JP7026575B2 - 電子ビーム照射方法、電子ビーム照射装置、及びプログラム - Google Patents
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Description
基板に形成されるパターンの複雑度を示す指標を用いて、基板上に電子ビームが照射された場合の帯電量分布を演算する工程と、
得られた帯電量分布を用いて、電子ビームの照射に起因して形成される照射パターンの位置ずれ量を演算する工程と、
位置ずれ量を用いて、照射位置を補正する工程と、
補正された照射位置に電子ビームを照射する工程と、
を備え、
前記パターンの複雑度を示す指標として、パターンの面積密度Uと、単位面積当たりのパターンの外周距離を用いることを特徴とする。
a(U)・W/U+b(U){1-exp(-c・W/U)}
で示すモデル式を演算することによって帯電量分布が演算されると好適である。
基板に形成されるパターンの複雑度を示す指標を用いて、基板上に電子ビームが照射された場合の帯電量分布を演算する帯電量分布演算部と、
得られた帯電量分布を用いて、電子ビームの照射に起因して形成される照射パターンの位置ずれ量を演算する位置ずれ量演算部と、
位置ずれ量を用いて、照射位置を補正する補正部と、
補正された照射位置に電子ビームを照射する電子ビーム照射機構と、
を備え、
前記パターンの複雑度を示す指標として、パターンの面積密度Uと、単位面積当たりのパターンの外周距離を用いることを特徴とする。
基板に形成されるパターンの複雑度を示す指標を用いて、基板上に電子ビームが照射された場合の帯電量分布を演算する処理と、
得られた前記帯電量分布を用いて、前記電子ビームの照射に起因して形成される照射パターンの位置ずれ量を演算する処理と、
を電子ビームを照射する電子ビーム照射装置を制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
前記パターンの複雑度を示す指標として、パターンの面積密度Uと、単位面積当たりのパターンの外周距離を用いることを特徴とする。
図1は、実施の形態1における描画装置の要部構成の一例を示す概念図である。図1において、描画装置100は、描画機構150および制御系回路160を備えている。描画装置100は、電子ビーム描画装置の一例である。また、描画装置100は、電子ビーム照射装置の一例である。描画機構150は、電子鏡筒1と描画室14を有している。電子鏡筒1内には、電子銃5、照明レンズ7、第1の成形アパーチャ基板8、投影レンズ9、偏向器10、第2の成形アパーチャ基板11、対物レンズ12、偏向器13、及び静電レンズ15が配置される。また、描画室14内には、XYステージ3が配置される。XYステージ3上には、描画対象となる試料2が配置される。試料2には、半導体製造の露光に用いるフォトマスクや半導体装置を形成する半導体ウェハ等が含まれる。また、描画されるフォトマスクには、まだ何も描画されていないマスクブランクスが含まれる。描画される際には、試料上には電子ビームにより感光するレジスト膜が形成されていることは言うまでもない。また、XYステージ3上には、試料2が配置される位置とは異なる位置にステージ位置測定用のミラー4が配置される。
図5は、実施の形態1の比較例における評価パターンの一例と製品基板の実パターンに見立てた模擬パターンの一例とを示す図である。図5(a)では、評価パターン20として、パターン密度Uが25%のシンプルパターンを最大ショットサイズ0.25μmのショット図形を繋ぎ合わせて描画した場合の矩形パターンを示している。図4(a)では、評価パターン20として、パターン密度Uが25%のシンプルパターンを最大ショットサイズ0.25μmのショット図形を繋ぎ合わせて描画した場合の評価パターン20及びその周辺の帯電による位置ずれ量の一例を示している。これに対して、図5(b)では、評価パターン20として、密度Uが25%のシンプルパターンを最大ショットサイズ0.25μmのショット図形を繋ぎ合わせて描画した場合の矩形パターンよりも複雑な形状パターンを実パターンに見立てた模擬パターンとして示している。図4(b)では、実パターン21に見立てた模擬パターンとして、パターン密度Uが25%の模擬パターン(複雑パターン)を最大ショットサイズ0.25μmのショット図形を繋ぎ合わせて描画した場合の実パターン21及びその周辺の帯電による位置ずれ量の一例を示している。図4(a)の例及び図4(b)の例では、いずれもパターン密度Uが25%で描画しているので、両パターンで生じる帯電量は同じようになると思われるところ、図4(a)及び図4(b)に示すように、その帯電量分布に差が生じることがわかった。かかる違いについて、ショットサイズの影響を検討した。図5(c)では、評価パターン20として、パターン密度Uが25%のシンプルパターンを最大ショットサイズ0.1μmのショット図形を繋ぎ合わせて描画した場合の矩形パターンを示している。かかるショットサイズを変えて描画した帯電結果を図4(c)に示している。図4(c)では、評価パターン20として、パターン密度Uが25%のシンプルパターンを最大ショットサイズ0.1μmのショット図形を繋ぎ合わせて描画した場合の評価パターン20及びその周辺の帯電による位置ずれ量の一例を示している。しかし、図4(a)及び図4(c)に示すように、その帯電量分布に実質的な差が生じなかった。よって、かかる点から、帯電量に対するこれらの違いが、パターンの複雑度に起因するものであることを見出した。
(1) Cw(U,W)=a(U)・W/U+b(U){1-exp(-c・W/U)}
(2) kw=
kw1(U)・W/U+kw2(U)・{1-exp(-kw3・W/U)}
(3) D=D0×{(1+2×η)/(1+2×η×U)}
式(3)において、D0は基準ドーズ量であり、ηは後方散乱率である。
(4-1) g(x,y)=(1/πσ2)×exp{-(x2+y2)/σ2}
(4-2) F(x,y,σ)
=∫∫g(x-x’,y-y’)E(x’,y’)dx’dy’
(5) C(x,y)=C(E,F,T,t,U,W)
=CE(E)+CF(F)+CT(T,t,U,W)
+Cw(U,W)
=(d0+d1×U+d2×D
+d3×(UD)+d4×(1-exp(d5×(UD)))
+d6×(UD)・exp(d7×(UD))
+(e1×F+e2×F2+e3×F3)
+κ(U)・exp{-(t-T)/λ(U)}
+kw(U,W)・exp{-(t-T)/λ(U)}
+a(U)・W/U+b(U){1-exp(-c・W/U)}
=(d0+d1×U+d2×D
+d3×(UD)+d4×(1-exp(d5×(UD)))
+d6×(UD)・exp(d7×(UD))
+(e1×F+e2×F2+e3×F3)
+κ(U)・exp{-(t-T)/λ(U)}
+{kw1(U)・W/U+kw2(U)
・{1-exp(-kw3・W/U)}}
・exp{-(t-T)/λ(U)}
+a(U)・W/U+b(U){1-exp(-c・W/U)}
(6) κ(U)=κ0+κ1U+κ2U2
(7) λ(U)=λ0+λ1U+λ2U2
(8) C=κ・exp(-t/λ)
(9) C(x,y)=κ(U)・exp(-t/λ(U))
(10) CT(T,t)=κ(U)・exp{-(t-T)/λ(U)}
(11) CF(F)=f1×F+f2×F2+f3×F3
(12) C(E,F)=CE(E)+CFe(F)
=(d0+d1×U+d2×D+d3×E)
+d4×(1-exp(d5×E))
+d6×E・exp(d7×E)
+(e1×F+e2×F2+e3×F3)
図12は、実施の形態1における帯電効果補正を行った結果の位置ずれ量の一例を示す図である。
図11において、比較例では、帯電量分布C(x,y)の演算に、上述したパターンの複雑度が寄与する帯電量成分Cw(U,W)を考慮してしない結果を示す。また、同時に帯電減衰分CT(T,t)に、上述したパターンの複雑度が寄与する成分を考慮してしない結果を示す。図11の例では、図6に示した評価パターンのうちパターン密度Uが5%、15%のパターンの測定結果を示している。図11に示すように、x方向の位置ずれ量(Xresidual)とy方向の位置ずれ量(Yresidual)が、単位面積あたりの外周距離Wが大きくなるのに沿って大きくなることがわかる。これに対して、実施の形態1における帯電効果補正のように、上述したパターンの複雑度が寄与する帯電量成分Cw(U,W)を考慮すると共に、同時に帯電減衰分CT(T,t)に、上述したパターンの複雑度が寄与する成分を考慮した結果、図12に示すように、x方向の位置ずれ量(Xresidual)とy方向の位置ずれ量(Yresidual)が、単位面積あたりの外周距離Wに関わらず同程度に補正できる。よって、パターンの複雑度によって生じる補正精度の違いを無くす、若しくは低減できる。
2 試料
3 XYステージ
4 ミラー
5 電子銃
6 電子ビーム
7 照明レンズ
8 第1の成形アパーチャ基板
9 投影レンズ
10 偏向器
11 第2の成形アパーチャ基板
12 対物レンズ
13 偏向器
14 描画室
15 静電レンズ
30 描画制御部
31 パターン面積密度分布算出部
32 ドーズ量分布算出部
33 照射量分布算出部
34 かぶり電子量分布算出部
35 帯電量分布算出部
36 位置ずれ量分布算出部
37 描画経過時間演算部
38 累積時間演算部
39 外周距離取得部
41 ショットデータ生成部
42 位置ずれ補正部
43 成形偏向器制御部
44 対物偏向器制御部
45 ステージ位置検出機構
46 ステージ制御機構
100 描画装置
102 電子鏡筒
110,120 制御計算機
130 偏向制御回路
140,143,144 記憶装置
142 メモリ
146 外部I/F回路
150 描画機構
160 制御系回路
340 試料
410 第1のアパーチャ
411 開口
420 第2のアパーチャ
421 可変成形開口
430 荷電粒子ソース
Claims (5)
- 基板に形成されるパターンの複雑度を示す指標を用いて、基板上に電子ビームが照射された場合の帯電量分布を演算する工程と、
得られた前記帯電量分布を用いて、前記電子ビームの照射に起因して形成される照射パターンの位置ずれ量を演算する工程と、
前記位置ずれ量を用いて、照射位置を補正する工程と、
補正された照射位置に電子ビームを照射する工程と、
を備え、
前記パターンの複雑度を示す指標として、パターンの面積密度Uと、単位面積当たりのパターンの外周距離を用いることを特徴とする電子ビーム照射方法。 - 前記パターンの面積密度Uと、前記単位面積当たりのパターンの外周距離Wと、前記パターンの面積密度Uに依存する関数と、を用いて前記帯電量分布が演算されることを特徴とする請求項1記載の電子ビーム照射方法。
- 前記パターンの面積密度Uと、前記単位面積当たりのパターンの外周距離Wと、前記パターンの面積密度Uに依存する関数a(U)と、前記関数a(U)とは異なる前記パターンの面積密度Uに依存する関数b(U)と、係数cとを用いた、
a(U)・W/U+b(U){1-exp(-c・W/U)}
で示すモデル式を演算することによって前記帯電量分布が演算されることを特徴とする請求項1記載の電子ビーム照射方法。 - 基板に形成されるパターンの複雑度を示す指標を用いて、基板上に電子ビームが照射された場合の帯電量分布を演算する帯電量分布演算部と、
得られた前記帯電量分布を用いて、前記電子ビームの照射に起因して形成される照射パターンの位置ずれ量を演算する位置ずれ量演算部と、
前記位置ずれ量を用いて、照射位置を補正する補正部と、
補正された照射位置に電子ビームを照射する電子ビーム照射機構と、
を備え、
前記パターンの複雑度を示す指標として、パターンの面積密度Uと、単位面積当たりのパターンの外周距離を用いることを特徴とする電子ビーム照射装置。 - 基板に形成されるパターンの複雑度を示す指標を用いて、基板上に電子ビームが照射された場合の帯電量分布を演算する処理と、
得られた前記帯電量分布を用いて、前記電子ビームの照射に起因して形成される照射パターンの位置ずれ量を演算する処理と、
を電子ビームを照射する電子ビーム照射装置を制御するコンピュータに実行させるためのプログラムであって、
前記パターンの複雑度を示す指標として、パターンの面積密度Uと、単位面積当たりのパターンの外周距離を用いることを特徴とするプログラム。
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