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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7566590B2 (ja) * 2020-11-05 2024-10-15 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、及び物品の製造方法

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5117254A (en) * 1988-05-13 1992-05-26 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
JPH05119468A (ja) 1991-10-29 1993-05-18 Nikon Corp マスク検査装置
JPH05297262A (ja) 1992-04-23 1993-11-12 Toshiba Corp オートフォーカス装置
US5602399A (en) * 1993-06-23 1997-02-11 Nikon Corporation Surface position detecting apparatus and method
JPH09270382A (ja) * 1996-03-29 1997-10-14 Canon Inc 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
JPH104053A (ja) * 1996-06-13 1998-01-06 Canon Inc 面位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
US5969820A (en) * 1996-06-13 1999-10-19 Canon Kabushiki Kaisha Surface position detecting system and exposure apparatus using the same
JPH1027743A (ja) * 1996-07-11 1998-01-27 Canon Inc 投影露光装置、デバイス製造方法及び収差補正光学系
JPH10253327A (ja) 1997-03-14 1998-09-25 Komatsu Ltd ピンホール及びこれを用いた共焦点光学装置とホログラムの露光装置及び露光方法
JP2000173112A (ja) * 1998-12-04 2000-06-23 Nikon Corp 螺旋パターンの露光方法
JP4585697B2 (ja) 2001-01-26 2010-11-24 キヤノン株式会社 露光装置及び光源の位置調整方法
JP4279053B2 (ja) 2002-06-07 2009-06-17 富士フイルム株式会社 露光ヘッド及び露光装置
JP4312535B2 (ja) * 2003-08-06 2009-08-12 シャープ株式会社 パターン露光装置
TWI396225B (zh) * 2004-07-23 2013-05-11 尼康股份有限公司 成像面測量方法、曝光方法、元件製造方法以及曝光裝置
JP2006060152A (ja) * 2004-08-24 2006-03-02 Nikon Corp 光学特性測定装置、ステージ装置及び露光装置
JP2007286243A (ja) * 2006-04-14 2007-11-01 Sumitomo Heavy Ind Ltd 露光装置
JP2007294550A (ja) * 2006-04-21 2007-11-08 Nikon Corp 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
US7869022B2 (en) 2007-07-18 2011-01-11 Asml Netherlands B.V. Inspection method and apparatus lithographic apparatus, lithographic processing cell, device manufacturing method and distance measuring system
JP2009164356A (ja) * 2008-01-07 2009-07-23 Canon Inc 走査露光装置およびデバイス製造方法
WO2010005491A1 (en) 2008-06-30 2010-01-14 Corning Incorporated Telecentricity corrector for microlithographic projection system
JP5280305B2 (ja) 2009-06-16 2013-09-04 株式会社日立ハイテクノロジーズ 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP5328512B2 (ja) * 2009-06-24 2013-10-30 富士フイルム株式会社 露光装置
KR20120116329A (ko) 2010-02-20 2012-10-22 가부시키가이샤 니콘 광원 최적화 방법, 노광 방법, 디바이스 제조 방법, 프로그램, 노광 장치, 리소그래피 시스템, 광원 평가 방법 및 광원 변조 방법
NL2006254A (en) * 2010-02-23 2011-08-24 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
JPWO2012115002A1 (ja) * 2011-02-22 2014-07-07 株式会社ニコン 保持装置、露光装置、及びデバイスの製造方法
JP6261207B2 (ja) * 2013-07-02 2018-01-17 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、それらを用いたデバイスの製造方法
JP6590638B2 (ja) * 2015-10-29 2019-10-16 株式会社オーク製作所 露光装置用露光ヘッドおよび露光装置用投影光学系
CN108885408B (zh) 2016-03-30 2021-02-05 株式会社尼康 图案描绘装置

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