JP2019160575A - イオンミリング装置及び試料ホルダー - Google Patents
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Abstract
Description
試料ホルダーは、試料を保持する試料保持部が設けられたホルダー本体と、ホルダー本体に着脱可能に装着され、試料保持部に保持された試料を密閉するカバー部材と、を備えている。
また、ホルダー本体は、試料保持部に保持された試料の一部を覆うと共にイオンビームを遮蔽する遮蔽板と、試料保持部に保持された試料の周りの電場を補正する電場補正板と、を備えている。
ホルダー本体は、試料保持部に保持された試料の一部を覆うと共にイオン照射源から照射されたイオンビームを遮蔽する遮蔽板と、試料保持部に保持された試料の周りの電場を補正する電場補正板と、を備えている。
1−1.イオンミリング装置の構成
まず、本発明の第1の実施の形態例(以下、「本例」という。)にかかるイオンミリング装置について図1を参照して説明する。
図1は、本例のイオンミリング装置を示す概略構成図である。
次に、図2〜図5を参照して試料ホルダー30の構成について説明する。
図2は、試料ホルダー30を示す正面図、図3は、試料ホルダー30を図2に示すA−A線で切断した分解断面図である。
ベース部31は、略円柱状に形成されている。ベース部31における第2の方向Y1の一端部には、取付部31cが形成されている。取付部31cは、ベース部31における第2の方向Y1の一端部の一面から第2の方向Y1の他端に向けて凹んだ凹部である。この取付部31cには、試料保持部32が取り付けられる。
図4は、試料保持部32を示す斜視図である。
図3及び図4に示すように、試料保持部32の第2の方向Y1の一端部は、試料37を保持する。また、図4に示すように、試料保持部32における取付部31cから露出する部分、すなわち第2の方向Y1の一端部には、補正板固定部55と、遮蔽板固定部56が設けられている。遮蔽板固定部56には、固定ピン56aによって遮蔽板34が固定され、補正板固定部55には、電場補正板35が固定されている。
加工位置調整機構51は、試料保持部32に第2の方向Y1に沿って移動可能に支持されている。この加工位置調整機構51は、試料保持部32に保持された試料37を第2の方向Y1に沿って移動可能させる。
遮蔽板34は、略平板状に形成されている。遮蔽板34は、遮蔽板固定部56に固定されて試料37よりも第3の方向Z1の一側、すなわちイオンビームL1の光軸の上流側に配置される。そして、遮蔽板34の一面34aは、第2の方向Y1の一端部側を向く。遮蔽板34は、試料37よりもイオンビームL1に対する強度が高い材質で形成されている。そして、遮蔽板34は、イオン照射源4から照射されるイオンビームL1を遮蔽する。
電場補正板35は、遮蔽板34と同様に、略平板状に形成されている。電場補正板35は、補正板固定部55に固定されて遮蔽板34よりも第3の方向Z1の他側、すなわちイオンビームL1の光軸の下流側に配置される。そして、電場補正板35の一面35aは、第2の方向Y1の一端部側を向く。また、電場補正板35の一面35aは、遮蔽板34の一面34aと第2の方向Y1での位置が同じ位置に配置される。すなわち、電場補正板35の一面35aと遮蔽板34の一面34aは、同一平面上に配置される。
次に、カバー部材33について説明する。
図2及び図3に示すように、カバー部材33は、ベース部31における第2の方向Y1の一端部に着脱可能に装着される。そして、カバー部材33は、ホルダー本体40の一部、具体的には、試料保持部32に保持された試料37、遮蔽板34及び電場補正板35を覆う。カバー部材33は、第2の方向Y1の一端部が閉塞され、第2の方向Y1の他端部が開口した略円筒状に形成されている。そして、カバー部材33は、主面部41と、側面部42とを有している。
図5に示すように、カバー部材33をベース部31に装着した際に、カバー側連結ピン46の第2カバー側連結部46bは、電場補正板35の挿通孔35bを挿通する。そして、第2カバー側連結部46bは、加工位置調整ピン52の本体側連結部52aに連結される。そのため、加工位置調整ピン52は、カバー側連結ピン46を介して調整ツール60に連結される。そして、使用者が調整ツール60を回転させると、加工位置調整ピン52は、カバー側連結ピン46と共に回転する。これにより、加工位置調整機構51と共に試料37が第2の方向Yに沿って移動し、遮蔽板34に対する試料37の突出量を調整することができる。
次に、上述した構成を有するイオンミリング装置1を用いた加工動作例について図1〜図8を参照して説明する。
図6は、カバー部材33とカバー部材着脱部13を接続させた状態を示す図、図7は、試料ホルダー30を真空チャンバー2内に移動させた状態を示す図、図8は、加工時の状態を示す図である。
1−4−1.電子顕微鏡の構成例
次に、加工が施された試料37を電子顕微鏡100で観察する動作例について図9〜図11を参照して説明する。まず、電子顕微鏡100の構成について説明する。
図9は、試料ホルダー30を電子顕微鏡100に導入する状態を示す模式図、図10は、電子顕微鏡100で試料37を観察する状態を示す模式図である。
次に、上述した構成を有する電子顕微鏡100を用いた試料37の観察動作例について説明する。
次に、バイアス電圧が印加された際に試料37周りの電場の状態について図11A及び図11Bを参照して説明する。
図11A及び図11Bは、試料37周りの電場の状態を示す図であり、図11Aは電場補正板35を設けていない場合を示し、図11Bは電場補正板35を設けた場合を示す。
次に、上述した構成を有する試料ホルダー30を用いて試料37を光学顕微鏡で観察する例について図12を参照して説明する。
図12は、試料ホルダー30に保持された試料37を光学顕微鏡で観察する状態を示す模式図である。
次に、図13〜図15を参照して第2の実施の形態例にかかる試料ホルダーについて説明する。
図13〜図15は、第2の実施の形態例にかかる試料ホルダーを示す断面図である。また、カバー試料ホルダーを分解して示す断面図である。
Claims (11)
- イオンビームを照射するイオン照射源と、
試料が取り付けられる試料ホルダーと、
前記試料ホルダーが装着される試料ステージと、
を備え、
前記試料ホルダーは、
前記試料を保持する試料保持部が設けられたホルダー本体と、
前記ホルダー本体に着脱可能に装着され、前記試料保持部に保持された前記試料を密閉するカバー部材と、を備え、
前記ホルダー本体は、
前記試料保持部に保持された前記試料の一部を覆うと共に前記イオンビームを遮蔽する遮蔽板と、
前記試料保持部に保持された前記試料の周りの電場を補正する電場補正板と、
を備えたイオンミリング装置。 - 前記電場補正板における前記試料が前記遮蔽板から突出する方向を向く一面は、前記遮蔽板における前記試料が前記遮蔽板から突出する方向を向く一面と同一平面上に配置される
請求項1に記載のイオンミリング装置。 - 前記電場補正板は、
前記遮蔽板よりも前記イオンビームの光軸の下流側に配置される
請求項1又は2に記載のイオンミリング装置。 - 前記電場補正板には、前記試料保持部に保持された前記試料が配置される切り欠き部が形成されている
請求項1〜3のいずれか1項に記載のイオンミリング装置。 - 前記ホルダー本体は、非磁性材料で形成される
請求項1〜4のいずれか1項に記載のイオンミリング装置。 - 前記ホルダー本体は、前記試料保持部に保持された前記試料における前記遮蔽板に対する位置を調整する加工位置調整機構を有する
請求項1〜5のいずれか1項に記載のイオンミリング装置。 - 前記ホルダー本体は、前記加工位置調整機構を操作する加工位置調整ピンを有し、
前記カバー部材は、前記加工位置調整ピンに連結されるカバー側連結ピンを有する
請求項6に記載のイオンミリング装置。 - 前記電場補正板には、前記カバー側連結ピンが挿通可能な挿通孔が形成されている
請求項7に記載のイオンミリング装置。 - 前記カバー部材及び前記ホルダー本体には、前記ホルダー本体に対する前記カバー部材の装着位置を示すガイド機構を有する
請求項1〜8のいずれか1項に記載のイオンミリング装置。 - 前記ホルダー本体は、前記試料ステージが設けられた装置とは異なる装着部に着脱可能に装着される
請求項1〜8のいずれか1項に記載のイオンミリング装置。 - 試料を保持する試料保持部が設けられたホルダー本体と、
前記ホルダー本体に着脱可能に装着され、前記試料保持部に保持された前記試料を密閉するカバー部材と、を備え、
前記ホルダー本体は、
前記試料保持部に保持された前記試料の一部を覆うと共にイオン照射源から照射されたイオンビームを遮蔽する遮蔽板と、
前記試料保持部に保持された前記試料の周りの電場を補正する電場補正板と、
を備えた試料ホルダー。
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