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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7159970B2 (ja) * 2019-05-08 2022-10-25 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置
JP7469097B2 (ja) * 2020-03-26 2024-04-16 東レエンジニアリング先端半導体Ｍｉテクノロジー株式会社 走査電子顕微鏡および画像生成方法
US11804361B2 (en) 2021-05-18 2023-10-31 Nuflare Technology, Inc. Charged particle beam writing method, charged particle beam writing apparatus, and computer-readable recording medium
JP7732882B2 (ja) 2021-12-15 2025-09-02 テクセンドフォトマスク株式会社 フォトマスクブランク、フォトマスク及びフォトマスクの製造方法
JP7740069B2 (ja) * 2022-03-11 2025-09-17 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画装置及びプログラム

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2109093A5 (enExample) * 1970-09-30 1972-05-26 Cit Alcatel
US3751404A (en) 1971-02-12 1973-08-07 Morton Norwich Products Inc L-prolyl-l-arginyl-l-volyl-l-tyrosyl-l-volyl-l-histidyl-l-prolyl-glycine
JPS5223551A (en) 1975-08-18 1977-02-22 Hitachi Shipbuilding Eng Co Kinetic pressure support container structure for static water pressure extruding machine
JPS51126183A (en) 1976-02-19 1976-11-04 Sony Corp Electric clock
JPS5440837A (en) 1977-09-06 1979-03-31 Nippon Steel Corp Manufacturing of steel pipe having resin-lined inner surface
GB2076841B (en) 1980-06-03 1985-06-19 Gen Electric Process for regulating the cure of silicone rubber products
JP4439038B2 (ja) * 1999-06-17 2010-03-24 株式会社アドバンテスト 電子ビーム露光方法及び装置
JP2002158167A (ja) * 2000-09-05 2002-05-31 Sony Corp 露光方法及び露光装置
DE10319370B4 (de) * 2003-04-29 2007-09-13 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Erfassen und Kompensieren von Lageverschiebungen bei photolithographischen Maskeneinheiten
JP5063071B2 (ja) * 2006-02-14 2012-10-31 株式会社ニューフレアテクノロジー パタン作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置
JP5063035B2 (ja) 2006-05-30 2012-10-31 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置
JP5480496B2 (ja) 2008-03-25 2014-04-23 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置
JP2010250286A (ja) * 2009-03-23 2010-11-04 Toshiba Corp フォトマスク、半導体装置、荷電ビーム描画装置
JP5414103B2 (ja) 2009-05-18 2014-02-12 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置およびその描画データ処理方法
JP5480555B2 (ja) * 2009-08-07 2014-04-23 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
JP5525798B2 (ja) * 2009-11-20 2014-06-18 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置およびその帯電効果補正方法
JP5188529B2 (ja) * 2010-03-30 2013-04-24 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電子ビーム照射方法、及び走査電子顕微鏡
JP5525936B2 (ja) 2010-06-30 2014-06-18 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
JP5667848B2 (ja) 2010-11-19 2015-02-12 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
JP5617947B2 (ja) * 2013-03-18 2014-11-05 大日本印刷株式会社 荷電粒子線照射位置の補正プログラム、荷電粒子線照射位置の補正量演算装置、荷電粒子線照射システム、荷電粒子線照射位置の補正方法
JP2014225428A (ja) * 2013-04-24 2014-12-04 キヤノン株式会社 荷電粒子線照射装置、荷電粒子線の照射方法及び物品の製造方法
DE112014007346B4 (de) * 2013-09-26 2024-05-23 Hitachi High-Tech Corporation Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung
JP6353229B2 (ja) 2014-01-22 2018-07-04 株式会社ニューフレアテクノロジー マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
JP6951174B2 (ja) * 2016-09-28 2021-10-20 株式会社ニューフレアテクノロジー 電子ビーム装置及び電子ビームの位置ずれ補正方法
JP6951922B2 (ja) 2016-09-28 2021-10-20 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビームの位置ずれ補正方法

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