JP2019064906A - ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布方法、ガラスびん製造装置、および、ガラスびん製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 作業者の手作業による仕上型への離型剤塗布作業を不要にし、離型剤塗布作業にかかる作業者の負担を低減すると共に離型剤塗布にける作業者の安全性をより向上でき、離型剤塗布作業によるガラスびん成形の停止時間を短くでき、仕上成形における離型剤の塗布位置の変化や塗布量等のばらつきを低減でき、さらに、仕上型への離型剤塗布に適した構成を提供することにより、ガラスびんの品質安定化に貢献する。【解決手段】離型剤塗布装置４０は、仕上型３１に設けられた仕上型成形面３１ｆの一部、および、仕上型３１の下部に配置される底型３２に設けられた底型成形面３２ｆの全面、のうちの少なくともいずれかに離型剤を塗布するように構成されている。【選択図】 図３

Description

本発明は、ガラスびん仕上成形用金型（仕上型および底型）への離型剤塗布装置、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布方法、ガラスびん製造装置、および、ガラスびん製造方法に関する。

ガラスびんの製造工程では、通常、粗型でゴブ（高温の溶融状態のガラス塊）がパリソンに成形される。次いで、パリソンが仕上型に移送され、下部に底型が配置された仕上型においてパリソンが圧縮空気で膨らまされることで最終成形される。これにより、ガラスびんの成形が完了する。仕上型及び底型においては、離型性が大きく求められ、離型剤を塗布することが重要である。よって、離型剤は、離型性の低下を防止するため、例えば数十分毎に定期的に金型内面に塗布される必要がある。離型剤を塗布するための構成として、特許文献１に記載の構成を例示できる。

特表２００９−５３８８１８号公報

仕上型及び底型において、離型剤の不足により離型性が低下すると、仕上型の割型が開かれる際にガラスびんに大きな負荷がかかり、ガラスびんにクラックが入るおそれがある。このようなクラックは、ガラスびんの割れの原因となるため、クラック発生前の製品の再検査実施やクラックの入った製品の破棄等、大きな損失につながる。

このようなクラック発生防止のための離型剤の塗布作業は、高速で動作する製びん機を停止させずにびん成形の合間に行われる。そのため、離型剤の塗布作業が手作業で行われる場合、塗布作業の教育が難しく、作業者の技量に大きな差が生じる。そして、このような技量差に起因して、ガラスびんの品質が変化するおそれがある。また、場合によっては、離型剤塗布のために製びん機を停止させる必要がある。

また、仕上型及び底型への離型剤塗布作業は、ガラスびんの構造によっては離型剤の塗布箇所が多く、その上、通常、仕上型は製品が搬送されるコンベアの奥にあるため、高温作業となり、手作業の場合には作業者への負担が大きい傾向にある。

一方で、特許文献１に開示されている離型剤塗布装置も存在する。この離型剤塗布装置は、可動吹き付け管によって、金型キャビティの全面に均一の油被膜を形成するように構成されている。

しかしながら、仕上型内面のうち、離型剤が必要な箇所は一律ではなく、上記の離型剤塗布装置では、このような仕上型の特性に合致した離型剤塗布作業は行えない。

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、作業者の手作業による仕上型及び底型への離型剤塗布作業を不要にし、離型剤塗布作業にかかる作業者の負担を低減すると共に離型剤塗布における作業者の安全性をより向上でき、離型剤塗布作業によるガラスびん成形の停止時間を短縮でき、仕上成形における離型剤の塗布位置の変化や塗布量等のばらつきを低減でき、さらに、仕上型への離型剤塗布に適した構成を提供することにより、ガラスびんの品質安定化に貢献することを目的とする。

（１）上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わるガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置は、仕上型に設けられた仕上型成形面の一部、および、この仕上型の下部に配置される底型に設けられた底型成形面の全面、のうちの少なくともいずれかに離型剤を塗布するように構成されている。

この構成によると、仕上型及び底型への離型剤塗布は、塗布装置によって行われる。その結果、作業者の手作業による仕上型及び底型への離型剤塗布作業が不要になるため、製びん作業にかかわる作業者の負担を低減できると共に離型剤塗布における作業者の安全性をより向上できる。また、機械動作による迅速な離型剤塗布作業を実現できるため、離型剤塗布によるガラスびん成形の停止時間を短縮できる。さらに、手作業での離型剤の塗布作業と比べて、塗布装置による離型剤の塗布作業であれば、仕上型及び底型への離型剤の塗布位置の変化や塗布量等のばらつきを低減できる。その上、仕上型に設けられた仕上型成形面の一部、および、この仕上型の下部に配置される底型に設けられた底型成形面の全面、のうちの少なくともいずれかに、離型剤が塗布される。この構成であれば、仕上型のうち離型性が特に必要な箇所に離型剤を十分に塗布しつつ、特に必要とされない箇所への離型剤塗布を最小限にできる。これにより、離型剤の過多によるガラスびんへの悪影響を防止できるので、仕上型への離型剤塗布に適した構成を実現でき、その結果、ガラスびんの品質安定化に貢献できる。

（２）前記塗布装置は、前記離型剤を噴霧するノズルを備え、前記仕上型成形面は、ガラスびんの首部を成形するための首部成形面、前記首部成形面の下方に配置されて前記ガラスびんの肩部を成形するための肩部成形面、および、前記肩部成形面の下方に配置されて前記ガラスびんの胴部を成形するための胴部成形面の一部に設けられて前記ガラスびんの前記胴部に対して凹凸形状を有する彫刻部を成形するための彫刻部成形面、を含み、前記ノズルが、前記首部成形面、前記肩部成形面、前記彫刻部成形面、および、前記仕上型のうち口型と対向するとともに前記首部成形面に隣接して設けられた対向面、のうちの少なくともいずれかと、前記底型成形面の全面と、に前記離型剤を塗布するよう構成されている場合がある。

この構成によると、ノズルによって、底型成形面の全面とともに、首部成形面、肩部成形面、彫刻部成形面、および、仕上型における口型への対向面、のうちの少なくともいずれかに対して、離型剤が塗布される。このため、この構成によると、底型成形面の全面に離型剤を塗布できるとともに、仕上型のうち、離型性が特に必要とされる箇所へ、より確実に離型剤を塗布することができる。

（３）前記塗布装置は、前記ノズルが、前記仕上型のうち口型と対向するとともに前記首部成形面に隣接して設けられた対向面と、前記首部成形面とに対して、前記離型剤を塗布するように構成されている場合がある。

この構成によると、口型への対向面と首部成形面とに離型剤を塗布することができるため、ガラスびんにおける口部と首部との境界部に大きな負荷がかかることが抑制され、口部と首部との境界部のクラックの発生を抑制できる。よって、この構成によると、仕上型のうち、離型性が特に必要とされる箇所へ、より確実に離型剤を塗布することができることに加えて、口部と首部の境界部にクラックが発生することを抑制することができる。

（４）前記塗布装置は、前記ノズルとして、複数の異なる方向に向けて前記離型剤を噴霧する多方向ノズルを備え、前記多方向ノズルが、前記首部成形面、前記肩部成形面、前記彫刻部成形面、および、前記仕上型のうち前記口型と対向するとともに前記首部成形面に隣接して設けられた対向面、のうちの少なくともいずれかと、前記底型成形面の全面と、の両方に対して、前記離型剤を塗布するように構成されている場合がある。

この構成によると、離型剤の塗布作業をより迅速にできる。また、首部成形面、肩部成形面、彫刻部成形面、および、仕上型における口型への対向面、のうちの少なくともいずれかと、底型成形面の全面と、の複数箇所に、ノズルにおける異なる位置に配置された噴霧口から離型剤が塗布される。これにより、単一ノズルによって、首部成形面、肩部成形面、彫刻部成形面、および、仕上型における口型への対向面、のうちの少なくともいずれかと、底型成形面の全面と、のそれぞれに対して離型剤を塗布する場合と異なり、離型剤塗布時にノズルの向きを変える動作が不要となり、離型剤の塗布位置の変化や塗布量等のばらつきを低減でき、ガラスびんの品質安定化に貢献できる。

（５）前記塗布装置は、前記仕上型の一対の割型が閉じられた状態のときに前記離型剤を塗布するように構成されている場合がある。

この構成によると、仕上型内の各部のうち離型剤が塗布される箇所と、ノズルとの距離がより均等な状態で離型剤を塗布できる。さらに、仕上型の外部へ離型剤が飛散することをより確実に抑制できる。

（６）前記塗布装置は、パリソンが前記仕上型に挿入されていないタイミングで前記離型剤を塗布するように構成されている場合がある。

この構成によると、塗布装置から仕上型に塗布される離型剤がパリソンに直接付着することを抑制できる。

（７）前記塗布装置は、前記仕上型の一対の割型が開かれたときに前記底型のうち前記仕上型と前記底型との摺動面に前記離型剤を塗布するように構成されている場合がある。

この構成によると、塗布装置は、仕上型と底型との摺動面に離型剤を塗布することができる。これにより、仕上型と底型との摺動がスムーズになり、その結果、仕上型で成形されたガラスびんに過剰な力が作用することを抑制できる。

（８）前記塗布装置は、口型が前記仕上型の上方に配置されているときに前記仕上型に前記離型剤を塗布することで、前記口型および前記仕上型へ同時に前記離型剤を塗布するように構成されている場合がある。

この構成によると、塗布装置は、仕上型へ離型剤を塗布するときに、併せて口型にも離型剤を塗布できる。また、この構成であれば、塗布装置から口型へ塗布される離型剤が粗型の下方に配置されているプランジャー等、離型剤の付着が好ましくない箇所への付着をより確実に抑制できる。これにより、パリソンの内面汚れや内面異物の発生、すなわち、ガラスびんの内面汚れや内面異物の発生を抑制でき、その結果、ガラスびんの強度低下を防止できる。また、例えば、プレスブロー成形（ＰＢ）、またはナローネックプレスブロー成形（ＮＮＰＢ）が行われる場合、プランジャーに付着した離型剤によりプランジャーとパリソンとの密着性が悪化し、ガラスが十分に固化しないことによる成形不良を抑制できる。

（９）前記塗布装置は、前記仕上型と前記口型との間に隙間が設けられた状態で前記離型剤を塗布することで、前記口型と前記仕上型の互いの対向面に同時に前記離型剤を塗布するように構成されている場合がある。

この構成によると、口型のうち粗型と摺動する箇所へ、仕上型と併せて離型剤を塗布することができる。また、口型と仕上型の互いの対向面に離型剤を塗布する構成であれば、口型および仕上型自体が、フェンスの役割を果たし、塗布装置から塗布された離型剤が不要な箇所へ飛散することをより確実に抑制できる。

（１０）前記塗布装置は、前記仕上型を含むガラスびん製造装置においてゴブが投入されず、通常の製びんサイクル（一定周期にゴブ供給が行われ、ガラスびんの成形に必要な動作を繰返す）とは異なる動作サイクルであるスワブサイクル（成形機の各動作のON/OFFを任意に設定できる）のうち、口型が前記仕上型の上方に配置されているときに前記仕上型および前記口型に前記離型剤を塗布するように構成されている場合がある。

この構成によると、塗布装置から仕上型に塗布される離型剤がパリソンに直接付着することを抑制できる。その上、塗布装置は、仕上型へ離型剤を塗布するときに、併せて口型にも離型剤を塗布できる。この構成であれば、塗布装置から口型へ塗布される離型剤が粗型の下方に配置されているプランジャー等、離型剤の付着が好ましくない箇所への付着をより確実に抑制できる。これにより、パリソンの内面汚れや内面異物の発生、すなわち、ガラスびんの内面汚れや内面異物の発生を抑制でき、その結果、ガラスびんの強度低下を防止できる。また、例えば、プレスブロー成形（ＰＢ）、またはナローネックプレスブロー成形（ＮＮＰＢ）が行われる場合、プランジャーに付着した離型剤によりプランジャーとパリソンとの密着性が悪化し、ガラスが十分に固化しないことによる成形不良を抑制できる。

（１１）前記塗布装置は、前記離型剤を前記仕上型へ塗布する塗布部と、前記塗布部の動作を制御する制御ユニットと、を備えていることが好ましい。

この構成によると、制御ユニットは、塗布部を制御することで、実際の離型剤塗布動作を制御できる。

（１２）前記塗布部は、前記仕上型に対して変位機構によって変位されるように構成され、前記制御ユニットは、前記変位機構の動作および前記塗布部からの前記離型剤の供給を制御する制御部、を含んでいることが好ましい。

この構成によると、制御ユニットは、変位機構を動作させることで、塗布部の位置を変えながら塗布部から仕上型の内面の所望の箇所へより正確に離型剤を塗布させることができる。

（１３）上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わるガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布方法は、仕上型に設けられた仕上型成形面の一部、および、この仕上型の下部に配置される底型に設けられた底型成形面の全面、のうちの少なくともいずれかに離型剤を塗布する。

（１４）また、上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わるガラスびん製造装置は、前記離型剤塗布装置を備えている。

（１５）また、上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わるガラスびん製造方法は、仕上型に設けられた仕上型成形面の一部、および、この仕上型の下部に配置される底型に設けられた底型成形面の全面、のうちの少なくともいずれかに離型剤を塗布する、離型剤塗布ステップと、前記仕上型を用いてガラスびんを成形する成形ステップと、を含んでいる。

上記（１３）〜（１５）の構成によると、仕上型及び底型への離型剤塗布が塗布装置によって行われる場合、作業者の手作業による仕上型及び底型への離型剤塗布作業が不要になるため、製びん作業にかかる作業者の負担を低減できると共に離型剤塗布における作業者の安全性をより向上できる。また、機械動作による迅速な離型剤塗布作業を実現できるため、離型剤塗布によるガラスびん成形の停止時間を短縮できる。さらに、手作業での離型剤の塗布作業と比べて、塗布装置による離型剤の塗布作業であれば、仕上型及び底型への離型剤の塗布位置の変化や塗布量等のばらつきを低減できる。その上、仕上型に設けられた仕上型成形面の一部、および、この仕上型の下部に配置される底型に設けられた底型成形面の全面、のうちの少なくともいずれかに、離型剤が塗布される。この構成であれば、仕上型のうち離型性が特に必要な箇所に離型剤を十分に塗布しつつ、特に必要とされない箇所への離型剤塗布を最小限にできる。これにより、離型剤の過多によるガラスびんへの悪影響を防止できるので、仕上型への離型剤塗布に適した構成を実現でき、その結果、ガラスびんの品質安定化に貢献できる。

本発明によると、作業者の手作業による離型剤の塗布作業が不要になることで、離型剤の塗布にかかわる作業者の負担を低減できると共に離型剤塗布における安全性をより向上できる。また、離型剤塗布作業によるガラスびん成形の停止時間を短縮できる上に、仕上成形における離型剤の塗布位置の変化や塗布量等のばらつきを低減し、さらに、仕上型への離型剤塗布に適した構成を実現でき、その結果、ガラスびんの品質安定化に貢献できる。

本発明の一実施形態にかかるガラスびん製造装置の模式的な側面図であり、一部を断面で示しているとともに一部を省略して示している。 ガラスびん製造装置の模式的な平面図であり、一部を省略して示している。 塗布装置、口型および仕上型等を示す模式的な側面図である。 （Ａ）および（Ｂ）は、ガラスびん成形の流れの一例を説明するための図である。 （Ａ）および（Ｂ）は、ガラスびん成形の流れの一例を説明するための図である。 塗布装置による離型剤の塗布動作の一例を説明するためのフローチャートである。 スワブサイクル準備動作（ステップＳ２）の流れの一例を示すフローチャートである。 離型剤塗布動作（ステップＳ３）の流れの一例を示すフローチャートである。 （Ａ）〜（Ｃ）は、塗布装置による離型剤の塗布動作の一例を説明するための図である。 （Ａ）および（Ｂ）は、塗布装置による離型剤の塗布動作の一例を説明するための図である。 本発明の第１変形例について説明するための図である。 （Ａ）は、本発明の第２変形例の主要部を示す一部断面側面図である。（Ｂ）は、本発明の第３変形例の主要部を示す一部断面側面図である。 本発明の第４変形例の主要部を示す平面図である 本発明の第５変形例について説明するため主要部の一部断面図である。

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照しつつ説明する。

図１は、本発明の一実施形態にかかるガラスびん製造装置１の模式的な側面図であり、一部を断面で示しているとともに一部を省略して示している。図２は、ガラスびん製造装置１の模式的な平面図であり、一部を省略して示している。図３は、塗布装置４０、口型２１および仕上型３１等を示す模式的な側面図である。図４（Ａ）および図４（Ｂ）は、ガラスびん成形の流れの一例を説明するための図である。図５（Ａ）および図５（Ｂ）は、ガラスびん成形の流れの一例を説明するための図である。

図１〜図５（Ｂ）を参照して、ガラスびん製造装置１（以下、単に製造装置１ともいう。）は、ブローブロープロセスによって、ゴブ１０１（溶融したガラス塊）をパリソン１０２に成形し、さらに、パリソン１０２をガラスびん１０３に成形する。製造装置１には、図示しないゴブ供給機構からゴブ１０１を供給される。また、本実施形態では、製造装置１は、２つのゴブ１０１を同時にガラスびん１０３に成形することができる。なお、製造装置１には、他に１つ、３つ、４つと、ゴブ１０１を同時にガラスびん１０３に成形できるものもあり、同時に成形できる数は２つに限らない。

製造装置１は、粗型部１０と、口型部２０と、仕上型部３０と、離型剤の塗布装置４０と、を有している。

粗型部１０は、口型部２０と協働してゴブ１０１をパリソン１０２に成形するために用いられる。粗型部１０は、前述のゴブ供給機構からゴブ１０１を供給（充填）される。

粗型部１０は、粗型１１と、ファンネル１３と、バッフル１４と、シンブル１５と、プランジャー１６と、図示しない粗型開閉機構と、を有している。

粗型１１は、本実施形態では二つ設けられている。粗型１１は、左右に向かい合った一対の割型１１ａ，１１ｂを有している。これらの割型１１ａ，１１ｂが互いに組み合わされることで、ゴブ１０１が充填されるためのキャビティ１７が形成されている。各粗型１１の一対の割型１１ａ，１１ｂは、図示しない粗型開閉機構によって、開閉動作される。

粗型１１の下面１１ｃは、キャビティ１７に対応した箇所において上向きに窪んだ形状に形成されており、この窪んだ部分に、口型部２０の口型２１が配置されている。口型部２０は、ゴブ１０１からガラスびん１０３の口部１０３ａを成形するために設けられている。また、口型部２０は、粗型１１で成形されたパリソン１０２を仕上型部３０へ移送するように構成されている。

口型部２０は、口型２１と、口型２１を支持する口型ホルダー２２と、口型ホルダー２２が取り付けられた回転軸２４と、図示しない口型開閉機構と、を有している。

口型２１は、本実施形態では二つ設けられている。口型２１は、対向面２１ｅを含む一部が、粗型１１の下面１１ｃに形成された嵌合面に嵌合される。粗型１１側に口型２１が配置されているとき、プランジャー１６が、口型２１の開口部を塞ぐように配置される。口型２１は、左右に向かい合った半円筒状の一対の割型２１ａ，２１ｂを有しており、これらの割型２１ａ，２１ｂが互いに組み合わされることで、円筒状の口型２１が形成されている。割型２１ａ，２１ｂは、図示しない開閉機構の動作によって、互いに分離した開状態と互いに閉じられた閉状態とに適宜切り替えられる。口型２１の軸方向中間部には、ガイドリング２３が嵌め込まれている。口部成形面２１ｄには、螺旋状の溝または凹凸部が形成されている。口部成形面２１ｄにゴブ１０１が押し付けられることで、口部１０３ａが形成される。

口型２１のうち粗型１１の底側面１１ｃ（下面）と向かい合った状態における上面は、対向面２１ｅを含んでいる。本実施形態では、対向面２１ｅは、概ね平坦な面である。口型２１は、口型ホルダー２２に支持されている。口型ホルダー２２は、本実施形態では、Ｌ字状に形成されたアーム部材である。口型ホルダー２２の基端部は、水平に延びる回転軸２４に取付けられており、図示しない回転機構によって、口型ホルダー２２および口型２１が、回転軸２４の中心軸の周りを旋回可能である。この旋回動作によって、口型２１は、粗型１１の下方の位置（図１の位置）と、仕上型部３０の上方の位置（図３の位置）との間を往復移動する。

粗型部１０の説明に戻って、ファンネル１３は、筒状であり、キャビティ１７内へのゴブ１０１の進入を補助する。また、ファンネル１３は、セッツルブロー工程においてバッフル１４と協働して粗型１１の上端を閉じる。この閉じ動作の後、圧縮空気がバッフル１４の通風孔を通ってキャビティ１７内のゴブ１０１に向けて噴射される。

プランジャー１６は、図示しないコンプレッサから供給される圧縮空気をキャビティ１７内のゴブ１０１に向けて吹き込むことが可能に構成されている。プランジャー１６は、筒状のシンブル１５にガイドされており、上下に移動可能である。プランジャー１６は、口型２１の開口部を通して粗型１１側に露呈している。これにより、プランジャー１６は、口型２１内に到達したゴブ１０１と直接接触して口内面を成形することができる。

本実施形態では、仕上型部３０は、口型ホルダー２２が取り付けられた回転軸２４を挟んで粗型部１０と反対側に配置されている。なお、本実施形態では、口型ホルダー２２が取り付けられた回転軸２４を基準として、回転軸２４を通る仮想の鉛直面Ｐ１から粗型部１０側の領域を、「粗型側」といい、仮想の鉛直面Ｐ１から仕上型部３０側の領域を、「仕上型側」という。

仕上型部３０は、仕上型３１と、仕上型３１の下部に配置される底型３２と、ブローヘッド３４と、図示しない仕上型開閉機構と、を有している。尚、仕上型３１及び底型３２が、本実施形態におけるガラスびん仕上成形用金型を構成している。

仕上型３１は、本実施形態では、二つ設けられている。仕上型３１は、底型３２と協働してパリソン１０２のうち口部１０３ａを除く部分を成形することで、ガラスびん１０３を成形する。仕上型３１は、左右に向かい合った一対の割型３１ａ，３１ｂを有している。これらの割型３１ａ，３１ｂが互いに組み合わされることで、仕上型３１が形成されている。

仕上型３１の天面は、口型２１の対向面２１ｅと対向する対向面３１ｅを有している。対向面３１ｅは、仕上型３１の開口部の周囲に形成された略平坦な面である。対向面３１ｅは、仕上型３１のうち口型２１と対向するとともに後述の仕上型成形面３１ｆの首部成形面３１ｇに隣接して設けられた面として構成されている。また、仕上型３１の内面は、パリソン１０２のうち口部１０３ａ以外の部分が挿入されるキャビティ３５を形成している。本明細書では、仕上型３１の内面のうち、キャビティ３５を形成している面を仕上型成形面３１ｆという。パリソン１０２をガラスびん１０３に成形する領域としての、仕上型３１の仕上型成形面３１ｆおよび底型３２の後述する底型成形面３２ｆは、カーボンコーティング等によってコーティング層が形成されている。そして、この内面には、さらに、塗布装置４０によって定期的に離型剤が塗布される。

仕上型３１の内面は、仕上型成形面３１ｆと、仕上型成形面３１ｆの下側に配置された嵌合面３１ｊと、を含んでいる。

仕上型成形面３１ｆは、ガラスびん１０３の首部１０３ｂを成形するための対向面３１ｅに隣接する首部成形面３１ｇと、首部成形面３１ｇの下方に配置されガラスびん１０３の肩部１０３ｃを成形するための肩部成形面３１ｈと、肩部成形面３１ｈの下方に配置されガラスびん１０３の胴部１０３ｄを成形するための胴部成形面３１ｉと、を有している。

首部成形面３１ｇは、例えば、胴部成形面３１ｉの直径よりも小さな直径を有する円筒状面である。本実施形態では、仕上型成形面３１ｆのうちの上部側に首部成形面３１ｇが配置されている。

肩部成形面３１ｈは、首部成形面３１ｇと胴部成形面３１ｉとを接続する面である。肩部成形面３１ｈにおいては、首部成形面３１ｇに連続する上端部が、底側に進むに従い直径が大きくなる湾曲面に形成されており、側面視でキャビティ３５の中心側に向けて凸となる形状に形成されている。また、肩部成形面３１ｈの中間部は、テーパ状に形成されており、下方に進むにしたがい直径が大きくなっている。また、肩部成形面３１ｈのうち、胴部成形面３１ｉに連続する下端部は、下方に進むに従い直径が大きくなる湾曲面に形成されており、側面視でキャビティ３５の外側に向けて凸となる形状に形成されている。このような構成により、肩部成形面３１ｈは、ガラスびん１０３のうち首部１０３ｂの付け根のＲ部分から胴部１０３ｄに差し掛かる部分までを成形するように構成されている。

胴部成形面３１ｉは、直径が略一定の円筒面であり、当該胴部成形面３１ｉの下部の直径が、胴部成形面３１ｉの中間部の直径よりもわずかに小さく設定されている。胴部成形面３１ｉのうちの底側部分は、裾部成形面でもある。この胴部成形面３１ｉの下部は、底型３２の後述する底型成形面３２ｆに突き合わされる。この胴部成形面３１ｉの底側に、嵌合面３１ｊが配置されている。また、胴部成形面３１ｉの一部には、ガラスびん１０３の胴部１０３ｄに対して凹凸形状を有する彫刻部を成形するための彫刻部成形面３１ｍが設けられている。ガラスびん１０３の胴部１０３ｄに形成される彫刻部は、胴部１０３ｄの表面において凹凸形状を有するように刻印された文字又は模様として形成される。彫刻部成形面３１ｍには、文字又は模様として構成される彫刻部を胴部１０３ｄに刻印して成形するための凹凸形状であって彫刻部の形状に対応する形状を有する凹凸形状が形成されている。図１では、胴部１０３ｄに対して「ＡＡＡ」の文字列として構成された彫刻部を成形するための彫刻部成形面３１ｍの形態を例示している。尚、図１以外において図示された仕上型３１の図においては、彫刻部成形面３１ｍの図示は省略している。尚、本実施形態では、胴部成形面３１ｉに彫刻部成形面３１ｍが設けられた仕上型３１の形態を例示しているが、この例に限定されない。彫刻部成形面が設けられていない仕上型の形態が実施されてもよい。

嵌合面３１ｊは、底型３２の後述する凸部３７と嵌合する部分として設けられている。嵌合面３１ｊは、胴部成形面３１ｉに隣接する環状溝部分と、この環状溝部分から仕上型３１の底面としての平坦な摺動面３１ｋに接続される円筒状部分と、を含んでいる。

底型３２は、二つの仕上型３１に対応して二つ設けられている。底型３２は、仕上型３１の底側に配置されて仕上型３１と協働してキャビティ３５を形成している。

底型３２は、ベース部３６と、ベース部３６から突出する凸部３７と、を有している。

ベース部３６は、仕上型３１の下方に配置されたブロック状部分である。ベース部３６の上面は、仕上型３１の摺動面３１ｋと摺動可能に接触する摺動面３６ｋを含んでいる。摺動面３６ｋは、仕上型３１の底面に形成された摺動面３１ｋと平行な平坦面である。仕上型３１が開閉動作するとき、静止した摺動面３６ｋに対して摺動面３１ｋが摺動する。

凸部３７は、仕上型３１の嵌合面３１ｊに嵌合される部分であり、且つ、底型成形面３２ｆを有する部分である。

凸部３７の外周部は、仕上型３１の嵌合面３１ｊの形状に対応する形状に形成されており、ベース部３６に連続する基端部が円筒状に形成されるとともに、先端側部分が、基端側部分から径方向外方に膨らんだ円板状に形成されている。

凸部３７の天面に、底型成形面３２ｆが形成されている。本実施形態では、底型成形面３２ｆは、凸部３７の天面のうち、仕上型３１と協働してキャビティ３５を形成する部分の全面に形成されている。即ち、底型成形面３２ｆは、凸部３７の天面のうちキャビティ３５に露出している部分の面として構成されている。尚、キャビティ３５を形成している内面は、仕上型成形面３１ｆと底型成形面３２ｆとで構成されている。本実施形態では、底型成形面３２ｆは、円形状に形成され、この円形状部分の外周縁部が、仕上型成形面３１ｆの胴部成形面３１ｉの下端部と接触している。底型成形面３２ｆは、ガラスびん１０３の下部の形状に対応する形状に形成されており、平坦面、または、中央が上方に盛り上がった形状等に形成されている。

上記の構成により、仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂが閉じられているとき、仕上型３１の嵌合面３１ｊに、底型３２の凸部３７が嵌合しているとともに、仕上型３１の摺動面３１ｋと底型３２の摺動面３６ｋとが接触している。そして、仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂが開閉されるとき、仕上型３１の摺動面３１ｋが底型３２の摺動面３６ｋに対してスライドする。このため、底型３２の摺動面３６ｋの間には、潤滑剤（離型剤）が塗布されている。仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂは、仕上型開閉機構によって、開閉動作される。

ブローヘッド３４は、図示しないコンプレッサ等の圧縮空気供給源からの高圧空気をパリソン１０２内に供給するために設けられている。ブローヘッド３４は、中空のブロック状に形成されており、中心部にエアを吹き込むためのノズルが内蔵されており、図示しない移動機構によって、仕上型３１の対向面３１ｅ上に配置される位置と、仕上型３１の対向面３１ｅから待避した位置とに移動可能に構成されている。

上記の構成を有する製造装置１によるガラスびん１０３の成形工程の要点を以下に説明する。図１を参照して、ガラスびん１０３の成形工程のうちの粗成形工程（パリソン成形）に際しては、まず、ファンネル１３が取り付けられた状態の粗型１１の各キャビティ１７に、ゴブ１０１が充填される。その後、ファンネル１３にバッフル１４が取り付けられる。次に、バッフル１４からキャビティ１７に向けて圧縮空気が噴射されるセッツルブロー工程が行われることで、ゴブ１０１が口型２１に押し付けられるように変形する。これにより、口部１０３ａが成形される。

次に、図４（Ａ）に示すように、粗型１１の上端がバッフル１４によって塞がれた状態で、プランジャー１６が下降する。そして、プランジャー１６の下部より圧縮空気がプランジャー１６の内部を通りゴブ１０１の内部に向けて矢印で示すように圧縮空気が吹き込まれる。すなわち、カウンターブロー工程が行われる。これにより、ゴブ１０１が粗型１１に押し付けられるとともに、ゴブ１０１の内部に空洞が形成される。このような工程（即ち、ガラスびん１０３の成形工程のうちの粗成形工程）により、パリソン１０２が成形される。

上記の粗成形工程が完了すると、次に、粗型１１で成形されたパリソン１０２が仕上型部３０へ移送される。パリソン１０２の移送においては、まず、バッフル１４が粗型１１から取り外され、粗型開閉機構によって粗型１１の一対の割型１１ａ，１１ｂが開かれる。その後、口型ホルダー２２が取り付けられている回転軸２４が回転する。これにより、口型２１が、粗型１１の下方（粗型１１側）から図４（Ｂ）に示すように仕上型３１の上方へ配置される。このとき、仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂは、開かれている。また、仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂが閉じた時に、口型２１の対向面２１ｅと仕上型３１の対向面３１ｅとの間には、１ｍｍ程度の僅かな隙間Ｇ１ができるようセッティングされている。このような動作により、パリソン１０２の口部以外は、仕上型３１内に配置される。

次に、図示しない仕上型開閉機構によって仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂが閉じられる。次いで、口型２１の一対の割型２１ａ，２１ｂが図示しない口型開閉機構によって開かれることで、図５（Ａ）に示すように、パリソン１０２は、僅かに落下して仕上型３１の対向面３１ｅに受けられる。これにより、パリソン１０２の仕上型部３０への移送が完了する。尚、パリソン１０２の移送が完了すると、口型ホルダー２２が取り付けられている回転軸２４の旋回動作によって、口型２１が粗型１１側に戻される。

パリソン１０２の移送が完了すると、次に、ガラスびん１０３の成形工程のうちの仕上成形工程が行われる。即ち、仕上型３１を用いてガラスびん１０３を成形する仕上成形工程が行われる。尚、この仕上成形工程は、本実施形態のガラスびん製造方法において、仕上型３１を用いてガラスびん１０３を成形する成形ステップを構成する。仕上成形工程においては、まず、図５（Ｂ）に示すように、仕上型３１上面にブローヘッド３４が移動し、ブローヘッド３４によって口部１０３ａが覆われる。このブローヘッド３４は、内蔵されたノズルを通してパリソン１０２に圧縮空気を供給する。これにより、ファイナルブロー工程が行われ、パリソン１０２は、仕上型３１および底型３２の成形面３１ｆ，３２ｆに押しつけられるとともに、当該パリソン１０２内の空間が拡げられる。その結果、ガラスびん１０３が成形される。ガラスびん１０３が成形されると、ブローヘッド３４が仕上型３１から待避するとともに、仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂが仕上型開閉機構によって開かれる。そして、図示しないテイクアウトアームによってガラスびん１０３が仕上型３１から取り出される。

仕上型３１のキャビティ３５の内面には、パリソン１０２との離型性（分離のし易さ）を確保するために、離型剤が定期的に塗布される。離型剤は、ガラスびん１０３の成形工程の合間に塗布される。この離型剤を塗布するために、図３に示す塗布装置４０が用いられる。

塗布装置４０が塗布する離型剤として、黒鉛粒子を固体潤滑剤として含有する鉱物油を例示できる。塗布装置４０は、本実施形態における、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置、を構成している。そして、本実施形態では、塗布装置４０は、仕上型３１に設けられた仕上型成形面３１ｆの一部、および、底型３２に設けられた底型成形面３２ｆの全面、のうちの少なくともいずれかに離型剤を塗布するように構成されている。

本実施形態では、特に、仕上型３１に設けられた仕上型成形面３１ｆのうちの一部、および、この仕上型３１の下部に配置される底型３２に設けられた底型成形面３２ｆの全面および底型３２のうち仕上型３１と摺動する摺動面３６ｋに、塗布装置４０が離型剤を塗布するように構成されている。さらに、本実施形態では、パリソン成形時の口型２１の位置Ａ１（図１参照。粗型１１の下側位置）を基準として、粗型１１のプランジャー１６から遠ざかった位置、すなわち、仕上型３１の上方に配置されている口型２１に、塗布装置４０が離型剤を塗布するように構成されている。

図３を参照して、塗布装置４０は、制御部（制御ユニット）４１と、変位機構４２と、図示しない離型剤供給機構と、離型剤を噴霧する二つのノズル４３と、を含んでいる。

制御部４１は、所定の入力信号に基づいて、所定の出力信号を出力する構成を有し、例えば、プログラマブルコントローラ（ＰＬＣ）等を用いて形成することができる。なお、制御部４１は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＡＭ（Random Access Memory）およびＲＯＭ（Read Only Memory）を含むコンピュータ等を用いて形成されていてもよい。また、制御部４１は、電気回路を含まない、機械仕掛けによってノズル４３に離型剤を噴霧させるとともにノズル４３を変位させる構成であってもよい。

制御部４１は、変位機構４２（ノズル４３）の動作と、ノズル４３の後述する噴霧口４３ａ，４３ｂからの離型剤の供給量（噴霧量）を制御するように構成されている。仕上型成形面３１ｆの各領域及び底型成形面３２ｆへの噴霧量の制御（噴霧領域の設定を含む制御）は、ノズル４３からの噴霧量自体（液圧）の制御や、噴霧量を固定した状態でのノズル４３の上昇・下降速度の制御や、ノズル４３からの離型剤の噴霧タイミングの制御によって行うことができる。もちろんノズル４３からの離型剤の噴霧のオン−オフ制御でも所望の塗布が可能である。

制御部４１は、仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂの開閉状態を検出可能に構成されている。例えば、一対の割型３１ａ，３１ｂの開閉位置を検出するセンサが制御部４１に接続されていることで、制御部４１は、一対の割型３１ａ，３１ｂの開閉状態を検出してもよい。また、例えば、一対の割型３１ａ，３１ｂの動作を制御する制御回路が制御部４１に接続されていることで、制御部４１は、上記制御回路からの信号を受けて一対の割型３１ａ，３１ｂの開閉状態を検出してもよい。また、例えば、制御部４１が、一対の割型３１ａ，３１ｂの開閉動作を制御する構成が採用されていてもよい。また、制御部４１は、製造装置１の各部を制御可能であってもよい。

変位機構４２は、ノズル４３を仕上型３１および口型２１に対して変位させるとともに、ノズル４３の位置を維持するために用いられる。変位機構４２は、例えば、六軸ロボット等の多関節のロボットを用いて形成されている。なお、変位機構４２は、少なくとも、ノズル４３を、仕上型３１のキャビティ３５に出し入れすることが可能であればよく、具体的な機構は限定されない。また、変位機構４２は、ガラスびん成形機（ＩＳマシン）の仕上型側を、各セクションに沿って移動可能に構成されていてもよい。

前述の離型剤供給機構は、ノズル４３へ離型剤を供給するために用いられ、例えば、ノズル４３へ離型剤を輸送するためのホース、ポンプ、および、制御弁を有している。そして、この離型剤供給機構は、制御部４１と電気的に接続されており、制御部４１の制御によって、ノズル４３への離型剤の供給および供給停止が制御されるように構成されている。

ノズル４３は、離型剤を噴霧するために用いられる。ノズル４３は、細長い棒状に形成されている。ノズル４３の基端が変位機構４２の先端に支持されている。ノズル４３は、少なくとも、キャビティ３５のうち、首部成形面３１ｇと水平に向かい合う箇所にまで挿入されることが可能な長さに形成されている。本実施形態では、塗布装置４０が離型剤を噴霧する際、ノズル４３の先端が、胴部成形面３１ｉと水平に向かい合う箇所に挿入される。ノズル４３は、上昇しながら離型剤を噴霧してもよいし、降下しながら離型剤を噴霧してもよいし、キャビティ３５内に挿入された後、停止した状態で、離型剤を噴霧してもよい。

本実施形態のノズル４３は、多方向ノズルであり、複数の異なる方向に向けて離型剤を噴霧する。即ち、塗布装置４０は、離型剤を噴霧するノズル４３として、複数の異なる方向に向けて離型剤を噴霧する多方向ノズルを備えている。また、本実施形態において多方向ノズルとして例示したノズル４３は、二方向ノズルであり、互いに異なる二方向へ離型剤を噴霧する。より具体的には、ノズル４３は、水平方向に沿って側方に向かって離型剤を噴霧するとともに、鉛直方向に沿って下方に離型剤を噴霧するように構成されている。ノズル４３には、第１噴霧口（塗布部）４３ａ、および、第２噴霧口（塗布部）４３ｂが形成されている。

第１噴霧口４３ａおよび第２噴霧口４３ｂは、それぞれ、ノズル４３の先端側部分および中間部分に配置されており、スリット等によって形成され離型剤を噴霧するように構成されている。第１噴霧口４３ａは、仕上型３１の軸方向、すなわち、本実施形態では、鉛直方向（下向き）に沿う第１方向に向けて離型剤を噴霧する。一方、第２噴霧口４３ｂは仕上型３１の軸方向と直交する方向、すなわち、本実施形態では、水平方向に沿う第２方向に向けて離型剤を噴霧する。

第１噴霧口４３ａは、例えば、ノズル４３の先端に例えば一つ配置されており、離型剤噴霧時において、底型成形面３２ｆと向かい合っている。離型剤は、ノズル４３の内部の図示しない経路を通って第１噴霧口４３ａへ至り、第１噴霧口４３ａから底型成形面３２ｆの全面へ噴霧される。また、第２噴霧口４３ｂは、第１噴霧口４３ａの上方（第１噴霧口４３ａからノズル４３の基端側に進んだ位置）に配置されており、例えば、ノズル４３の中心軸線を中心としてノズル４３の外周面に複数配置されている。尚、本実施形態では、第２噴霧口４３ｂが、ノズル４３の上下方向において、１つの高さ位置に設けられている形態を例示しているが、この例の通りでなくてもよい。第２噴霧口４３ｂは、ノズル４３の上下方向において、複数の高さ位置に設けられていてもよい。

第２噴霧口４３ｂは、離型剤噴霧時の初期段階において、キャビティ３５内に配置されており、首部成形面３１ｇおよび肩部成形面３１ｈの少なくとも一部と水平方向に向かい合っている。そして、離型剤は、ノズル４３の内部の図示しない経路を通って第２噴霧口４３ｂへ至り、首部成形面３１ｇおよび肩部成形面３１ｈへ噴霧される。例えば、ノズル４３の上昇に伴い第２噴霧口４３ｂから離型剤が噴霧されることで、首部成形面３１ｇおよび肩部成形面３１ｈの全面に離型剤が塗布される。

また、離型剤噴霧時の後期段階において、ノズル４３が変位機構４２によってキャビティ３５から抜かれるように上昇する。これに伴い、第２噴霧口４３ｂは、仕上型３１の対向面３１ｅと、口型２１の対向面２１ｅと、口型２１の内面のうち口部成形面２１ｄの全面と、に離型剤が塗布されるように離型剤を噴霧する。

このように、各噴霧口４３ａ，４３ｂは、離型剤を仕上型３１、底型３２および口型２１へ塗布する塗布部としての機能を発揮する。

このような構成により、ノズル４３は、口型２１が仕上型３１の上方に配置されているときに仕上型３１に離型剤を塗布することで、口型２１の口部成形面２１ｄ、仕上型３１のうち口型２１と対向する対向面３１ｅ、および仕上型成形面３１ｆにおける首部成形面３１ｇから肩部成形面３１ｈに掛けての部分と、底型成形面３２ｆの全面とに対して、離型剤を塗布する。尚、上記においては、ノズル４３が、仕上型成形面３１ｆにおける首部成形面３１ｇ及び肩部成形面３１ｈに離型剤を塗布する形態を例示したが、ノズル４３が仕上型成形面３１ｆにおいて離型剤を塗布する領域は、この例に限定されない。例えば、ノズル４３は、仕上型成形面３１ｆにおいて、胴部成形面３１ｉの一部の領域に対して、離型剤を塗布してもよい。

なお、ガラスびん１０３の胴部１０３ｄ等の側面に文字または模様としての彫刻部が形成される場合、仕上型成形面３１ｆのうちこの文字または模様としての彫刻部を成形するための彫刻部成形面が形成される箇所に、第１噴霧口４３ａまたは第２噴霧口４３ｂから離型剤が噴霧されてもよい。本実施形態の場合、胴部成形面３１ｉの一部に設けられた彫刻部成形面３１ｍに対して、例えば、第２噴霧口４３ｂから離型剤が噴霧されて塗布されてもよい。

上述した構成により、ノズル４３は、仕上型成形面３１ｆにおける首部成形面３１ｇ、肩部成形面３１ｈ、彫刻部成形面３１ｍ、および、仕上型３１のうち口型２１と対向するとともに首部成形面３１ｇに隣接して設けられた対向面３１ｅ、のうちの少なくともいずれかと、底型成形面３２ｆの全面と、に離型剤を塗布するよう構成されている。また、多方向ノズルとして構成されたノズル４３は、首部成形面３１ｇ、肩部成形面３１ｈ、彫刻部成形面３１ｍ、および、仕上型３１のうち口型２１と対向するとともに首部成形面３１ｇに隣接して設けられた対向面３１ｅ、のうちの少なくともいずれかと、底型成形面３２の全面と、の両方に対して、離型剤を塗布するように構成されている。また、ノズル４３は、更に、仕上型３１のうち口型２１と対向するとともに首部成形面３１ｇに隣接して設けられた対向面３１ｅと、首部成形面３１ｇとに対して、離型剤を塗布するよう構成されている。

尚、ノズル４３の内部において、第１噴霧口４３ａに離型剤を供給する経路と、第２噴霧口４３ｂに離型剤を供給する経路とは、連続する経路であってもよく、また、異なる経路であってもよい。例えば、ノズル４３の内部において、上下方向に延びて離型剤を供給する経路が１つ設けられ、その１つの経路の途中において第２噴霧口４３ｂに離型剤が供給され、その１つの経路の下流側において第１噴霧口４３ａに離型剤が供給されてもよい。或いは、ノズル４３の内部において、上下方向に延びて離型剤を個別に供給する経路が２つ設けられ、一方の経路によって第２噴霧口４３ｂに離型剤が供給され、他方の経路によって第１噴霧口４３ａに離型剤が供給されてもよい。

各噴霧口４３ａ，４３ｂからの離型剤の噴霧方法は、ポンプ（例えばプランジャーポンプなど）を使用した方法でもよいし、圧縮空気を使用した二流体混合（離型剤と空気の混合）を使用した方法でもよい。

第１噴霧口４３ａは、例えばフルコーン状の第１噴霧パターンＪ１を形成するように、離型剤を噴霧する。フルコーン状の第１噴霧パターンＪ１は、第１噴霧口４３ａが仕上型３１に取り囲まれた位置から例えば下方を向くように形成される。このフルコーン状の第１噴霧パターンＪ１が形成される領域は、第１噴霧口４３ａの形状、第１噴霧口４３ａの高さ位置、第１噴霧口４３ａからの離型剤の噴霧圧を設定すること等で、適宜設定される。

また、第２噴霧口４３ｂは、例えば、円周上に噴霧口が多数設けられており、それぞれがフルコーン状の第２噴霧パターンＪ２を形成するように、離型剤を噴霧する。フルコーン状の第２噴霧パターンＪ２は、略水平方向を向くように形成される。このフルコーン状の第２噴霧パターンＪ２が形成される領域は、第２噴霧口４３ｂの形状、第２噴霧口４３ｂの高さ位置、第２噴霧口４３ｂからの離型剤の噴霧圧を設定すること等で、適宜設定される。

ノズル４３による離型剤噴霧時、ノズル４３が仕上型３１に対して変位機構４２によって上下に変位されてもよいし、静止されてもよい。また、ノズル４３の外周面のうち第２噴霧口４３ｂの近傍に、ノズル４３と同軸に配置された環状板を取り付けてもよい。この環状板が設けられている場合、この環状板によって、離型剤が意図しない箇所まで過度に広く飛散することを防止できる。

本実施形態では、塗布装置４０による離型剤塗布作業は、製造装置１においてゴブ１０１が投入されず、通常の製びんサイクルとは異なる動作サイクルであるスワブサイクルにおいて行われる。このスワブサイクルにおいて、口型２１が仕上型３１の上方に配置されているときに、塗布装置４０は、仕上型３１および口型２１へ離型剤を塗布する。

次に、塗布装置４０による離型剤の塗布動作の一例をより具体的に説明する。尚、塗布装置４０による離型剤の塗布動作が行われることで、上述のように、仕上型３１に設けられた仕上型成形面３１ｆの一部、および、底型３２に設けられた底型成形面３２ｆの全面、のうちの少なくともいずれかに離型剤を塗布する工程が行われる。そして、塗布装置４０による離型剤の塗布動作の工程は、本実施形態におけるガラスびん仕上げ成形用金型への離型剤塗布方法を構成しているとともに、本実施形態のガラスびん製造方法における離型剤塗布ステップを構成している。

図６は、塗布装置４０による離型剤の塗布動作の一例を説明するためのフローチャートである。なお、以下では、フローチャートを参照して説明するときは、フローチャート以外の図も適宜参照しながら説明する。

図６を参照して、塗布装置４０は、製造装置１によるガラスびん成形動作の合間に離型剤塗布動作を行う。具体的には、まず、制御部４１が、定期的に、スワブサイクル指令を発する（ステップＳ１）。これにより、スワブサイクル準備動作が行われる（ステップＳ２）。次いで、離型剤塗布動作（ステップＳ３）が行われる。そして、離型剤塗布動作が完了すると、前述したガラスびん成形動作が再開される（ステップＳ４）。

次に、スワブサイクル準備動作（ステップＳ２）、および、離型剤塗布動作（ステップＳ３）のそれぞれの詳細を説明する。

図７は、スワブサイクル準備動作（ステップＳ２）の流れの一例を示すフローチャートである。図８は、離型剤塗布動作（ステップＳ３）の流れの一例を示すフローチャートである。

図７を参照して、スワブサイクル準備動作では、まず、制御部４１からの指令を受けたゴブ供給装置（図示せず）が、インターセプター機能を用いることで、ゴブ供給装置から粗型１１へのゴブ１０１の供給を停止する（ステップＳ２１）。次に、仕上型側でファイナルブロー工程を終えた後、ブローヘッド３４が制御部４１からの指令を受けた駆動機構によって動作され、仕上型３１の上面より退避し、その状態のまま停止する（ステップＳ２２）。次に、仕上型３１が開き、図示しないテイクアウトアームが仕上型３１で成形されたガラスびん１０３を仕上型３１から取り出した後、制御部４１からの指令を受けた駆動機構によってそのままの状態（退避状態）で停止する（ステップＳ２３）。

図９（Ａ）に示すように制御部４１からの指令を受けた駆動機構により口型ホルダー２２が取り付けられた回転軸２４の動作に伴い、口型２１が、仕上型３１の上方に配置される（ステップＳ２４）。この動作はステップＳ２３とほぼ同時に行われる。

次に、制御部４１からの指令を受けた仕上型開閉機構の動作により、仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂが閉じられるとともに、図示しない開閉機構の動作により、口型２１の一対の割型２１ａ，２１ｂが閉じられる（ステップＳ２５）。このとき、口型２１の対向面２１ｅと仕上型３１の対向面３１ｅとの垂直方向の距離（隙間Ｇ１の長さ）は、１ｍｍ程度になるようセッティングされている。

次に、離型剤塗布動作（ステップＳ３）を説明する。

図８を参照して、離型剤塗布動作では、まず、制御部４１が変位機構４２を動作させることで、図９（Ｂ）に示すように、ノズル４３を口型２１および仕上型３１に挿入する（ステップＳ３１）。次に、制御部４１は、離型剤供給機構を動作させることにより、図９（Ｃ）に示すように、ノズル４３の第１噴霧口４３ａおよび第２噴霧口４３ｂから離型剤を噴霧させる。これにより、離型剤が、底型３２の底型成形面３２ｆの全面と、仕上型３１の肩部成形面３１ｈおよび首部成形面３１ｇと、に噴霧される（ステップＳ３２）。これにより、底型成形面３２ｆ、肩部成形面３１ｈおよび首部成形面３１ｇに、離型剤の膜Ｆ１が形成される。このように、ノズル４３は、仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂが閉じられた状態のときに離型剤を塗布する。

次に、制御部４１は、ノズル４３からの離型剤の噴霧を一旦停止させる（ステップＳ３３）。そして、図１０（Ａ）に示すように、制御部４１は、仕上型開閉機構を動作させることにより、仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂを一旦開かせる。この時、一時的に噴霧を行い、底型３２の摺動面３６ｋに離型剤（潤滑剤）を塗布する。その後、制御部４１は、仕上型開閉機構を動作させることにより、仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂを再び閉じる動作を行わせる（ステップＳ３４）。ステップＳ３３を省略して、ノズル４３から離型剤を噴霧したまま仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂを開閉し、底型３２の摺動面３６ｋに離型剤を塗布してもよい。

次に、制御部４１は、図１０（Ｂ）に示すように、変位機構４２を動作させることで、ノズル４３を上昇変位させる（ステップＳ３５）。次に、制御部４１は、離型剤供給機構を動作させることにより、ノズル４３の各噴霧口４３ａ，４３ｂからの離型剤の噴霧を再開する（ステップＳ３６）。ステップ３５と３６の順序は逆になってもよい。首部が長く、全体に塗布する必要のある製品は、塗布再開後にノズル４３を変位させ首部成形面３１ｇの全体を塗布してもよい。首部が短く、全面塗布する必要がない製品はノズル４３による離型剤の噴霧を停止した状態でノズル４３を変位させることで離型剤の供給過多を防止することができる。これにより、制御部４１は、第１噴霧口４３ａによる底型成形面３２ｆへの離型剤の噴霧を再度行うと同時に、第２噴霧口４３ｂを口型２１および仕上型３１の対向面２１ｅ，３１ｅに近傍に配置することで、これらの対向面２１ｅ，３１ｅへ離型剤を噴霧する。そして、ノズル４３がさらに上昇変位すると、第２噴霧口４３ｂからの離型剤が、口部成形面２１ｄに塗布される。なお、第２噴霧口４３ｂが対向面２１ｅ，３１ｅ間の隙間Ｇ１を向いているときに、ノズル４３の上昇変位が一時停止されてもよい。これにより、対向面２１ｅ，３１ｅへより多くの離型剤を塗布できる。

そして、第２噴霧口４３ｂによる口型２１の口部成形面２１ｄへの離型剤の噴霧が完了すると、制御部４１は、離型剤供給機構の動作を停止し、ノズル４３からの離型剤の噴霧を停止させる（ステップＳ３７）。そして、制御部４１は、変位機構４２を動作させることにより、ノズル４３を口型２１から退避させる（ステップＳ３８）。

以上が、塗布装置４０による離型剤の塗布動作の一例である。次に、塗布装置４０による離型剤の塗布動作の一変形例を説明する。この一変形例では、口型２１が粗型１１の下方に配置された状態（位置Ａ１にある状態）で、離型剤塗布動作が行われる点が、上記の離型剤塗布動作との差異である。なお、この一変形例においても、スワブサイクル指令（ステップＳ１）、スワブサイクル準備動作（ステップＳ２）、離型剤塗布動作（ステップＳ３）、および、ガラスびん成形動作再開（ステップＳ４）が行われる。一方、この一変形例では、スワブサイクル準備動作（ステップＳ２）の詳細、および、離型剤塗布動作（ステップＳ３）の詳細が異なっている。以下、上記の実施形態と異なる点について主に説明する。

この一変形例では、図７のステップＳ２４における、口型２１を仕上型３１の上方へ配置させる動作が行われない。その為、口型２１は、パリソン成形時と同様に、図１１に示すように粗型１１の下方の位置Ａ１に配置されている。

そして、ステップＳ３の離型剤塗布動作では、ステップＳ３６における、ノズル４３による口型２１への離型剤噴霧は行わず、ノズル４３の第２噴霧口４３ｂによる仕上型３１の対向面３１ｅへの離型剤塗布が行われる（ステップＳ３６’）

また、上述の実施形態および一変形例では、離型剤塗布動作（ステップＳ３）において、一旦、仕上型３１の開閉動作が行われる（ステップＳ３４）ことで、底型３２の摺動面に離型剤が塗布される形態を例に説明したが、この通りでなくてもよい。上記ステップＳ３４が省略されてもよい。

また、上述の実施形態および一変形例では、ブローブロー成形によってガラスびん１０３が成形される形態を例に説明したけれども、この通りでなくてもよい。例えば、プレスブロー成形（ＰＢ）、またはナローネックプレスブロー成形（ＮＮＰＢ）によってガラスびんが成形されてもよい。

以上説明したように、本実施形態によると、塗布装置４０は、仕上型３１に設けられた仕上型成形面３１ｆの一部、および、この仕上型３１の下部に配置される底型３２に設けられた底型成形面３２ｆの全面、のうちの少なくともいずれかに離型剤を塗布するように構成されている。この構成によると、仕上型３１及び底型３２への離型剤塗布は、塗布装置４０によって行われる。すなわち、作業者の手作業による仕上型３１及び底型３２への離型剤塗布作業が不要となるため、製びん作業にかかる作業者の負担を低減できる上に、離型剤塗布における作業者の安全性をより向上できる。また、機械動作による迅速な離型剤塗布作業を実現できるので、ガラスびん１０３の成形の停止時間を短縮できる上に、手作業での離型剤の塗布作業と比べて、塗布装置４０による離型剤の塗布作業であれば、仕上型３１及び底型３２への離型剤塗布の塗布位置の変化や塗布量等のばらつきを低減できる。さらに、仕上型３１に設けられた仕上型成形面３１ｆの一部、および、この仕上型３１の下部に配置される底型３２に設けられた底型成形面３２ｆの全面、のうちの少なくともいずれかに、離型剤が塗布される。この構成であれば、仕上型３１のうち離型性が特に必要な箇所に離型剤を十分に塗布しつつ、特に必要のない箇所への離型剤塗布を最小限にできる。これにより、離型剤の過多によるガラスびん１０３への悪影響の発生を防止できるため、仕上型３１への離型剤塗布に適した構成を実現でき、その結果、ガラスびんの品質安定化に貢献できる。

また、本実施形態によると、塗布装置４０は、離型剤を噴霧するノズル４３を備え、仕上型成形面３１ｆは、ガラスびん１０３の首部１０３ｂを形成するための首部成形面３１ｇ、首部成形面３１ｇの下方に配置されてガラスびん１０３の肩部１０３ｃを成形するための肩部成形面３１ｈ、および、肩部成形面３１ｈの下方に配置されてガラスびん１０３の胴部１０３ｄを成形するための胴部成形面３１ｉの一部に設けられてガラスびん１０３の胴部１０３ｄに対して凹凸形状を有する彫刻部を成形するための彫刻部成形面３１ｍ、を含み、ノズル４３が、首部成形面３１ｇ、肩部成形面３１ｈ、彫刻部成形面３１ｍ、および、仕上型３１のうち口型２１と対向するとともに首部成形面３１ｇに隣接して設けられた対向面３１ｅ、のうちの少なくともいずれかと、底型成形面３２ｆの全面と、に離型剤を塗布するよう構成されている。この構成によると、ノズル４３によって、底型成形面３２ｆの全面とともに、首部成形面３１ｇ、肩部成形面３１ｈ、彫刻部成形面３１ｍ、および、仕上型３１における口型２１への対向面３１ｅ、のうちの少なくともいずれかに対して、離型剤が塗布される。このため、この構成によると、底型成形面３２ｆの全面に離型剤を塗布できるとともに、仕上型３１のうち、離型性が特に必要とされる箇所へ、より確実に離型剤を塗布することができる。

また、本実施形態によると、塗布装置４０は、ノズル４３が、仕上型３１のうち口型２１と対向するとともに首部成形面３１ｇに隣接して設けられた対向面３１eと、首部成形面３１ｇとに対して、離型剤を塗布するように構成されている。この構成によると、口型２１への対向面３１ｅと首部成形面３１ｇとに離型剤を塗布することができるため、ガラスびん１０３における口部１０３ａと首部１０３ｂとの境界部に大きな負荷がかかることが抑制され、口部１０３ａと首部１０３ｂとの境界部のクラックの発生を抑制できる。よって、この構成によると、仕上型３１のうち、離型性が特に必要とされる箇所へ、より確実に離型剤を塗布することができることに加えて、ガラスびん１０３の口部１０３ａと首部１０３ｂの境界部にクラックが発生することを抑制することができる。

また、本実施形態によると、塗布装置４０は、ノズル４３として、複数の異なる方向に向けて離型剤を噴霧する多方向ノズル４３（本実施形態では、二方向ノズル４３）を備え、多方向ノズル４３が、首部成形面３１ｇ、肩部成形面３１ｈ、彫刻部成形面３１ｍ、および、仕上型３１のうち口型２１と対向するとともに首部成形面３１ｇに隣接して設けられた対向面３１ｅ、のうちの少なくともいずれかと、底型成形面３２ｆの全面と、の両方に対して、離型剤を塗布する。この構成によると、離型剤の塗布作業をより迅速にできる。また、首部成形面３１ｇ、肩部成形面３１ｈ、彫刻部成形面３１ｍ、および、仕上型３１における口型２１への対向面３１ｅ、のうちの少なくともいずれかと、底型成形面３２ｆの全面と、の複数個所に（本実施形態では、二箇所に）、ノズル４３の別々の箇所から離型剤が塗布される。これにより、単一ノズルによって、首部成形面３１ｇ、肩部成形面３１ｈ、彫刻部成形面３１ｍ、および、仕上型３１における口型２１への対向面３１ｅ、のうちの少なくともいずれかと、底型成形面３２ｆの全面と、のそれぞれに対して離型剤を塗布する場合と異なり、離型剤塗布時にノズル４３の向きを変える動作が不要となり、離型剤の塗布位置の変化や塗布量等のばらつきを低減でき、ガラスびんの品質安定化に貢献できる。

また、本実施形態によると、塗布装置４０は、仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂが閉じられた状態のときに離型剤を塗布する。この構成によると、仕上型３１内の各部のうち離型剤が塗布される箇所と、ノズル４３との距離が、より均等な状態で離型剤を塗布できる。さらに、仕上型３１の外部へ離型剤が飛散することをより確実に抑制できる。

また、本実施形態によると、塗布装置４０は、パリソン１０２が仕上型３１に挿入されていないタイミングで離型剤を塗布する。この構成によると、塗布装置４０から塗布された離型剤がパリソン１０２に直接付着することを抑制できる。

また、本実施形態によると、塗布装置４０は、仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂが開かれたときに底型３２の摺動面３６ｋに、離型剤を塗布する。これにより、仕上型３１と底型３２とのスムーズな摺動を実現でき、その結果、仕上型３１で成形されたガラスびん１０３に過剰な力が作用することを抑制できる。

また、本実施形態によると、塗布装置４０は、口型２１が仕上型３１の上方に配置されているときに仕上型３１に離型剤を塗布することで、口型２１および仕上型３１へ同時に離型剤を塗布する。この構成によると、塗布装置４０は、仕上型３１へ離型剤を塗布するときに、併せて口型２１にも離型剤を塗布できる。また、この構成であれば、塗布装置４０から口型２１へ塗布される離型剤が粗型１１の下方に配置されているプランジャー１６等、離型剤の付着が好ましくない箇所への離型剤の付着をより確実に抑制できる。これにより、パリソン１０２の内面汚れや内面異物の発生、すなわち、ガラスびん１０３の内面汚れや内面異物の発生を抑制でき、その結果、ガラスびん１０３の強度低下を防止できる。また、例えば、プレスブロー成形（ＰＢ）、またはナローネックプレスブロー成形（ＮＮＰＢ）が行われる場合、プランジャーに付着した離型剤によりプランジャーとパリソンとの密着性が悪化し、ガラスが十分に固化しないことによる成形不良を抑制できる。

また、本実施形態によると、塗布装置４０は、仕上型３１と口型２１との間に隙間Ｇ１が設けられた状態で離型剤を塗布することで、口型２１と仕上型３１の互いの対向面２１ｅ，３１ｅに同時に離型剤を塗布する。この構成によると、口型２１のうち粗型１１と摺動する箇所へ、仕上型３１と併せて離型剤を塗布することができる。また、口型２１と仕上型３１の互いの対向面２１ｅ，３１ｅに離型剤を塗布する構成であれば、口型２１および仕上型３１自体が、フェンスの役割を果たし、塗布装置４０から塗布された離型剤が不要な箇所へ飛散することをより確実に抑制できる。

また、本実施形態によると、製造装置１においてゴブ１０１が投入されず、通常の製びんサイクルとは異なる動作サイクルであるスワブサイクルのうち、口型２１が仕上型３１の上方に配置されているとき、塗布装置４０が仕上型３１および口型２１に離型剤を塗布する。この構成によると、塗布装置４０から塗布される離型剤がパリソン１０２に直接付着することを抑制できる。その上、塗布装置４０は、仕上型３１へ離型剤を塗布するときに、口型２１へも離型剤を塗布できる。この構成であれば、粗型１１の底に配置されているプランジャー１６等、離型剤の付着が好ましくない箇所への離型剤の付着をより確実に抑制できる。これにより、パリソン１０２の内面汚れや内面異物の発生、すなわち、ガラスびん１０３の内面汚れや内面異物の発生を抑制でき、その結果、ガラスびん１０３の強度低下を防止できる。また、例えば、プレスブロー成形（ＰＢ）、またはナローネックプレスブロー成形（ＮＮＰＢ）が行われる場合、プランジャーに付着した離型剤によりプランジャーとパリソンとの密着性が悪化し、ガラスが十分に固化しないことによる成形不良を抑制できる。

また、本実施形態によると、塗布装置４０は、制御部４１によってノズル４３を制御することで、実際の離型剤の塗布動作を制御できる。より具体的には、制御部４１は、変位機構４２を動作させることで、ノズル４３の位置を変えながらノズル４３から口型２１および仕上型３１に向けて離型剤を塗布することができる。これにより、口型２１の内面および仕上型３１の内面の所望の箇所へより正確に離型剤を塗布できる。

また、本実施形態によると、塗布装置４０は、パリソン成形時の口型２１の位置Ａ１を基準として、粗型１１側のプランジャー１６から遠ざかった位置、つまり本実施形態では仕上型３１の上方に口型２１が配置されているときに口型２１に離型剤を塗布する。この構成によると、口型２１へ離型剤を塗布する際に、離型剤が口型２１以外の意図しない箇所、例えば、プランジャー１６に付着してしまうことを抑制できる。これにより、パリソン１０２の内面汚れや内面異物の発生、すなわち、ガラスびん１０３の内面汚れや内面異物の発生を抑制でき、その結果、ガラスびん１０３の強度低下を防止できる。また、例えば、プレスブロー成形（ＰＢ）、またはナローネックプレスブロー成形（ＮＮＰＢ）が行われる場合、プランジャー１６に付着した離型剤によりプランジャー１６とパリソン１０２との密着性が悪化し、ガラスが十分に固化しないことによる成形不良を抑制できる。また、口型２１への離型剤塗布は、塗布装置４０によって行われる。すなわち、作業者の手作業による口型２１への離型剤塗布作業が不要となり、離型剤の塗布作業にかかる作業者の負担を低減できると共に、離型剤塗布における作業者の安全性をより向上できる。また、機械動作による迅速な離型剤塗布作業を実現できるため、ガラスびん１０３の成形を停止させる時間を短縮できる上に、手作業での離型剤の塗布作業と比べて、塗布装置４０による離型剤の塗布作業であれば、口型２１への離型剤の塗布位置の変化や塗布量のばらつきを低減できる。

また、本実施形態によると、塗布装置４０は、口型２１の内面のうちガラスびん１０３の口部１０３ａを成形する口部成形面２１ｄと、口型２１の対向面２１ｅであって、粗型１１の下面１１ｃおよび仕上型３１の対向面３１ｅと対向する対向面２１ｅに、離型剤を塗布する。この構成によると、口型２１のうち粗型１１と摺動する箇所へ、口型２１の内面と併せて離型剤を塗布することができる。

さらに、塗布装置４０は、口型２１および仕上型３１へ同時に離型剤を塗布する。この構成によると、塗布装置４０は、口型２１へ離型剤を塗布するときに、併せて仕上型３１にも離型剤を塗布できる。

以上、本発明の実施形態について説明した。しかしながら、本発明は上記実施形態に限られず、特許請求の範囲に記載した限りにおいて様々な変更が可能である。

（１）上述の実施形態および第１変形例では、ノズル４３が二方向ノズルである形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。例えば、本発明の第２変形例の主要部を示す図１２（Ａ）に示されているように、ノズル４３において第３噴霧口（塗布部）４３ｃを追加することで、ノズル４３を三方向ノズルとしてもよい。このノズル４３は、第１，第２噴霧口４３ａ，４３ｂに加えて、第３噴霧口４３ｃを有している。

第３噴霧口４３ｃは、ノズル４３の中間部分に配置されており、スリット等によって形成され離型剤を噴霧するように構成されている。第３噴霧口４３ｃは、仕上型３１の軸方向と直交する方向、すなわち、本実施形態では、水平方向に沿う第３方向であって第２噴霧口４３ｂが向く方向としての第２方向と平行に向けて離型剤を噴霧する。

第３噴霧口４３ｃは、第２噴霧口４３ｂの上方（第２噴霧口４３ｂからノズル４３の基端側に進んだ位置）に配置されており、例えば、ノズル４３の中心軸線を中心としてノズル４３の外周面に複数配置されている。第３噴霧口４３ｃは、離型剤噴霧時の初期段階において、口型２１のキャビティ内に配置されており、口部成形面２１ｄと水平方向に向かい合っている。そして、離型剤は、ノズル４３の内部の図示しない経路を通って第３噴霧口４３ｃへ至り、口部成形面２１ｄへ噴霧される。

このように、各噴霧口４３ａ，４３ｂ，４３ｃは、離型剤を仕上型３１、底型３２および口型２１へ同時に塗布する塗布部としての機能を発揮する。

（２）また、上述の実施形態および各変形例では、ノズル４３が仕上型３１内に配置されているときに当該ノズル４３から離型剤が仕上型３１へ噴霧される形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。例えば、本発明の第３変形例の主要部を示す図１２（Ｂ）に示されているように、仕上型３１の一対の割型３１ａ，３１ｂが仕上型開閉機構によって開かれているときで、且つ、口型２１が底型３２の上方に配置されているときに、ノズル４３から離型剤が噴霧されてもよい。このときのノズル４３は、例えば、当該ノズル４３の先端側に第２噴霧口４３ｂが配置された構成を有している。そして、第２噴霧口４３ｂからの離型剤が、口型２１の口部成形面２１ｄへ噴霧される。そして、口部２１から垂れた離型剤、及び第２噴霧口４３ｂから噴霧されて下方に落下した離型剤は、底型３２によって受けられる。これにより、底型３２の底型成形面３２の全面に離型剤が塗布されてもよい。

（３）また、上述の実施形態および各変形例では、ノズル４３から口型２１、仕上型３１、および、底型３２への離型剤噴霧の態様について説明したが、この通りでなくてもよい。ノズル４３は、口型２１、仕上型３１、および、底型３２に対して、１箇所ずつ離型剤を噴霧してもよい。

（４）また、上述の実施形態および変形例において、一つの塗布装置４０で仕上型３１および口型２１をペアとするセクション４４の複数へ離型剤を塗布する構成が採用されてもよい。例えば、本発明の第４変形例の主要部を示す平面図である図１３に示されているように、例えば、仕上型３１（口型２１）が複数セクション４４，４４，４４…に配置されている場合に、複数セクション４４の仕上型３１、底型３２および口型２１へ、一つの塗布装置４０で離型剤を塗布してもよい。例えば、製びん機は、８〜１２セクション（１セクション毎に一組の粗型側と仕上型側がある）で構成され、これらのセクションの合計の長さは約６ｍ〜８ｍ程度である。なお、図１３では、一例として４つのセクション４４が例示されている。このような構成において、変位機構４２は、製びん機４５に（全セクション４４に対して）例えば一台設置される。そして、変位機構４２は、複数のセクション４４のそれぞれの側方を通過するレール４６上を、図示しない駆動機構からの動力によって往復移動可能に構成されている。これにより、塗布装置４０は、各セクション４４の側方へ移動し、隣接したセクション４４における仕上型３１および口型２１の少なくとも一方へ離型剤を噴霧する。

（５）上述の実施形態および各変形例では、製造装置１が首長のガラスびんを成形する形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。例えば、粗型１１に代えて図示しないプレス成形粗型でパリソンを成形し、このパリソンを、仕上型３１に代えて図１４に示す仕上型３１Ａで仕上成形することで、広口びんであるガラスびん１０３Ａが成形されてもよい。図１４は、製造装置１の第５変形例を示す主要部の図であり、仕上型３１Ａおよび底型３２の側面を示している。なお、以下では、上述の実施形態と異なる点について主に説明し、同様の構成には図に同様の符号を付して詳細な説明を省略する。

仕上型３１Ａは、底型３２と協働してパリソン１０２Ａ（右側の仕上型３１Ａに想像線である二点鎖線で図示）のうち口部１０３ａＡを除く部分を成形することで、ガラスびん１０３Ａ（左側の仕上型３１Ａに想像線である二点鎖線で図示）を成形する。仕上型３１Ａの内面のうち、キャビティ３５Ａを形成している面が仕上型成形面３１ｆＡである。

仕上型成形面３１ｆＡは、首部成形面３１ｇＡと、肩部成形面３１ｈＡと、胴部成形面３１ｉＡと、を有している。

首部成形面３１ｇＡは、例えば、胴部成形面３１ｉＡの直径よりも小さな直径を有する円筒面である。首部成形面３１ｇＡの上下方向の長さは、胴部成形面３１ｉＡの上下方向の長さよりも短い。

また、肩部成形面３１ｈＡの上下方向の長さは、胴部成形面３１ｉＡの上下方向の長さよりも短い。肩部成形面３１ｈＡは、ガラスびん１０３Ａのうち首部１０３ｂＡの付け根のＲ部分から胴部１０３ｄＡに差し掛かる部分までを成形するように構成されている。

胴部成形面３１ｉＡは、直径が略一定の円筒面である。この胴部成形面３１ｉＡの底側に、嵌合面３１ｊが配置されている。

この仕上型３１Ａへの離型剤の塗布は、塗布装置４０によって行われる。この場合、ノズル４３は、離型剤の噴射中、上下に移動してもよいし、上下に移動することなく静止していてもよい。ノズル４３の第１噴霧口４３ａは、底型成形面３２ｆへ離型剤を噴霧し、第２噴霧口４３ｂは、首部成形面３１ｇＡおよび肩部成形面３１ｈＡへ離型剤を噴霧する。

（６）また、上述の実施形態等では、塗布装置４０を用いて離型剤を塗布する形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。例えば、作業者による手作業で離型剤が塗布されてもよい。また、塗布装置４０は、ノズル４３に代えて、ハケ等の他の塗布部材を用いて離型剤を塗布してもよい。

本発明は、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布方法、ガラスびん製造装置、および、ガラスびん製造方法として、広く適用できる。

１ ガラスびん製造装置
２１ 口型
２１ｅ 対向面
３１，３１Ａ 仕上型
３１ａ，３１ｂ 仕上型の一対の割型
３１ｅ 仕上型のうち口型と対向する対向面
３１ｆ，３１ｆＡ 仕上型成形面
３１ｋ 摺動面
３２ 底型
３２ｆ 底型成形面
３６ｋ 摺動面
４０ 離型剤塗布装置
４１ 制御部（制御ユニット）
４２ 変位機構
４３ ノズル
４３ａ，４３ｂ，４３ｃ 噴霧口（塗布部）
１０１ ゴブ
１０２，１０２Ａ パリソン
１０３，１０３Ａ ガラスびん

Claims (14)

1. 仕上型に設けられた仕上型成形面の一部、および、この仕上型の下部に配置される底型に設けられた底型成形面の全面、のうちの少なくともいずれかに離型剤を塗布するように構成されていることを特徴とする、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置。
2. 請求項１に記載のガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置であって、
   前記離型剤を噴霧するノズルを備え、
   前記仕上型成形面は、ガラスびんの首部を成形するための首部成形面、前記首部成形面の下方に配置されて前記ガラスびんの肩部を成形するための肩部成形面、および、前記肩部成形面の下方に配置されて前記ガラスびんの胴部を成形するための胴部成形面の一部に設けられて前記ガラスびんの前記胴部に対して凹凸形状を有する彫刻部を成形するための彫刻部成形面、を含み、
   前記ノズルが、前記首部成形面、前記肩部成形面、前記彫刻部成形面、および、前記仕上型のうち口型と対向するとともに前記首部成形面に隣接して設けられた対向面、のうちの少なくともいずれかと、前記底型成形面の全面と、に前記離型剤を塗布するよう構成されていることを特徴とする、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置。
3. 請求項２に記載のガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置であって、
   前記ノズルとして、複数の異なる方向に向けて前記離型剤を噴霧する多方向ノズルを備え、
   前記多方向ノズルが、前記首部成形面、前記肩部成形面、前記彫刻部成形面、および、前記仕上型のうち前記口型と対向するとともに前記首部成形面に隣接して設けられた対向面、のうちの少なくともいずれかと、前記底型成形面の全面と、の両方に対して、前記離型剤を塗布するように構成されていることを特徴とする、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置。
4. 請求項１〜請求項３の何れか１項に記載のガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置であって、
   前記仕上型の一対の割型が閉じられた状態のときに前記離型剤を塗布するように構成されていることを特徴とする、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置。
5. 請求項１〜請求項４の何れか１項に記載のガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置であって、
   パリソンが前記仕上型に挿入されていないタイミングで前記離型剤を塗布するように構成されていることを特徴とする、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置。
6. 請求項１〜請求項５の何れか１項に記載のガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置であって、
   前記仕上型の一対の割型が開かれたときに前記底型のうち前記仕上型と前記底型との摺動面に前記離型剤を塗布するように構成されていることを特徴とする、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置。
7. 請求項１〜請求項６の何れか１項に記載のガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置であって、
   口型が前記仕上型の上方に配置されているときに前記仕上型に前記離型剤を塗布することで、前記口型および前記仕上型へ同時に前記離型剤を塗布するように構成されていることを特徴とする、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置。
8. 請求項７に記載のガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置であって、
   前記仕上型と前記口型との間に隙間があけられた状態で前記離型剤を塗布することで、前記口型と前記仕上型の互いの対向面に同時に前記離型剤を塗布するように構成されていることを特徴とする、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置。
9. 請求項１〜請求項８の何れか１項に記載のガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置であって、
   前記仕上型を含むガラスびん製造装置においてゴブが投入されず、通常の製びんサイクルとは異なる動作サイクルであるスワブサイクルのうち、口型が前記仕上型の上方に配置されているときに前記仕上型および前記口型に前記離型剤を塗布するように構成されていることを特徴とする、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置。
10. 請求項１〜請求項９の何れか１項に記載のガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置であって、
    前記離型剤を前記仕上型へ塗布する塗布部と、
    前記塗布部の動作を制御する制御ユニットと、
    を備えていることを特徴とする、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置。
11. 請求項１０に記載のガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置であって、
    前記塗布部は、前記仕上型に対して変位機構によって変位されるように構成され、
    前記制御ユニットは、前記変位機構の動作および前記塗布部からの前記離型剤の供給を制御する制御部、を含んでいることを特徴とする、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置。
12. 仕上型に設けられた仕上型成形面の一部、および、この仕上型の下部に配置される底型に設けられた底型成形面の全面、のうちの少なくともいずれかに離型剤を塗布することを特徴とする、ガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布方法。
13. 請求項１〜請求項１１の何れか１項に記載のガラスびん仕上成形用金型への離型剤塗布装置を備えていることを特徴とする、ガラスびん製造装置。
14. 仕上型に設けられた仕上型成形面の一部、および、この仕上型の下部に配置される底型に設けられた底型成形面の全面、のうちの少なくともいずれかに離型剤を塗布する、離型剤塗布ステップと、
    前記仕上型を用いてガラスびんを成形する成形ステップと、
    を含んでいることを特徴とする、ガラスびん製造方法。

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