JP6711721B2 - 真空吸着部材 - Google Patents
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Description
(構成)
図1および図2に示されている本発明の第1実施形態としての真空吸着部材は、ウエハW(基板)を上面側に吸着保持するための基体1を備えている。基体1は、略円板状のセラミックス焼結体により形成されている。基体1の形状は、略円板状のほか、多角形板状または楕円板状などのさまざまな形状であってもよい。
前記構成の真空吸着部材は、たとえば次のような手順で作製される。すなわち、原料粉末から略円板状の成形体が作製され、この成形体が焼成されることで略円板状の焼結体が作製される。原料粉末としては、たとえば純度97%以上の炭化ケイ素、必要に応じてこれに適量の焼結助剤が添加された混合原料粉末が用いられる。そのほか、アルミナ粉末等、他のセラミックス粉末が原料粉末として用いられてもよい。そのうえで、当該焼結体に環状の第1凸要素11、ピン状の第2凸要素12、環状凸部20、各環状隔壁部21〜23および通気路100がブラスト加工またはミリング加工などの適当な加工法にしたがって形成される。前記工程によって前記構成の基体1を有する真空吸着部材が作製される。
前記構成の真空吸着部材によれば、まず、図3Aに示されているように、真空吸着部材の上面側にウエハWが載置され、ウエハWの下面に対して複数の第1凸要素11、複数の第2凸要素12および環状凸部20のそれぞれのうち少なくとも一部の上端が当接する。前記のようにH21=H22=H23<H11=H12=H20という関係があるため、この際、環状凸部20の内側において複数の環状隔壁部21〜23はウエハWから原則的に離間している。この際、基体1の上面を通じて外部に連通するように基体1の内部に形成されている通気路100を通じて、基体1の上面、環状凸部20の内側面およびウエハWの下面により画定される空間において、環状隔壁部21〜23により画定された複数の領域S0〜S3のうち一の領域または内側領域がその外側にある他の領域または外側領域よりも早く減圧される。本実施形態では、基体1における負圧形成が、中央領域S0における貫通孔の下端部分から開始されることにより、S0→S1→S2→S3の順で各領域S0〜S3が減圧される。
図4に示されている本発明の第2実施形態としての真空吸着部材は、第2環状領域S2および第3環状領域S3に第2凸要素12ではなく第1凸要素11が凸部として基体1の上面に形成されている。このほかの点は、本発明の第1実施形態としての真空吸着部材(図1および図2参照)とほぼ同様の構成であるため、説明を省略する。
図5に示されている本発明の第3実施形態としての真空吸着部材は、中央領域S0および第1環状領域S1に第1凸要素11ではなく分散配置された複数の第2凸要素12が凸部として基体1の上面に形成されている。このほかの点は、本発明の第1実施形態としての真空吸着部材(図1および図2参照)とほぼ同様の構成であるため、説明を省略する。
前記実施形態では、基体1の上面から3重環をなすように突出する環状隔壁部21〜23が基体1に形成されていたが(図1等参照)、他の実施形態として、基体1の上面から2重環または3重より多重(例えば9重)の環をなすように突出する環状隔壁部が基体1に形成されていてもよい。
Claims (4)
- 上面側に基板が載置される基体を備え、
前記基体の上面を通じて外部に連通する通気路が前記基体の内部に形成され、前記基体の上面から突出して前記基板を支持する複数の凸部と、前記基体の外周縁部の上面から環状に突出して前記基板を支持する環状凸部と、が前記基体に形成されている真空吸着部材であって、
前記環状凸部の内側において前記基体の上面を中央領域およびこれを取り囲む複数の環状領域に区画し、かつ、前記複数の凸部および前記環状凸部よりも上端位置が低くなるように前記基体の上面から突出する複数の環状隔壁部が前記基体の上面に形成され、
前記複数の環状隔壁部には、最も内側の環状隔壁部の上端位置よりも外側の環状隔壁部の上端位置が低いという関係があり、
前記通気路を通じて前記中央領域から前記複数の環状領域まで内側から順に減圧されるように構成され、
前記中央領域および前記複数の環状領域のうち直接的または間接的に隣り合う少なくとも一対の領域の間に、内側にある一の領域における前記凸部の密度が、その外側にある他の領域における前記凸部の密度よりも高いという関係があることを特徴とする真空吸着部材。 - 請求項1記載の真空吸着部材において、
前記中央領域および前記複数の環状領域の間に、内側にある一の領域における前記凸部の密度が、その外側にある他の領域における前記凸部の密度よりも高いという関係があることを特徴とする真空吸着部材。 - 請求項1記載の真空吸着部材において、
前記一の領域において、前記複数の環状隔壁部とともに多重環をなす環に沿って断続的または連続的に延在するように前記基体の上面から突出する弧状または環状の第1凸要素が前記凸部として形成され、前記他の領域において、前記凸部が分散配置されている複数のピン状の第2凸要素が前記凸部として形成されていることを特徴とする真空吸着部材。 - 請求項1または2記載の真空吸着部材において、
前記一の領域および前記他の領域のそれぞれにおいて、前記複数の環状隔壁部とともに多重環をなす環に沿って断続的または連続的に延在するように前記基体の上面から突出する弧状または環状の第1凸要素が前記凸部として形成されていることを特徴とする真空吸着部材。
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