JP7011459B2 - 真空吸着部材 - Google Patents
真空吸着部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7011459B2 JP7011459B2 JP2017244690A JP2017244690A JP7011459B2 JP 7011459 B2 JP7011459 B2 JP 7011459B2 JP 2017244690 A JP2017244690 A JP 2017244690A JP 2017244690 A JP2017244690 A JP 2017244690A JP 7011459 B2 JP7011459 B2 JP 7011459B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- convex portions
- main surface
- vacuum suction
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
(構成)
図1および図2に示されている本発明の第1実施形態としての真空吸着部材は、基体1と、基体1の主面102から突出する複数の凸部10と、複数の凸部10を取り囲むように延在して基体1の主面10から突出する環状凸部14と、基体1の内部を通り、基体1の主面102に開口部202を有する通気経路20と、を備えている。
本発明の第1実施形態としての真空吸着部材によれば、基体1の主面102の側において基板Wが真空吸着部材に載置されることにより、複数の凸部10のうち少なくとも一部の凸部10により基板Wが支持される(図3参照)。基板Wは、例えば図3に示されているように、内側領域X1よりも外側領域X2が薄く、かつ、基板Wの内側領域X1において裏面W2が一の平面に一致する際、基板Wの外側領域X2において裏面W2が当該一の平面よりも表面W1に近い他の平面に一致するような形状を本来的形状として有している。
(構成)
図4に一部が示されている本発明の第2実施形態としての真空吸着部材においては、指定外側凸部122の端面1220が基体1の主面102に対して傾斜している。詳細には、指定外側凸部122の端面1220の径方向最内側(突出高さH21)から径方向最外側(突出高さH22)にかけて基体1の主面102を基準とした位置が徐々に高くなるように、指定外側凸部122の端面1220が傾斜している。これ以外の構成は、第1実施形態の真空吸着部材と同様なので、同一の符号を用いるとともに説明を省略する。
本発明の第2実施形態としての真空吸着部材によれば、基体1の主面102の側において基板Wが真空吸着部材に載置されることにより、複数の凸部10のうち少なくとも一部の凸部10により基板Wが支持される(図4参照)。基板Wは、例えば図4に示されているように、少なくとも外側領域X2の一部において径方向内側から外側に行くにつれて徐々に薄くなり、かつ、基板Wの内側領域X1において裏面W2が一の平面に一致する際、基板Wの外側領域X2において裏面W2が当該一の平面に対して外側に行くほど表面W1に近づくように傾斜している他の平面に一致するような形状を本来的形状として有している。
第1実施形態にしたがって実施例の真空吸着部材が作製された(図1参照)。外径φ300[mm]、厚み1.2[mm]の略円盤状の炭化珪素(SiC)セラミックス焼結体により基体1が作製された。
外側領域S2に配置された径φ0.5[mm]、突出高さH2=150[μm]の略円柱状の複数の突起が、指定外側凸部122として形成された点を除き、実施例と同様に比較例1の真空吸着部材が作製された。
実施例および比較例のそれぞれの真空吸着部材の基体1の主面102の側に径φ300[mm]、厚さt0.7[mm]の基板W(シリコンウエハ)が載置された。非接触式のレーザー干渉計(ZYGO社製 GPI Hs)を用いて測定された基板Wの表面W1の本来的な平坦度(20mm×20mmの正方領域のローカルフラットネス)を表わすPV値の最大値は0.037[μm]であった。その後、基板Wの裏面W2および基体1の主面102により挟まれた空間が通気経路20を通じて真空吸引装置により減圧された。これによって真空吸着部材に基板Wが保持された。
Claims (3)
- 基体と、
前記基体の主面から突出する複数の凸部と、
前記基体の内部を通り、前記基体の主面に開口部を有する通気経路と、を備え、
前記複数の凸部が、前記基体の主面において内側領域に配置されている内側凸部群と、前記基体の主面において前記内側領域を取り囲む環状の外側領域に配置されている外側凸部群と、により構成され、
前記外側凸部群を構成する複数の外側凸部のうち少なくとも一部である複数の指定外側凸部のそれぞれの前記基体の主面を基準とする端面位置が、前記内側凸部群を構成する複数の内側凸部のそれぞれの前記基体の主面を基準とする端面位置よりも高く、
前記複数の凸部を囲むように、前記基体の主面から突出する環状凸部をさらに備え、
前記環状凸部の前記基体の主面を基準とする端面位置が、前記複数の指定外側凸部のそれぞれの前記基体の主面を基準とする端面位置よりも低いことを特徴とする真空吸着部材。 - 請求項1記載の真空吸着部材において、
前記複数の指定外側凸部のそれぞれの端面の少なくとも一部と、前記複数の内側凸部のそれぞれの端面の少なくとも一部と、が前記基体の主面に対して平行であることを特徴とする真空吸着部材。 - 請求項1または2記載の真空吸着部材において、
前記複数の指定外側凸部のそれぞれの端面位置と、前記複数の内側凸部のそれぞれの端面位置と、の高さの差が10nm~600nmの範囲に含まれていることを特徴とする真空吸着部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017244690A JP7011459B2 (ja) | 2017-12-21 | 2017-12-21 | 真空吸着部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017244690A JP7011459B2 (ja) | 2017-12-21 | 2017-12-21 | 真空吸着部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019114589A JP2019114589A (ja) | 2019-07-11 |
JP7011459B2 true JP7011459B2 (ja) | 2022-01-26 |
Family
ID=67223797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017244690A Active JP7011459B2 (ja) | 2017-12-21 | 2017-12-21 | 真空吸着部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7011459B2 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001060617A (ja) | 1999-08-20 | 2001-03-06 | Canon Inc | 基板吸着保持装置および該基板吸着保持装置を用いた露光装置ならびにデバイスの製造方法 |
JP2001176957A (ja) | 1999-12-20 | 2001-06-29 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 吸着プレート及び真空吸引装置 |
JP2006054379A (ja) | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Komatsu Electronic Metals Co Ltd | 吸着治具および研磨装置 |
JP2008103703A (ja) | 2006-09-20 | 2008-05-01 | Canon Inc | 基板保持装置、該基板保持装置を備える露光装置、およびデバイス製造方法 |
WO2014084060A1 (ja) | 2012-11-28 | 2014-06-05 | 京セラ株式会社 | 載置用部材およびその製造方法 |
JP2017174898A (ja) | 2016-03-22 | 2017-09-28 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板支持部材 |
-
2017
- 2017-12-21 JP JP2017244690A patent/JP7011459B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001060617A (ja) | 1999-08-20 | 2001-03-06 | Canon Inc | 基板吸着保持装置および該基板吸着保持装置を用いた露光装置ならびにデバイスの製造方法 |
JP2001176957A (ja) | 1999-12-20 | 2001-06-29 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 吸着プレート及び真空吸引装置 |
JP2006054379A (ja) | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Komatsu Electronic Metals Co Ltd | 吸着治具および研磨装置 |
JP2008103703A (ja) | 2006-09-20 | 2008-05-01 | Canon Inc | 基板保持装置、該基板保持装置を備える露光装置、およびデバイス製造方法 |
WO2014084060A1 (ja) | 2012-11-28 | 2014-06-05 | 京セラ株式会社 | 載置用部材およびその製造方法 |
JP2017174898A (ja) | 2016-03-22 | 2017-09-28 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板支持部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019114589A (ja) | 2019-07-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6650345B2 (ja) | 基板保持装置及びその製造方法 | |
JP6546550B2 (ja) | 真空吸着部材および真空吸着方法 | |
JPWO2017086333A1 (ja) | 真空チャック | |
JP6496255B2 (ja) | 基板保持装置 | |
JP7011459B2 (ja) | 真空吸着部材 | |
JP7543617B2 (ja) | 基板保持装置 | |
JP6680649B2 (ja) | 真空吸着部材 | |
JP2022111715A (ja) | 基板保持部材 | |
JP7125326B2 (ja) | 基板保持部材 | |
JP7014590B2 (ja) | 真空吸着部材 | |
JP2023045060A (ja) | 基板保持部材 | |
JP6975601B2 (ja) | 基板保持部材および基板保持方法 | |
JP7178831B2 (ja) | 基板保持部材 | |
JP4447497B2 (ja) | 基板保持具 | |
JP6637829B2 (ja) | 真空吸着部材 | |
JP6960293B2 (ja) | 基板保持部材 | |
JP2020177952A (ja) | 基板保持部材 | |
US20240128117A1 (en) | Substrate holding member | |
JP6581495B2 (ja) | 基板保持装置 | |
US20240139913A1 (en) | Substrate holding member | |
JP7478323B2 (ja) | 基板保持装置 | |
JP6711721B2 (ja) | 真空吸着部材 | |
JP7260984B2 (ja) | 基板保持部材 | |
JP6946167B2 (ja) | 基板保持部材 | |
JP2022055179A (ja) | 基板保持部材 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200904 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210819 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210914 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211013 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220111 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220114 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7011459 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |