JP2019066754A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019066754A5 JP2019066754A5 JP2017194038A JP2017194038A JP2019066754A5 JP 2019066754 A5 JP2019066754 A5 JP 2019066754A5 JP 2017194038 A JP2017194038 A JP 2017194038A JP 2017194038 A JP2017194038 A JP 2017194038A JP 2019066754 A5 JP2019066754 A5 JP 2019066754A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- photosensitive resin
- negative photosensitive
- general formula
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims 29
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N precursor Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 14
- 229920001721 Polyimide Polymers 0.000 claims 8
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 8
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims 6
- 125000004435 hydrogen atoms Chemical group [H]* 0.000 claims 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 4
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 claims 3
- 125000004432 carbon atoms Chemical group C* 0.000 claims 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
- 102000014961 Protein Precursors Human genes 0.000 claims 1
- 108010078762 Protein Precursors Proteins 0.000 claims 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims 1
- 230000001747 exhibiting Effects 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 1
Claims (21)
- (A)ポリイミド前駆体と、
(B)光重合開始剤と、
(C)酸、塩基、またはラジカルの作用により重合可能な基を含む化合物と、
を含む、ネガ型感光性樹脂組成物であって、
前記(A)ポリイミド前駆体は、下記一般式(1):
−R3 (2)
(式(2)中、R3は、アルキレンオキシド基を有する1価の有機基である。)で表される基である。}で表される前駆体を含み、そして、
前記(A)ポリイミド前駆体中に含まれる前記一般式(1)で表される前駆体のR1、及びR2の全てに対する、上記一般式(2)で表される1価の有機基の割合が80%を超える、ことを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 - 前記(C)酸、塩基、またはラジカルの作用により重合可能な基を含む化合物は、アルキレンオキシド基を有する、請求項1に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記m1が6〜25である、請求項3又は4に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物中において、前記一般式(3)又は前記一般式(4)で表される化合物全てのm1の平均値の値が6〜25である、請求項3〜5のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記(C)酸、塩基、またはラジカルの作用により重合可能な基を含む化合物は、少なくとも一方の末端に二重結合を有する、請求項2〜6のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記(A)ポリイミド前駆体は、
前記一般式(1)で表され、且つ、前記R1及びR2の少なくともいずれかが前記一般式(2)で表される基を含み、且つ、
前記一般式(2)で表される基を含む前記R1及びR2の末端に二重結合を有する前駆体を含む、請求項1〜10のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。 - 前記ネガ型感光性樹脂組成物中に含まれる全固形分を100質量部としたときに、前記ネガ型感光性樹脂組成物中に含まれる塩基性を示す化合物の量が10質量部以下である、請求項1〜11のいずれか一項に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記ネガ型感光性樹脂組成物中に含まれる前記塩基性を示す化合物の量が5質量部以下である、請求項12に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- ポリイミド前駆体、光重合開始剤、及び溶剤を含むネガ型感光性樹脂組成物であって、
該樹脂組成物を温度23℃、湿度50%Rhで4週間保存した際の樹脂組成物の粘度変化率が初期と比較して5%以内であり、かつ、
該樹脂組成物を180℃で2時間加熱して硬化塗膜を得た際に、該硬化塗膜のイミド化率が70%以上である、ネガ型感光性樹脂組成物。 - 前記樹脂組成物を180℃で2時間加熱して硬化塗膜を得た際に、該硬化塗膜のイミド化率が85%以上である、請求項14に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記ネガ型感光性樹脂組成物中に含まれる全固形分を100質量部としたときに、塩基性を示す化合物の量が10質量部以下である、請求項14又は15に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記塩基性を示す化合物の量が5質量部以下である、請求項16に記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 以下の工程:
(1)請求項1〜17のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物を基板上に塗布して、感光性樹脂層を該基板上に形成する工程と、
(2)該感光性樹脂層を露光する工程と、
(3)該露光後の感光性樹脂層を現像して、レリーフパターンを形成する工程と、
(4)該レリーフパターンを加熱処理して、硬化レリーフパターンを形成する工程と
を含む硬化レリーフパターンの製造方法。 - 請求項18に記載の方法により製造された硬化レリーフパターン。
- 半導体素子と、該半導体素子の上部に設けられた硬化膜とを備える半導体装置であって、該硬化膜は、請求項19に記載の硬化レリーフパターンである、半導体装置。
- 表示体素子と、該表示体素子の上部に設けられた硬化膜とを備える表示体装置であって、該硬化膜は、請求項19に記載の硬化レリーフパターンである、表示体装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017194038A JP7156786B2 (ja) | 2017-10-04 | 2017-10-04 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
JP2022161510A JP7502384B2 (ja) | 2017-10-04 | 2022-10-06 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017194038A JP7156786B2 (ja) | 2017-10-04 | 2017-10-04 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022161510A Division JP7502384B2 (ja) | 2017-10-04 | 2022-10-06 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019066754A JP2019066754A (ja) | 2019-04-25 |
JP2019066754A5 true JP2019066754A5 (ja) | 2020-09-03 |
JP7156786B2 JP7156786B2 (ja) | 2022-10-19 |
Family
ID=66340578
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017194038A Active JP7156786B2 (ja) | 2017-10-04 | 2017-10-04 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
JP2022161510A Active JP7502384B2 (ja) | 2017-10-04 | 2022-10-06 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022161510A Active JP7502384B2 (ja) | 2017-10-04 | 2022-10-06 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、及び半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7156786B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7484527B2 (ja) | 2020-07-22 | 2024-05-16 | Hdマイクロシステムズ株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化物、パターン硬化物の製造方法、及び電子部品 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6610815B1 (en) * | 1999-01-21 | 2003-08-26 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Polyamic acid ester |
JP5128574B2 (ja) | 1999-03-30 | 2013-01-23 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP4449199B2 (ja) | 2000-06-30 | 2010-04-14 | 日立化成工業株式会社 | 感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターンの製造法並びに電子部品 |
CN1980984B (zh) | 2004-07-16 | 2010-06-09 | 旭化成电子材料株式会社 | 聚酰胺 |
JP4776486B2 (ja) | 2006-09-28 | 2011-09-21 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 感光性ポリアミド酸エステル組成物 |
KR101719045B1 (ko) | 2012-05-07 | 2017-03-22 | 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 | 네거티브형 감광성 수지 조성물, 경화 릴리프 패턴의 제조 방법, 및 반도체 장치 |
JP2016199662A (ja) | 2015-04-09 | 2016-12-01 | 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 | ポリイミド前駆体を含む樹脂組成物、それを用いた硬化膜及びパターン硬化膜の製造方法、並びに電子部品 |
WO2017002858A1 (ja) * | 2015-06-30 | 2017-01-05 | 富士フイルム株式会社 | 前駆体組成物、感光性樹脂組成物、前駆体組成物の製造方法、硬化膜、硬化膜の製造方法および半導体デバイス |
JP6643824B2 (ja) | 2015-07-08 | 2020-02-12 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法、並びに半導体装置 |
TW201710390A (zh) * | 2015-08-31 | 2017-03-16 | Fujifilm Corp | 組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法、半導體元件的製造方法及半導體元件 |
TWI625232B (zh) | 2016-02-26 | 2018-06-01 | Fujifilm Corp | 積層體、積層體的製造方法、半導體元件以及半導體元件的製造方法 |
-
2017
- 2017-10-04 JP JP2017194038A patent/JP7156786B2/ja active Active
-
2022
- 2022-10-06 JP JP2022161510A patent/JP7502384B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2019163463A5 (ja) | ||
JP6756729B2 (ja) | 新規シロキサンポリマー組成物及びそれらの使用 | |
JP2017125220A5 (ja) | ポリイミド材料およびその製造方法 | |
JP2013137513A5 (ja) | ||
TWI620798B (zh) | 用於形成二氧化矽類層的組成物、用於製造二氧化矽類層的方法以及電子裝置 | |
TWI595314B (zh) | Photocurable resin composition, photocurable dry film, pattern forming method, film for protecting electric / electronic parts and electric / electronic parts | |
TW201111917A (en) | Method and materials for reverse patterning | |
JP2009258722A5 (ja) | ||
JPWO2020031958A5 (ja) | ||
JP2014160199A5 (ja) | ||
TWI646118B (zh) | 樹脂組成物 | |
JP2008020838A5 (ja) | ||
JP2017031040A (ja) | シリカ膜形成用組成物、シリカ膜の製造方法およびシリカ膜 | |
JPWO2020031976A5 (ja) | ||
JP2015018226A (ja) | 低温硬化可能なネガ型感光性組成物 | |
JP2018123103A5 (ja) | ||
JP2009115835A5 (ja) | ||
JPWO2020044918A5 (ja) | ||
JP2020091464A5 (ja) | ||
JP2011164216A5 (ja) | ||
TWI835933B (zh) | 非晶矽犧牲膜之製造方法及非晶矽形成組成物 | |
JP2019066754A5 (ja) | ||
JP2021162834A5 (ja) | ||
TW201816516A (zh) | 負型感光性樹脂組成物及其用途 | |
JPWO2021187481A5 (ja) |