JP6946134B2 - 基板保持部材および基板保持方法 - Google Patents
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Description
(構成)
図1および図13に示されている本発明の第1実施形態としての基板保持部材は、平坦な主面102を有する基体1と、主面102の外周部において主面102の周縁部に沿って連続的または断続的に延在し、かつ、主面102よりも突出して設けられた第1環状凸部11およびその内側の第2環状凸部12と、を備えている。主面102は平面ではなく、凹曲面または凸曲面などの曲面であってもよい。
本発明の第1実施形態としての基板保持部材によれば、前記(1)の場合と同様の機能が発揮される。すなわち、第1環状凸部11の内側において基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間が、第1主開口部212および第1主流路21を通じて減圧される(図1/黒下矢印参照)。これにより、第2環状凸部12の内側から外側に気体が流れ、基板Wの裏面および第2環状凸部12の上端面の間隙において当該気体の速度が局所的に高くなる(図1/一点鎖線左矢印参照)。
(構成)
図2に示されている本発明の第2実施形態としての基板保持部材においては、第1環状凸部11の高さH1のほうが、第2環状凸部12の高さH2よりも低い。例えば、H1=97μmであり、H2=100μmである。当該高さの偏差H2−H1は、例えば0.5μm以上かつ5μm以下である。第2環状凸部12の幅W2は、第1環状凸部11の幅W1よりも小さい。例えば、W1=3.0mmであり、W2=0.5mmである。これら以外の構成は、第1実施形態の基板保持部材と同様なので、同一の符号を用いるとともに説明を省略する。
本発明の第2実施形態としての基板保持部材によれば、前記(2)の場合と同様の機能が発揮される。すなわち、第1環状凸部11および第2環状凸部12の間の中間領域において基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間が、第1主開口部212および第1主流路21を通じて減圧される(図2/黒下矢印参照)。これにより、第1環状凸部21の外側から内側に気体が流れ、基板Wの裏面および第1環状凸部11の上端面の間隙において当該気体の速度が局所的に高くなる(図2/一点鎖線右矢印参照)。また、基板Wの裏面および第2環状凸部12の上端面の(第2環状凸部12の表面粗さに由来する)微小な間隙を通じて第2環状凸部12の内側から外側に気体が流れ、当該微小な間隙において気体の速度が局所的に高くなる可能性がある。
(構成)
図3および図14に示されている本発明の第3実施形態としての基板保持部材は、基体1の主面102の内側領域に連続的または断続的な環状に設けられた、第3環状凸部13およびその内側の第4環状凸部14をさらに備えている。
本発明の第3実施形態としての基板保持部材によれば、前記(1)の場合、かつ、前記(3)の場合と同様の機能が発揮される。すなわち、第1環状凸部11の内側において基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間が、第1主開口部212および第1主流路21を通じて減圧される(図3/左側の黒下矢印参照)。これにより、第2環状凸部12の内側から外側に気体が流れ、基板Wの裏面および第2環状凸部12の上端面の間隙において当該気体の速度が局所的に高くなる(図3/一点鎖線左矢印参照)。
(構成)
図4に示されている本発明の第4実施形態としての基板保持部材においては、第1環状凸部11の高さH1のほうが、第2環状凸部12の高さH2よりも低い。第2環状凸部12の高さH2は、第3環状凸部13の高さH3と同一である。例えば、H1=97μmであり、H2=H3=100μmであり、H4(<H2)=97μmである。当該高さの偏差H2−H1は、例えば0.5μm以上かつ5μm以下である。第2環状凸部12の幅W2は、第1環状凸部11の幅W1よりも小さい。例えば、W1=3.0mmであり、W2=0.5mmである。これら以外の構成は、第3実施形態の基板保持部材と同様なので、同一の符号を用いるとともに説明を省略する。
本発明の第4実施形態としての基板保持部材によれば、前記(2)の場合、かつ、前記(3)の場合と同様の機能が発揮される。すなわち、第1環状凸部11および第2環状凸部12の中間領域において基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間が、第1主開口部212および第1主流路21を通じて減圧される(図4/左側の黒下矢印参照)。これにより、第1環状凸部21の外側から内側に気体が流れ、基板Wの裏面および第1環状凸部11の上端面の間隙において当該気体の速度が局所的に高くなる(図4/一点鎖線右矢印参照)。
(構成)
図5に示されている本発明の第5実施形態としての基板保持部材においては、第3環状凸部13の高さH3のほうが、第4環状凸部14の高さH4よりも低い。第4環状凸部14の高さH4は、第1環状凸部11の高さH1と同じである。例えば、H1=H4=100μmであり、H3(<H1)=97μmである。当該高さの偏差H4−H3は、例えば0.5μm以上かつ5μm以下である。第4環状凸部14の幅W4は、第3環状凸部13の幅W3よりも小さい。例えば、W3=3.0mmであり、W4=0.5mmである。
本発明の第5実施形態としての基板保持部材によれば、前記(1)の場合、かつ、前記(4)の場合と同様の機能が発揮される。すなわち、第1環状凸部11の内側において基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間が、第1主開口部212および第1主流路21を通じて減圧される(図5/左側の黒下矢印参照)。これにより、第2環状凸部12の内側から外側に気体が流れ、基板Wの裏面および第2環状凸部12の上端面の間隙において当該気体の速度が局所的に高くなる(図5/一点鎖線左矢印参照)。
(構成)
図6に示されている本発明の第6実施形態としての基板保持部材においては、第1環状凸部11の高さH1のほうが、第2環状凸部12の高さH2よりも低い。第2環状凸部12の高さH2は、第4環状凸部14の高さと同一である。例えば、H1=97μmであり、H2=H4=100μmであり、H3(<H2)=97μmである。当該高さの偏差H2−H1は、例えば0.5μm以上かつ5μm以下である。第2環状凸部12の幅W2は、第1環状凸部11の幅W1よりも小さい。例えば、W1=3.0mmであり、W2=0.5mmである。これら以外の構成は、第5実施形態の基板保持部材と同様なので、同一の符号を用いるとともに説明を省略する。
本発明の第6実施形態としての基板保持部材によれば、前記(2)の場合、かつ、前記(4)の場合と同様の機能が発揮される。すなわち、第1環状凸部11および第2環状凸部12の中間領域において基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間が、第1主開口部212および第1主流路21を通じて減圧される(図6/左側の黒下矢印参照)。これにより、第1環状凸部21の外側から内側に気体が流れ、基板Wの裏面および第1環状凸部11の上端面の間隙において当該気体の速度が局所的に高くなる(図6/一点鎖線右矢印参照)。
(構成)
図7に示されている本発明の第7実施形態としての基板保持部材においては、第3環状凸部13の高さH3および第4環状凸部14の高さH4が、第1環状凸部11の高さH1よりも低い。第1環状凸部11の高さH1と第3環状凸部13の高さH3の差H1−H3および第1環状凸部11の高さH1と第4環状凸部14の高さH4の差H1−H4は、例えば0.5μm以上かつ5μm以下である。第3環状凸部13の高さH3および第4環状凸部14の高さH4は同一であってもよく、異なっていてもよい。第3環状凸部13の幅W3および第4環状凸部14の幅W4は、第1環状凸部11の幅W1よりも大きい。第3環状凸部13の幅W3および第4環状凸部14の幅W4は同一であってもよく、異なっていてもよい。
本発明の第7実施形態としての基板保持部材によれば、前記(5)の場合と同様の機能が発揮される。すなわち、第1環状凸部11の内側において基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間が、第1主開口部212および第1主流路21を通じて減圧される(図7/左側の黒下矢印参照)。これにより、第2環状凸部12の内側から外側に気体が流れ、基板Wの裏面および第2環状凸部12の上端面の間隙において当該気体の速度が局所的に高くなる(図7/一点鎖線左矢印参照)。
(構成)
図8に示されている本発明の第8実施形態としての基板保持部材においては、第1環状凸部11の高さH1のほうが、第2環状凸部12の高さH2よりも低い。例えば、H1=97μmであり、H2=100μmであり、H3=H4(<H2)=97μmである。当該高さの偏差H2−H1は、例えば0.5μm以上かつ5μm以下である。第2環状凸部12の幅W2は、第1環状凸部11の幅W1よりも小さい。例えば、W1=3.0mmであり、W2=0.5mmである。これら以外の構成は、第7実施形態の基板保持部材と同様なので、同一の符号を用いるとともに説明を省略する。
本発明の第8実施形態としての基板保持部材によれば、前記(6)の場合と同様の機能が発揮される。すなわち、第1環状凸部11および第2環状凸部12の中間領域において基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間が、第1主開口部212および第1主流路21を通じて減圧される(図8/左側の黒下矢印参照)。これにより、第1環状凸部21の外側から内側に気体が流れ、基板Wの裏面および第1環状凸部11の上端面の間隙において当該気体の速度が局所的に高くなる(図8/一点鎖線右矢印参照)。
(構成)
図9および図15に示されている本発明の第9実施形態としての基板保持部材は、主面102において第2環状凸部12の内側領域に離散的に配置されている複数の凸部10をさらに備えている点において第1実施形態の基板保持部材と相違する。複数の凸部10は、三角格子状、正方格子状など規則的に配置されている。複数の凸部10のそれぞれは、柱状、錘台状、複数の柱または錘台が軸線方向に積み重ねられたような形状であり、研削加工、ブラスト加工もしくはレーザー加工またはこれらの組み合わせにより形成される。第1環状凸部11の高さH1は、凸部10の高さH0と同一である。
本発明の第9実施形態としての基板保持部材によれば、前記(1)の場合と同様の機能が発揮される。すなわち、第1環状凸部11の内側において基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間が、第1主開口部212および第1主流路21を通じて減圧される(図9/黒下矢印参照)。これにより、第2環状凸部12の内側から外側に気体が流れ、基板Wの裏面および第2環状凸部12の上端面の間隙において当該気体の速度が局所的に高くなる(図9/一点鎖線左矢印参照)。
(構成)
図10および図15に示されている本発明の第10実施形態としての基板保持部材は、主面102において第2環状凸部12の内側領域に離散的に配置されている複数の凸部10をさらに備えている点において第2実施形態の基板保持部材と相違する。複数の凸部10は、三角格子状、正方格子状など規則的に配置されている。複数の凸部10のそれぞれは、柱状、錘台状、複数の柱または錘台が軸線方向に積み重ねられたような形状であり、研削加工、ブラスト加工もしくはレーザー加工またはこれらの組み合わせにより形成される。第2環状凸部12の高さH2は、凸部10の高さH0と同一である。
本発明の第10実施形態としての基板保持部材によれば、前記(2)の場合と同様の機能が発揮される。すなわち、第1環状凸部11および第2環状凸部12の中間領域において基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間が、第1主開口部212および第1主流路21を通じて減圧される(図10/黒下矢印参照)。これにより、第1環状凸部21の外側から内側に気体が流れ、基板Wの裏面および第1環状凸部11の上端面の間隙において当該気体の速度が局所的に高くなる(図10/一点鎖線右矢印参照)。
(構成)
図11に示されている本発明の第11実施形態としての基板保持部材は、基体1の主面102において、第2環状凸部12の内側および第1副開口部412の外側の中間に、連続的または断続的な環状に延在する第3環状凸部13が設けられている。第3環状凸部13の高さH3は、第1環状凸部11の高さH1よりも低い。これら以外の構成は、第1実施形態の基板保持部材と同様なので、同一の符号を用いるとともに説明を省略する。
本発明の第11実施形態としての基板保持部材によれば、前記(1)の場合と同様の機能が発揮される。すなわち、第1環状凸部11の内側において基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間が、第1主開口部212および第1主流路21を通じて減圧される(図11/黒下矢印参照)。これにより、第2環状凸部12の内側から外側に気体が流れ、基板Wの裏面および第2環状凸部12の上端面の間隙において当該気体の速度が局所的に高くなる(図11/一点鎖線左矢印参照)。また、第3環状凸部13の内側から外側に気体が流れ、基板Wの裏面および第3環状凸部13の上端面の間隙において当該気体の速度が局所的に高くなる(図11/二点鎖線左矢印参照)。
(構成)
図12に示されている本発明の第12実施形態としての基板保持部材は、基体1の主面102において、第2環状凸部12の内側および第1副開口部412の外側の中間に、連続的または断続的な環状に延在する第4環状凸部14が設けられている点において第10実施形態の基板保持部材と相違する。第4環状凸部14の高さH4は、第2環状凸部12の高さH1および複数の凸部10の高さH0よりも低い。基板保持部材は、第2主流路22をさらに備えている。第2主流路22は、基体1の主面102において第2環状凸部12と第4環状凸部14との中間領域に開口する第2主開口部222を有し、真空吸引装置(図示略)に接続されるように基体1に設けられている。
本発明の第12実施形態としての基板保持部材によれば、前記(2)の場合と同様の機能が発揮される。すなわち、第1環状凸部11および第2環状凸部12の中間領域において基板Wの裏面および基体1の主面102により挟まれた空間が、第1主開口部212および第1主流路21を通じて減圧される(図12/左側の黒下矢印参照)。これにより、第1環状凸部21の外側から内側に気体が流れ、基板Wの裏面および第1環状凸部11の上端面の間隙において当該気体の速度が局所的に高くなる(図12/一点鎖線右矢印参照)。
第1、第3、第5、第7、第9および第11実施形態のそれぞれの基板保持部材において、第1環状凸部11の幅W1が、第2環状凸部12の幅W2と同一であってもよく、第2環状凸部12の幅W2より大きくてもよい。第2、第4、第6、第8、第10および第12実施形態のそれぞれの基板保持部材において、第1環状凸部11の幅W1が、第2環状凸部12の幅W2と同一であってもよく、第2環状凸部12の幅W2より小さくてもよい。
(実施例1)
第1実施形態にしたがって実施例1の基板保持部材が作製された(図1参照)。外径φ300mm、厚み7mmの略円盤状の炭化珪素(SiC)セラミックス焼結体により基体1が作製された。基体1の主面102において、外径φ299mm、幅0.5mm、高さ100μmの円環状の凸部が第1環状凸部11として形成された。外径φ296mm、幅3mm、高さ97μmの円環状の凸部が第2環状凸部12として形成された。基体1において主面102の中心から297mmの円環上に周方向に等間隔に配置された、φ0.8mmの厚さ方向に貫通する36個の貫通孔が第1主流路21として形成された。基体1において主面102の中心に配置された、φ4mmの厚さ方向に貫通する単一の貫通孔が第1副流路41として形成された。
第2実施形態にしたがって実施例2の基板保持部材が作製された(図2参照)。外径φ300mm、厚み7mmの略円盤状の炭化珪素(SiC)セラミックス焼結体により基体1が作製された。基体1の主面102において、外径φ299mm、幅3mm、高さ97μmの円環状の凸部が第1環状凸部11として形成された。外径φ296mm、幅0.5mm、高さ100μmの円環状の凸部が第2環状凸部12として形成された。基体1において主面102の中心から297mmの円環上に周方向に等間隔に配置された、φ0.8mmの厚さ方向に貫通する36個の貫通孔が第1主流路21として形成された。基体1において主面102の中心に配置された、φ4mmの厚さ方向に貫通する単一の貫通孔が第1副流路41として形成された。
第7実施形態にしたがって実施例3の基板保持部材が作製された(図7参照)。外径φ300mm、厚み7mmの略円盤状の炭化珪素(SiC)セラミックス焼結体により基体1が作製された。基体1の主面102において、外径φ299mm、幅0.5mm、高さ100μmの円環状の凸部が第1環状凸部11として形成された。外径φ296mm、幅3mm、高さ97μmの円環状の凸部が第2環状凸部12として形成された。外径φ150mm、幅3mm、高さ97μmの円環状の凸部が第3環状凸部13として形成された。外径φ142mm、幅3mm、高さ97μmの円環状の凸部が第4環状凸部14として形成された。
第2環状凸部12が高さH2=100μmになるように形成され、かつ、第1環状凸部11の高さH1および第2環状凸部12の高さH2が同じである点を除き、実施例1と同様の方法で比較例1の基板保持部材が作製された。
実施例1〜3および比較例1のそれぞれの基板保持部材によって保持された状態の基板Wの平坦度が、レーザー干渉計(ZYGO社製 GPI Hs)を用いてPV値として測定された。実施例1〜3および比較例1のそれぞれの基板保持部材によって保持された基板Wに付着したサイズ0.4μm以上のパーティクルの数が、パーティクルカウンタ(トプコン社製 WA−10)を用いて測定された。表1にはこれらの測定結果がまとめて示されている。
Claims (15)
- 主面を有する基体と、
前記主面の外周部において前記主面の周縁部に沿って連続的または断続的に設けられた、互いに高さの異なる第1環状凸部およびその内側の第2環状凸部を有し、
前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうちの高さの高い方の環状凸部により基板が支持され、
前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうち高さが低い方の環状凸部の幅は、前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうち高さが高い方の環状凸部の幅よりも大きい、基板保持部材であって、
前記主面において前記第1環状凸部と前記第2環状凸部との間の第1領域に開口する第1主開口部を有する第1主流路であって、真空吸引装置に接続されるように前記基体に設けられている第1主流路と、
前記主面において前記第2環状凸部の内側領域に開口する第1副開口部を有する第1副流路であって、大気に通じるようにまたは前記第1副流路内の気圧を調整する圧力調整装置に接続されるように前記基体に設けられている第1副流路と、を備えることを特徴とする基板保持部材。 - 前記第1環状凸部と前記第2環状凸部との間の高さの差が0.5〜5μmであることを特徴とする請求項1に記載の基板保持部材。
- 前記主面の内側領域に連続的または断続的な環状に設けられた、第3環状凸部およびその内側の第4環状凸部を有し、
前記第3環状凸部および前記第4環状凸部のうち、一方の環状凸部の高さは前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうちの高さが高い方の環状凸部の高さよりも低く、他方の環状凸部の高さは前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうち高さが高い方の環状凸部の高さと同じであり、
前記主面において前記第3環状凸部と前記第4環状凸部との間の第3領域に開口する第2主開口部を有する第2主流路であって、真空吸引装置に接続されるように前記基体に設けられている第2主流路を有し、
前記第1副開口部は、前記主面において前記第4環状凸部の内側の第4領域に設けられることを特徴とする請求項1に記載の基板保持部材。 - 前記第3環状凸部および前記第4環状凸部のうち高さが低い方の環状凸部の幅は、前記第3環状凸部および前記第4環状凸部のうち高さが高い方の環状凸部の幅よりも大きいことを特徴とする請求項3に記載の基板保持部材。
- 前記第3環状凸部と前記第4環状凸部との間の高さの差が0.5〜5μmであることを特徴とする請求項3または4に記載の基板保持部材。
- 前記主面の内側領域に連続的または断続的な環状に設けられた、第3環状凸部およびその内側の第4環状凸部を有し、
前記第3環状凸部および前記第4環状凸部の高さは、前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうちの高さが高い方の環状凸部の高さよりも低く
前記主面において前記第3環状凸部と前記第4環状凸部との間の第3領域に開口する第2主開口部を有する第2主流路であって、真空吸引装置に接続されるように前記基体に設けられている第2主流路を有し、
前記第1副開口部は、前記主面において前記第4環状凸部の内側の第4領域に設けられることを特徴とする請求項1に記載の基板保持部材。 - 前記第3環状凸部および前記第4環状凸部の幅は、前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうち高さが高い方の環状凸部の幅よりも大きいことを特徴とする請求項6に記載の基板保持部材。
- 主面を有する基体と、
前記主面の外周部において前記主面の周縁部に沿って連続的または断続的に設けられた、互いに高さの異なる第1環状凸部およびその内側の第2環状凸部を有し、
前記主面の内側領域に連続的または断続的な環状に設けられた、第3環状凸部およびその内側の第4環状凸部を有し、
前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうちの高さの高い方の環状凸部により基板が支持され、
前記第3環状凸部および前記第4環状凸部の幅は、前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうち高さが高い方の環状凸部の幅よりも大きい、基板保持部材であって、
前記主面において前記第1環状凸部と前記第2環状凸部との間の第1領域に開口する第1主開口部を有する第1主流路であって、真空吸引装置に接続されるように前記基体に設けられている第1主流路と、
前記主面において前記第2環状凸部の内側領域に開口する第1副開口部を有する第1副流路であって、大気に通じるようにまたは前記第1副流路内の気圧を調整する圧力調整装置に接続されるように前記基体に設けられている第1副流路と、を備えることを特徴とする基板保持部材。 - 前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうち高さが高い方の環状凸部と前記第3環状凸部との間の高さの差および前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうち高さが高い方の環状凸部と前記第4環状凸部との間の高さの差が0.5〜5μmであることを特徴とする請求項6〜8のいずれか1項に記載の基板保持部材。
- 前記主面において前記第2環状凸部および前記第3環状凸部の間の第2領域に開口する第2副開口部を有する第2副流路であって、大気に通じるように、または前記第2副流路内の気圧を調整する圧力調整装置に接続されるように前記基体に設けられている第2副流路を備えることを特徴とする請求項3〜9のいずれか1項に記載の基板保持部材。
- 前記主面において前記第2環状凸部の内側の内側領域に、前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうちの高さが高い方の環状凸部と同じ高さを有する凸部を有することを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の基板保持部材。
- 前記第2環状凸部の方が前記第1環状凸部よりも高さが低いことを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の基板保持部材。
- 前記第1環状凸部の方が前記第2環状凸部よりも高さが低いことを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の基板保持部材。
- 主面を有する基体と、
前記主面の外周部において前記主面の周縁部に沿って連続的または断続的に設けられた、互いに高さの異なる第1環状凸部およびその内側にある第2環状凸部と、
前記主面において前記第1環状凸部と前記第2環状凸部との中間領域に開口する主開口部を有し、真空吸引装置に接続されるように前記基体に設けられている主流路と、
前記主面において前記第2環状凸部の内側領域に開口する副開口部を有し、大気に通じるようにまたは副流路内の気圧を調整する圧力調整装置に接続されるように前記基体に設けられている副流路と、を備え、
前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうち高さが低い方の環状凸部の幅は、前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうち高さが高い方の環状凸部の幅よりも大きい、基板保持部材を用いて基板を保持する方法であって、
前記基板を前記基体の主面側に載置する工程と、
前記真空吸引装置を作動させることにより、前記基板の裏面および前記基体の主面との間の空間を減圧することにより、前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうちの高さの高い方の環状凸部により前記基板を支持させる工程と、を含むことを特徴とする基板保持方法。 - 主面を有する基体と、
前記主面の外周部において前記主面の周縁部に沿って連続的または断続的に設けられた、互いに高さの異なる第1環状凸部およびその内側にある第2環状凸部と、
前記主面の内側領域に連続的または断続的な環状に設けられた、第3環状凸部およびその内側にある第4環状凸部と、
前記主面において前記第1環状凸部と前記第2環状凸部との中間領域に開口する主開口部を有し、真空吸引装置に接続されるように前記基体に設けられている主流路と、
前記主面において前記第2環状凸部の内側領域に開口する副開口部を有し、大気に通じるようにまたは副流路内の気圧を調整する圧力調整装置に接続されるように前記基体に設けられている副流路と、を備え、
前記第3環状凸部および前記第4環状凸部の幅は、前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうち高さが高い方の環状凸部の幅よりも大きい、基板保持部材を用いて基板を保持する方法であって、
前記基板を前記基体の主面側に載置する工程と、
前記真空吸引装置を作動させることにより、前記基板の裏面および前記基体の主面との間の空間を減圧することにより、前記第1環状凸部および前記第2環状凸部のうちの高さの高い方の環状凸部により前記基板を支持させる工程と、を含むことを特徴とする基板保持方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017186979A JP6946134B2 (ja) | 2017-09-27 | 2017-09-27 | 基板保持部材および基板保持方法 |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2019062128A JP2019062128A (ja) | 2019-04-18 |
JP6946134B2 true JP6946134B2 (ja) | 2021-10-06 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6946134B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2911997B2 (ja) * | 1989-10-20 | 1999-06-28 | 日本電気株式会社 | 半導体ウェハーへのテープ貼付装置 |
JP4752320B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2011-08-17 | 株式会社ニコン | 基板保持装置及び露光装置、基板保持方法、露光方法、並びにデバイス製造方法 |
KR101539517B1 (ko) * | 2005-12-08 | 2015-07-24 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 |
JP6496255B2 (ja) * | 2016-01-29 | 2019-04-03 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持装置 |
-
2017
- 2017-09-27 JP JP2017186979A patent/JP6946134B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019062128A (ja) | 2019-04-18 |
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