JP7069619B2 - 化粧材、及び該化粧材のための型 - Google Patents

Description

本発明は化粧材、及びこれを作製するための型に関し、従来とは異なる質感を備える化粧材及びこれを作製するための型（化粧材用成形型）に関する。

化粧材における意匠表現は多岐に亘るが、例えば特許文献１や特許文献２に記載のように、多数の万線状の凹凸模様を設けることで、表面で反射される光線の強度即ち光沢度が、照明光の入射角及び観察者の視線方向の組み合わせに応じて変化する特有の外観上の質感を持たせる技術がある。

特公平７－２２９８９号公報 特開平４－１２５１９９号公報

特許文献１及び特許文献２に記載のような、多数の万線状の凹凸模様を形成することで、例えば木材の表面（木目）の照り感を表現することもできる。
しかしながら近年においては、さらなる意匠表現の多様化の要望があり、これらの要望に対して新たな質感を与えるような表現を提供する必要がある。

そこで本発明は、これまでとは異なる質感を実現することができる構造を具備した化粧材を提供することを課題とする。また、化粧材の当該構造を形成するための型である化粧材用成形型を提供する。

以下、本発明について説明する。

本発明の１つの形態は、表面に凹凸模様が形成されてなる化粧材であって、凹凸模様は、万線状の凸線条部及び凹線条部が交互に配列した形態であり、凸線条部の高さ、幅、及び延びる向きの少なくとも１つが異なる領域が複数具備され、凸線条部の高さが異なる複数の領域が含まれる、化粧材である。

この化粧材において、凸線条部の幅をＷ_ａ、凹線条部の幅をＷ_ｂとしてＷ_ａ／Ｗ_ｂをデューティー比としたとき、凸線条部の高さＨによらずデューティー比が一定である関係を有する複数の領域が含まれるように構成できる。

上記化粧材において、凸線条部の幅をＷ_ａ、凹線条部の幅をＷ_ｂとしてＷ_ａ／Ｗ_ｂをデューティー比としたとき、凸線条部の高さＨが高いほどデューティー比が小さくなる関係を有する複数の領域が含まれるように構成することもできる。

また、上記化粧材において、凸線条部の幅が３０μｍ未満であるように構成したり、凸線条部の幅をＷ_ａ、凸線条部の高さをＨとしたとき、Ｈ／Ｗ_ａが１より大きくなるように構成したりすることもできる。

本発明の他の態様は、表面に凹凸模様が形成されてなる化粧材の凹凸模様を形成する型であって、型の表面には、化粧材の凹凸模様に対応する形状の凹凸模様が形成されており、型に形成された凹凸模様は、万線状の凸線条部及び凹線条部が交互に配列した形態であり、凹線条部の深さ、幅、及び延びる向きの少なくとも１つが異なる領域が複数具備され、凹線条部の深さが異なる複数の領域が含まれる、化粧材用成形型である。

この化粧材用成形型では、型における凹線条部の幅をＷ_ａ、凸線条部の幅をＷ_ｂとしてＷ_ａ／Ｗ_ｂをデューティー比としたとき、凹線条部の深さＨによらずデューティー比が一定である関係を有する複数の領域が含まれるように構成してもよい。

また、上記化粧材用成形型では、型の凹線条部の幅をＷ_ａ、凸線条部の幅をＷ_ｂとしてＷ_ａ／Ｗ_ｂをデューティー比としたとき、凹線条部の深さＨが深いほどデューティー比が小さくなる関係を有する複数の領域が含まれるように構成してもよい。

また、上記化粧材用成形型において、凹線条部の幅が３０μｍ未満であるように構成したり、凹線条部の幅をＷ_ａ、凸線条部の高さをＨとしたとき、Ｈ／Ｗ_ａが１より大きくなるように構成したりすることもできる。

本発明の化粧材によれば、万線状の凹凸を有する特有の構造により、照明光の入射角と観察者の視線方向との組合せに応じて変化する光沢度に於いて、従来とは異なる、より変化に富んだ質感を有するものとなる。更に、化粧材表面の凹凸（凹凸模様）を手で触れた場合には、領域毎に凸線条部の高さが異なる為、従来の全領域同一高さの凸条部からなる化粧材と比べて、触感に於いてもより変化に富んだ質感を有する。
また、上記化粧材用成形型によれば、このような特有の構造を容易に形成することが可能となる。

化粧材１０の表面の一部を拡大して表した図である。 図１のうち１つの単位領域１３に注目して表した図である。 図３（ａ）～図３（ｃ）は化粧材１０の断面を表した図である。 網状領域について説明する図である。 レーザにより型に凹凸を形成する場面を説明する図である。 図６（ａ）～図６（ｃ）は、化粧材１０の層構成の他の例を説明する図である。

以下、本発明を図面に示す形態に基づき説明する。ただし、本発明はこれら形態に限定されるものではない。なお、以下に示す図面では分かりやすさのため部材の大きさや比率を変更または誇張して記載することがある。また、見やすさのため説明上不要な部分の図示や繰り返しとなる符号は省略することがある。

図１は１つの形態にかかる化粧材１０の一部を拡大し、凹凸層１２側から平面視した図である。図１には便宜のため、方向を表す矢印（ｘ、ｙ、ｚ）も表した。ここでｘｙ方向は化粧材１０における面内方向、ｚ方向は厚さ方向である。
図１からわかるように化粧材１０は、正六角形の領域である単位領域１３が平面視で２次元的にｘｙ方向に配列されている。わかりやすさのため、図１には１つの単位領域１３について太線で縁取りをして表した。
尚、此処で言う単位領域とは、繰り返し単位、即ち、平面（ｘｙ平面）内に於いて、並進対称性を有する方向（３対の対辺と直交する方向）に隣接して繰り返し配列することにより平面を隙間無く被覆することが可能な単位となる領域を意味する。

図２には、図１のうちから１つの単位領域１３を抜きだして拡大した図を表した。図２からわかるように、単位領域１３はさらに複数の個別領域１４～個別領域２３の１０領域に分かれており、個別領域１４～個別領域２３にそれぞれの凹凸模様が形成されている。
本形態の化粧材１０では繰り返し単位としての単位領域１３が配列され、この単位領域１３の中に、それぞれの凹凸模様を具備する個別領域１４～個別領域２３が形成される例である。ただし本発明は、このような繰り返し単位としての単位領域がなく、全体に個別領域が複数形成されたものであってもよい。そして本形態では２種類の領域が存在するため、わかり易さのために「単位領域」及び「個別領域」と呼んで区別するが、これらを総称して「領域」として表現することもできる。

図１、図２には一部に点線が示されているが、この点線は実際には存在しない線であるが、単位領域及び個別領域の境界をわかり易くするために付した仮想の線である。図１からわかるように本形態では単位領域１３は正六角形であり、単位領域１３内において各個別領域１４～個別領域２３は三角形である。

図３（ａ）～図３（ｃ）には、個別領域１４～個別領域２３のうち、３つの個別領域１４、１５、１６が備える断面形状を表した。この断面はいずれも個別領域に形成される凸線条部の稜線が延びる方向に対して直交する厚さ方向（ｚ方向）断面である。
図３（ａ）～図３（ｃ）からわかるように、化粧材１０は、基材１１及び該基材１１の一方の面に積層された凹凸層１２を有して構成されている。この凹凸層１２が上記単位領域１３及び個別領域１４～個別領域２３の形状を形成している。

基材１１は、凹凸層１２を支持するとともに化粧材１０に強度を付与する機能を有するシート状の部材である。基材１１は従来公知の化粧材と同様の機能を有するものであればよいので、その材料は特に限定されない。例えば、基材の材料としては、通常、ポリエチレン、ポリプロピレン、オレフィン系熱可塑性エラストマー、アイオノマー等のポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の熱可塑性ポリエステル樹脂、熱可塑性ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体）、スチレン樹脂等の熱可塑性樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、２液硬化型ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂、或いは、ラジカル重合型のアクリレート系やカチオン重合型のエポキシ系等で電離放射線（紫外線、電子線等）で硬化する電離放射線硬化性樹脂等が用いられる。なお、基材の材料が樹脂の場合、公知の着色剤で着色しても良い。この他、紙、不織布、金属、木等もシート、板、立体物等の形状で、適宜上記樹脂材料と積層させて、使用することもできる。

基材の厚さには特に制限は無いが、シート状基材又はフィルム状基材の場合は、例えば、厚さ２０μｍ以上１０００μｍ以下程度、板状基材の場合は、例えば、１ｍｍ以上２０ｍｍ以下程度のものが使用される。

凹凸層１２は、基材１１の一方の面に積層された凹凸を有する層であり、この凹凸が単位領域１３及び個別領域１４～個別領域２３のように所定の形状を有して凹凸模様を構成している。本形態で凹凸層１２は次のような形態を備えている。

上記したように、本形態で凹凸層１２は、化粧材１０の平面視で正六角形の単位領域１３を有し、複数の単位領域１３が２次元的にｘｙ平面内に配列されて全平面を被覆している。そして、各々の単位領域１３が複数の個別領域１４～個別領域２３に分かれており、個別領域ごとにそれぞれの凹凸形状が形成されている。以下個別領域１４、１５、１６を例に説明する。

個別領域１４は図２、及び図３（ａ）からわかるように、凹凸模様が形成されており、この凹凸模様は万線状の凸線条部１４ａと凹線条部１４ｂとが交互に配列してなる。
この凸線条部１４ａは図３（ａ）に表れる断面において高さＨ_１４ａ、幅Ｗ_１４ａの長方形とされている。凸線条部１４ａはこの断面を有して、その稜線が配列方向とは異なる方向（例えば配列方向に直交する方向）に延びるように構成されている。凸線条部１４ａが延びる長さは個別領域１４の輪郭形状により決まる。
同様に凹線条部１４ｂは図３（ａ）に表れる断面において深さＤ_１４ｂ、及び幅Ｗ_１４ｂの長方形とされている。凹線条部１４ｂはこの断面を有して配列方向とは異なる方向（例えば配列方向に直交する方向、凸線条部１４ａに平行）に延びるように構成されている。凹線条部１４ｂが延びる長さは個別領域１４の輪郭形状により決まる。
従って凸線条部１４ａ及び凹線条部１４ｂのピッチＰ_１４はＷ_１４ａとＷ_１４ｂとの和により得ることができる。

ここで、Ｗ_１４ａ、Ｗ_１４ｂ、Ｈ_１４ａ、Ｄ_１４ｂの大きさは特に限定されることはないが、化粧材の模様を形成するという観点から微細なものあることが好ましく、本形態ではそれぞれ、１μｍ≦Ｗ_１４ａ≦１０００μｍ、１μｍ≦Ｗ_１４ｂ≦１０００μｍ、３μｍ≦Ｈ_１４ａ≦３０００μｍ、３μｍ≦Ｄ_１４ａ≦３０００μｍであることが好ましい。

また、凸線条部１４ａにおける高さと幅の比であるＨ_１４ａ／Ｗ_１４ａ（アスペクト比とも言う。）は１よりも大きいことが好ましい。これによれば化粧材の質感をさらに新しいものとすることができる。但し、アスペクト比が大き過ぎると、型製造の難度が上がり、又、型及び化粧材に於いて外力が加わった際に凹凸模様への応力が集中しては損傷し易くなる。そのため、通常は、Ｈ_１４ａ／Ｗ_１４ａは５以下、好ましくは３以下とされる。

なお、本形態の凸線条部１４ａの断面形状は長方形であるが、これに限定されることなく他の形態であってもよい。これには例えば台形、先端が半円形である形状、及び、出隅部にＲが形成され形状等を挙げることができ、適宜変更することは可能である。凹線条部１４ｂは隣り合う２つの凸線条部１４ａの間に形成されるため、その断面形状は凸線条部１４ａの形状により決まる。他の個別領域における凸線条部及び凹線条部も同様である。
ここで凸線条部の幅はその高さ方向中央における幅を凸線条部の幅とする。同様に凹線条部の幅はその深さ方向中央における幅を凹線条部の幅とする。

凹凸層１２を形成する材料は、化粧材に用いられる通常の材料を適宜用いることができる。基材を加熱軟化させて型（エンボス版）を押圧するのであれば凹凸層１２は基材１１と同じ材料により形成される。また凹凸層１２を基材１１と別層として基材１１に積層するのであれば、溶融した組成物を成形後に硬化させる観点から、基材１１とは別に準備した、上記基材１１と同様の樹脂を用いることができる。

個別領域１５は個別領域１４に隣り合う個別領域であり、図２、及び図３（ｂ）からわかるように、凹凸模様が形成されている。この凹凸模様は万線状の凸線条部１５ａと凹線条部１５ｂとが交互に配列してなる。
凸線条部１５ａは図３（ｂ）に表れる断面において高さＨ_１５ａ、及び幅Ｗ_１５ａの長方形とされている。凸線条部１５ａはこの断面を有してその稜線が配列方向とは異なる方向（例えば配列方向に直交する方向）で、かつ、個別領域１４の凸線条部１４ａが延びる方向とは異なる方向に延びるように構成されている。凸線条部１５ａが延びる長さは個別領域１５の輪郭形状により決まる。
凹線条部１５ｂは図３（ｂ）に表れる断面において深さＤ_１５ｂ、及び幅Ｗ_１５ｂの長方形とされている。凹線条部１５ｂはこの断面を有して配列方向とは異なる方向（例えば配列方向に直交する方向、凸線条部１５ａに平行）に延びるように構成されている。凹線条部１５ｂが延びる長さは個別領域１５の輪郭形状により決まる。
従って凸線状部１５ａ及び凹線条部１５ｂのピッチＰ_１５はＷ_１５ａとＷ_１５ｂとの和により得ることができる。

ここで、個別領域１５における高さＨ_１５ａ、深さＤ_１５ｂ、幅Ｗ_１５ａ、幅Ｗ_１５ｂの好ましい大きさの範囲は個別領域１４と同様に考えることができる。これに加えて個別領域１５では、個別領域１４との関係で、Ｈ_１４ａ＞Ｈ_１５ａであることが好ましい。さらに、本形態で個別領域１５は、Ｄ_１４ｂ＞Ｄ_１５ｂ、Ｗ_１４ａ＝Ｗ_１５ａ、Ｗ_１４ｂ＜Ｗ_１５ｂ、及び、Ｐ_１４＜Ｐ_１５とされている。

個別領域１６も個別領域１４に隣り合う個別領域であり、図２、及び図３（ｃ）からわかるように、凹凸模様が形成されている。この凹凸模様は万線状の凸線条部１６ａと凹線条部１６ｂとが交互に配列してなる。
凸線条部１６ａは図３（ｃ）に表れる断面において高さＨ_１６ａ、及び幅Ｗ_１６ａの長方形とされている。凸線条部１６ａはこの断面を有してその稜線が配列方向とは異なる方向（例えば配列方向に直交する方向）で、かつ、個別領域１４の凸線条部１４ａが延びる方向とは異なる方向に延びるように構成されている。凸線条部１６ａが延びる長さは個別領域１６の輪郭形状により決まる。
凹線条部１６ｂは図３（ｃ）に表れる断面において深さＤ_１６ｂ、及び幅Ｗ_１６ｂの長方形とされている。凹線条部１６ｂはこの断面を有して配列方向とは異なる方向（例えば配列方向に直交する方向、凸線条部１６ａに平行）に延びるように構成されている。凹線条部１６ｂが延びる長さは個別領域１６の輪郭形状により決まる。
従って凸線状部１６ａ及び凹線条部１６ｂのピッチＰ_１６はＷ_１６ａとＷ_１６ｂとの和により得ることができる。

ここで、個別領域１６における高さＨ_１６ａ、深さＤ_１６ｂ、幅Ｗ_１６ａ、幅Ｗ_１６ｂの好ましい大きさの範囲は個別領域１４と同様に考えることができる。これに加えて個別領域１６ではＨ_１４ａ＞Ｈ_１６ａであることが好ましい。さらに、本形態で個別領域１６は、Ｄ_１４ｂ＞Ｄ_１６ａ、Ｗ_１４ａ＜Ｗ_１６ａ、Ｗ_１４ｂ＜Ｗ_１６ｂ、及び、Ｐ_１５＝Ｐ_１６とされている。

他の個別領域１７～個別領域２３についても同様に考えることができ、凸線条部の高さ、幅、及び延びる向きの少なくとも１つにおいて隣の個別領域と異なっていることが好ましい。
これらにより、凹凸層１２でこれまでとは異なる特有の質感を表現することができる。

この中でも、本発明では、複数存在する領域（単位領域及び個別領域を問わず凹凸層に存在する領域の総称としての領域。）の間で、凸線条部の高さが異なる関係にある領域が含まれるものとする。このように高さが異なる関係にある複数の領域を含むことで、従来と異なる質感の表現の多様性を高めることができる。
ここで、このように凸線条部における高さを領域間で異なるものとする際には、次のようにしてもよい。すなわち、凸線条部の幅をＷ_ａ、凹線条部の幅をＷ_ｂとしてＷ_ａ／Ｗ_ｂをデューティー比としたとき、凸線条部の高さＨによらずデューティー比Ｗ_ａ／Ｗ_ｂが同じ、又は、凸線条部の高さＨが高いものほどデューティー比Ｗ_ａ／Ｗ_ｂが小さくなるように構成することができる。これにより従来に対してさらに異なる質感の表現をすることができる。

なお、ここまでで示した各領域の凸線条部はその稜線が直線状に延びる形態であるが、これに限らず凸線条部は稜線が延びる方向に曲線状、波型状など他の形態となるようにすることもできる。

次に化粧材１０の製造方法の例を説明する。ただし、化粧材１０を製造する方法がこれに限定されることはない。
以下に説明する製造方法には、原稿画像を作製する工程、版下画像を作製する工程、版を作製する工程、及び凹凸層を形成する工程を含んでいる。

原稿画像を作製する工程では、凹凸層１２に表現すべき模様を取得してこれを原稿画像とする。原稿画像はデジタルデータであることが好ましいため、デジタルデータでない場合には写真やスキャナ等を用いることによりデジタルデータ化する。また、初めから模様をＣＡＤ等を用いてデジタルデータを利用して設計していた場合にはそのデジタルデータを用いることができる。
これで、デジタルデータとして原稿画像が得られる。

版下画像を作製する工程では、得られた原稿画像を、濃度－万線変換プログラムによって、模様の階調画像に対応して二値画像としての万線パターンを二次元仮想平面上に生成して配置し、デジタルデータとして版下画像を得る。

ここでは、予め設定しておいた、凸線条部の周期、万線の線形状、線が延びる方向、万線の幅の可変レンジ等の万線生成条件に従い、二値画像として万線を生成する。このようにして生成された万線は、その線分部分が、化粧材における凸線条部に該当し、線分と線分との間の部分が化粧材における凹線条部に該当する。このようにして、万線模様を有する版下画像が得られる。

版を作製する工程では、版下画像に基づいて図１の如き平面視形状の凹凸模樣を表面に有するエンボス版（化粧材用成形型）の作製を行う。
該凹凸模樣は、閉領域からなる各個別領域１４～２３、１４～２３、１４～２３、…が相互に隣接して連結することで平面を区画して被覆した個別領域の集合体を有する。
ここで、このような凹凸模様は、図１に対応する図４に示したように（見易さのため一部を太線であらわしている。）、各領域の輪郭形状のみからなり万線状の凸線条部及び凹線条部を具備しない画像である網状領域１２’に対して、各個別領域に相当する領域内１４～２３、１４～２３、…内に万線状の凸線条部１４ａ、１５ａ、１６ａ・・・及び凹線条部１４ｂ、１５ｂ、１６ｂ、…を交互に配列してなるものと考える。
そして具体的には凹凸模様の製造工程は以下の手順（１）～（５）からなる。

〔（１）濃淡階調版下画像作成工程〕
以下の画像作成工程（１）－１～（１）－３を、アドビシステムズ社製のグラフィックデザイン描画ソフトウエア「Illustrator」を用い、ＴＩＦＦ形式で８ｂｉｔの画像濃淡階調（２５６階調）で２５４０ｄｐｉの解像度の画像データ（網状領域、万線、及び両者の合成画像）を作成した。

（１）－１
先ず、図１の凹凸模様の平面視画像から、万線画像を除いた図４に示した画像に相当する網状領域１２’の画像を作成した。

（１）－２
描画ソフトウエア「Illustrator」を用い、各個別領域１４、１５、…、２２、２３に嵌め込むべき万線状の凸線条部及び凹線条部１４ａ及び１４ｂ、１５ａ及び１５ｂ、…、２２ａ及び２２ｂ、２３ａ及び２３ｂの形状（以下、万線形状ともいう。）に対応するデジタルの濃淡画像データを以下の諸元で作成した。表１に例を示す。
尚、該濃淡画像は、後述の金属ロール表面の一座標毎に画像濃度を対応させたものである。

尚、ここで、濃度はレーザ光彫刻工程を経てエンボス版の版深と対応し、濃度の絶対値それ自体に意味は無いため、上記表中では画像濃度値を版深（版の深さ）に換算して表示してある。又、凹線条部及び凸線条部の延在方向である方位角は図１及び図２のｘ軸から左廻りに測った値である。

（１）－３
描画ソフトウエア「Illustrator」を用い、以上で得られた網状領域内の各個別領域内に以上で得られた各個別領域用の万線形状を嵌め込み、図１の凹凸模様に対応する濃淡画像データを得た。この濃淡画像データを凹凸模様画像データともいう。

〔（２）金属ロール準備工程〕
上記工程（１）と並行して、図５に示したようなエンボス版彫刻用の金属ロール３０を準備した。金属ロール３０は、軸方向両端部に回転駆動軸（ｓｈａｆｔ）３１を有する中空の鉄製の円筒の表面に銅層をメッキ形成したものである。砥石で金属ロール３０の表面を研磨して粗面化し、彫刻用レーザ光の鏡面反射による彫刻効率の低下を防止する処理をした。

〔（３）レーザ光彫刻工程〕
図５に模式的に示したように、レーザ光直接彫刻機を用い、工程（２）で用意した金属ロール３０の表面を工程（１）で作成した凹凸模様画像データに基づき彫刻する。これによりその表面に図１のような化粧材表面の凹凸模様と同一平面視形状で且つ逆凹凸（化粧材の凸に対応する部分がエンボス版面上では凹となる関係）の凹凸形状を形成した。
従ってエンボス版における凹凸模様が備えるべき形状は、上記した化粧材における凹凸模様の凹凸関係が反転した態様であり、反転した形態を考慮して、同様に考えることができる。

金属ロール３０をその回転駆動軸３１を介して駆動し、回転駆動軸３１を中心軸として回転する。レーザーヘッド３２から出射される発振波長１０２４ｎｍ、レーザスポット径１０μｍ、出力６００Ｗのファイバーレーザ光Ｌで金属ロール３０の表面の全面を走査する。その際には工程（１）で作成した凹凸模様画像データの濃度値に応じてレーザ光をＯＮ－ＯＦＦ切換（照射又は非照射の切換）を行い、照射位置にはレーザ光による金属の蒸発で深さ１０μｍの凹部を形成する。かかるレーザ光による金属ロール表面に対する走査を１０回繰り返した。また、蒸発した金属が粉体となって金属ロール３０の表面に残留又は付着することを防止するため、彫刻液吐出ヘッド３３から彫刻液Ｔを金属ロール３０の表面のレーザ光照射領域に吹き付けた状態でレーザ光照射を行った。
その際に、例えば、凹凸模様画像データ上で版深５０μｍに対応する画像濃度の位置座標においては、合計１０回の走査のうち、最初の５回分のみレーザ光を照射（ＯＮ）し、残り５回分についてはレーザ光は非照射（ＯＦＦ）となるよう制御する。
かかるレーザ光の走査を完了させ、金属ロール３０の表面に所望の凹凸形状を形成した。

〔（４）電界研磨工程〕
彫刻液を洗浄した後、電解研磨を行い、金属ロール３０の表面に付着した金属の残渣を除去した。

〔（５）クロムメッキ工程〕
工程（４）の後、該金属ロール表面にメッキにより厚さ１０μｍのクロム層を形成した。

以上により凹凸層１２の表面に形成された凹凸模様の凹凸が反転した凹凸形状を表面に備える版（化粧材用成形型、本形態ではエンボス版）を得ることができる。

次に、凹凸層を形成する工程で、作製された版（エンボス版）を用いて、基材１１にエンボス加工を行えば化粧材１０が得られる。エンボス加工は、適宜な公知の方法によれば良く、特に制限はない。エンボス加工の代表的な方法は例えば次のようなものである。
基材としてポリオレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂からなる樹脂シートを用いる。この基材を加熱軟化させ、その表面にエンボス版を押圧して該樹脂シート表面にエンボス版表面の凹凸模樣を賦形する。そして樹脂シートを冷却して固化させて樹脂シート上の凹凸模様を固定する。その後に凹凸模様が賦形された樹脂シートをエンボス版から離型する。
ここで、各種エンボス加工法について、さらに説明すると例えば次の（Ａ）～（Ｅ）のような方法がある。

（Ａ）基材となる樹脂シートを加熱軟化させ、エンボス版を押圧して、エンボス加工する。
（Ｂ）エンボス版を押圧する時の熱圧で表面シートとなる樹脂シート（基材）とベースシートとする樹脂シート（第２の基材）とを熱融着することにより、エンボス加工とラミネートとを同時に行うダブリングエンボス法によりエンボス加工する。
（Ｃ）表面シートとする樹脂シート（基材）を、Ｔダイから溶融押出しをし、冷却ローラを兼ねるシリンダ状のエンボス版上に接触させて表面シートの成膜と同時にエンボス加工する。このとき、さらに表面シートの裏面側に挿入したベースシートとする樹脂シート（第２の基材）を熱融着させてダブリングエンボスを成膜と同時に行う。
（Ｄ）特開昭５７－８７３１８号公報、特開平７－３２４７６号公報等に開示の如く、シリンダ状のエンボス版の表面に電離放射線硬化性樹脂の未硬化液状物を塗工する。さらにその上に、樹脂シート等からなるベースシートを重ねた状態で電離放射線を照射して未硬化液状物を硬化させて硬化物とする。その際、ベースシートと接着させた後、エンボス版から離型して、ベースシートと該ベースシート上の硬化物とからなる基材とすることで、基材にエンボス加工する。
（Ｅ）チタン紙等の紙にメラミン樹脂等の熱硬化性樹脂の未硬化物を含浸した含浸紙を、コア紙、木材合板上に載置して、これら基材から熱プレス成形にて熱硬化性樹脂化粧材を作製する。そのとき、含浸紙表面側にエンボス版を挿入することによって、熱硬化性樹脂を含浸硬化させて化粧材とする際にその表面に熱プレスと同時にエンボス加工する。

なお、（Ａ）～（Ｃ）のエンボス加工法で用いる基材の材料としては代表的には熱可塑性樹脂が使用され、（Ｄ）のエンボス加工法で用いる基材の材料としては代表的には電離放射線硬化性樹脂が使用され、（Ｅ）のエンボス加工法で用いる基材の材料としては代表的には熱硬化性樹脂が使用される。

以上のようにして化粧材１０を得ることができる。

次に、以上のように説明した化粧材１０の変形例としての化粧材を説明する。図６（ａ）～図６（ｃ）に層構成を示した。ここで図６（ａ）～図６（ｃ）では凹凸層１２の一部として領域１４が表れているが、凹凸層１２の形態はここまで説明した通りである。

図６（ａ）の構成の化粧材１０’は単層からなる化粧材である。このような化粧材１０’は、例えば、熱可塑性樹脂シートからなる基材１１を、加熱軟化してエンボス版を押圧するエンボス加工を行えば良い。この結果、基材１１の表面には、所望の凹凸形状の凸線条部１４ａ及び凹線条部１４ｂからなる凹凸層１２による凹凸模様が賦形される。この構成では付加的な装飾層は無いが、基材１１を透明なものとした場合でも、他の素材に積層することで、当該他の素材の模様を活かして表面化粧することができる。また、基材１１は適宜着色剤で茶色や灰色等に着色してもよく、この場合には基材自体が装飾層となる。

図６（ｂ）の構成の化粧材１０’’は、図６（ａ）の構成に対して、基材１１の裏側に装飾層１１ａを形成した構成である。この様な構成の化粧材１０’’を作製するには、例えば、基材１１としては装飾層１１ａが透視できる様に透明な樹脂シートを使用し、この基材１１の裏側とする面に装飾層１１ａを印刷形成した後、加熱軟化させてエンボス版を表側とする面に押圧するエンボス加工を行えば良い。

図６（ｃ）の構成の化粧材１０’’’は、図６（ｂ）の構成に対して、さらに装飾層１１ａの面のうち凹凸層１２が配置される側とは反対側にもベースシートとする他の基材１１ｂを積層した例である。この様な構成の化粧材１０’’’を作製するには、ベースシートとする着色した不透明な熱可塑性樹脂シートからなる基材１１ｂの表側とする面に、装飾層１１ａを印刷形成した後、このベースシートと、表面シートとする透明な熱可塑性樹脂シートからなる基材１１とを、ダブリングエンボス法で熱融着によって積層すると同時に基材１１の表面に所望の凹凸模様をエンボス加工すれば良い。

以上説明した化粧材の用途は特に制限は無いが、例えば、壁、床、天井等の建築物の内装材、建築物の外壁、屋根、門扉、塀、柵等の外裝材、扉、窓枠、扉、扉枠等の建具、廻り縁、幅木、手摺等の造作部材の表面材、テレビ受像機等の家電製品の筐体の表面材、箪笥等の家具の表面材、箱等の容器の表面材、車両等の内装材又は外裝材、船舶内装材又は外裝材等である。

１０ 化粧材
１１ 基材
１２ 凹凸層
１３ 単位領域（領域）
１４～２３ 個別領域（領域）
１４ａ、１５ａ、１６ａ 凸線条部
１４ｂ、１５ｂ、１６ｂ 凹線条部

Claims (8)

1. 表面に凹凸模様が形成されてなる化粧材であって、
   前記凹凸模様は、万線状の凸線条部及び凹線条部が交互に配列した形態であり、
   前記凸線条部の高さ、幅、及び延びる向きの少なくとも１つが異なる領域が複数具備され、
   前記凸線条部の前記高さが異なる複数の領域が含まれ、
   前記凸線条部の幅をＷ _ａ 、前記凹線条部の幅をＷ _ｂ としてＷ _ａ ／Ｗ _ｂ をデューティー比としたとき、前記凸線条部の高さＨによらず前記デューティー比が一定である関係を有する複数の前記領域が含まれる、
   化粧材。
2. 表面に凹凸模様が形成されてなる化粧材であって、
   前記凹凸模様は、万線状の凸線条部及び凹線条部が交互に配列した形態であり、
   前記凸線条部の高さ、幅、及び延びる向きの少なくとも１つが異なる領域が複数具備され、
   前記凸線条部の前記高さが異なる複数の領域が含まれ、
   前記凸線条部の幅をＷ_ａ、前記凹線条部の幅をＷ_ｂとしてＷ_ａ／Ｗ_ｂをデューティー比としたとき、前記凸線条部の高さＨが高いほど前記デューティー比が小さくなる関係を有する複数の前記領域が含まれる、
   化粧材。
3. 前記凸線条部の幅が３０μｍ未満である、請求項１又は２に記載の化粧材。
4. 前記凸線条部の幅をＷ_ａ、前記凸線条部の高さをＨとしたとき、Ｈ／Ｗ_ａが１より大きい、請求項１乃至３のいずれかに記載の化粧材。
5. 表面に凹凸模様が形成されてなる化粧材の前記凹凸模様を形成する型であって、
   前記型の表面には、前記化粧材の前記凹凸模様に対応する形状の凹凸模様が形成されており、
   前記型に形成された前記凹凸模様は、万線状の凸線条部及び凹線条部が交互に配列した形態であり、
   前記凹線条部の深さ、幅、及び延びる向きの少なくとも１つが異なる領域が複数具備され、
   前記凹線条部の前記深さが異なる複数の領域が含まれ、
   前記型における前記凹線条部の幅をＷ _ａ 、前記凸線条部の幅をＷ _ｂ としてＷ _ａ ／Ｗ _ｂ をデューティー比としたとき、前記凹線条部の深さＨによらず前記デューティー比が一定である関係を有する複数の前記領域が含まれる、
   化粧材用成形型。
6. 表面に凹凸模様が形成されてなる化粧材の前記凹凸模様を形成する型であって、
   前記型の表面には、前記化粧材の前記凹凸模様に対応する形状の凹凸模様が形成されており、
   前記型に形成された前記凹凸模様は、万線状の凸線条部及び凹線条部が交互に配列した形態であり、
   前記凹線条部の深さ、幅、及び延びる向きの少なくとも１つが異なる領域が複数具備され、
   前記凹線条部の前記深さが異なる複数の領域が含まれ、
   前記型の前記凹線条部の幅をＷ_ａ、前記凸線条部の幅をＷ_ｂとしてＷ_ａ／Ｗ_ｂをデューティー比としたとき、前記凹線条部の深さＨが深いほど前記デューティー比が小さくなる関係を有する複数の前記領域が含まれる、
   化粧材用成形型。
7. 前記型の前記凹線条部の幅が３０μｍ未満である、請求項５又は６に記載の化粧材用成形型。
8. 前記型の前記凹線条部の幅をＷ_ａ、前記凹線条部の深さをＨとしたとき、Ｈ／Ｗ_ａが１より大きい、請求項５乃至７のいずれかに記載の化粧材用成形型。

Images