JP2019117924A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2019117924A5
JP2019117924A5 JP2018161966A JP2018161966A JP2019117924A5 JP 2019117924 A5 JP2019117924 A5 JP 2019117924A5 JP 2018161966 A JP2018161966 A JP 2018161966A JP 2018161966 A JP2018161966 A JP 2018161966A JP 2019117924 A5 JP2019117924 A5 JP 2019117924A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrostatic chuck
substrate
plate portion
support member
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018161966A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7127765B2 (ja
JP2019117924A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020170180999A external-priority patent/KR20190100980A/ko
Application filed filed Critical
Publication of JP2019117924A publication Critical patent/JP2019117924A/ja
Publication of JP2019117924A5 publication Critical patent/JP2019117924A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7127765B2 publication Critical patent/JP7127765B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2018161966A 2017-12-27 2018-08-30 静電チャック、成膜装置、基板吸着方法、成膜方法、及び電子デバイスの製造方法 Active JP7127765B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2017-0180999 2017-12-27
KR1020170180999A KR20190100980A (ko) 2017-12-27 2017-12-27 정전척, 성막장치, 기판흡착방법, 성막방법, 및 전자 디바이스의 제조방법

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2019117924A JP2019117924A (ja) 2019-07-18
JP2019117924A5 true JP2019117924A5 (zh) 2021-09-16
JP7127765B2 JP7127765B2 (ja) 2022-08-30

Family

ID=67076017

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018161966A Active JP7127765B2 (ja) 2017-12-27 2018-08-30 静電チャック、成膜装置、基板吸着方法、成膜方法、及び電子デバイスの製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7127765B2 (zh)
KR (1) KR20190100980A (zh)
CN (1) CN109972085B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3993415A4 (en) 2019-06-25 2023-05-31 Nippon Hoso Kyokai ENCODING DEVICE, DECODING DEVICE, AND PROGRAM

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6095932A (ja) * 1983-10-31 1985-05-29 Toshiba Mach Co Ltd 静電チヤツク
JP2003158174A (ja) * 2001-11-22 2003-05-30 Canon Inc 静電吸着装置、その製造方法及び固定保持方法
JP2004183044A (ja) * 2002-12-03 2004-07-02 Seiko Epson Corp マスク蒸着方法及び装置、マスク及びマスクの製造方法、表示パネル製造装置、表示パネル並びに電子機器
JP2007246983A (ja) * 2006-03-15 2007-09-27 Seiko Epson Corp 成膜装置
JP2008041993A (ja) * 2006-08-08 2008-02-21 Shinko Electric Ind Co Ltd 静電チャック
CN101316777B (zh) * 2006-09-29 2012-01-18 信越工程株式会社 工件移送方法和静电吸盘装置以及基板粘贴方法
WO2010004915A1 (ja) * 2008-07-08 2010-01-14 株式会社クリエイティブ テクノロジー 双極型静電チャック
JP5508737B2 (ja) * 2009-02-24 2014-06-04 東京エレクトロン株式会社 静電チャック及びプラズマ処理装置
KR101219054B1 (ko) * 2009-05-27 2013-01-18 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 정전 흡착 전극 및 그 제조 방법, 그리고 기판 처리 장치
KR100965414B1 (ko) * 2010-03-12 2010-06-24 엘아이지에이디피 주식회사 바이폴라 전극 패턴이 형성된 정전 척
JP2011195907A (ja) 2010-03-19 2011-10-06 Tokyo Electron Ltd マスク保持装置及び薄膜形成装置
KR101923174B1 (ko) 2011-05-11 2018-11-29 삼성디스플레이 주식회사 정전 척, 상기 정전 척을 포함하는 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
WO2012165250A1 (ja) 2011-05-30 2012-12-06 株式会社クリエイティブ テクノロジー 静電吸着体及びこれを用いた静電吸着装置
CN103066000B (zh) * 2011-10-19 2015-11-25 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 晶圆承载设备及晶圆承载的方法
TWI575330B (zh) 2012-03-27 2017-03-21 尼康股份有限公司 光罩搬送裝置、光罩保持裝置、基板處理裝置、及元件製造方法
WO2015042302A1 (en) 2013-09-20 2015-03-26 Applied Materials, Inc. Substrate carrier with integrated electrostatic chuck
JP6217303B2 (ja) * 2013-10-17 2017-10-25 株式会社シンコーモールド 導電性シリコーンゴム製電極パターンの作製方法並びにオールシリコーンゴム製静電チャック及びその製造方法
KR102308906B1 (ko) * 2015-03-26 2021-10-06 삼성디스플레이 주식회사 정전 척 시스템과, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
US9570272B2 (en) * 2015-03-31 2017-02-14 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Plasma processing apparatus and plasma processing method
KR101853889B1 (ko) * 2016-02-29 2018-05-02 주식회사 선익시스템 정전척을 이용한 기판 얼라인 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015518659A5 (zh)
JP5883430B2 (ja) 静電付着及び静電積層のための材料
JP4808149B2 (ja) 静電チャック
JP5500172B2 (ja) 静電吸着構造体及びその製造方法
JP5283699B2 (ja) 双極型静電チャック
JP2019216230A5 (zh)
JP2008041993A (ja) 静電チャック
EP2096688A3 (en) Piezoelectric substrate, fabrication and related methods
JP2018120709A5 (zh)
CN107851585B (zh) 使用电场吸附法去除异物的系统和方法
JP2019117924A5 (zh)
JP2008147430A (ja) 静電吸着方法
KR101695932B1 (ko) 접촉 대전 발전기 및 그 제조 방법
KR102110749B1 (ko) 진공 증착 프로세스에서 기판을 홀딩하기 위한 장치, 기판 상의 층 증착을 위한 시스템, 및 기판을 홀딩하기 위한 방법
JP2004503450A5 (zh)
TW200620528A (en) Method for processing stuck object and electrostatic sticking method
CN102390452A (zh) 一种改进的柔性电控吸附装置
KR101401473B1 (ko) 기판 흡착용 정전 척 및 그를 이용한 기판 흡착 방법
JP2014186830A (ja) シートの載置方法及び積層型電池の製造方法
JP6670941B2 (ja) 真空堆積処理で使用される基板を保持するための装置、基板上に層を堆積するためのシステム、及び基板を保持するための方法
CN106571328B (zh) 基于带电处理的基板卡定方法及基板卡定系统
WO2023084932A1 (ja) マスクチャック装置、蒸着装置
CN106856187B (zh) 托盘组件
JP4498895B2 (ja) 静電吸着システム及びそれを用いたアライメント方法
JPH11186371A (ja) 双極型静電チャック