JP2019081339A - 化粧材 - Google Patents
化粧材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019081339A JP2019081339A JP2017211268A JP2017211268A JP2019081339A JP 2019081339 A JP2019081339 A JP 2019081339A JP 2017211268 A JP2017211268 A JP 2017211268A JP 2017211268 A JP2017211268 A JP 2017211268A JP 2019081339 A JP2019081339 A JP 2019081339A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- convex
- pattern
- width
- linear portion
- shape
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Abstract
Description
しかしながら近年においては、さらなる意匠表現の多様化の要望があり、これらの要望に対して新たな質感を与えるような表現を提供する必要がある。
また図2には、化粧材10の断面形状を表した。この断面は後で説明する凸線条部13の稜線が延びる方向に対して直交する厚さ方向(z方向)断面である。
図1、図2からわかるように、化粧材10は、基材11及び該基材11の一方の面に積層された模様形成層12を有して構成されている。
図2に点線で表した線は仮想の線であることを意味する。
高さ変化は1方向のみ、例えば、x方向のみで高さが変化しy方向は一定高さの所謂波板状の凹凸面でも良い。具体的には、基材凹凸面Skをzx平面に平行な仮想切断面で切断した形状が、
z=Asin(kx+φ)
y=B
(A、k、B、φは適宜の定数)
で表わされる正弦波曲線となり、一方、yz平面に平行な仮想切断面で切断した形状が、
Z=C
x=D
(C、Dは適宜定数)
である凹凸形状が挙げられる。
z=Asin(kx+φ)
y=B
(A、k、φ、Bは適宜の定数)
で表わされる正弦波曲線となり、一方、yz平面に平行な仮想切断面で切断した形状が、
z=Esin(my+ξ)
x=F
(E、m、ξ、Fは適宜定数)
である凹凸形状が挙げられる。
又、これらの基材凹凸面Skの高さの高低差は、目視で視認乃至触感で認知可能な程度の0.1mm以上10mm以下程度とすることが好ましく、より好ましくは0.5mm以上1mm以下程度である。特に、シート状の基材に金属ロール形態のエンボス版によりエンボス加工して凹凸を賦形する製造方法を採用して量産する場合は、加工適性上、基材凹凸面Skの高さの高低差の上限は、1mm以下、好ましくは0.7mm以下とする。
この凸線条部13は図2に表れる断面において高さH13、幅W13の略長方形とされている。凸線条部13はこの断面を有して、その稜線が配列方向とは異なる方向(例えば配列方向に直交する方向)に延びるように構成されている。凸線条部13が延びる長さは特に限定されることはなく適宜必要に応じて決めることができる。ここで、1つの凸線条部13の高さはその幅方向で異なる場合があるが、その際には最も高い部位を凸線条部13の高さとする。また、凸線条部13の幅はその高さ方向中央における幅を凸線条部の幅とする。
一方、凹線条部14は図2に表れるように隣り合う凸線条部13の間に形成され、凸線条部13の形状によりその形状が決まる。従って、凹線条部14の幅W14は、凸線条部13のピッチP13から凸線条部13の幅W13を引いた値となる。
図2に符号Stで表した点線のように、凸線条部13の頂部の稜線を含むような仮想の包絡面を模様頂部包絡面Stとする。そして、本形態ではこの仮想包絡面Stが凹凸を有するように形成されている。この凹凸は、前記の基材凹凸面Skの説明の箇所で例示した凹凸形状と同様の凹凸形状の中から選択される。
尚、特に模様頂部包絡面Stは化粧材の最表面の形状となる為、基材凹凸面Sk以上に化粧材の外観意匠乃至触感に大きく寄与する。よって、特に模様頂部包絡面Stは所望の外観意匠乃至触感の再現に最適な形状を選択する必要がある。
例えば、化粧材表面が木板表面(木目)の外観意匠及び触感を再現すると共に、年輪のうち秋材部がレリーフ上に突出した所謂「浮造り調」の木板表面(木目)の外観意匠及び触感を再現する場合は、模様頂部包絡面Stの形状は浮造り調木板表面の年輪の凹凸形状に対応した、秋材部が相対的に突出し春材部が相対的に凹んだ凹凸形状とする。この場合、複数の凸線条部及び複数の凹線条部が交互に配列した万線状の凹凸形状の方は、年輪の秋材部の平均的走行方向に大略一致する方向に延在するよう配置される。
このような化粧材20によっても従来とは異なる特有の質感を与えることができる。
尚、ここで言う単位領域とは、繰り返し単位、即ち、平面(xy平面)内において、並進対称性を有する方向(3対の対辺と直交する方向)に隣接して繰り返し配列することにより平面を隙間無く被覆することが可能な単位となる領域を意味する。
本形態の化粧材30では繰り返し単位としての単位領域33が配列され、この単位領域33の中に、それぞれの模様を具備する個別領域34〜個別領域43が形成される例である。ただし、このような繰り返し単位としての単位領域がなく、全体に個別領域が複数形成されたものであってもよい。そして本形態では2種類の領域が存在するため、わかり易さのために「単位領域」及び「個別領域」と呼んで区別するが、これらを総称して「領域」として表現することもできる。
図6(a)〜図6(c)からわかるように、化粧材30は、基材21及び該基材21の一方の面に積層された模様形成層32を有して構成されている。この模様形成層32が上記単位領域33及び個別領域34〜個別領域43の形状を形成している。
この凸線条部34aは図6(a)に表れる断面において高さH34a、幅W34aの略長方形とされている。凸線条部34aはこの断面を有して、その稜線が配列方向とは異なる方向(例えば配列方向に直交する方向)に延びるように構成されている。凸線条部34aが延びる長さは個別領域34の輪郭形状により決まる。
一方、凹線条部34bは図6(a)に表れるように隣り合う凸線条部34aの間に形成され、凸線条部34aの形状によりその形状が決まる。従って、凹線条部34bの幅W34bは、凸線条部34aのピッチP34aから凸線条部34aの幅W34aを引いた値となる。
凸線条部35aは図6(b)に表れる断面において高さH35a、及び幅W35aの長方形とされている。凸線条部35aはこの断面を有してその稜線が配列方向とは異なる方向(例えば配列方向に直交する方向)で、かつ、個別領域34の凸線条部34aが延びる方向とは異なる方向に延びるように構成されている。凸線条部35aが延びる長さは個別領域35の輪郭形状により決まる。
一方、凹線条部35bは図6(b)に表れるように隣り合う凸線条部35aの間に形成され、凸線条部35aの形状によりその形状が決まる。従って、凹線条部35bの幅W35bは、凸線条部35aのピッチP35aから凸線条部35aの幅W35aを引いた値となる。
ここで、H34a>H35aとは、個別領域34に属する凸線条部34aの高さの平均が、個別領域35に属する凸線条部35aの高さの平均よりも大きいことを意味する。
凸線条部36aは図6(c)に表れる断面において高さH36a、及び幅W36aの長方形とされている。凸線条部36aはこの断面を有してその稜線が配列方向とは異なる方向(例えば配列方向に直交する方向)で、かつ、個別領域36の凸線条部36aが延びる方向とは異なる方向に延びるように構成されている。凸線条部36aが延びる長さは個別領域36の輪郭形状により決まる。
一方、凹線条部36bは図6(c)に表れるように隣り合う凸線条部36aの間に形成され、凸線条部36aの形状によりその形状が決まる。従って、凹線条部36bの幅W36bは、凸線条部36aのピッチP36aから凸線条部36aの幅W36aを引いた値となる。
ここで、H34a>H36aとは、個別領域34に属する凸線条部34aの高さの平均が、個別領域36に属する凸線条部36aの高さの平均よりも大きいことを意味する。
そして、それぞれの個別領域が特有の模様頂部仮想包絡面Stの凹凸形状を有しているとともに、凸線条部の高さ、幅、及び延びる向きの少なくとも1つにおいて隣の個別領域と異なっていることが好ましい。
このような模様形成層12でも、これまでとは異なる特有の質感を表現することができる。
ここで、このように凸線条部における高さを領域間で異なるものとする際には、次のようにしてもよい。すなわち、凸線条部の幅をWa、凹線条部の幅をWbとしてWa/Wbをデューティー比としたとき、凸線条部の高さHによらずデューティー比Wa/Wbが同じ、又は、凸線条部の高さHが高いものほどデューティー比Wa/Wbが小さくなるように構成することができる。これにより従来に対してさらに異なる質感の表現をすることができる。因みに、特許文献1(特公平7−22989号公報)及び特許文献2(特開平4−125199号公報)開示の化粧材に於いては、其の実施例にも記載の如く、金属の版材上に版下画像からの露光でパターニングされた感光性レジスト膜を介してしての腐蝕により製造したエンボス版により賦形するものである。そのため、所謂サイドエッチング現象により必然的に斯かるデューティー比Wa/Wbは高さHの増大と共に増大するものしか製造し得無い(此の辺の事情については、同樣の分野の技術を開示する特許第4612200号公報の特許請求の範囲及び図1參照)。
このような化粧材50によっても本発明の効果を奏するものとなる。
以下に説明する製造方法には、原稿画像を作製する工程、版下画像を作製する工程、版を作製する工程、及び模様形成層を作製する工程を含んでいる。
これで、デジタルデータとして原稿画像が得られる。
該凹凸模樣は、閉領域からなる各個別領域34〜43、34〜43、34〜43、…が相互に隣接して連結することで平面を区画して被覆した個別領域の集合体を有する。
ここで、このような凹凸模様は、図4に対応する図8に示したように(見易さのため一部を太線であらわしている。)、各領域の輪郭形状のみからなり万線状の凸線条部及び凹線条部を具備しない画像である網状領域32’に対して、各個別領域に相当する領域内34〜43、34〜43、…内に万線状の凸線条部34a、35a、36a・・・及び凹線条部34b、35b、36b、…を交互に配列してなるものと考える。
そして具体的には凹凸模様の製造工程は以下の手順(1)〜(5)からなる。
以下の画像作成工程(1)−1〜(1)−3を、アドビシステムズ社製のグラフィックデザイン描画ソフトウエア「Illustrator」を用い、TIFF形式で8bitの画像濃淡階調(256階調)で2540dpiの解像度の画像データ(網状領域、万線、及び両者の合成画像)を作成した。
先ず、図4の凹凸模様の平面視画像から、万線画像を除いた図8に示した画像に相当する網状領域32’の画像を作成した。
描画ソフトウエア「Illustrator」を用い、各個別領域34、35、…、42、43に嵌め込むべき万線状の凸線条部及び凹線条部34a及び34b、35a及び35b、…、42a及び42b、43a及び43bの形状(以下、万線形状ともいう。)に対応するデジタルの濃淡画像データを作成した。
尚、該濃淡画像は、後述の金属ロール表面の一座標毎に画像濃度を対応させたものである。
描画ソフトウエア「Illustrator」を用い、以上で得られた網状領域内の各個別領域内に以上で得られた各個別領域用の万線形状を嵌め込み、図4の凹凸模様に対応する濃淡画像データを得た。この濃淡画像データを凹凸模様画像データともいう。
上記工程(1)と並行して、図9に示したようなエンボス版彫刻用の金属ロール60を準備した。金属ロール60は、軸方向両端部に回転駆動軸(shaft)61を有する中空の鉄製の円筒の表面に銅層をメッキ形成したものである。砥石で金属ロール60の表面を研磨して粗面化し、彫刻用レーザ光の鏡面反射による彫刻効率の低下を防止する処理をした。
図9に模式的に示したように、レーザ光直接彫刻機を用い、工程(2)で用意した金属ロール60の表面を工程(1)で作成した模様画像データに基づき彫刻する。これによりその表面に図4のような化粧材表面の模様と同一平面視形状で且つ逆模様(化粧材の凸に対応する部分がエンボス版面上では凹となる関係)の形状を形成した。
従ってエンボス版における模様が備えるべき形状は、上記した化粧材における模様の凹凸関係が反転した態様であり、同様に考えることができる。
その際に、例えば、凹凸模様画像データ上で版深50μmに対応する画像濃度の位置座標においては、合計10回の走査のうち、最初の5回分のみレーザ光を照射(ON)し、残り5回分についてはレーザ光は非照射(OFF)となるよう制御する。
かかるレーザ光の走査を完了させ、金属ロール60の表面に所望の凹凸形状を形成した。
彫刻液を洗浄した後、電解研磨を行い、金属ロール60の表面に付着した金属の残渣を除去した。
工程(4)の後、該金属ロール表面にメッキにより厚さ10μmのクロム層を形成した。
基材としてポリオレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂からなる樹脂シートを用いる。この基材を加熱軟化させ、その表面にエンボス版を押圧して該樹脂シート表面にエンボス版表面の凹凸模樣を賦形する。そして樹脂シートを冷却して固化させて樹脂シート上の凹凸模様を固定する。その後に凹凸模様が賦形された樹脂シートをエンボス版から離型する。
ここで、各種エンボス加工法について、さらに説明すると例えば次の(A)〜(E)のような方法がある。
(B)エンボス版を押圧する時の熱圧で表面シートとなる樹脂シート(基材)とベースシートとする樹脂シート(第2の基材)とを熱融着することにより、エンボス加工とラミネートとを同時に行うダブリングエンボス法によりエンボス加工する。
(C)表面シートとする樹脂シート(基材)を、Tダイから溶融押出しをし、冷却ローラを兼ねるシリンダ状のエンボス版上に接触させて表面シートの成膜と同時にエンボス加工する。このとき、さらに表面シートの裏面側に挿入したベースシートとする樹脂シート(第2の基材)を熱融着させてダブリングエンボスを成膜と同時に行う。
(D)特開昭57−87318号公報、特開平7−32476号公報等に開示の如く、シリンダ状のエンボス版の表面に電離放射線硬化性樹脂の未硬化液状物を塗工する。さらにその上に、樹脂シート等からなるベースシートを重ねた状態で電離放射線を照射して未硬化液状物を硬化させて硬化物とする。その際、該硬化物をベースシートと接着させた後、エンボス版から離型して、ベースシートと該ベースシート上の硬化物とからなる基材とすることで、基材にエンボス加工する。
(E)チタン紙等の紙にメラミン樹脂等の熱硬化性樹脂の未硬化物を含浸した含浸紙を、コア紙、木材合板上等の裏打材上に載置して、これら載置した複数層を熱プレス成形することによって各層を積層一体化し熱硬化性樹脂化粧材を作製する。そのとき、含浸紙表面側にエンボス版を挿入することによって、熱硬化性樹脂を含浸硬化させて化粧材とする際にその表面に熱プレスと同時にエンボス加工する。
11、21 基材
12、22、32、52 模様形成層
13、23、34a、35a、36a 凸線条部
14、24、34b、35b、36b 凹線条部
Claims (7)
- 表面に模様が形成されてなる化粧材であって、
前記模様は、複数の凸線条部及び複数の凹線条部が交互に配列した形態であり、
前記複数の凸線条部の頂部を含む仮想の面を模様頂部包絡面としたとき、前記模様頂部包絡面は凹凸を有している、化粧材。 - 基材、及び、前記基材の一方の面に配置され、前記模様を形成する模様形成層を備え、
前記基材の表面に凹凸を有することにより前記模様頂部包絡面の前記凹凸が形成される、請求項1に記載の化粧材。 - 前記複数の凸線条部の高さが異なることにより前記模様頂部包絡面の前記凹凸が形成される、請求項1又は2に記載の化粧材。
- 前記凸線条部の幅をWa、前記凹線条部の幅をWbとしてWa/Wbをデューティー比としたとき、前記凸線条部の高さHによらず前記デューティー比が一定である関係を有する模様を含む、請求項1乃至3のいずれかに記載の化粧材。
- 前記凸線条部の幅をWa、前記凹線条部の幅をWbとしてWa/Wbをデューティー比としたとき、前記凸線条部の高さHが高いほど前記デューティー比が小さくなる関係を有する模様を含む、請求項1乃至3のいずれかに記載の化粧材。
- 前記凸線条部の幅が30μm未満である、請求項1乃至5のいずれかに記載の化粧材。
- 前記凸線条部の幅をWa、前記凸線条部の高さをHとしたとき、H/Waが1より大きい部位を含む、請求項1乃至6のいずれかに記載の化粧材。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017211268A JP7155509B2 (ja) | 2017-10-31 | 2017-10-31 | 化粧材 |
PCT/JP2018/036431 WO2019066026A1 (ja) | 2017-09-29 | 2018-09-28 | 化粧材、及び該化粧材のための型 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017211268A JP7155509B2 (ja) | 2017-10-31 | 2017-10-31 | 化粧材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019081339A true JP2019081339A (ja) | 2019-05-30 |
JP7155509B2 JP7155509B2 (ja) | 2022-10-19 |
Family
ID=66670002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017211268A Active JP7155509B2 (ja) | 2017-09-29 | 2017-10-31 | 化粧材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7155509B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07137221A (ja) * | 1993-06-29 | 1995-05-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 化粧シート |
WO2010064344A1 (ja) * | 2008-12-04 | 2010-06-10 | パナソニック株式会社 | 外装部品およびその製造方法 |
JP6152214B1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-06-21 | 株式会社精工技研 | 加飾樹脂成形品 |
-
2017
- 2017-10-31 JP JP2017211268A patent/JP7155509B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07137221A (ja) * | 1993-06-29 | 1995-05-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 化粧シート |
WO2010064344A1 (ja) * | 2008-12-04 | 2010-06-10 | パナソニック株式会社 | 外装部品およびその製造方法 |
JP6152214B1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-06-21 | 株式会社精工技研 | 加飾樹脂成形品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7155509B2 (ja) | 2022-10-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2019066026A1 (ja) | 化粧材、及び該化粧材のための型 | |
JP7294408B2 (ja) | 化粧材 | |
WO2019189407A1 (ja) | 化粧材 | |
WO2019194202A1 (ja) | 化粧材の製造方法 | |
JP7067203B2 (ja) | 化粧材 | |
JP2000008538A (ja) | エンボス化粧材 | |
WO2021060530A1 (ja) | 化粧材 | |
KR20200130860A (ko) | 화장재, 화장재의 제조 방법 | |
JP2019081339A (ja) | 化粧材 | |
JP6911704B2 (ja) | 化粧材 | |
JP7069619B2 (ja) | 化粧材、及び該化粧材のための型 | |
JP7501730B2 (ja) | 化粧材 | |
JP7543678B2 (ja) | 化粧材 | |
WO2020203251A1 (ja) | 化粧材及び化粧材の製造方法 | |
JP7402600B2 (ja) | 化粧材 | |
WO2020196707A1 (ja) | 化粧材 | |
JP7386594B2 (ja) | 化粧材、化粧材の製造方法 | |
JP2020168768A (ja) | 化粧材 | |
JP7243031B2 (ja) | 化粧材 | |
JP2021055530A (ja) | 化粧材 | |
JP2019171820A (ja) | 化粧材 | |
JP2020157551A (ja) | 化粧材 | |
JP2024075728A (ja) | 化粧材 | |
JP7230406B2 (ja) | 化粧材、賦形シート | |
JP7386593B2 (ja) | 化粧材、化粧材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200828 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210928 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220405 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220421 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220906 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220919 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7155509 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |