JP6320550B2 - コヒーレント回折イメージング方法を使用した、反射モードにおける装置 - Google Patents
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Description
a)前記装置は、光ビームを放射するための、比較的低い時間的又は空間的コヒーレンスを有しうる、EUV光源、DUV光源、BEUV光源、又はX線光源のような放射光源を有し、
b)前記装置は、放射された前記ビームを所期の程度まで集光するために、フレネルプレート又はトロイダルミラーのような第1集光要素を有し、
c)前記装置は、集光された前記ビームを、分析すべき前記試料に向かって反射させるミラーを有し、前記ビームは、前記試料の表面の法線ベクトルに対して2〜25°の角度で、好ましくは約6°の角度で前記試料に向かって方向付けられ、
d)前記装置は、ピンホールアパーチャプレートを有し、前記ピンホールアパーチャプレートは、自身の第1アパーチャを用いて、前記ビームの直径を所期の程度まで集光及び遮断することを可能にし、これによって前記ビームを、前記光源から当初に放射されたビームに比べてより単色に近づくようにし、
e)前記装置は、前記試料の表面の法線ベクトルに対して垂直方向に連続的又は段階的に前記試料を動かすための機構を有しており、前記機構により、前記試料の上流に配置された前記ピンホールアパーチャプレートの前記第1アパーチャを通過した前記光ビームを、例えば上述した好ましい実施例を参照すると6°であるような入射光の角度と同じ角度で反射させる前記試料を、分析することが可能となり、
f)前記ピンホールアパーチャプレートは、第2アパーチャを有し、前記ピンホールアパーチャプレートは、前記第1アパーチャに隣接配置される自身の前記第2アパーチャを用いて、前記試料によって反射された前記ビームの直径を制限することを可能にし、これによって前記光ビームの直径を調整し、
g)前記装置は、前記第2アパーチャを通過した反射ビームを分析するための画素検出器を有する、
ことを特徴とする装置によって解決される。
a)EUV光源、BUV光源、BEUV光源、又はX線光源のような光源10と、
b)表面上に回折格子が設けられた又は設けられていない、フレネルゾーンプレート又はトロイダルミラーのような回折型集光要素12と、
c)オーダーソーティングアパーチャ14(任意選択的要素)と、
d)反射ミラー16(フラット形又はカーブ形)と、
e)例えば分析すべきパターンを有するマスクとすることができる試料6であって、前記試料6は、該試料6の表面の法線ベクトルに対して垂直方向に段階的又は連続的に前記試料6を動かすことが可能な機構17によって支持される、試料6と、
f)ピンホールアパーチャユニット18と、
g)画素検出器20と、
を有する。
Claims (8)
- 試料(6)の空間画像を測定するための走査型コヒーレント回折イメージングシステムを使用した、反射モードにおける装置(2)であって、
前記試料(6)は、DUV、EUV、BEUV、及びX線でのリソグラフィのためのフォトマスクを含み、
a)前記装置(2)は、光ビーム(22)を放射するための、比較的低い時間的又は空間的コヒーレンスを有しうる、EUV光源、DUV光源、BEUV光源、又はX線光源のような放射光源(10)を有し、
b)前記装置(2)は、放射された前記ビームを集光するために、フレネルプレート又はトロイダルミラーのような第1集光要素(12)を有し、
c)前記装置(2)は、集光された前記ビームを、分析すべき前記試料(6)に向かって反射させるミラー(16)を有し、前記ビームは、前記試料(6)の表面の法線ベクトルに対して2〜25°の角度で前記試料(6)に向かって方向付けられ、
d)前記装置(2)は、ピンホールアパーチャプレート(18)を有し、前記ピンホールアパーチャプレート(18)は、自身の第1アパーチャ(a1)を用いて、前記ビームの直径を集光及び遮断することを可能にし、これによって前記ビームを、前記光源(10)から当初に放射された光ビーム(22)に比べてより単色に近づくように形成し、
e)前記装置(2)は、前記試料の表面の法線ベクトルに対して垂直方向に、前記試料(6)を連続的又は段階的に動かすための機構(17)を有し、前記機構(17)により、前記試料(6)の上流に配置された前記ピンホールアパーチャプレート(18)の前記第1アパーチャ(a1)を通過した前記光ビームを、入射光の角度と同じ角度で反射する前記試料(6)を、分析することが可能となり、
f)前記ピンホールアパーチャプレート(18)は、透明窓としての第2アパーチャ(a2)を有し、前記ピンホールアパーチャプレート(18)は、前記第1アパーチャ(a1)に隣接配置される自身の前記第2アパーチャを用いて、前記試料(6)によって反射された前記ビームの直径を制限することを可能にし、これによって前記光ビームの直径を調節し、
g)前記装置(2)は、前記第2アパーチャ(a2)を通過した反射ビームを分析するための画素検出器(20)を有する、
ことを特徴とする装置(2)。 - 前記装置(2)はさらに、演算ユニット(24)を有し、前記演算ユニット(24)は、前記反射モードにおいて前記ビームの透過効果に関連する3次元断層画像を含む、前記試料(6)の空間画像を再構築するために適合されている、
請求項1記載の装置(2)。 - 前記装置(2)はさらに、コヒーレントな光を供給するために薄膜リソグラフィ技術を使用した、複合透明ゾーンプレートと、多層の反射ミラーと、前記ピンホールアパーチャプレートと、前記ピンホールアパーチャプレートのアパーチャとを含む、
請求項1又は2記載の装置(2)。 - 前記装置はさらに、光学系と、オーダーソーティングアパーチャと、前記ピンホールアパーチャプレートとを組み合わせることによって、単色のコヒーレントなビームを調節し、
前記第1アパーチャ(a1)と、前記透明窓である前記第2アパーチャ(a2)とは、ナノメータ厚の膜によって形成される、
請求項1から3のいずれか1項記載の装置(2)。 - 前記透明窓(a2)は、1次の回折ビームを通過させて前記画素検出器(20)に導くように適合されている、
請求項4記載の装置(2)。 - 前記多層の反射ミラー(16)は、結合されたフラットミラー又はカーブミラーであり、前記ピンホールアパーチャプレート(18)の上流又は下流に配置されている、
請求項3から5のいずれか1項記載の装置(2)。 - 前記装置(2)はさらに、前記集光要素(12)と、前記透明窓(a2)と、前記ピンホールアパーチャプレート(18)とを組み合わせることによって、前記光ビームのコヒーレント成分と倍率との双方を制御する、
請求項1から6のいずれか1項記載の装置(2)。 - 前記ピンホールアパーチャプレート(18)の前記第2アパーチャ(a2)は、ゼロ次の前記反射ビームを減衰させるための、減衰要素(28)を含む、
請求項1から7のいずれか1項記載の装置(2)。
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