JP2019062044A - 基板保持部材および基板保持方法 - Google Patents
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Description
(構成)
図1、図2および図3に部分的に示されている本発明の第1実施形態としての基板保持部材は、主面102を有する板状の基体1と、基体2の内部に設けられた1つ以上の第1流路21と、第1流路21が主面102に開口してなる複数の第1開口部212と、主面102に立設されて基板Wを支持するための複数の凸部11と、基体1の内部に設けられた1つ以上の第2流路22と、第2流路22が主面102に開口してなる複数の第2開口部222と、を備えている。図2は図3のA−A線に沿った基板保持部材の横断面図である。
前記構成の本発明の第1実施形態としての基板保持装置によれば、基板Wが基体1に載置され、基板Wが複数の凸部11のうち少なくとも一部により支持される。この状態で基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間から空気が第1開口部212を通じて第1流路21に排出されることにより当該空間が減圧される(図4/黒下矢印参照)。基板Wが当該減圧に由来する引力により全体的に基体1の主面102に向かうように引き寄せられて複数の凸部11により支持される。
第1実施形態にしたがって実施例1の基板保持装置が作製された。具体的には、板状のSiC焼結体が加工されることにより直径φ300mm×厚さt6mmの略円盤状の基体1が作製された。径φ5mmの円形の複数の第1開口部212が、ピッチ40mmの正三角格子を構成するように配置された。径φ13mmの円形の複数の第2開口部222が、ピッチ20mmの正三角格子を構成するように配置された。径φ0.5mm×高さ100μmの略円柱状の複数の凸部11が、ピッチ40mmの正三角格子を構成するように配置された。内径φ14mm、幅2mm、高さ97μmの円環状の凸状壁12が、第2開口部222の周囲に配置された。
(構成)
図5に示されている本発明の第2実施形態としての基板保持装置は、凸状壁12が省略されている。凸部11の上端面112と、当該上端面112の次に低い面としての主面102との間の高さの差は、例えば0.5μm以上かつ5μm以下である。
前記構成の本発明の第2実施形態としての基板保持装置によれば、基板Wが基体1に載置され、基板Wが複数の凸部11のうち少なくとも一部により支持される。この状態で基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間から空気が第1開口部212を通じて第1流路21に排出されることにより当該空間が減圧される(図6/黒下矢印参照)。基板Wが当該減圧に由来する引力により全体的に基体1の主面102に向かうように引き寄せられて複数の凸部11により支持される。図6は図5のB−B線に沿った基板保持部材の横断面図である。
第2実施形態にしたがって実施例2の基板保持装置が作製された。具体的には、板状のSiC焼結体が加工されることにより直径φ300mm×厚さt6mmの略円盤状の基体1が作製された。径φ5mmの円形の複数の第1開口部212が、ピッチ20mmの正三角格子を構成するように配置された。径φ13mmの円形の複数の第2開口部222が、ピッチ20mmの正三角格子を構成するように配置された。径φ0.5mm×高さ100μmの略円柱状の複数の凸部11が、ピッチ20mmの正三角格子を構成するように配置された。
基体1の主面102において、複数の凸部11、複数の第1開口部212および複数の第2開口部222のうち一部または全部が、不規則的に配置されていてもよい。
Claims (9)
- 主面を有する板状の基体と、
前記基体の内部に設けられた1つ以上の第1流路と、
前記1つ以上の第1流路が前記主面に開口してなる複数の第1開口部と、
前記主面に立設されて基板を支持するための複数の凸部と、を備える基板保持部材であって、
前記基体の内部に設けられた1つ以上の第2流路と、
前記1つ以上の第2流路が前記主面に開口してなる複数の第2開口部と、を有し、
前記複数の凸部のうち少なくとも一部により支持される前記基板と前記主面との間の空間に存在する気体が前記第1開口部を経て前記第1流路に排出されたことに応じて、前記第2開口部を経て前記第2流路から前記空間に気体が導入されるように構成されていることを特徴とする基板保持部材。 - 前記複数の第1開口部、前記複数の第2開口部および前記複数の凸部のそれぞれが、前記主面に規則的に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の基板保持部材。
- 前記主面は、1つ以上の前記第1開口部、1つ以上の前記第2開口部、および1つ以上の前記凸部が所定の位置関係で配置された単位領域を有し、規則的に配置された複数の前記単位領域により前記主面の少なくとも一部が構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の基板保持部材。
- 前記第1開口部と前記第2開口部との間の前記主面に前記凸部よりも低い高さで立設された凸状壁を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の基板保持部材。
- 前記凸状壁は、前記第2開口部の周囲を囲うように設けられた環状壁であることを特徴とする請求項4に記載の基板保持部材。
- 前記凸部の上端面と、前記上端面の次に低い面としての前記主面との間の高さの差が0.5〜5μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の基板保持部材。
- 前記凸部の上端面と、前記上端面の次に低い面としての前記凸状壁の上端面との間の高さの差が0.5〜5μmであることを特徴とする請求項4または5に記載の基板保持部材。
- 前記第2流路は、大気に通じている、又は該第2流路内の気圧を調整する圧力調整装置に接続されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の基板保持部材。
- 主面を有する板状の基体と、
前記基体の内部に設けられた複数の流路と、
前記複数の流路のそれぞれが前記主面に開口してなる複数の開口部と、
前記主面に立設されて基板を支持するための複数の凸部と、を備える基板保持部材を用いて、基板を保持する方法であって、
前記基板を前記基体に載置することにより、前記基板を前記複数の凸部のうち少なくとも一部により支持させる工程と、
前記基板と前記基体の前記主面との間の空間に存在する気体を、前記複数の開口部のうち一部を構成する複数の第1開口部を経て前記複数の流路のうち一部を構成する第1流路に排出させ、かつ、前記複数の開口部のうち前記第1開口部とは別の複数の第2開口部を経て前記複数の流路のうち一部を構成する第2流路から前記空間に気体を導入する工程と、を含むことを特徴とする基板保持方法。
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CN113580150A (zh) * | 2020-04-30 | 2021-11-02 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 硅片拾取装置 |
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