JP2019079062A - 高解像度画像を提供する偏光ビームスプリッタプレート及びかかる偏光ビームスプリッタプレートを利用するシステム - Google Patents

Abstract

【課題】偏光ビームスプリッタから反射した結像光の有効解像度を高める。【解決手段】偏光ビームスプリッタプレート１０４及びかかるビームスプリッタプレートを組み込むシステムについて記載する。偏光ビームスプリッタプレートは、第１基板と、第１基板上に配置される多層光学フィルム反射性偏光子１０６と、を含む。偏光ビームスプリッタプレートは、第１最外主表面と、第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含む。偏光ビームスプリッタプレートは、結像器１０２から受光した結像光１２０を視聴者又はスクリーンに向けて反射するように構成され、反射された結像光は１２マイクロメートル未満の有効画素解像度を有する。【選択図】図１

Description

（関連出願の相互参照）
本願は、その内容全体が参照により本明細書に組み込まれる、２０１１年１１月２８日に出願された係属中の米国特許出願第６１／５６４１６１号「Ｐｏｌａｒｉｚｉｎｇ Ｂｅａｍ Ｓｐｌｉｔｔｅｒｓ Ｐｒｏｖｉｄｉｎｇ Ｈｉｇｈ Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ Ｉｍａｇｅｓ ａｎｄ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｕｔｉｌｉｚｉｎｇ Ｓｕｃｈ Ｂｅａｍ Ｓｐｌｉｔｔｅｒｓ」（代理人整理番号６７８９５ＵＳ００２）、及び２０１１年１１月２８日に出願された係属中の同第６１／５６４１７２号「Ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ Ｍａｋｉｎｇ Ｐｏｌａｒｉｚｉｎｇ Ｂｅａｍ Ｓｐｌｉｔｔｅｒｓ Ｐｒｏｖｉｄｉｎｇ Ｈｉｇｈ Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ Ｉｍａｇｅｓ ａｎｄ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｕｔｉｌｉｚｉｎｇ Ｓｕｃｈ Ｂｅａｍ Ｓｐｌｉｔｔｅｒｓ」（代理人整理番号６８０１６ＵＳ００２）に関連する。

（発明の分野）
本明細書は、偏光ビームスプリッタプレート及びかかるビームスプリッタプレートを組み込むシステムに関する。より具体的には、本明細書は、多層光学フィルムを組み込み、かつ高い有効解像度で視聴者又は鑑賞スクリーンに向かって結像光を反射させる、偏光ビームスプリッタプレート及びかかるビームスプリッタプレートを有するシステムに関する。

偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）が組み込まれた照射システムが、投射ディスプレイなどの鑑賞スクリーン上に画像を形成するために使用されている。典型的な表示画像は照射源を組み込んでおり、この照射源は、照射源からの光線が、投射される所望の画像を含む画像形成装置（即ち、結像器）で反射するように配置されている。こうしたシステムは、照射源からの光線と投射される画像の光線とが、ＰＢＳと結像器との間の同じ物理的空間を共有するように光線を折曲する。ＰＢＳは、結像器からの、偏光状態が回転した光から、入射する照明光を分離する。ＰＢＳへの新たな需要により、ひとつには３次元投射及び結像などの用途における新規利用により、いくつかの問題が浮上してきている。本出願は、そのような問題に対処する物品を提供する。

一態様では、本明細書は、偏光サブシステムに関する。偏光サブシステムは、第１結像器と、偏光ビームスプリッタと、を含む。いくつかの実施形態では、結像器は、ＬＣＯＳ結像器であってもよい。偏光ビームスプリッタは、部分的に反射性偏光子からなり、結像器からの結像光を受光する。反射性偏光子は、多層光学フィルムであってもよい。いくつかの実施形態では、反射性偏光子は、４５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は８０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する。偏光ビームスプリッタは、１２マイクロメートル未満の有効画素解像度で視聴者又はスクリーンに向かって結像光を反射させる。いくつかの実施形態では、偏光ビームスプリッタは、９マイクロメートル未満又は６マイクロメートル未満の有効画素解像度で視聴者又はスクリーンに向かって結像光を反射させることができる。偏光サブシステムは、第２結像器を含むことができ、これは、偏光ビームスプリッタが第１結像器からの光を受光するのとは異なる面で偏光ビームスプリッタが第２結像器からの結像光を受光する。偏光サブシステムはまた、視聴者又はスクリーンに向かって偏光ビームスプリッタからの光を投射する投射レンズを含むことができる。いくつかの場合では、偏光サブシステムは、３次元画像プロジェクタであってもよい。

別の態様では、本明細書は、偏光ビームスプリッタに関する。偏光ビームスプリッタは、第１カバーと第２カバーとの間に位置決めされる反射性偏光子を含む。反射性偏光子は、多層光学フィルムであってもよい。偏光ビームスプリッタは、１２マイクロメートル未満、潜在的に９マイクロメートル未満、又は６マイクロメートル未満の有効画素解像度で視聴者又はスクリーンに向かって結像光を反射させることができる。偏光ビームスプリッタの第１及び／又は第２カバーは、ガラス又は好適な光学プラスチックで少なくとも部分的に作製されてもよい。第１カバー及び／又は第２カバーは、多層光学フィルムの所望の平坦度を達成するために、真空に対する露光などの更なる処理で好適な光学接着剤によって反射性偏光子に取り付けられてもよい。反射性偏光子は、４５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は８０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有することができる。

更なる他の態様において、本明細書は投射サブシステムに関する。投射サブシステムは、光源と、偏光ビームスプリッタと、少なくとも第１結像器と、潜在的に第２結像器と、を含む。偏光ビームスプリッタは、光源からの光を受光し、多層光学フィルムからなる反射性偏光子を含む。第１結像器は、偏光ビームスプリッタに隣接して位置決めされる。第２結像器は、偏光ビームスプリッタの第１結像器とは異なる側で偏光ビームスプリッタに隣接して位置決めされる。光源からの光が偏光ビームスプリッタに入射し、入射光の第１偏光が反射性偏光子を透過し、一方第１偏光状態に直交する入射光の第２偏光は反射性偏光子によって反射される。第２偏光の光が偏光ビームスプリッタから第２結像器へと進み、結像され、偏光ビームスプリッタに向かって後方に反射する第２結像器から反射された光が、偏光ビームスプリッタを通じて像平面に透過される。第１偏光の光が偏光ビームスプリッタを通じて第１結像器に透過され、結像され、偏光ビームスプリッタに向かって後方に反射する。第１結像器から反射された光が、１２マイクロメートル未満の有効画素解像度で像平面に向かって偏光ビームスプリッタで反射される。少なくともいくつかの実施形態では、第１結像器から反射された光が、９マイクロメートル未満又は６マイクロメートル未満の有効解像度で像平面に向かって偏光ビームスプリッタで反射される。反射性偏光子は、４５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は８０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有することができる。投射サブシステムの光源は、アーク灯又は１つ若しくは複数のＬＥＤなどの任意の好適な光源であってもよい。

別の態様では、本明細書は、偏光サブシステムに関する。偏光サブシステムは、第１結像器と、偏光ビームスプリッタと、を含む。偏光ビームスプリッタは、部分的に反射性偏光子からなり、結像器からの結像光を受光する。反射性偏光子は、多層光学フィルムであってもよい。偏光ビームスプリッタは、視聴者又はスクリーンに向かって結像光を反射させる。いくつかの実施形態では、反射性偏光子は、４５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は８０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する。いくつかの実施形態では、反射性偏光子は、４０ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は７０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する。いくつかの実施形態では、反射性偏光子は、３５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は５５ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する。

別の態様では、偏光サブシステムは、第１結像器と、結像器からの結像光を受光するように構成される偏光ビームスプリッタプレートと、を含む。偏光ビームスプリッタプレートは、第１基板と、第１基板上に配置される多層光学フィルム反射性偏光子と、第１最外主表面と、第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含む。偏光ビームスプリッタプレートは、受光した結像光を視聴者又はスクリーンに向けて反射し、反射された結像光は、１２マイクロメートル未満の有効画素解像度を有する。

別の態様では、偏光ビームスプリッタプレートは、第１基板と、第２基板と、第１基板と第２基板との間に配置されてそれらに接着される多層光学フィルム反射性偏光子と、第１最外主表面と、第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含む。偏光ビームスプリッタプレートは、結像光を視聴者又はスクリーンに向かって反射するように構成され、反射された結像光は、１２マイクロメートル未満の有効画素解像度を有する。

別の態様では、投射サブシステムは、光源と、光源から受光した光を結像する第１結像器と、第１結像器から結像光を受光し、かつ多層光学フィルム反射性偏光子を含む、偏光ビームスプリッタプレートと、第１最外主表面と、第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含む。偏光ビームスプリッタプレートは、１２マイクロメートル未満の有効画素解像度で像平面に向けて受光した結像光を反射する。

別の態様では、偏光サブシステムは、第１結像器と、結像器から結像光を受光し、かつ多層光学フィルム反射性偏光子を含む、偏光ビームスプリッタプレートと、第１最外主表面と、第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含む。偏光ビームスプリッタプレートは、受光した結像光を視聴者又はスクリーンに向けて反射する。多層光学フィルム反射性偏光子は、４５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は８０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する。

別の態様では、フラットフィルムの製造方法は、多層光学フィルムを準備する工程と、一時的な平面基板を準備する工程と、多層光学フィルムの第１表面を一時的な平面基板に着脱自在に取り付ける工程と、第１最外主表面及び第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面を含む永久基板を準備する工程と、を含む。この方法は、多層光学フィルムの第２表面を永久基板に取り付ける工程と、一時的な平面基板から多層光学フィルムを取り外す工程と、を更に含む。

別の態様では、光学的に平坦な偏光ビームスプリッタプレートの作製方法は、多層光学フィルム反射性偏光子を準備する工程と、感圧性接着剤の層を多層光学フィルムの第１表面に塗布する工程と、多層光学フィルムとは反対側の感圧性接着剤層に対して第１基板を取り付ける工程であり、第１基板が、第１最外主表面と、第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含む工程と、感圧性接着剤、多層光学フィルム、及び第１基板に真空を加える工程と、を含む。

本明細書による偏光変換システムである。 本明細書による偏光ビームスプリッタである。 本明細書による投射サブシステムである。 ＰＢＳでの使用のための平坦な多層光学フィルムの作製方法を示すフローチャートである。 多層光学フィルムを用いた偏光ビームスプリッタの作製方法を示す。 偏光サブシステムの概略図である。 偏光ビームスプリッタプレートの最外表面の概略図である。 反射型結像システムの概略図である。 透過型結像システムの概略図である。 反射−透過型結像システムの概略図である。

高性能ＰＢＳは、シリコン基板上に載せた反射型液晶（ＬＣＯＳ）（Liquid Crystal on Silicon）結像器を用いるプロジェクタ用の発展可能な光学エンジンを作製するために必須である。加えて、ＰＢＳは、ＤＬＰ結像器などの名目上は非偏光の結像器に対してでさえ、そのような結像器が偏光を扱うことが要求されるときには、必要とされる場合がある。典型的には、ＰＢＳは、名目上は、ｐ偏光を透過し、かつ、名目上は、ｓ偏光を反射する。マクニール型ＰＢＳ及びワイヤグリッド偏光子を含め、いくつかの異なった種類のＰＢＳが使用されてきた。しかしながら、多層光学フィルムに基づくＰＢＳは、波長域及び入射角にわたって効果的に偏光させる能力を含む、投射システムにおける光の扱いに関連した問題に対して、最も効果的な偏光ビームスプリッタの１つであり、かつ、反射及び透過の両方について高い効率を有することが、わかってきた。このような多層光学フィルムは、米国特許第５，８８２，７７４号（Ｊｏｎｚａら）及び同第６，６０９，７９５号（Ｗｅｂｅｒら）に記載されているように、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙによって製造されている。

例えば、３次元投射及び結像を含む、いくつかの新しい結像及び投射用途の出現と共に、新たな課題が浮上している。具体的には、少なくともいくつかの３次元結像用途において、反射偏光フィルムを透過するときだけでなく、反射偏光フィルムによって反射されるときにも、ＰＢＳが（後に定義されるような）高有効解像度を有する結像光を提供することが要求される場合がある。不幸なことに、多層光学フィルムに基づく偏光子は、他の多くの利点にも関わらず、高解像度で結像光を反射するために必要な平坦度を有するよう処方することが困難な場合がある。むしろ、結像光を反射するためにそのような多層フィルム反射性偏光子を用いた場合、反射した画像は歪んでしまう場合がある。しかしながら、広範囲な角度及び波長の入射光を効率的に偏光させることに関する懸念にも対処しなければならない。それ故、視聴者又はスクリーンに向かってＰＢＳから反射した結像光に対して、有効解像度を高めることを達成すると同時に、多層光学フィルムを有するＰＢＳの利点を有した偏光ビームスプリッタを提供することが強く望まれている。本明細書では、そのような解決策が提供される。

図１は、本明細書による偏光サブシステムの一例を示す。偏光サブシステムは第１結像器１０２を含む。図１に示されているような、いくつかの実施形態においては、結像器は適切な反射型結像器である。大抵、投射システムで用いられる結像器は、典型的には、偏光を回転させる、液晶表示結像器などの画像形成装置であり、デジタル映像信号に合わせて画像を生成するために、光の偏光を回転させることにより動作する。このような結像器が、投射システムにおいて使用されるときは、典型的には、光を直交偏光状態（例えば、ｓ偏光とｐ偏光）の対へと分離する偏光子に依存している。図１に示されている実施形態で使用される場合がある一般的な２つの結像器としては、シリコン基板上に載せた反射型液晶（ＬＣＯＳ）結像器、又はデジタルライ卜プロセッシング（ＤＬＰ）（digital light processing）結像器が挙げられる。当業者であれば、ＤＬＰシステムにおいて、図１に示すＰＢＳ構成を使用するためには、偏光を回転させる外部手段（位相差板など）、並びに照明形状の多少の変更が必要であることを認識するであろう。この偏光サブシステムは、偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）１０４も含む。光源１１０からの光１１２は、ＰＢＳ １０４へ向かって進む。ＰＢＳ １０４の内部には反射性偏光子１０６がある。反射性偏光子は、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から入手可能であり、かつ、例えば、それぞれの全体が参照により本明細書に援用される、米国特許第５，８８２，７７４号（Ｊｏｎｚａら）及び同第６，６０９，７９５号（Ｗｅｂｅｒら）に記載されているもののような、多層光学フィルムであってよい。光１１２がフィルム１０６に入射するとき、入射光のある１つの直交偏光状態（ｐ偏光状態など）がフィルムを透過し、光１２０としてＰＢＳを出てから、次に結像器１０２へ入射する。前記入射光の直交偏光状態（この場合は、ｓ偏光）は、反射性偏光子１０６によって、異なった方向（ここでは、ビーム１２０と直角）の分離ビーム１１８として反射される。

所与の偏光状態の未結像光１２０が結像器１０２に入射する。その後、この光は結像され、反射し、ＰＢＳ １０４及び組み込まれた反射性偏光子１０６へ向かって戻る。結像器１０２がＬＣＯＳ結像器であり、かつ、「オン（on）」状態のこれらの画素に対するものである場合、光１１４も直交偏光状態へ変換される。この場合、ｐ偏光入射光（まだ結像していない）は、ｓ偏光の結像光として反射される。そのｓ偏光が偏光ビームスプリッタ１０４、及び特に多層光学フィルム反射性偏光子１０６に入射したとき、その光は、ｓ偏光のビーム１１６として、視聴者又は鑑賞スクリーン１３０へ向かって反射する。結像器１０２は、用途に望ましいであろう任意のタイプの結像器であってよい。例えば、結像器１０２は、ＬＣＯＳ結像器、ＯＬＥＤ結像器、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）結像器、又はデジタルマイクロミラー装置（ＤＭＤ）結像器（ＤＬＰ結像器など）であってよい。

先行技術のいくつかの実施形態において、結像器は、例えば、ビーム１１８が進む方向に位置してよい。このような実施形態においては、結像光は偏光ビームスプリッタ１０４で反射されるのではなく、偏光ビームスプリッタ１０４を透過するであろう。偏光ビームスプリッタを透過する結像光は、画像の歪みをより小さくできるため、より高い有効解像度を可能とする。しかしながら、後に更に説明するように、いくつかの実施形態においては、結像器１０２を図１で位置しているように備えることが望ましい場合がある。これにより、例えば、異なる偏光の画像を重ねることができる。多層光学フィルムの反射性偏光子としての多くの利点にも関わらず、従来は、そのようなフィルムに反射する結像光に対して高有効解像度を達成することは困難であった。

素子により生成される画像又は光の有効解像度は、どの画素サイズが信頼性をもって解像され得るかを予測するのに役立つため、便利な定量的測定法である。最新の結像器（ＬＣＯＳ及びＤＬＰ）は約１２．５μｍ〜約５μｍの画素サイズを有する。そのため、反射型の結像状況において有用であるためには、リフレクタは少なくとも１２．５μｍ、理想的にはそれ以上にまで解像可能でなければならない。それ故、ＰＢＳの有効解像度は約１２．５μｍ未満、好ましくはより小さくなくてはならない。この場合には、高有効解像度であると言える。

本明細書に記載した手法を使用すれば、実際に、結像光を非常に高い解像度で反射できるＰＢＳ １０４で使用するための多層光学フィルムを準備することができる。実際、図１を見ると、結像光１１６は、１２マイクロメートル未満の有効画素解像度で、偏光ビームスプリッタ１０４から視聴者又は鑑賞スクリーン１３０へ向かって反射することができる。実際、いくつかの実施形態では、結像光１１６は、１１マイクロメートル未満、１０マイクロメートル未満、９マイクロメートル未満、８マイクロメートル未満、７マイクロメートル未満、又は可能性としては更に、６マイクロメートル未満の有効画素解像度で、偏光ビームスプリッタ１０４から視聴者又は鑑賞スクリーン１３０に向かって反射することができる。

既に述べたように、少なくともいくつかの実施形態において、前記偏光サブシステム１００は第２結像器１０８を備える。一般的に、第２結像器１０８は、第１結像器１０６と同じタイプの結像器（ＬＣＯＳ又はＤＬＰなど）であってよい。ある１つの偏光状態の光（ｓ偏光など）はＰＢＳ １０４から、特にＰＢＳの反射性偏光子１０６から第２結像器へ向かって反射してよい。その後、この光は結像され、反射されてＰＢＳ １０４へ戻ってよい。この場合も、ｓ偏光未結像光１１８が結像器１０８に入射した場合に、ｐ偏光結像光１２２が結像器１０８からＰＢＳ １０４へ向かって戻る方へ向きを変えられるよう、第１結像器１０４と同様に、第２結像器１０８から反射した光は偏光変換される。結像器１０２から反射した光１１４は第１偏光状態（例えば、ｓ偏光）にあるため、ＰＢＳ １０４から視聴者又は鑑賞スクリーン１３０へ向かって反射する一方で、結像器１０８から反射した光（例えば、光１２２）は第２偏光状態（例えば、ｐ偏光）であるため、ＰＢＳ１０４を透過して視聴者又は鑑賞スクリーン１３０へ向かう。図１からわかるように、ＰＢＳが第１面１２６で第１結像器１０２からの結像光１１４を受け取り、かつ、第１面とは異なる第２面１２４で第２結像器１０８からの結像光１２２を受けるように、２つの結像器はＰＢＳ １０４の異なる側に位置している。

一旦、結像光１１６、及び場合によっては光１２２が、ＰＢＳ １０４を出ると、視聴者又は鑑賞スクリーン１３０へ向かって、方向づけられる。光を視聴者へ向かって最良に方向づけるため、かつ、画像を適切にスケーリングするため、光が投射レンズ１２８又は何らかの投射レンズシステムを通り抜けるようにしてもよい。単一要素の投射レンズ１２８を有するように図示されているのみであるが、必要であれば、偏光変換システム１００は更に結像光学系を含んでもよい。例えば、実際、投射レンズ１２８は、本願の権利者が所有し譲渡された米国特許第７，９０１，０８３号のレンズ群２５０のような、複数のレンズであってよい。なお、任意の結像器１０８が使用されない場合には、入力光１１２は光線１２０と同じ偏光状態を有するようにあらかじめ偏光させられる。これは、例えば、入力光の流れ１１２の偏光純度を上げるための偏光変換システム（ＰＣＳ）、付加的な若しくは反射型の若しくは吸収型の直線偏光子又は他のそのような装置の使用により達成できる。このような手法は、システムの全体的な効率性を改善することができる。

ＰＢＳ １０４は反射性偏光子１０６に加えて他の要素を含んでもよい。例えば、図１では、ＰＢＳ １０４はまた第１カバー１３２及び第２カバー１３４を備える。反射性偏光子１０６は、第１カバー１３２と第２カバー１３４との間に位置することで、これらのカバーによって、保護され、かつ、適切に配置される。第１カバー１３２及び第２カバー１３４は、ガラス、プラスチック、又は他の潜在的に適切な材料など、当該技術分野において既知の任意の適切な材料で作製されてよい。更に付加的な材料及び構造体が、例えば、ＰＢＳの表面に、又は反射性偏光子と隣接して、かつ実質的に同一の広がりを持って、取り付けられてよいことが理解されるべきである。このような他の材料又は構造体としては、付加的な偏光子、ダイクロイックフィルタ／リフレクタ、位相差板、反射防止コーティング、カバーの表面に成形若しくは接着されたレンズなどを挙げることができる。

結像光が異なる偏光状態である、異なる結像器からの光を発する投射又は偏光サブシステムは、例えば、米国特許第７，６９０，７９６号（Ｂｉｎら）で記載されるような３次元画像プロジェクタの一部として特に有用である。２つの結像器システムに基づくＰＢＳを使用することの明白な利点は、タイムシーケンス処理又は偏光シーケンス処理が必要とされないことである。これは、両方の結像器が常に動作し、プロジェクタの光の出力を効果的に重ね合わせていることを意味する。既に述べたように、偏光子から反射した結像光１１６が歪まず、かつ、高有効解像度を有するように、反射性偏光子１０６が平坦であることは非常に重要である。平坦度は標準的な粗さパラメータＲａ（平均からの表面の垂直偏差の絶対値の平均）、Ｒｑ（平均からの表面の垂直偏差の二乗平均平方根）、及びＲｚ（各サンプリング長さにおける最も高い山頂と最も低い谷底との間の平均距離）によって定量化できる。特に、反射性偏光子は、好ましくは、表面粗さＲａが４５ｎｍ未満であり、又は表面粗さＲｑが８０ｎｍ未満であり、より好ましくは、表面粗さＲａが４０ｎｍ未満であり、又は表面粗さＲｑが７０ｎｍ未満であり、更により好ましくは、表面粗さＲａが３５ｎｍ未満であり、又は表面粗さＲｑが５５ｎｍ未満である。フィルムの表面粗さ又は平坦度を測定する例示的な一つの方法が、以下の実施例のセクションで提供される。

別の態様では、本明細書は、偏光ビームスプリッタに関する。そのような偏光ビームスプリッタ２００の１つが図２に示されている。偏光ビームスプリッタ２００は、第１カバー２３２と第２カバー２３４との間に位置する、反射性偏光子２０６を含む。図１の反射性偏光子１０６と同様に、図２の反射性偏光子２０６は、上記したもののような多層光学フィルムである。偏光ビームスプリッタ２００は結像光２１６を視聴者又は表面２３０へ反射することができる。視聴者又は表面へ向かって方向づけられる結像光２１６の有効画素解像度は、１２マイクロメートル未満、可能性としては１１マイクロメートル未満、１０マイクロメートル未満、９マイクロメートル未満、８マイクロメートル未満、７マイクロメートル未満、可能性としては更に６マイクロメートル未満である。

図１のカバーと同様に、ＰＢＳ ２００の第１カバー２３２及び第２カバー２３４は、とりわけガラス又は光学プラスチックなどの当該分野において使用される、任意の数の適切な材料で作製されてよい。また、第１カバー２３２及び第２カバー２３４は、いくつかの異なる手段によりそれぞれ反射性偏光子２０６へ取り付けられてよい。例えば、一実施形態においては、第１カバー２３２は、感圧性接着剤層２４０を用いて反射性偏光子２０６に取り付けられてよい。好適な感圧性接着剤は、３Ｍ（商標）Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ ８１４１（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から入手可能）である。同様に、第２カバー２３４は、感圧性接着剤層２４２を用いて反射性偏光子に取り付けられてよい。他の実施形態においては、第１カバー及び第２カバーは、層２４０及び層２４２に対して異なる接着剤を用いて反射性偏光子２０６に取り付けられてもよい。例えば、層２４０及び層２４２は硬化性光学接着剤で作製されてよい。好適な光学接着剤としては、ＮＯＡ７３、ＮＯＡ７５、ＮＯＡ７６又はＮＯＡ７８などのＮｏｒｌａｎｄ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｉｎｃ．（Ｃｒａｎｂｕｒｙ，ＮＪ）により製造された光学接着剤、並びに、それぞれ本明細書に参照により援用される、本願の権利者が所有し譲渡された米国特許出願公開第２００６／０２２１４４７号（ＤｉＺｉｏら）、及び本願の権利者が所有し譲渡された同第２００８／００７９９０３号（ＤｉＺｉｏら）に記載された光学接着剤を挙げることができる。また、紫外線硬化性接着剤を使用してもよい。更に付加的な材料及び構造体が、例えば、ＰＢＳの表面に、又は反射性偏光子と隣接して、かつ実質的に同一の広がりを持って、取り付けられてよいことが理解されるべきである。このような他の材料又は構造体としては、付加的な偏光子、ダイクロイックフィルタ／リフレクタ、位相差板、反射防止コーティングなどが挙げられる。図１で記載したＰＢＳと同様に、図２の反射性偏光子２０６は結像光２１６を歪ませることなく最も効率的に反射するために非常に平坦でなくてはならない。反射性偏光子は、表面粗さＲａが４５ｎｍ未満、又は表面粗さＲｑが８０ｎｍ未満であってよい。米国特許第７，２３４，８１６（Ｂ２）号（Ｂｒｕｚｚｏｎｅら）に記載されているような、感圧性接着剤の典型的な塗布手順では、必要とされる反射性偏光子表面の平坦度は達成されない。特定の種類の後処理によって、必要とされる表面の平坦度が達成できることが発見された。

更なる他の態様において、本明細書は投射サブシステムに関する。そのような投射サブシステムの１つが図３に示されている。投射サブシステム３００は光源３１０を含む。光源３１０は、投射システムで一般に使用される、任意の数の適切な光源であってよい。例えば、光源３１０は、赤色、緑色、又は青色光などの特定の色の光を発する、レーザー又は発光ダイオード（ＬＥＤ）などの固体エミッタであってよい。光源３１０は、発光源から光を吸収し、他の波長（一般的にはより長い波長）で再放出する、蛍光体又は他の光変換材料を含んでもよい。好適な蛍光体としては、ＣｅドープＹＡＧ、ストロンチウムチオガレート、ドープしたシリカ、及びサイアロン型材料などの周知の無機蛍光体が挙げられる。他の光変換材料としては、ＩＩＩ〜Ｖ及びＩＩ〜ＶＩ族半導体、量子ドット、及び有機蛍光染料が挙げられる。あるいは、光源は、赤色、緑色又は青色ＬＥＤなどの、複数の光源からなっていてもよく、それらのＬＥＤは同時に作動してもよく、又は順に作動してもよい。光源３１０は、レーザー光源でもよく、又は可能性としては従前のＵＨＰランプでもよい。カラーホイール、ダイクロイックフィルタ又はリフレクタなどの補助的な構成要素が、光源３１０を付加的に構成してもよいことが理解されるべきである。

投射サブシステム３００は、更に偏光ビームスプリッタ３０４を含む。偏光ビームスプリッタ３０４は、光源からの光３１２を受けるように位置する。一般的に、この入射光３１２は、部分的には、２つの直交偏光状態（例えば、ｓ偏光部分とｐ偏光部分）からなっている。偏光ビームスプリッタ内には、この場合にもまた、反射性偏光子１０６に関して上述したような多層光学フィルムである、反射性偏光子３０６がある。光３１２は反射性偏光子３０６に入射し、ある第１偏光（例えば、ｐ偏光）の光は光３２０として透過する一方で、直交する第２偏光（例えば、ｓ偏光）の光は光３１８として反射する。

反射性偏光子３０６を透過する第１偏光の光３２０は、ＰＢＳ ３０４に隣接して位置する第１結像器３０２へ向かって進む。光は結像され、第１結像器３０２で反射して、光の偏光が変換されてＰＢＳ ３０４へ戻る。その後、変換された結像光３１４はＰＢＳ ３０４で、光３１６として、画像平面３５０へ向かって反射する。光３１６はＰＢＳの反射性偏光子３０６から反射し、１２マイクロメートル未満、及び可能性としては１１マイクロメートル未満、１０マイクロメートル未満、９マイクロメートル未満、８マイクロメートル未満、７マイクロメートル未満、又は可能性としては更に６マイクロメートル未満の有効解像度で、画像平面３５０に到達する。典型的には、反射性偏光子３０６は表面粗さＲａが４５ｎｍ未満であり、又は表面粗さＲｑが８０ｎｍ未満である。

初めにＰＢＳ ３０４の反射性偏光子で反射した、第２偏光（例えば、ｓ偏光）の光は、光３１８として、第２結像器３０８へ向かって進む。第１結像器３０２と同様に、第２結像器３０８も、ＰＢＳ ３０４の隣に位置しているが、第２結像器はＰＢＳの異なった側に位置している。入射光３１８は結像され、反射して、ＰＢＳ ３０４へ向かって戻る。同様に、結像器からの反射の際、この光の偏光は９０度（例えば、ｓ偏光からｐ偏光へ）回転させられる。結像光３２２は、ＰＢＳ ３０４を透過し、画像平面３５０へ送られる。第１結像器３０２及び第２結像器３０８は、図１の要素１０２及び１０８に関して上述したような、任意の適当な種類の反射型結像器であってよい。

既に述べたように、本明細書において、ＰＢＳから反射した結像光に対して高有効解像度を達成するためには、ＰＢＳの反射性偏光子は特に光学的に平坦でなければならない。ここで、本明細書は、多層光学フィルムである、光学的に平坦な反射性偏光子の製造方法、及び／又は光学的に平坦な偏光ビームスプリッタの製造方法を提供する。

そのような方法の１つが図４のフローチャートに示されている。この方法は、多層光学フィルム４１０を準備すること、及び平面基板４２０を準備することから開始される。多層光学フィルム４１０は、上述した物品に関して説明した多層光学フィルムと同様のものであってよい。平面基板は、アクリル、ガラス、又は他の適当なプラスチックなどの、任意の数の適当な材料であってよい。最も重要なことは、基板４２０は少なくとも偏光ビームスプリッタに必要とされるのと同程度の光学的な平坦度を有していなければならず、かつ、その基板の表面に湿潤溶液を行き渡らせることが可能でなければならない。それ故、他のプラスチック、無機ガラス、セラミック、半導体、金属又はポリマー類が適当な材料となる場合がある。加えて、基板はわずかに可撓性であることが有用である。

次の工程において、平面基板の表面４２５を、多層光学フィルムの第１表面に着脱自在に取り付ける。少なくとも１つの実施形態において、着脱自在な取り付けを形成するために、平面基板の表面４２５若しくは多層光学フィルムの第１表面のどちらか、又はその両方を湿潤剤で湿潤させ、溶液４３０の薄い層にする。好適な湿潤剤は、基材又はフィルムを湿潤させるのに十分に低い表面エネルギー及び室温で蒸発可能な十分に高い蒸気圧を有しているべきである。いくつかの実施形態では、イソプロピルアルコールを湿潤剤として用いる。少なくともいつくかの実施形態において、湿潤剤は少なくとも少量の界面活性剤を含有する（例えば、１容量％未満）水溶液である。界面活性剤は、一般的な市販の工業用湿潤剤、又は更に食器用洗剤などの家庭用の材料でもよい。他の実施形態では、蒸発の際に残渣を残さない、アンモニア、酢、又はアルコールなどの化合物の水性混合物であってもよい。湿潤剤は、（例えば、スプレー瓶からの）噴霧などを含む、適当な方法により塗布されてよい。次の工程では、多層光学フィルムは、溶液４３０がフィルムと基板との間に挟み込まれるように、基板４２５の表面に取り付けられる。典型的には、多層光学フィルムの接触表面にも湿潤剤を塗布する。その後、スキージなどの加圧器４３５を、多層光学フィルム４１０上全体で引きずり、光学フィルム４１０を、基板４２０の表面４２５にぴったりと平坦化され、これら２つを分離する溶液４３０の薄く、極めて均一な層のみが残るようにする。少なくともいくつかの実施形態において、初めに、基板４２０に塗布されている表面４４０とは反対の側で、多層光学フィルムに保護層を塗布してよい。ここで、この構造体を、溶液４３０を蒸発させるために放置する。押し付け処理では、少量のみが残るように、残留水を多層光学フィルムの縁を越えて押し出す。次に、多層光学フィルム、平面基板、及び湿潤剤を乾燥させる。時間の経過と共に、層４１０若しくは４２０を通して、又は蒸発の起き得る層４１０の縁への、層４１０と４２０との間の空間に沿ったウィッキングによってか、のどちらかで、湿潤溶液の揮発成分の全てが蒸発する。このプロセスが起きるにつれ、多層光学フィルム４１０は、層４１０が表面４２５にぴったりと適合するまで、基板４２０のより近くへと引っ張られていく。図４の次の工程にその結果が示されている。乾燥によりフィルム４１０が基板４２０にぴったりと引っ張られ、多層光学フィルムの底面４４０が効果的に平坦化されている。一旦この平坦度が達成されると、多層光学フィルム４１０は安定して平坦なまま残るが、基板に着脱自在に取り付けられる。ここで、フィルム４１０の露出面に、永久基板を付着させてもよい。

図５は、偏光ビームスプリッタの最終的な構造体の提供において行われる場合がある更なる工程を示す。例えば、接着剤５５０を、フィルム４１０の平坦化した表面４５０に塗布してもよい。接着剤は、ＰＢＳの光学的又は機械的性能に悪影響を及ぼさない任意の適当な接着剤であってよい。いくつかの実施形態では、接着剤は、Ｎｏｒｌａｎｄ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｉｎｃ．（Ｃｒａｎｂｕｒｙ，ＮＪ）製のＮＯＡ７３、ＮＯＡ７５、ＮＯＡ７６又はＮＯＡ７８などの硬化性光学接着剤であってよい。他の実施形態においては、光学エポキシを使用してもよい。いくつかの実施形態では、接着剤は感圧性接着剤であってよい。次に、永久第２基板を準備することができる。１実施形態において、永久第２基板はプリズムであってよい。図５に示されているように、プリズム５６０は接着剤５５０に対して取り付けられ、この構造体は、必要に応じて、硬化される。ここで、フィルム４１０は、基板４２０から取り除かれてよい。少なくとも１つの実施形態において、フィルム４１０は、典型的には、基板４２０をわずかに曲げて、フィルム４１０を基板４２０から解放させることによって、基板４２０から剥がし取られる。紫外線接着剤又はエポキシなどの硬化接着剤に対しては、新たに露出したフィルム４４０の底面は、基板４２０の平坦度を保持する。感圧性接着剤に対しては、フィルム４４０の底面は、基板４２０の平坦度を保持するか、又は平坦度を維持するために更なる処理を必要とする場合がある。一旦、フラットフィルムの表面４４０が出来上がると、接着剤の第２層５７０をフィルム４４０の底面に取り付け、第２プリズム又は他の永久基板５８０を接着剤へ取り付けてよい。必要であれば、再び構造体を硬化させ、偏光ビームスプリッタが完成する。

光学的に平坦な偏光ビームスプリッタを製造する他の方法として、特に感圧性接着剤の使用が挙げられる。適当な手法により、多層光学フィルムをプリズムの平坦面にぴったりと適合させることができる。次の工程を含むことができる。初めに、多層光学フィルムが準備される。多層光学フィルムは反射性偏光子として機能する。この多層光学フィルムは、表面４４０が、図４に示される工程を経て、既に実質的に平坦化されていなくてもよいという点を除いて、図５の反射性偏光子光学フィルム４１０と同様であってよい。感圧性接着剤の層（ここでは、接着剤層５５０に対応する）は、多層光学フィルムの第１表面４４０へ塗布されてよい。次に、多層光学フィルム４１０とは反対の側で、プリズム５６０を感圧性接着剤層接着剤層に対して取り付けてよい。この方法は、接着剤の第２層（例えば、層５７０）を、第１表面４４０とは反対の側である、フィルムの第２表面５７５に塗布することを含んでもよい。その後、層５７０の、フィルム４１０とは反対の側に第２プリズム５８０を取り付けてよい。本発明の方法は、ＰＢＳからの結像された反射の解像度が向上するように、更に反射性偏光子／プリズム接合面の平坦度を向上させる、この方法の改良版を提供する。感圧性接着剤５５０をプリズム５６０と多層光学フィルム４１０との間に塗布した後、その構造体に真空を加える。これは、例えば、この構造体を、従来の真空ポンプを備えた真空槽の中に配置することによって実施することができる。真空槽を所与の圧力まで減圧し、試料を所与の時間（例えば５〜２０分）、その圧力下で保持してよい。真空槽に空気が再導入されたとき、空気圧によりプリズム５６０と多層光学フィルム４１０は共に押し合わせられる。第２接着剤層及び第２プリズムがまた取り付けられた場合は、任意で、槽において真空を加える処理を、（例えば、層５７０における）第２接合面に対して繰り返してもよい。プリズム／ＭＯＦ組立体に対して真空を加えることにより、結像光がＰＢＳから反射するときに、高い有効解像度を提供するＰＢＳがもたらされる。真空処理の代わりに、又は真空処理と共に、熱／圧力処理が使用されてもよい。処理は、２回以上行うことが有利である場合がある。

材料及びその供給源の次の一覧は、実施例全体にわたって参照される。他に指定がない場合、材料は、Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ（Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，ＷＩ）から入手可能である。多層光学フィルム（ＭＯＦ）を概して、例えば、米国特許番号第６，１７９，９４８号（Ｍｅｒｒｉｌｌら）、同第６，８２７，８８６号（Ｎｅａｖｉｎら）、米国特許出願公開第２００６／００８４７８０号（Ｈｅｂｒｉｎｋら）、同第２００６／０２２６５６１号（Ｍｅｒｒｉｌｌら）、及び同第２００７／００４７０８０号（Ｓｔｏｖｅｒら）に従って調製された。

粗さ測定法
粘土上にプリズムを配置し、プランジャレベラ（plungerleveler）を用いて水平にした。地形図を１０倍の対物レンズ及び０．５倍の視野レンズ、並びに以下の設定、つまり、個別地図の６行及び５列を使用して縫い合わせられた４ｍｍ×４ｍｍの走査面積、１．８２μｍのサンプリングを有する２１９６×２１９６画素のＶＳＩ検出、６０〜１００前方走査長を有する３０〜６０マイクロメートルの裏面走査長、２％の変調検出閾値を使用した傾斜及び球体補正を有する、Ｗｙｋｏ（登録商標）の９８００光学干渉計（Ｖｅｅｃｏ Ｍｅｔｒｏｌｏｇｙ，Ｉｎｃ．（Ｔｕｃｓｏｎ，ＡＺ）から入手可能）で測定した。１０μｍの後走査長で自動走査検出を９５％有効にした（この短い後走査長はデータ収集における表面下反射を回避した）。

各プリズムの斜辺面の中心領域において、４ｍｍ×４ｍｍの領域を測定した。具体的には、各領域の表面微細構成を測定して、プロットし、粗さパラメータＲａ、Ｒｑ及びＲｚを計算した。プリズム毎に１つの測定領域を得た。各場合において、３つのプリズム試料を測定し、粗さパラメータの平均及び標準偏差を決定した。

実施例１：湿式適用方法
反射偏光多層光学フィルム（ＭＯＦ）を、次の方法で、光学的に平坦な基板に着脱自在に配置した。初めに、水中におよそ０．５％の中性食器用洗剤を含む湿潤溶液をスプレー瓶に入れた。およそ６ｍｍの高光沢アクリルのシートを得、クリーンフード内で一方の側から保護層を取り除いた。表面全体が湿潤するように、露出したアクリル表面を湿潤溶液で噴霧した。別途、ＭＯＦ片を得、そのスキン層の一方をクリーンフード内で取り除いた。ＭＯＦの露出面を湿潤溶液で噴霧し、ＭＯＦの露出面をアクリルシートの湿潤面に接触させた。ＭＯＦへの損傷を防ぐために、重剥離ライナーをＭＯＦの表面に取り付け、３Ｍ（商標）ＰＡ−１アプリケータ（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から入手可能）を用いて、アクリルの表面にＭＯＦを押し付けた。これにより、ほとんどの湿潤溶液が、２つの湿潤面の間から排出された。この後、第２スキン層をＭＯＦから取り除いた。取り付け済みＭＯＦの検査により、ＭＯＦの表面はアクリルの表面よりも凹凸が激しいことが示された。２４時間後に再度検査を行った際、ＭＯＦ表面の平坦度はアクリルシートと同程度であることが観察された。この観察された経時的な平坦化は、残留湿潤溶液が２つの表面の間から蒸発して、ＭＯＦをアクリルの表面にぴったりと適合させることができることと一貫性がある。ＭＯＦは、ぴったりとかつ安定してアクリルの表面に適合しているにも関わらず、アクリルの表面からＭＯＦを剥がすことで、このＭＯＦを簡単に取り除くことができた。

結像ＰＢＳは、Ｎｏｒｌａｎｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｄｈｅｓｉｖｅ ７３（Ｎｏｒｌａｎｄ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ（Ｃｒａｎｂｕｒｙ，ＮＪ）から入手可能）を少量、ＭＯＦの表面上に塗布することによって用意された。１０ｍｍ、４５°斜辺のＢＫ７研磨済みガラス製プリズムを、接着剤に気泡が入り込まないように、ゆっくりと接着剤に接触するように配置した。接着剤の量は、プリズムを接着剤上に配置するときに、プリズムの縁まで流れ出るのに十分ではあるが、プリズムの周囲を越えて接着剤が大量にあふれ出るほどには多くない程度の接着剤が存在するように選択された。結果として、プリズムはＭＯＦの表面に対して実質的に平行となり、かつ、ほぼ均一な厚さの接着剤層によって分離された。

紫外線硬化ランプを使用し、プリズムを通して、接着剤層を硬化させた。硬化後、プリズムより大きく、かつ、プリズムを有したＭＯＦの切片をアクリル基板から剥がし取った。アクリル板を曲げることにより、堅いプリズムとＭＯＦの複合体をアクリル板からより容易に分離でき、取り除きやすくなった。プリズム／ＭＯＦ複合体の検査により、アクリル板から取り除かれたにも関わらず、ＭＯＦは平坦度を維持していることが示された。

その後、「粗さ測定法」で記載したように、ＭＯＦの粗さパラメータが測定された。次の表に報告する。

少量のＮｏｒｌａｎｄ ｏｐｔｉｃａｌ ａｄｈｅｓｉｖｅをプリズム／ＭＯＦ複合体のＭＯＦ表面に塗布した。第２の１０ｍｍ、４５°のプリズムを作製し、その斜辺を接着剤に接触するように配置した。第２プリズムを、その主軸と副軸が第１プリズムの主軸と副軸と実質的に平行になるように、整列させ、２つの斜辺面は実質的に同一の広がりを持っていた。紫外線硬化ランプを用いて、第２の４５°プリズムがプリズム／ＭＯＦ複合体に接着されるように、接着剤層を硬化させた。得られた構成は偏光ビームスプリッタであった。

実施例２：熱及び圧力を使用するＰＳＡ方法
３Ｍ（商標）Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ ８１４１（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から入手可能）の試料を採取し、ロールラミネート処理を用いて反射偏光ＭＯＦに積層することにより、接着剤構造体を形成した。この接着剤構造体の１片を、実施例１で使用したものと同様のガラス製プリズムの斜辺に付着させた。得られたＭＯＦ／プリズム複合体をオートクレーブ炉内に配置し、６０℃、５５０ｋＰａ（８０ｐｓｉ）で２時間処理した。試料を取り除き、少量の熱硬化性光学エポキシをＭＯＦ／プリズム複合体のＭＯＦ表面に塗布した。実施例１と同様に、プリズムを整列させた。その後、試料を炉に戻し、再び６０℃、５５０ｋＰａ（８０ｐｓｉ）で、今度は２４時間処理した。得られた構成は偏光ビームスプリッタであった。

実施例２Ａ：熱及び圧力を使用するＰＳＡ方法から生じる粗さ
実施例２の方法を用いて作製されたＭＯＦの粗さを、次のように判定した。１７ｍｍ×１７ｍｍのＭＯＦ片を、１７ｍｍの幅を有するガラス製の立方体に、ハンドローラーを用いて積層した。このガラス製の立方体は約０．２５λの平坦度（λ＝６３２．８０ｎｍ（光の基準波長））を有していた。ロールラミネート済みＭＯＦを、６０℃、５５０ｋＰａ（８０ｐｓｉ）で２時間オートクレーブ炉でアニールした。Ｚｙｇｏ干渉計（Ｚｙｇｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｄｄｌｅｆｉｅｌｄ，ＣＴ）から入手可能）を用い、λ＝６３２．８０ｎｍの波長を有する光を用いて、ロールラミネート済みＭＯＦの平坦度を測定した。Ｚｙｇｏ干渉計により、ＰＶ粗さ（peak to valley roughness）が報告された（傾き補正は使用されたが、球面補正は適用されていない）。１７ｍｍ×１７ｍｍ領域にわたって計測したＰＶ粗さは、１．４７５λ、又は約９３３ｎｍと判定された。

実施例３：真空を使用するＰＳＡ方法
実施例２の接着剤構造体片を、実施例２と同様の方法で、ガラス製プリズムに付着させた。得られたプリズム／ＭＯＦ複合体を、従来の真空ポンプを備えた真空槽の中に配置した。槽を７１ｃｍ（２８インチ）Ｈｇ（９５ｋＰａ）前後まで排気し、その試料を約１５分間、真空下で保持した。

試料を真空槽から取り出し、「粗さ測定法」で記載したように、ＭＯＦの粗さパラメータが測定された。測定値を次の表に報告する。

実施例１の手法及び紫外線光学接着剤を用いて、第２プリズムをプリズム／ＭＯＦ複合体に取り付けた。得られた構成は偏光ビームスプリッタであった。

実施例４：
実施例３のフィルムを、幅７ｍｍ、長さ１０ｍｍ、厚さ１８１マイクロメートルの透明なガラス基板に接着した。３Ｍ（商標）Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ ８１４１（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から入手可能）を使用してフィルムをガラス基板に接着した。接着剤の厚さは１２．５マイクロメートルであった。ガラス基板及びフィルム積層体にローラーニップを通過させた。次に、反射偏光が基板と平行になり、透過偏光が４５°の名目入射角を有するように、積層体を基板に４５°の角度で接着した。ＭＰｒｏ １２０ピコプロジェクタ（同様に３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能）に変更を加え、積層体のフィルム側がＬＣＯＳ結像器に面した状態で、プロジェクタの照明光源からの光が積層体を真っ直ぐに通過してプロジェクタのＬＣｏＳ結像器へと進み、結像器によって選択される光が９０°の角度で反射されるようにした。

比較例Ｃ−１
米国特許第７，２３４，８１６号（Ｂｒｕｚｚｏｎｅら）に従い、偏光ビームスプリッタの構成を作製した。実施例２の接着剤構造体片を、ガラス製プリズムに、ハンドローラーを用いて付着させることにより、ＭＯＦ／プリズム複合体を形成した。

その後、「粗さ測定法」で記載したように、ＭＯＦの粗さパラメータが測定された。次の表に報告する。

実施例１の手法及び紫外線光学接着剤を用いて、第２プリズムをプリズム／ＭＯＦ複合体に取り付けた。得られた構成は偏光ビームスプリッタであった。

性能評価
実施例１、２、３及び比較例Ｃ−１の偏光ビームスプリッタに対し、解像度試験用プロジェクタを用いて、画像の反射能力を評価した。試験用プロジェクタに対して、発揮し得る最良の性能を確認するために、他の実施例で用いられた４５°プリズムのうちの１つからなり、かつ内部全反射（ＴＩＲ）リフレクタとして動作する基準リフレクタを使用した。

２４倍に縮小した試験対象に、アーク灯光源により背後から照光した。試験対象の前面に、これまでの実施例で用いられたものと同一の４５°プリズム（ここでは、照光プリズムと呼ぶ）が取り付けられた。光源から試験対象を通って水平に進む、試験対象からの光は、照光プリズムの一面に入り、（ＴＩＲを介して）斜辺から反射し、プリズムの第２面から出る。プリズムの第２面は、出射光が垂直に方向づけられるように、配向された。基準プリズム、並びに実施例からの種々のＰＢＳが、照光プリズムの第２面上に配置された。基準プリズムの斜辺、並びにＰＢＳ内の反射表面（ＭＯＦ）は、ＭＯＦ又は基準プリズムの斜辺から反射する光が、前方にかつ水平に方向づけられるように配向される。３Ｍ（商標）ＳＣＰ ７１２デジタルプロジェクタ（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から入手可能）から得られた、Ｆ／２．４の投射レンズをＰＢＳ又は基準プリズムの出射面に配置し、試験対象に焦点を戻し、一種の「潜望鏡」配置を形成した。

その後、この光学システムを用い、反射モードで動作させながら、それぞれ異なるＰＢＳの、試験対象を解像する能力を評価した。前記システムにおいては、試験対象のおよそ５ｍｍ×５ｍｍ部分が、対角線約１５０ｃｍ（６０インチ）で投射された。試験対象のこの領域内には、複数の解像度の画像の繰り返しがあった。上部左、底部左、中央部、上部右、及び底部右の投射した画像の異なる位置で試験対象の５つの異なる同一反復を評価した。それぞれの試験対象が、明瞭に解像されるもっとも高い解像度を判定するために評価された。手順によると、最大解像度、並びにそのレベル未満の全ての解像度が解像されることが要求された。（わずかに異なる位置にある）より高い解像度が解像されたにも関わらず、局所的な歪みにより、より低い解像度が解像されない場合があった。このように選択した理由は、ＰＢＳが反射モードで有効に機能するためには、小さな領域だけではなく、全範囲が解像されなければならないからである。

各実施例の複数の試料について、試験が行われた。一度、各ＰＢＳの各位置に対して最大解像度が確認されると、平均及び標準偏差が各種のプリズム（即ち、実施例１〜３、比較例Ｃ−１及び基準プリズム）毎に計算された。「有効解像度」は、平均から標準偏差の２倍を引いたものとして定義された。このメトリックは「ラインペア／ｍｍ」（ｌｐ／ｍｍ）のデータから決定されてから、ｌｐ／ｍｍで表された有効解像度の逆数の１／２として決定された、解像可能な最小画素サイズによって表わされた。この定義は、この解像度が、領域全体における最小の解像度とせいぜい同程度であるという事実によるものである。有効解像度は、特定のＰＢＳセットが信頼性をもって（画像の９５％にわたって）解像することを期待できる最大の解像度を表す。

表１は、本開示内の様々な実施例の測定結果を示し、表２は得られた有効解像度を示す。理解できるように、基準試料は５μｍの画素を解像できる。実施例１のＰＢＳも、５μｍに非常に近い画素を解像できる。実施例２は、少なくとも１２μｍまで解像でき、実施例３のＰＢＳは、７μｍまで解像できる。これら全ての構造体は、少なくともいくつかの反射式結像用途に十分であろう。一方で、比較例Ｃ−１のＰＢＳは、約１８マイクロメートルの画素を解像するにとどまり、反射式結像構造体として手堅い選択とはなりにくいであろう。

いくつかの場合では、偏光ビームスプリッタは、対向する、平行又はほぼ平行な主表面を有するプレートの形態である。かかるビームスプリッタプレートは、薄型であり、画像再生に投射される及び／又は視聴者に表示される高コントラストかつ高解像度の画像をもたらし得る平坦な最外及び内側主表面を有する。偏光ビームスプリッタは、１つ以上の薄型光透過性基板に接着される多層光学フィルム反射性偏光子を含む。透明基板は、ガラスなどの無機材料、若しくはポリマーなどの有機材料、又は無機及び有機材料の組み合わせであってもよい。

図６は、光源６０５、第１結像器６１０、及び偏光ビームスプリッタプレート６２０を含む、偏光サブシステム６００の概略図である。光源６０５は、照光し、第１結像器６１０により受光される、光６２５を放出する。第１結像器６１０は、受光した光を調節し、偏光ビームスプリッタプレート６２０により受光される結像光６１５を放出する。偏光ビームスプリッタプレートは、受光した結像光を反射光６９５として視聴者６８０又はスクリーン６９０に向けて反射する。偏光ビームスプリッタプレート６２０は、第１基板６３０と、第１基板上に配置される多層光学フィルム反射性偏光子６４０と、多層光学フィルム反射性偏光子６４０が第１基板６３０と第２基板６５０との間に配置されるように多層光学フィルム反射性偏光子６４０上に配置される第２基板６５０と、を含む。多層光学フィルム反射性偏光子６４０は、それぞれの接着層６６０及び６７０により第１及び第２基板６３０及び６５０に結合又は接着され、２つの接着層のそれぞれは、本明細書に開示される任意の接着剤であってもよく、又はそれらを含んでもよい。例えば、いくつかの場合では、一方又は両方の接着層６６０及び６７０は、感圧性接着剤、紫外線硬化接着剤、若しくは光学エポキシであってもよく、又はそれらを含んでもよい。偏光ビームスプリッタプレート６２０は、第１最外主表面６２２と、主表面６２２と角度θを形成する反対側の第２最外主表面６２４と、を含み、角度θは、約２０°未満、又は約１５°未満、又は約１０°未満、又は約７°未満、又は約５°未満、又は約３°未満、又は約２°未満、又は約１°未満である。

視聴者６８０又はスクリーン６９０に向かって伝播する反射光６９５は、１５マイクロメートル未満、又は１２マイクロメートル未満、又は１０マイクロメートル未満、又は９マイクロメートル未満、又は８マイクロメートル未満、又は７マイクロメートル未満、又は６マイクロメートル未満、又は５マイクロメートル未満、又は４マイクロメートル未満の有効画素解像度を有する。いくつかの場合では、偏光ビームスプリッタプレート６２０は薄型である。このような場合、第１最外主表面６２２と第２最外主表面６２４との最大離隔距離ｄは、約２ｍｍ未満、又は約１．７５ｍｍ未満、又は約１．５ｍｍ未満、又は約１．２５ｍｍ未満、又は約１ｍｍ未満、又は約０．７５ｍｍ未満、又は約０．５ｍｍ未満である。いくつかの場合では、第１最外主表面６２２及び第２最外主表面６２４は平面である。いくつかの場合では、第１最外主表面６２２及び第２最外主表面６２４の少なくとも一方は非平面である。例えば、いくつかの場合では、第１最外主表面６２２及び第２最外主表面６２４の少なくとも一方は、一般に図７に概略的に示すように、曲線部分を含み、又は凹状若しくは凸状である。いくつかの場合では、第１最外主表面６２２及び第２最外主表面６２４の少なくとも一方は、偏光ビームスプリッタプレート６２０から離れる方向又はプレート６２０に向かう方向に湾曲する。

基板６３０及び６５０のそれぞれは、用途に望ましいであろう任意のタイプの基板であってもよい。例えば、基板６３０及び６５０としては、ガラス又はポリマーが挙げられ得る。基板６３０及び６５０は、それぞれ基板内に埋め込まれた又は主要内部接合面がないことを意味する、単一層であってもよい。いくつかの場合には、第１基板６３０及び第２基板６５０の少なくとも一方は、２つ以上の層を含み得る。いくつかの場合には、基板６３０及び６５０は、基板が相互に直交する３方向に沿って実質的に等しい屈折率を有することを意味する、光学的等方性である。いくつかの場合には、基板６３０及び６５０は、非常に低い光散乱特性を有する。例えば、このような場合、基板６３０及び６５０のそれぞれは、約５％未満、又は約４％未満、又は約３％未満、又は約２％未満、又は約１％未満、又は約０．５％未満の拡散透過を有する。本明細書で使用するとき、拡散透過は、コリメートされた垂直光入射について２°の半角円錐外に透過される光を指す。

第１結像器６０５は、用途に望ましいであろう本明細書に開示される任意の第１結像器であってもよい。例えば、いくつかの場合では、第１結像器６０５は、ＬＣＯＳ結像器を含んでもよく、又はＬＣＯＳ結像器であってもよい。いくつかの場合では、偏光サブシステム６００は、光の結像後に偏光ビームスプリッタプレート６２０から光を受光し、光６９５として視聴者又はスクリーンに向けて投射する、投射レンズ６７５を含む。いくつかの場合では、多層光学フィルム反射性偏光子６２０は、４５ｎｍ未満の表面粗さＲａ若しくは８０ｎｍ未満の表面粗さＲｑ、又は４０ｎｍ未満の表面粗さＲａ若しくは７０ｎｍ未満の表面粗さＲｑ、又は３５ｎｍ未満の表面粗さＲａ若しくは５５ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する。

偏光サブシステム６００は、用途に望ましいであろう任意のシステムに組み込まれてもよい。例えば、いくつかの場合では、３次元画像プロジェクタは偏光サブシステム６００を含む。光源６０５は、本明細書に開示される任意のタイプの光源であってもよく、又はそれらを含んでもよい。いくつかの場合では、光源６０５は１つ以上のＬＥＤを含む。いくつかの場合では、投射システムは投射サブシステム６００を含み、第１結像器６１０は画素化されていて複数の画素を含む。画素は、画素の行及び列を形成する画素の規則的配列を形成し得る。投射システムは、スクリーン上に複数の画素で画素の画像を投射する。各画素は、スクリーン上の期待位置、スクリーン上の期待面積、スクリーン上の実位置、及びスクリーン上の実面積を有する。いくつかの場合には、各画素のスクリーン上の実位置は、画素の期待位置を中心にするとともに、画素の期待面積の１００倍未満、又は７５倍未満、又は５０倍未満、又は２５倍未満、又は１５倍未満、又は１０倍未満、又は５倍未満、又は２倍未満の実面積を有する、円の内部にある。いくつかの場合では、投射された画素のスクリーン上の実面積は、投射された画素のスクリーン上の期待面積の１０倍未満、又は７倍未満、又は５倍未満、又は３倍未満、又は２倍未満である。

図８は、反射型結像システム８００の概略図であり、光源６０５により放出された光６２５は、偏光ビームスプリッタプレート６２０により結像器６１０に向けて透過され、結像器により結像光６１５としてスプリッタプレートに向けて反射され、スプリッタプレートは結像光を反射光６９５として視聴者６８０に向けて反射する。多層光学フィルム反射性偏光子６４０は実質的に平坦であるため、反射される結像光６９５は、大きく改善された有効画素解像度を有する。図９は、透過型結像システム９００の概略図であり、光源６０５により放出された光６２５は、偏光ビームスプリッタプレート６２０により結像器６１０に向けて反射され、結像器により結像光６１５としてビームスプリッタプレートに向けて反射され、ビームスプリッタプレートは結像光を透過光６９５としてスクリーン６９０（又は図８のシステム８００と同様に視聴者６８０）に向けて透過する。多層光学フィルム反射性偏光子６４０は実質的に平坦であるため、ビームスプリッタプレートにより結像器に向けて反射される光は、大きく改善された均一性を備えて結像器を照光する。図１０は、反射−透過型結像システム１０００の概略図であり、結像光源１００５により放出された結像光６１５は、偏光ビームスプリッタプレート６２０により視聴者６８０に向けて反射される。視聴者６８０は、環境光１０２０により送られ、ビームスプリッタプレート６２０により透過される、環境画像も見ることができる。

偏光ビームスプリッタプレート６２０は、本明細書に開示される任意のプロセス又は方法を使用して製造され得る。例えば、偏光ビームスプリッタプレート６２０は、プリズム５６０及び５８０の代わりに基板６３０及び６５０を使用する点を除き、図４及び５に関して開示されるプロセスを使用して構成又は製造され得る。

以下は、本開示の項目の一覧である。
項目１は、
第１結像器と、
結像器から結像光を受光する偏光ビームスプリッタプレートと、を含み、偏光ビームスプリッタプレートが、
第１基板と、
第１基板上に配置される多層光学フィルム反射性偏光子と、
第１最外主表面と、
第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含み、
偏光ビームスプリッタプレートが視聴者又はスクリーンに向けて受光した結像光を反射し、反射された結像光が１２マイクロメートル未満の有効画素解像度を有する、偏光サブシステムである。

項目２は、第２最外主表面が第１最外主表面と約１５°未満の角度を形成する、項目１の偏光サブシステムである。

項目３は、第２最外主表面が第１最外主表面と約１０°未満の角度を形成する、項目１の偏光サブシステムである。

項目４は、第２最外主表面が第１最外主表面と約５°未満の角度を形成する、項目１の偏光サブシステムである。

項目５は、第２最外主表面が第１最外主表面と約２°未満の角度を形成する、項目１の偏光サブシステムである。

項目６は、第１最外主表面と第２最外主表面との間の最大離隔距離が約１．５ｍｍ未満である、項目１の偏光サブシステムである。

項目７は、第１最外主表面と第２最外主表面との間の最大離隔距離が約１ｍｍ未満である、項目１の偏光サブシステムである。

項目８は、第１最外主表面と第２最外主表面との間の最大離隔距離が約０．７５ｍｍ未満である、項目１の偏光サブシステムである。

項目９は、第１最外主表面と第２最外主表面との間の最大離隔距離が約０．５ｍｍ未満である、項目１の偏光サブシステムである。

項目１０は、第１最外主表面及び第２最外主表面の少なくとも一方が曲線部分を含む、項目１の偏光サブシステムである。

項目１１は、第１最外主表面及び第２最外主表面の少なくとも一方が凹状である、項目１の偏光サブシステムである。

項目１２は、第１最外主表面及び第２最外主表面の少なくとも一方が偏光ビームスプリッタプレートから離れる方向に湾曲する、項目１の偏光サブシステムである。

項目１３は、第１最外主表面及び第２最外主表面の少なくとも一方が凸状である、項目１の偏光サブシステムである。

項目１４は、第１最外主表面及び第２最外主表面の少なくとも一方が偏光ビームスプリッタプレートに向かって湾曲する、項目１の偏光サブシステムである。

項目１５は、多層光学フィルム反射性偏光子が接着剤により第１基板に接着される、項目１の偏光サブシステムである。

項目１６は、第１基板がガラスからなる、項目１の偏光サブシステムである。

項目１７は、第１基板がポリマーからなる、項目１の偏光サブシステムである。

項目１８は、第２基板を更に含み、多層光学フィルム反射性偏光子が第１基板と第２基板との間に配置される、項目１の偏光サブシステムである。

項目１９は、多層光学フィルム反射性偏光子が接着剤により第１基板及び第２基板に接着される、項目１８の偏光サブシステムである。

項目２０は、偏光ビームスプリッタプレートが視聴者又はスクリーンに向けて受光した結像光を反射し、反射された結像光が９マイクロメートル未満の有効画素解像度を有する、項目１の偏光サブシステムである。

項目２１は、偏光ビームスプリッタプレートが視聴者又はスクリーンに向けて受光した結像光を反射し、反射された結像光が６マイクロメートル未満の有効画素解像度を有する、項目１の偏光サブシステムである。

項目２２は、第１結像器がＬＣＯＳ結像器を含む、項目１の偏光サブシステムである。

項目２３は、光の結像後に偏光ビームスプリッタから光を受光し、視聴者又はスクリーンに向けて投射する、投射レンズを更に含む、項目１の偏光サブシステムである。

項目２４は、多層光学フィルム反射性偏光子が４５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は８０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する、項目１の偏光サブシステムである。

項目２５は、項目１の偏光サブシステムを含む、３次元画像プロジェクタである。

項目２６は、偏光ビームスプリッタプレートであって、
第１基板と、
第２基板と、を備え、
第１基板と第２基板との間に配置されてそれらに接着される多層光学フィルム反射性偏光子と、
第１最外主表面と、
第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含み、偏光ビームスプリッタプレートが結像光を視聴者又はスクリーンに向けて反射するように構成され、反射された結像光が１２マイクロメートル未満の有効画素解像度を有する、偏光ビームスプリッタプレートである。

項目２７は、偏光ビームスプリッタプレートが結像光を視聴者又はスクリーンに向けて反射するように構成され、反射された結像光が９マイクロメートル未満の有効画素解像度を有する、項目２６の偏光ビームスプリッタプレートである。

項目２８は、偏光ビームスプリッタプレートが結像光を視聴者又はスクリーンに向けて反射するように適応され、反射された結像光が６マイクロメートル未満の有効画素解像度を有する、項目２６の偏光ビームスプリッタプレートである。

項目２９は、第１基板がガラス又はポリマーからなる、項目２６の偏光ビームスプリッタプレートである。

項目３０は、第２基板がガラス又はポリマーからなる、項目２６の偏光ビームスプリッタプレートである。

項目３１は、多層光学フィルム反射性偏光子が感圧性接着剤、紫外線硬化接着剤、又は光学エポキシで第１基板及び第２基板に接着される、項目２６の偏光ビームスプリッタプレートである。

項目３２は、多層光学フィルム反射性偏光子が４５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は８０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する、項目２６の偏光ビームスプリッタプレートである。

項目３３は、第１基板及び第２基板の少なくとも一方が約２％未満の拡散透過を有する、項目２６の偏光ビームスプリッタプレートである。

項目３４は、第１基板及び第２基板の少なくとも一方が約１％未満の拡散透過を有する、項目２６の偏光ビームスプリッタプレートである。

項目３５は、
光源と、
光源から受光した光を結像する第１結像器と、
第１結像器から結像光を受光する偏光ビームスプリッタプレートと、を含み、偏光ビームスプリッタプレートが、
多層光学フィルム反射性偏光子と、
第１最外主表面と、
第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含み、
偏光ビームスプリッタプレートが１２マイクロメートル未満の有効画素解像度で像平面に向けて受光した結像光を反射する、投射サブシステムである。

項目３６は、偏光ビームスプリッタプレートが９マイクロメートル未満の有効画素解像度で像平面に向けて受光した結像光を反射する、項目３５の投射サブシステムである。

項目３７は、偏光ビームスプリッタプレートが６マイクロメートル未満の有効画素解像度で像平面に向けて受光した結像光を反射する、項目３５の投射サブシステムである。

項目３８は、光源がＬＥＤを含む、項目３５の投射サブシステムである。

項目３９は、多層光学フィルム反射性偏光子が４５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は８０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する、項目３５の投射サブシステムである。

項目４０は、項目３５の投射サブシステムを含む投射システムであって、第１結像器が画素化されていて複数の画素を含み、投射システムがスクリーン上に複数の画素で画素の画像を投射し、各画素がスクリーン上の期待位置及び面積を有し、各画素のスクリーン上の実位置が、画素の期待位置を中心にするとともに、画素の期待面積の５０倍未満の面積を有する、円の内部にある、投射システムである。

項目４１は、項目３５の投射サブシステムを含む投射システムであって、第１結像器が画素化されていて複数の画素を含み、投射システムがスクリーン上に複数の画素で画素の画像を投射し、各画素がスクリーン上の期待位置及び面積を有し、各画素のスクリーン上の実位置が、画素の期待位置を中心にするとともに、画素の期待面積の１０倍未満の面積を有する、円の内部にある、投射システムである。

項目４２は、項目３５の投射サブシステムを含む投射システムであって、第１結像器が画素化されていて複数の画素を含み、投射システムがスクリーン上に複数の画素で画素の画像を投射し、各画素がスクリーン上の期待位置及び面積を有し、各画素のスクリーン上の実位置が、画素の期待位置を中心にするとともに、かつ画素の期待面積の５倍未満の面積を有する、円の内部にある、投射システムである。

項目４３は、項目３５の投射サブシステムを含む投射システムであって、第１結像器が画素化されていて複数の画素を含み、投射システムがスクリーン上に複数の画素で画素の画像を投射し、各画素がスクリーン上の期待面積及びスクリーン上の実面積を有し、投射された各画素のスクリーン上の実面積が、投射された画素のスクリーン上の期待面積の５倍未満である、投射システムである。

項目４４は、項目３５の投射サブシステムを含む投射システムであって、第１結像器が画素化されていて複数の画素を含み、投射システムがスクリーン上に複数の画素で画素の画像を投射し、各画素がスクリーン上の期待面積及びスクリーン上の実面積を有し、投射された各画素のスクリーン上の実面積が、投射された画素のスクリーン上の期待面積の２倍未満である、投射システムである。

項目４５は、
第１結像器と、
結像器から結像光を受光する偏光ビームスプリッタプレートと、を含み、偏光ビームスプリッタプレートが、
多層光学フィルム反射性偏光子と、
第１最外主表面と、
第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含み、
偏光ビームスプリッタプレートが視聴者又はスクリーンに向けて受光した結像光を反射し、多層光学フィルム反射性偏光子が４５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は８０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する、偏光サブシステムである。

項目４６は、多層光学フィルム反射性偏光子が４０ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は７０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する、項目４５の投射サブシステムである。

項目４７は、多層光学フィルム反射性偏光子が３５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は５５ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する、項目４５の投射サブシステムである。

項目４８は、フラットフィルムの製造方法であって、
多層光学フィルムを準備する工程と、
一時的な平面基板を準備する工程と、
多層光学フィルムの第１表面を一時的な平面基板に着脱自在に取り付ける工程と、
永久基板を準備する工程であり、永久基板が、第１最外主表面と、第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含む、工程と、
多層光学フィルムの第２表面を永久基板に取り付ける工程と、
多層光学フィルムを一時的な平面基板から取り外す工程と、を含む、方法である。

項目４９は、多層光学フィルムの第１表面を一時的な平面基板に着脱自在に取り付ける工程が、
一時的な平面基板の表面を湿潤剤で湿潤させ、一時的な平面基板の湿潤面を形成する工程と、
多層光学フィルムを一時的な平面基板の表面上に取り付ける工程と、
多層光学フィルムを一時的な平面基板の表面上に押し付ける工程と、
多層光学フィルム、一時的な平面基板、及び湿潤剤を乾燥させる工程と、を含む、項目４８の方法である。

項目５０は、湿潤剤を基板上に噴霧することにより基板の表面を湿潤させる、項目４９の方法である。

項目５１は、湿潤剤が中性洗剤溶液である、項目４９の方法である。

項目５２は、中性洗剤溶液が水溶液中に１％未満の洗剤を含む、項目５１の方法である。

項目５３は、多層光学フィルム、一時的な平面基板、及び湿潤剤を乾燥させる工程が、多層光学フィルムの表面を一時的な平面基板にぴったり合わせる、項目４９の方法である。

項目５４は、多層光学フィルム、一時的な平面基板、及び湿潤剤を乾燥させる工程が、光学フィルムと平面基板との間の湿潤剤を多層光学フィルムの縁に逃がして湿潤剤を蒸発させ、多層光学フィルムと一時的な平面基板との間に真空封着をもたらす工程を含む、項目４９の方法である。

項目５５は、押し付ける工程の前に、平面基板に取り付けられた表面とは反対の側で、多層光学フィルムに保護層が取り付けられる、項目４９の方法である。

項目５６は、多層光学フィルムを一時的な平面基板から取り外す工程が、多層光学フィルムを基板から剥がす工程を含む、項目４８の方法である。

項目５７は、一時的な平面基板がアクリルガラスからなる、項目４８の方法である。

項目５８は、偏光ビームスプリッタプレートの製造方法であって、
項目４８の方法により製造されたフィルムにフィルムの永久基板とは反対側で接着剤を塗布する工程と、
接着剤に対して第２永久基板を取り付ける工程と、を含む、方法である。

項目５９は、構造体を硬化させる工程を更に含む、項目５８の方法である。

項目６０は、硬化が紫外線硬化を含む、項目５９の方法である。

項目６１は、接着剤が光学接着剤を含む、項目５８の方法である。

項目６２は、前に一時的な平面基板に面していた多層光学フィルムの表面が、４５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は８０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する、項目４８の方法である。

項目６３は、光学的に平坦な偏光ビームスプリッタプレートの作製方法であって、
多層光学フィルム反射性偏光子を準備する工程と、
感圧性接着剤の層を多層光学フィルムの第１表面に塗布する工程と、
多層光学フィルムとは反対側の感圧性接着剤層に対して第１基板を取り付ける工程であり、第１基板が、第１最外主表面と、第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含む、工程と、
感圧性接着剤、多層光学フィルム、及び第１基板に真空を加える工程と、を含む、方法である。

項目６４は、
第２接着剤層を多層光学フィルムの第１表面とは反対側の第２表面に塗布する工程と、
第２基板を第２接着剤層の多層光学フィルムとは反対側に取り付ける工程であり、第２基板が、第１最外主表面と、第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含む工程と、を更に含む、項目６３の方法である。

項目６５は、第２接着剤層、多層光学フィルム、及び第２基板に真空を加える工程を更に含む、項目６４の方法である。

項目６６は、構造体を真空槽内に配置することにより構造体に真空を加える、項目６５の方法である。

本発明は、上記の特定の実施例及び実施形態に限定されるものとみなされるべきではなく、そのような実施形態は、本発明の様々な態様の説明を容易にするように詳細に記載されている。むしろ本発明は、添付される特許請求の範囲によって定義される本発明の趣旨及び範囲内に含まれる様々な改変形態、等価の工程、及び代替装置を含む、本発明の全ての態様を包含するものと理解されたい。

Claims (10)

1. 第１結像器と、
   前記結像器から結像光を受光する偏光ビームスプリッタプレートであって、
   第１基板、
   前記第１基板上に配置される多層光学フィルム反射性偏光子、
   第１最外主表面、および、
   前記第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面、
   を含む偏光ビームスプリッタプレートと、を含み、
   前記偏光ビームスプリッタプレートが視聴者又はスクリーンに向けて前記受光した結像光を反射し、前記反射された結像光が１２マイクロメートル未満の有効画素解像度を有する、偏光サブシステム。
2. 前記第１最外主表面と前記第２最外主表面との間の最大離隔距離が約１．５ｍｍ未満である、請求項１に記載の偏光サブシステム。
3. 前記多層光学フィルム反射性偏光子が接着剤により前記第１基板に接着される、請求項１に記載の偏光サブシステム。
4. 前記多層光学フィルム反射性偏光子が、４５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は８０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する、請求項１に記載の偏光サブシステム。
5. 偏光ビームスプリッタプレートであって、
   第１基板と、
   第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に配置されてそれらに接着される多層光学フィルム反射性偏光子と、
   第１最外主表面と、
   前記第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含み、前記偏光ビームスプリッタプレートが結像光を視聴者又はスクリーンに向けて反射するように構成され、前記反射された結像光が１２マイクロメートル未満の有効画素解像度を有する、偏光ビームスプリッタプレート。
6. 光源と、
   前記光源から受光した光を結像する第１結像器と、
   前記第１結像器から結像光を受光する偏光ビームスプリッタプレートであって、
   多層光学フィルム反射性偏光子、
   第１最外主表面、および、
   前記第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面、
   を含む偏光ビームスプリッタプレートと、を含み、
   前記偏光ビームスプリッタプレートが１２マイクロメートル未満の有効画素解像度で像平面に向けて前記受光した結像光を反射する、投射サブシステム。
7. 請求項６に記載の投射サブシステムを含む投射システムであって、前記第１結像器が画素化されていて複数の画素を含み、前記投射システムがスクリーン上に前記複数の画素で前記画素の画像を投射し、各画素が前記スクリーン上の期待位置及び面積を有し、各画素の前記スクリーン上の実位置が、前記画素の前記期待位置を中心にするとともに前記画素の前記期待面積の５０倍未満の面積を有する、円の内部にある、投射システム。
8. 第１結像器と、
   前記結像器から結像光を受光する偏光ビームスプリッタプレートであって、
   多層光学フィルム反射性偏光子、
   第１最外主表面、および、
   前記第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面、
   を含む偏光ビームスプリッタプレートと、を含み、
   前記偏光ビームスプリッタプレートが視聴者又はスクリーンに向けて前記受光した結像光を反射し、前記多層光学フィルム反射性偏光子が４５ｎｍ未満の表面粗さＲａ又は８０ｎｍ未満の表面粗さＲｑを有する、偏光サブシステム。
9. フラットフィルムの製造方法であって、
   多層光学フィルムを準備する工程と、
   一時的な平面基板を準備する工程と、
   前記多層光学フィルムの第１表面を前記一時的な平面基板に着脱自在に取り付ける工程と、
   永久基板を準備する工程であり、前記永久基板が、第１最外主表面と、前記第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含む、工程と、
   前記多層光学フィルムの第２表面を前記永久基板に取り付ける工程と、
   前記多層光学フィルムを前記一時的な平面基板から取り外す工程と、を含む、方法。
10. 光学的に平坦な偏光ビームスプリッタプレートの作製方法であって、
    多層光学フィルム反射性偏光子を準備する工程と、
    感圧性接着剤の層を前記多層光学フィルムの第１表面に塗布する工程と、
    前記多層光学フィルムとは反対側の前記感圧性接着剤の層に対して第１基板を取り付ける工程であり、前記第１基板が、第１最外主表面と、前記第１最外主表面と約２０°未満の角度を形成する反対側の第２最外主表面と、を含む、工程と、
    前記感圧性接着剤、前記多層光学フィルム、及び前記第１基板に真空を加える工程と、を含む、方法。
    

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