した量によりその固有共振周波数が低下することを利
用して蒸着量の検出、制御を行っている。水晶振動子は
其の歴史も古く、通信その他の常温に近い環境での用途
に対しては実用的に固有共振周波数が殆ど温度変化の影
響を受けないような方向にカントしたものも開発されて
いるが、本発明の対象とする蒸着装置の場合には、蒸着
物質蒸発源からの放射による加熱、また適当な蒸着膜を
得るために必要な蒸着対象基板自体の加熱などで、水晶
振動子の固有周波数の温度変動は避けられない、この蒸
着装置に用いた水晶振動子（ＡＴカット、２５℃での固
有周波数６．ＯＯＯＭＨｚ）の固有周波数の温度変動を
第４図（横軸は面板即ちモニタ温度、縦軸は周波数変動
）に示す０図中、・は何も付着していない場合の変動を
示し、温度上昇と共に上昇している。△は蒸着膜測定時
のもので何も付着していない場合よりも固有周波数は士
ないし数十Ｈ２低下している０本発明により水晶振動子
の温度を所定値に保持すれば、このような変動を避ける
ことができ、その結果、蒸着膜厚を正確に制御すること
が出来るようになる。
着した量によりその固有共振周波数が低下することを利
用して蒸着量の検出、制御を行っている。水晶振動子は
其の歴史も古く、通信その他の常温に近い環境での用途
に対しては実用的に固有共振周波数が殆ど温度変化の影
響を受けないような方向にカントしたものも開発されて
いるが、本発明の対象とする蒸着装置の場合には、蒸着
物質蒸発源からの放射による加熱、また適当な蒸着膜を
得るために必要な蒸着対象基板自体の加熱などで、水晶
振動子の固有周波数の温度変動は避けられない、この蒸
着装置に用いた水晶振動子（ＡＴカット、２５℃での固
有周波数６．ＯＯＯＭＨｚ）の固有周波数の温度変動を
第４図（横軸は面板即ちモニタ温度、縦軸は周波数変動
）に示す０図中、・は何も付着していない場合の変動を
示し、温度上昇と共に上昇している。△は蒸着膜測定時
のもので何も付着していない場合よりも固有周波数は士
ないし数十Ｈ２低下している０本発明により水晶振動子
の温度を所定値に保持すれば、このような変動を避ける
ことができ、その結果、蒸着膜厚を正確に制御すること
が出来るようになる。
既述の如〈従来の水晶振動子モニタでは第４図に示すよ
うに温度（但し水晶板の温度を直接測定しておらず、モ
ニタ・ホルダと同一円周上に置かれた面板の温度）が上
昇するにつれ水晶振動子の固有周波数が増大する。一方
、蒸着物が被着すると水晶振動子の固有周波数は減少す
るため、温度が上昇している途中、または温度の高い蒸
発源の上を通過すると実際の被着量よりも少なく測定さ
れる。
うに温度（但し水晶板の温度を直接測定しておらず、モ
ニタ・ホルダと同一円周上に置かれた面板の温度）が上
昇するにつれ水晶振動子の固有周波数が増大する。一方
、蒸着物が被着すると水晶振動子の固有周波数は減少す
るため、温度が上昇している途中、または温度の高い蒸
発源の上を通過すると実際の被着量よりも少なく測定さ
れる。
第１図は本発明−実施例の要部断面を示し、１はベルチ
ェ素子で、その他の符号は第２図の場合と同様である。
ェ素子で、その他の符号は第２図の場合と同様である。
このように水晶振動子モニタをベルチェ素子１で囲むこ
とにより、水晶振動子の温度上昇を防ぎ所定の温度に保
持することができるため、温度変動の影響を排除するこ
とが出来る。
とにより、水晶振動子の温度上昇を防ぎ所定の温度に保
持することができるため、温度変動の影響を排除するこ
とが出来る。
但しベルチェ素子は電流で冷却するため、当然温度セン
サを水晶板に接触させ、前記電流の量を関節させるよう
にすることは言うまでもない。
サを水晶板に接触させ、前記電流の量を関節させるよう
にすることは言うまでもない。
またベルチェ素子は熱交換素子であり、モニタ・ホルダ
に接している部分は冷却されるが、外側は温度が高くな
るため、蒸着対象基板側へ放熱することにより基板加熱
の熱源の一部とすることができる。
に接している部分は冷却されるが、外側は温度が高くな
るため、蒸着対象基板側へ放熱することにより基板加熱
の熱源の一部とすることができる。
以上説明したように本発明によれば、水晶振動子モニタ
の出力が正確になるため、予め定められた蒸着量を高い
精度で検出できるようになり、蒸着膜を被着させた製品
の特性の均一性が非常に改善される。
の出力が正確になるため、予め定められた蒸着量を高い
精度で検出できるようになり、蒸着膜を被着させた製品
の特性の均一性が非常に改善される。
晶板の略図、第４図は温度上昇に伴う水晶振動子固有周
波数の変動例を示す図である。 １−・−ベルチェ素子、 ２・・・水晶板、 ３・・−
モニタ・ホルダ、 ４・・・絶縁リング、 ５・−信号
出力リード線、 ６−接触板、 ７−・・ばね状リード
線第 １ 図 第 ２ 図 ／−べ°ルチェキペテ ２− ツ１〈らやＦｇ） ３−モー９ボルり゛ 第 ３ 図 （ｃＬ）
波数の変動例を示す図である。 １−・−ベルチェ素子、 ２・・・水晶板、 ３・・−
モニタ・ホルダ、 ４・・・絶縁リング、 ５・−信号
出力リード線、 ６−接触板、 ７−・・ばね状リード
線第 １ 図 第 ２ 図 ／−べ°ルチェキペテ ２− ツ１〈らやＦｇ） ３−モー９ボルり゛ 第 ３ 図 （ｃＬ）
Claims (1)
- １、真空容器内に配置された、円周部に蒸着対象基板を
保持して回転する円板と、この回転円板の円周部に対向
して固定配置された複数個の蒸着物質蒸発源と、上記回
転円板円周の蒸着対象基板保持位置またはそれと所定の
関係位置に配置された水晶振動子よりなる蒸着量モニタ
を備え、蒸着作業時には回転円板を回転させて各蒸発源
からの蒸発物を循環的に蒸着対象基板に積層して蒸着さ
せる真空蒸着装置において、上記水晶振動子よりなるモ
ニタの温度をペルチエ素子により所定の一定温度に保持
するようにしたことを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21715786A JPS6372872A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21715786A JPS6372872A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6372872A true JPS6372872A (ja) | 1988-04-02 |
Family
ID=16699745
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21715786A Pending JPS6372872A (ja) | 1986-09-17 | 1986-09-17 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6372872A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03243766A (ja) * | 1990-02-22 | 1991-10-30 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 薄膜形成装置用の膜厚制御装置 |
| JP2005325391A (ja) * | 2004-05-13 | 2005-11-24 | Ulvac Japan Ltd | 有機薄膜の成膜装置 |
| CN111621764A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-09-04 | 华中科技大学 | 一种石英晶振膜厚仪及其镀膜控制方法 |
-
1986
- 1986-09-17 JP JP21715786A patent/JPS6372872A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03243766A (ja) * | 1990-02-22 | 1991-10-30 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 薄膜形成装置用の膜厚制御装置 |
| JP2657565B2 (ja) * | 1990-02-22 | 1997-09-24 | 日本電波工業株式会社 | 薄膜形成装置用の膜厚制御装置 |
| JP2005325391A (ja) * | 2004-05-13 | 2005-11-24 | Ulvac Japan Ltd | 有機薄膜の成膜装置 |
| JP4490160B2 (ja) * | 2004-05-13 | 2010-06-23 | 株式会社アルバック | 有機薄膜の成膜装置 |
| CN111621764A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-09-04 | 华中科技大学 | 一种石英晶振膜厚仪及其镀膜控制方法 |
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