JP2019048449A - 反射防止フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】高い反射防止性とともに高い耐擦傷性を実現するのに適した反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の反射防止フィルムＸは、基材１１と、ハードコート層１２と、反射防止層１３とを含む積層構造を有し、反射防止層１３側の視感反射率が２％以下である。反射防止層１３は、動摩擦係数０.３以下および静止摩擦係数０.３以下の表面１３ａを有する。また、反射防止フィルムＸにおいて、スチールウール＃００００を擦り材として用いて荷重２００ｇ/ｃｍ²、擦りストローク長１０ｃｍ、および往復動回数１０００の条件で表面１３ａに対して行われる擦り試験の後のヘーズ値（％）の、当該擦り試験より前のヘーズ値（％）に対する差は、０.１以下である。
【選択図】図１

Description

本発明は、反射防止フィルムに関する。

タブレットデバイスや各種テレビなどにおけるディスプレイの表面には、外光反射を低減するための反射防止フィルムが設けられる場合がある。反射防止フィルムは、透明な基材とこれよりも屈折率の低い反射防止層との積層構造を含む積層フィルムである。

基材上への反射防止層の形成手法としては、反射防止フィルムの製造コストの抑制などの観点から、各種ドライコーティング法ではなくウェットコーティング法が採用される場合がある。ウェットコーティング法により形成される反射防止層は、例えば、マトリクスをなす硬化性樹脂と、マトリクス中に分散する 低屈折率化のための低屈折率粒子とを含む。ウェットコーティング法により反射防止層が形成される反射防止フィルムについては、例えば下記の特許文献１〜３に記載されている。

特開２００９−１５１２７０号公報 特開２０１４−１９７１３５号公報 特開２０１７−４０９３６号公報

ウェットコーティング法により形成される反射防止層においては、低屈折率粒子の含有量が多いほど、正味の屈折率は低い傾向にあり、反射防止層ないし反射防止フィルムの反射防止機能を確保しやすい。しかしながら、当該反射防止層においては、低屈折率粒子の含有量が多いほど耐擦傷性が低下する傾向にある。従来、ウェットコーティング法により形成される反射防止層ないしこれを有する反射防止フィルムの耐擦傷性の向上を目的として、反射防止層に所定のシリカ粒子が配合されることがあるものの、充分な耐擦傷性が得られない場合がある。

本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであり、高い反射防止性とともに高い耐擦傷性を実現するのに適した反射防止フィルムを提供することを目的とする。

本発明により提供される反射防止フィルムは、基材と、反射防止層と、これらの間に位置するハードコート層とを含む積層構造を有し、反射防止層側の視感反射率が２％以下であって好ましくは１.７％以下、より好ましくは１.５％以下、より好ましくは１.３％以下である。本発明において、視感反射率とは、ＪＩＳ Ｚ ８７０１に準拠して測定される値とする。反射防止層は、ハードコート層とは反対の側において、動摩擦係数０.３以下および静止摩擦係数０.３以下の表面を有する。これら動摩擦係数および静止摩擦係数の各値は、本発明では、用意される二つの同一構成の反射防止フィルムにおいて当接される両反射防止層表面の間の摩擦力測定から求められる値とする。当該表面の動摩擦係数は、好ましくは０.２８以下、より好ましくは０.２６以下である。当該表面の静止摩擦係数は、好ましくは０.２８以下、より好ましくは０.２６以下である。また、本反射防止フィルムにおいて、スチールウール＃００００を擦り材として用いて荷重２００ｇ/ｃｍ²、擦りストローク長１０ｃｍ、および往復動回数１０００の条件で反射防止層の前記表面に対して行われる擦り試験の後のヘーズ値（％）の、当該擦り試験より前のヘーズ値（％）に対する差は、０.１以下であり、好ましくは０または０以下である。本発明において、ヘーズとは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠して測定される値とする。以上のような構成の本反射防止フィルムの反射防止層は、例えば、ウェットコーティング法により形成されるものであって、マトリクスをなす硬化性樹脂と、マトリクス中に分散する 低屈折率化のための低屈折率粒子とを少なくとも含む。本発明において、低屈折率粒子とは、屈折率１.１０〜１.４５を示す粒子をいうものとする。屈折率は、ＪＩＳ Ｋ ７１４２に準拠して測定することができる。

本発明の反射防止フィルムは、上述のように、基材と、ハードコート層と、例えば低屈折率粒子の配合によって低屈折率化の図られた、反射防止層とを含む積層構造を有し、反射防止層側の視感反射率が２％以下であって好ましくは１.７％以下、より好ましくは１.５％以下、より好ましくは１.３％以下である。反射防止フィルムの当該視感反射率がこのような程度に抑えられているという構成は、反射防止フィルムの機能として高い反射防止性を実現するのに適する。

また、本反射防止フィルムにおいて、スチールウール＃００００を擦り材として用いて荷重２００ｇ/ｃｍ²、擦りストローク長１０ｃｍ、および往復動回数１０００の条件（第１条件）で反射防止層の前記表面に対して行われる擦り試験の後のヘーズ値（％）の、当該擦り試験より前のヘーズ値（％）に対する差は、上述のように、０.１以下であり、好ましくは０または０以下である。擦り材としてスチールウール＃００００を用いて反射防止フィルムについて行われる擦り試験によって試験対象面に形成されるキズが多いほど、反射防止フィルムにおける当該擦り試験前のヘーズ値からの当該擦り試験後のヘーズ値への上昇の程度は、大きい傾向にある。反射防止フィルムについて上記第１条件で行われる擦り試験後の反射防止フィルムのヘーズ値（％）の上昇が０.１以下であって好ましくは０または０以下に抑えられているという構成は、反射防止フィルムの機能として高い耐擦傷性を実現するのに適する。例えば後記の実施例および比較例をもって示すとおりである。

加えて、本反射防止フィルムの反射防止層における上記表面の動摩擦係数は、上述のように、０.３以下であり、好ましくは０.２８以下、より好ましくは０.２６以下である。反射防止層においてハードコート層とは反対の側の表面の動摩擦係数が小さいほど、当該表面に当接して滑り動く物体による同表面へのキズの形成は、生じにくくなる傾向にあり、本反射防止フィルムの反射防止層表面の動摩擦係数が上記の程度に小さいという構成は、反射防止フィルムの機能として高い耐擦傷性を実現するのに適する。これとともに、同構成は、上記擦り試験において反射防止層表面上を滑動中のスチールウールによる同表面へのキズの形成を抑制するのに適し、従って、反射防止フィルムにおいて上記擦り試験後のヘーズ値（％）の上昇が０.１以下であって好ましくは０または０以下に抑えられているという上記構成の実現に資する。

更に加えて、本反射防止フィルムの反射防止層における上記表面の静止摩擦係数は、上述のように、０.３以下であり、好ましくは０.２８以下、より好ましくは０.２６以下である。反射防止層においてハードコート層とは反対の側の表面の静止摩擦係数が小さいほど、当該表面に当接して静止状態から始動する物体による同表面へのキズの形成は生じにくくなる傾向にあり、本反射防止フィルムの反射防止層表面の静止摩擦係数が上記の程度に小さいという構成は、反射防止フィルムの機能として高い耐擦傷性を実現するのに適する。これとともに、同構成は、上記擦り試験において反射防止層表面上のスチールウールの反転時の同表面へのキズの形成を抑制するのに適し、従って、反射防止フィルムにおいて上記擦り試験後のヘーズ値（％）の上昇が０.１以下であって好ましくは０または０以下に抑えられているという上記構成の実現に資する。

以上のように、本発明の反射防止フィルムは、高い反射防止性とともに高い耐擦傷性を実現するのに適する。

本発明の反射防止フィルムにおいて、スチールウール＃００００を擦り材として用いて荷重１０００ｇ/ｃｍ²、擦りストローク長１０ｃｍ、および往復動回数１００の条件（第２条件）で反射防止層の表面に対して行われる擦り試験の後のヘーズ値（％）の、当該擦り試験より前のヘーズ値（％）に対する差は、好ましくは０.１以下であり、より好ましくは０または０以下である。上述のように、擦り材としてスチールウール＃００００を用いて反射防止フィルムについて行われる擦り試験によって試験対象面に形成されるキズが多いほど、反射防止フィルムにおける当該擦り試験前のヘーズ値からの当該擦り試験後のヘーズ値への上昇の程度は、大きい傾向にある。反射防止フィルムについて上記第２条件で行われる擦り試験後の反射防止フィルムのヘーズ値（％）の上昇が０.１以下であって好ましくは０または０以下に抑えられているという構成は、反射防止フィルムの機能として高い耐擦傷性を実現するのに適する。例えば後記の実施例および比較例をもって示すとおりである。

本発明の反射防止フィルムにおいて、反射防止層の表面の表面粗さＲａは、好ましくは５ｎｍ以下、より好ましくは４ｎｍ以下、より好ましくは３ｎｍ以下である。反射防止層表面の微細凹凸が小さいほど、当該表面が他部材等により擦られる時の表面組織破壊現象は抑制される傾向にあり、反射防止層表面の表面粗さＲａが好ましくは５ｎｍ以下、より好ましくは４ｎｍ以下、より好ましくは３ｎｍ以下であるという構成は、当該表面におけるキズの形成を抑制するのに適する。また、反射防止層表面の微細凹凸が小さいほど当該表面の動摩擦係数や静止摩擦係数は小さい傾向にあり、反射防止層表面の表面粗さＲａが好ましくは５ｎｍ以下、より好ましくは４ｎｍ以下、より好ましくは３ｎｍ以下であるという構成は、動摩擦係数に関する上記の構成や、静止摩擦係数に関する上記の構成の、実現にも資する。

本発明の反射防止フィルムのヘーズは、好ましくは１％以下、より好ましくは０.８％以下、より好ましくは０.６％以下、より好ましくは０.４％以下、より好ましくは０.２％以下である。上記擦り試験後の反射防止フィルムのヘーズは、好ましくは１％以下、より好ましくは０.８％以下、より好ましくは０.６％以下、より好ましくは０.４％以下、より好ましくは０.２％以下である。本反射防止フィルムにおいて、ヘーズがこれらの程度に抑えられているという構成は、良好な透明性を確保するうえで好ましい。

反射防止層は、好ましくは低屈折率粒子として中空シリカ粒子を含む。中空シリカ粒子の平均粒子径は、好ましくは５０〜７０ｎｍである。これら構成は、反射防止層ないし反射防止フィルムにおいて良好な反射防止性を実現するうえで好適である。低屈折率粒子の平均粒子径とは、動的光散乱法で測定される微粒子粒径分布より得られる当該微粒子の平均粒子径をいうものとする。

反射防止層は、好ましくはナノダイヤモンド粒子を含む。本発明において、ナノダイヤモンド粒子は、ナノダイヤモンドの一次粒子であってもよいし、ナノダイヤモンドの二次粒子であってもよい。ナノダイヤモンド一次粒子とは、粒径１０ｎｍ以下のナノダイヤモンドをいうものとする。機械的強度の極めて高いダイヤモンドの微粒子であるナノダイヤモンド粒子を反射防止層が含むという構成は、反射防止層ないし本反射防止フィルムにおいて高い耐擦傷性を実現するうえで好適である。

反射防止層は、好ましくはフッ素含有硬化性化合物を含む。このような構成は、反射防止層の露出面における防汚性や、撥水性、撥油性、滑り性、指紋の拭き取りやすさ等の観点から好ましい。また、反射防止層がフッ素含有硬化性化合物を含むという構成は、反射防止層の表面における動摩擦係数や静止摩擦係数の低下を図るうえで好適であり、従って、当該反射防止層ないし本反射防止フィルムにおいて高い耐擦傷性を実現するうえで好適である。

本発明の一の実施形態に係る反射防止フィルムの部分断面図である。 本発明に係る反射防止フィルムの反射防止層の構成成分として用いられうる表面修飾ナノダイヤモンド粒子の作製方法の一例の工程図である。

図１は、本発明の一の実施形態に係る反射防止フィルムＸの部分断面図である。反射防止フィルムＸは、基材１１と、ハードコート層１２と、反射防止層１３とを含む積層構造を有する。反射防止フィルムＸは、その積層構造中に他の層を有してもよい。このような反射防止フィルムＸは、例えば、光学部材の表面での外光反射の低減のために当該表面に設けられて使用されるものである。光学部材としては、例えば、液晶ディスプレイや、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ用の透明基板、および、タッチパネル用透明パネルが、挙げられる。

基材１１は、透明基材であり、例えば、光が透過することが可能な透明な樹脂フィルムよりなる。基材１１のための透明な樹脂フィルムとしては、例えば、セルロースアセテート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、およびポリノルボルネン系フィルムが挙げられる。セルロースアセテート系フィルムとしては、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、およびセルロースアセテートブチレートフィルムが挙げられる。ポリエステル系フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムおよびポリエチレンナフタレートフィルムが挙げられる。基材１１は、単一の樹脂フィルムから構成されてもよいし、複数の樹脂フィルムの積層構造を有してもよい。反射防止フィルムＸにおいて充分な透明性を実現するという観点からは、基材１１の厚さは、好ましくは４００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下である。

ハードコート層１２は、基材１１および反射防止層１３の間に位置し、少なくとも反射防止層１３側表面の鉛筆硬度が例えば２Ｈ以上の硬さを有する。ハードコート層１２は、例えば、複数の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレートのモノマーおよび／またはオリゴマーの重合物ないし硬化物を少なくとも含む。「(メタ)アクリロイル基」は、アクリロイル基および／またはメタクリロイル基を意味する。「(メタ)アクリレート」は、アクリレートおよび／またはメタクリレートを意味する。そのようなハードコート層１２を形成するための組成物に含有されるモノマーやオリゴマーをなす多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、二官能(メタ)アクリレート、三官能(メタ)アクリレート、および、四官能以上の多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。二官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、およびノナンジオールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。三官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、およびジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートが挙げられる。四官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、およびジトリメチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレートが挙げられる。ハードコート層形成用組成物は、一種類の多官能(メタ)アクリレートを含んでもよいし、二種類以上の多官能(メタ)アクリレートを含んでもよい。ハードコート層形成用組成物中のモノマーやオリゴマーにおける多官能(メタ)アクリレートの割合は、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７５質量％以上である。

ハードコート層形成用組成物は、(メタ)アクリロイル基を一つ有する単官能(メタ)アクリレートを含んでもよい。そのような単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、β-カルボキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ＥＯ変性フェノール(メタ)アクリレート、ＥＯ変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、およびＥＯ変性２-エチルヘキシル(メタ)アクリレートが挙げられる。ハードコート層形成用組成物は、一種類の単官能(メタ)アクリレートを含んでもよいし、二種類以上の単官能(メタ)アクリレートを含んでもよい。また、ハードコート層形成用組成物は、アクリル系のオリゴマーとして、エポキシ(メタ)アクリレートや、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレートなどを含んでもよい。

ハードコート層形成用組成物は、形成されるハードコート層１２の強度や平滑性を確保するという観点から、フッ素含有硬化性化合物を含有するのが好ましい。そのようなフッ素含有硬化性化合物としては、例えば、フッ化アルキル(メタ)アクリレート、フッ化(ポリ)オキシアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート、フッ素含有エポキシ樹脂、およびフッ素含有ウレタン樹脂が挙げられる。フッ化アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、およびトリフルオロエチル(メタ)アクリレートが挙げられる。フッ化(ポリ)オキシアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートとしては、例えば、フルオロエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、およびフルオロプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。このようなフッ素含有硬化性化合物の市販品としては、例えば、Ｏｍｎｏｖａ Ｓｏｌｕｔｉｏｎの「Ｐｏｌｙｆｏｘ３３２０」、信越化学工業株式会社の「ＫＹ−１２０３」、ＤＩＣ株式会社の「メガファック ＲＳ−９０」、および、ダイキン工業株式会社の「オプツールＤＳＸ」が挙げられる。

ハードコート層形成用組成物は、好ましくは重合開始剤を含む。重合開始剤としては、光重合開始剤および熱重合開始剤が挙げられる。光重合開始剤としては、例えば、過酸化エステル類、その他の過酸化物類、ベンゾイン類、アセトフェノン類、シクロヘキシルフェニルケトン類、アントラキノン類、チオキサントン類、ケタール類、ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類、キサントン類、およびチタノセン化合物が挙げられる。過酸化エステル類としては、例えば、３,３',４,４'-テトラ(ｔ-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、３,３'-ジ(ｔ-ブチルパーオキシカルボニル)-４,４'-ジ(メトキシカルボニル)ベンゾフェノン、およびｔ-ブチルペルオキシベンゾエートが挙げられる。上記過酸化物類としては、例えば、ｔ-ブチルヒドロペルオキシドおよびジ-ｔ-ブチルペルオキシドが挙げられる。ベンゾイン類としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、およびベンゾインエチルエーテルが挙げられる。アセトフェノン類としては、例えば、アセトフェノン、２,２-ジメトキシ-２-フェニルアセトフェノン、２,２-ジエトキシ-２-フェニルアセトフェノン、および１,１-ジクロロアセトフェノンが挙げられる。シクロヘキシルフェニルケトン類としては、例えば１-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが挙げられる。アントラキノン類としては、例えば、２-メチルアントラキノンおよび２-エチルアントラキノンが挙げられる。チオキサントン類としては、例えば、２,４-ジメチルチオキサントンおよび２,４-ジエチルチオキサントンが挙げられる。ケタール類としては、例えば、アセトフェノンジメチルケタールおよびベンジルジメチルケタールが挙げられる。熱重合開始剤として、例えば、アゾ化合物、有機過酸化物、および過酸化水素が挙げられる。アゾ化合物としては、例えば、２,２'-アゾビスイソブチロニトリル、２,２'-アゾビス(２,４-ジメチルバレロニトリル）、２,２'-アゾビス(４-メトキシ-２,４-ジメチルバレロニトリル）、ジメチル-２,２'-アゾビス(２-メチルプロピオネート)、ジエチル-２,２'-アゾビス(２-メチルプロピオネート)、およびジブチル-２,２'-アゾビス(２-メチルプロピオネート)が挙げられる。有機過酸化物としては、例えば、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ-ブチルペルオキシピバレート、および１,１-ビス(ｔ-ブチルペルオキシ)シクロヘキサンが挙げられる。

ハードコート層形成用組成物は、その塗工性等を調整するうえでは溶剤を含むのが好ましい。溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、３-メトキシブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１-ブタノール、１-メトキシ-２-プロパノール、３-メトキシブタノール、エトキシエタノール、ジイソプロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、およびテトラヒドロフランが挙げられる。

ハードコート層１２ないしハードコート層形成用組成物は、更に、消泡剤、光増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、ブロッキング防止剤、レベリング剤、界面活性剤、増量剤、顔料、染料、防錆剤、帯電防止剤、可塑剤など、各種の添加剤を含んでもよい。また、ハードコート層１２ないしハードコート層形成用組成物は、上述した以外の重合性成分を含んでもよい。

反射防止フィルムＸにおける透明性とハードコート層１２の硬さとのバランスの観点からは、ハードコート層１２の厚さは、好ましくは１〜３０μｍ、より好ましくは３〜１０μｍである。

反射防止フィルムＸにおける反射防止層１３は、本実施形態では、硬化性樹脂と、低屈折率粒子と、ナノダイヤモンド粒子とを含み、且つ、ハードコート層１２とは反対の側に表面１３ａを有する。また、反射防止層１３の正味の屈折率は、ハードコート層１２の正味の屈折率より低く、例えば１.３〜１.４である。屈折率の測定は、ＪＩＳ Ｋ ７１４２に準拠して行うことができる。

反射防止層１３中の硬化性樹脂は、本実施形態では、(メタ)アクリロイル基含有化合物の重合物である。このような硬化性樹脂を形成するための成分は、好ましくは、光照射や加熱によって重合反応を進行させて硬化型アクリル樹脂を形成するためのモノマーおよび／またはオリゴマーを含む。そのようなモノマーや、オリゴマーをなすためのモノマーとしては、多官能(メタ)アクリレートを用いることができる。多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、二官能(メタ)アクリレート、三官能(メタ)アクリレート、および四官能以上の多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。二官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、およびノナンジオールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。三官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、およびジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートが挙げられる。四官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、およびジトリメチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレートが挙げられる。硬化性樹脂形成成分中のモノマーや、硬化性樹脂形成成分中のオリゴマーをなすためのモノマーとしては、一種類の多官能(メタ)アクリレートを用いてもよいし、二種類以上の多官能(メタ)アクリレートを用いてもよい。硬化性樹脂形成成分における多官能(メタ)アクリレートの割合は、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７５質量％以上である。

硬化性樹脂形成成分は、(メタ)アクリロイル基を一つ有する単官能(メタ)アクリレートを含んでもよい。そのような単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、β-カルボキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ＥＯ変性フェノール(メタ)アクリレート、ＥＯ変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、およびＥＯ変性２-エチルヘキシル(メタ)アクリレートが挙げられる。硬化性樹脂形成成分は、一種類の単官能(メタ)アクリレートを含んでもよいし、二種類以上の単官能(メタ)アクリレートを含んでもよい。また、硬化性樹脂形成成分は、アクリル系のオリゴマーとして、エポキシ(メタ)アクリレートや、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレートなどを含んでもよい。

硬化性樹脂形成成分は、反射防止層１３の強度や表面滑り性を確保するという観点から、フッ素含有硬化性化合物を含有するのが好ましい。反射防止層１３の強度や表面滑り性が高いことは、反射防止層１３ないし反射防止フィルムＸにおいて高い耐擦傷性を実現するのに資する。反射防止層１３のためのフッ素含有硬化性化合物としては、例えば、フッ化アルキル(メタ)アクリレート、フッ化(ポリ)オキシアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート、フッ素含有エポキシ樹脂、およびフッ素含有ウレタン樹脂が挙げられる。フッ化アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、およびトリフルオロエチル(メタ)アクリレートが挙げられる。フッ化(ポリ)オキシアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートとしては、例えば、フルオロエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、およびフルオロプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。このようなフッ素含有硬化性化合物の市販品としては、例えば、Ｏｍｎｏｖａ Ｓｏｌｕｔｉｏｎの「Ｐｏｌｙｆｏｘ３３２０」、信越化学工業株式会社の「ＫＹ−１２０３」、ＤＩＣ株式会社の「メガファック ＲＳ−９０」、および、ダイキン工業株式会社の「オプツールＤＳＸ」が挙げられる。

硬化性樹脂形成成分は、好ましくは重合開始剤を含む。重合開始剤としては、ハードコート層形成用組成物中の重合開始剤として上述した各種の光重合開始剤および各種の熱重合開始剤が挙げられる。

反射防止層１３中の低屈折率粒子は、本実施形態では、屈折率１.１０〜１.４５を示す粒子である。屈折率は、ＪＩＳ Ｋ ７１４２に準拠して測定することができる。低屈折率粒子の構成材料としては、例えば、ＭｇＦ₂、ＬｉＦ、ＡｌＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦ、およびＮａ₃ＡｌＦ₆が挙げられる。また、低屈折率粒子としては、中空粒子など、粒子内部に空隙を有する粒子を用いてもよい。粒子内部に空隙を有する粒子は、構成材料部分の屈折率と空隙部分の空気の屈折率（約１）とがあいまって、正味の屈折率が低い。反射防止層１３において硬さを確保しつつ効率よく低屈折率化を図るという観点からは、低屈折率粒子は中空シリカ粒子であるのが好ましい。低屈折率粒子の市販品としては、例えば、日揮触媒化成株式会社の「スルーリア４３２０」「スルーリア５３２０」および日鉄鉱業株式会社の「シリナックス」が挙げられる。

反射防止層１３中の低屈折率粒子の平均粒子径は、反射防止層１３ないし反射防止フィルムＸにおいて良好な反射防止性を実現するという観点からは、好ましくは５０〜７０ｎｍである。低屈折率粒子の平均粒子径とは、動的光散乱法で測定される微粒子粒径分布より得られる当該微粒子の平均粒子径をいうものとする。

反射防止層１３における低屈折率粒子の含有割合は、例えば１０〜９０質量％であり、好ましくは３０〜７０質量％である。

反射防止層１３中のナノダイヤモンド粒子は、ナノダイヤモンドの一次粒子であってもよいし、ナノダイヤモンドの二次粒子であってもよい。ナノダイヤモンド一次粒子とは、粒径１０ｎｍ以下のナノダイヤモンドをいうものとする。また、ナノダイヤモンド粒子は、好ましくは、後述のように爆轟法によって生成したナノダイヤモンド粒子（爆轟法ナノダイヤモンド粒子）である。爆轟法によると、一次粒子径が１０ｎｍ以下のナノダイヤモンド粒子を適切に合成することが可能である。

反射防止層１３中のナノダイヤモンド粒子は、分散安定性の観点からは、表面にシランカップリング剤が結合している表面修飾ナノダイヤモンド粒子であるのが好ましい。シランカップリング剤とは、無機材料との間で化学結合を生じることとなる、ケイ素を含む反応性基と、当該ケイ素に結合している有機鎖とを併有する有機ケイ素化合物であるところ、上記表面修飾ナノダイヤモンド粒子のシランカップリング剤は、その反応性基にてナノダイヤモンド粒子の表面との間で共有結合を生じてナノダイヤモンド粒子に結合している。ナノダイヤモンド粒子に結合しているシランカップリング剤をなすこととなるシランカップリング剤の反応性基としては、シラノール基（-ＳｉＯＨ）、および、シラノール基を生じ得る加水分解性基が挙げられる。そのような加水分解性基としては、例えば、ケイ素に結合しているメトキシ基やエトキシ基などアルコキシシリル基、ケイ素に結合している塩素や臭素などハロシリル基、および、ケイ素に結合しているアセトキシ基が挙げられる。これら加水分解性基は、加水分解反応を経てシラノール基を生じ得る。当該シランカップリング剤のシラノール基とナノダイヤモンド表面の例えば水酸基との間での脱水縮合反応を経て、当該シランカップリング剤とナノダイヤモンド表面との間に化学結合が生じ得る。シランカップリング剤の有機鎖は、好ましくは、(メタ)アクリロイル基またはアルキル基を含む。このような構成によると、反射防止層１３において表面修飾ナノダイヤモンド粒子の分散安定化を図りやすい。(メタ)アクリロイル基含有有機鎖は、好ましくは、アクリル酸プロピルおよび／またはメタクリル酸プロピルである。シランカップリング剤の有機鎖をなすアルキル基は、好ましくは炭素数１〜１８のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。このような表面修飾ナノダイヤモンド粒子におけるシランカップリング剤としては、例えば、アクリル酸３-(トリメトキシシリル)プロピル、メタクリル酸３-(トリメトキシシリル)プロピル、メタクリル酸３-(メチルジメトキシシリル)プロピル、メタクリル酸３-(メチルジエトキシシリル)プロピル、メタクリル酸３-(トリエトキシシリル)プロピル、およびトリメトキシ(メチル)シランが挙げられる。

表面修飾ナノダイヤモンド粒子におけるシランカップリング剤がその有機鎖において(メタ)アクリロイル基を含んでいる場合、硬化性樹脂形成用の上述のモノマーやオリゴマーが重合する過程において、表面修飾ナノダイヤモンド粒子の表面有機鎖中の(メタ)アクリロイル基を当該モノマーやオリゴマーと反応させて、当該ナノダイヤモンド粒子を硬化性樹脂中に取り込ませやすい。このようなシランカップリング剤としては、例えば、アクリル酸３-(トリメトキシシリル)プロピル、メタクリル酸３-(トリメトキシシリル)プロピル、メタクリル酸３-(メチルジメトキシシリル)プロピル、メタクリル酸３-(メチルジエトキシシリル)プロピル、およびメタクリル酸３-(トリエトキシシリル)プロピルが挙げられる。

ナノダイヤモンド粒子（表面修飾ナノダイヤモンド粒子である場合を含む）の粒径Ｄ５０は、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下である。このような構成は、反射防止層１３について高い透明性を実現するうえで好適であり、従って、反射防止フィルムＸについて高い透明性を実現するうえで好適である。

反射防止層１３におけるナノダイヤモンド粒子の含有割合は、例えば０.１〜１５質量％であり、好ましくは０.５〜１０質量％である。また、反射防止層１３における上述の低屈折率粒子とナノダイヤモンド粒子との質量比は、好ましくは９９：１〜８４：１６の範囲にある。このような構成は、反射防止フィルムＸにおける反射防止性、耐擦傷性、および透明性の間のバランスを図るに適する。

反射防止層１３を形成するための組成物は、上述の硬化性樹脂形成成分、低屈折率粒子、およびナノダイヤモンド粒子に加え、塗工性等を調整するうえで溶剤を含むのが好ましい。溶剤としては、ハードコート層形成用組成物中の溶剤として上記したのと同様のものが挙げられる。

反射防止層１３ないし反射防止層形成用組成物は、更に、消泡剤、光増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、ブロッキング防止剤、レベリング剤、界面活性剤、増量剤、顔料、染料、防錆剤、帯電防止剤、可塑剤など、各種の添加剤を含んでもよい。

反射防止層１３の厚さは、例えば０.０７〜０.１３μｍであり、好ましくは０.８〜１.２μｍである。

反射防止層１３の表面１３ａは、本実施形態では、反射防止フィルムＸの露出面をなす。表面１３ａの動摩擦係数は、０.３以下であり、好ましくは０.２８以下、より好ましくは０.２６以下である。表面１３ａの静止摩擦係数は、０.３以下であり、好ましくは０.２８以下、より好ましくは０.２６以下である。これら動摩擦係数および静止摩擦係数の各値は、本実施形態では、用意される二つの同一構成の反射防止フィルムにおいて当接される両反射防止層表面の間の摩擦力測定から求められる値とする。表面１３ａの動摩擦係数および静止摩擦係数の調整は、例えば、反射防止層１３における上述のフッ素含有硬化性化合物の配合量の調整や、反射防止層１３形成過程において塗工される反射防止層１３形成用組成物の乾燥温度や乾燥時間の調整によって、行うことが可能である。

反射防止層１３の表面１３ａの表面粗さＲａは、好ましくは５ｎｍ以下、より好ましくは４ｎｍ以下、より好ましくは３ｎｍ以下である。表面粗さＲａの調整は、例えば、反射防止層１３における上述のフッ素含有硬化性化合物の配合量の調整や、反射防止層１３形成過程において塗工される反射防止層１３形成用組成物の乾燥温度や乾燥時間の調整によって、行うことが可能である。

以上のような積層構造を有する反射防止フィルムＸのへーズは、好ましくは１％以下、より好ましくは０.８％以下、より好ましくは０.６％以下、より好ましくは０.４％以下、より好ましくは０.２％以下である。また、反射防止フィルムＸの全光線透過率は、好ましくは９４％以上、より好ましくは９４.９％以上、より好ましくは９５％以上である。本発明において、全光線透過率とは、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定される値とする。

反射防止フィルムＸにおける反射防止層１３の側の視感反射率は、２％以下であり、好ましくは１.７％以下、より好ましくは１.５％以下、より好ましくは１.３％以下である。本実施形態において、視感反射率とは、ＪＩＳ Ｚ ８７０１に準拠して測定される値とする。反射防止フィルムＸの反射防止層１３側の視感反射率の調整は、例えば、ハードコート層１２および反射防止層１３の屈折率差の調整によって行うことが可能である。当該屈折率差の調整は、例えば、組成調整によるハードコート層１２の高屈折率化や、組成調整による反射防止層１３の低屈折率化によって、行うことが可能である。

反射防止フィルムＸにおいて、スチールウール＃００００を擦り材として用いて荷重２００ｇ/ｃｍ²、擦りストローク長１０ｃｍ、および往復動回数１０００の条件で反射防止層１３の表面１３ａに対して行われる擦り試験の後のヘーズ値（％）の、当該擦り試験より前のヘーズ値（％）に対する差は、０.１以下であり、好ましくは０または０以下である。また、反射防止フィルムＸにおいて、スチールウール＃００００を擦り材として用いて荷重１０００ｇ/ｃｍ²、擦りストローク長１０ｃｍ、および往復動回数１００の条件で反射防止層１３の表面１３ａに対して行われる擦り試験の後のヘーズ値（％）の、当該擦り試験より前のヘーズ値（％）に対する差は、好ましくは０.１以下であり、より好ましくは０または０以下である。これら擦り試験後の反射防止フィルムＸのヘーズは、好ましくは１％以下、より好ましくは０.８％以下、より好ましくは０.６％以下、より好ましくは０.４％以下、より好ましくは０.２％以下である。これら擦り試験後の反射防止フィルムＸの全光線透過率は、好ましくは９４％以上、より好ましくは９４.９％以上、より好ましくは９５％以上である。

反射防止フィルムＸは、上述のように、基材１１と、ハードコート層１２と、低屈折率粒子の配合によって低屈折率化の図られた反射防止層１３とを含む積層構造を有し、反射防止層１３側の視感反射率が２％以下であって好ましくは１.７％以下、より好ましくは１.５％以下、より好ましくは１.３％以下である。反射防止フィルムＸの当該視感反射率がこのような程度に抑えられているという構成は、反射防止フィルムＸの機能として高い反射防止性を実現するのに適する。

また、反射防止フィルムＸにおいて、スチールウール＃００００を擦り材として用いて荷重２００ｇ/ｃｍ²、擦りストローク長１０ｃｍ、および往復動回数１０００の条件（第１条件）で反射防止層１３の表面１３ａに対して行われる擦り試験の後のヘーズ値（％）の、当該擦り試験より前のヘーズ値（％）に対する差は、上述のように、０.１以下であり、好ましくは０または０以下である。擦り材としてスチールウール＃００００を用いて反射防止フィルムＸについて行われる擦り試験によって試験対象面に形成されるキズが多いほど、反射防止フィルムＸにおける当該擦り試験前のヘーズ値からの当該擦り試験後のヘーズ値への上昇の程度は、大きい傾向にある。反射防止フィルムＸについて上記第１条件で行われる擦り試験後の反射防止フィルムＸのヘーズ値（％）の上昇が０.１以下であって好ましくは０または０以下に抑えられているという構成は、反射防止フィルムＸの機能として高い耐擦傷性を実現するのに適する。

加えて、反射防止フィルムＸの反射防止層１３における表面１３ａの動摩擦係数は、上述のように、０.３以下であり、好ましくは０.２８以下、より好ましくは０.２６以下である。反射防止層１３の表面１３ａの動摩擦係数が小さいほど、表面１３ａに当接して滑り動く物体による表面１３ａへのキズの形成は、生じにくくなる傾向にあり、反射防止層１３の表面１３ａの動摩擦係数が上記の程度に小さいという構成は、反射防止フィルムＸの機能として高い耐擦傷性を実現するのに適する。これとともに、同構成は、上記擦り試験において反射防止層１３の表面１３ａ上を滑動中のスチールウールによる表面１３ａへのキズの形成を抑制するのに適し、従って、反射防止フィルムＸにおいて上記擦り試験後のヘーズ値（％）の上昇が０.１以下であって好ましくは０または０以下に抑えられているという上記構成の実現に資する。

更に加えて、反射防止フィルムＸの反射防止層１３における表面１３ａの静止摩擦係数は、上述のように、０.３以下であり、好ましくは０.２８以下、より好ましくは０.２６以下である。反射防止層１３の表面１３ａの静止摩擦係数が小さいほど、表面１３ａに当接して静止状態から始動する物体による表面１３ａへのキズの形成は生じにくくなる傾向にあり、反射防止層１３の表面１３ａの静止摩擦係数が上記の程度に小さいという構成は、反射防止フィルムＸの機能として高い耐擦傷性を実現するのに適する。これとともに、同構成は、上記擦り試験において反射防止層１３の表面１３ａ上のスチールウールの反転時の表面１３ａへのキズの形成を抑制するのに適し、従って、反射防止フィルムＸにおいて上記擦り試験後のヘーズ値（％）の上昇が０.１以下であって好ましくは０または０以下に抑えられているという上記構成の実現に資する。

以上のように、反射防止フィルムＸは、高い反射防止性とともに高い耐擦傷性を実現するのに適する。

反射防止フィルムＸにおいて、スチールウール＃００００を擦り材として用いて荷重１０００ｇ/ｃｍ²、擦りストローク長１０ｃｍ、および往復動回数１００の条件（第２条件）で反射防止層１３の表面１３ａに対して行われる擦り試験の後のヘーズ値（％）の、当該擦り試験より前のヘーズ値（％）に対する差は、上述のように、好ましくは０.１以下であり、より好ましくは０または０以下である。上述のように、擦り材としてスチールウール＃００００を用いて反射防止フィルムＸについて行われる擦り試験によって試験対象面に形成されるキズが多いほど、反射防止フィルムＸにおける当該擦り試験前のヘーズ値からの当該擦り試験後のヘーズ値への上昇の程度は、大きい傾向にある。反射防止フィルムＸについて上記第２条件で行われる擦り試験後の反射防止フィルムＸのヘーズ値（％）の上昇が０.１以下であって好ましくは０または０以下に抑えられているという構成は、反射防止フィルムＸの機能として高い耐擦傷性を実現するのに適する。

反射防止フィルムＸにおいて、反射防止層１３の表面１３ａの表面粗さＲａは、上述のように、好ましくは５ｎｍ以下、より好ましくは４ｎｍ以下、より好ましくは３ｎｍ以下である。反射防止層１３の表面１３ａの微細凹凸が小さいほど、表面１３ａが他部材等により擦られる時の表面組織破壊現象は抑制される傾向にあり、反射防止層１３の表面１３ａの表面粗さＲａが好ましくは５ｎｍ以下、より好ましくは４ｎｍ以下、より好ましくは３ｎｍ以下であるという構成は、表面１３ａにおけるキズの形成を抑制するのに適する。また、反射防止層１３の表面１３ａの微細凹凸が小さいほど表面１３ａの動摩擦係数や静止摩擦係数は小さい傾向にあり、反射防止層１３の表面１３ａの表面粗さＲａが好ましくは５ｎｍ以下、より好ましくは４ｎｍ以下、より好ましくは３ｎｍ以下であるという構成は、動摩擦係数に関する上記の構成や、静止摩擦係数に関する上記の構成の、実現にも資する。

反射防止フィルムＸのヘーズは、上述のように、好ましくは１％以下、より好ましくは０.８％以下、より好ましくは０.６％以下、より好ましくは０.４％以下、より好ましくは０.２％以下である。上記第１条件での擦り試験後の反射防止フィルムＸのヘーズは、上述のように、好ましくは１％以下、より好ましくは０.８％以下、より好ましくは０.６％以下、より好ましくは０.４％以下、より好ましくは０.２％以下である。上記第２条件での擦り試験後の反射防止フィルムＸのヘーズは、上述のように、好ましくは１％以下、より好ましくは０.８％以下、より好ましくは０.６％以下、より好ましくは０.４％以下、より好ましくは０.２％以下である。反射防止フィルムＸにおいて、ヘーズがこれらの程度に抑えられているという構成は、良好な透明性を確保するうえで好ましい。

反射防止フィルムＸの全光線透過率は、上述のように、好ましくは９４％以上、より好ましくは９４.９％以上、より好ましくは９５％以上である。上記第１条件での擦り試験後の反射防止フィルムＸの全光線透過率は、上述のように、好ましくは９４％以上、より好ましくは９４.９％以上、より好ましくは９５％以上である。上記第２条件での擦り試験後の反射防止フィルムＸの全光線透過率は、上述のように、好ましくは９４％以上、より好ましくは９４.９％以上、より好ましくは９５％以上である。反射防止フィルムＸにおいて、全光線透過率がこれらの程度に確保されているという構成は、高い透明性を実現するうえで好ましい。

反射防止層１３は、上述のように、好ましくは低屈折率粒子として中空シリカ粒子を含む。中空シリカ粒子の平均粒子径は、上述のように好ましくは５０〜７０ｎｍである。これら構成は、反射防止層１３ないし反射防止フィルムＸにおいて良好な反射防止性を実現するうえで好適である。

反射防止層１３は、好ましくはナノダイヤモンド粒子を含む。機械的強度の極めて高いダイヤモンドの微粒子であるナノダイヤモンド粒子を反射防止層１３が含むという構成は、反射防止フィルムＸの反射防止層１３ないしその表面１３ａにおいて高い耐擦傷性を実現するうえで好適である。

反射防止層１３は、上述のように、好ましくはフッ素含有硬化性化合物を含む。このような構成は、反射防止層１３の露出面における防汚性や、撥水性、撥油性、滑り性、指紋の拭き取りやすさ等の観点から好ましい。また、反射防止層１３がフッ素含有硬化性化合物を含むという構成は、反射防止層１３の表面１３ａにおける動摩擦係数や静止摩擦係数の低下を図るうえで好適であり、従って、反射防止層１３ないし反射防止フィルムＸにおいて高い耐擦傷性を実現するうえで好適である。

以上のような反射防止フィルムＸは、例えば、基材１１上にハードコート層１２と反射防止層１３とを順次に形成することによって製造することができる。基材１１上へのハードコート層１２の形成においては、まず、上述のハードコート層形成用組成物を基材１１上に塗布して組成物層を形成する。塗布手段としては、例えば、バーコーター、スプレーコーター、スピンコーター、ディップコーター、ダイコーター、コンマコーター、およびグラビアコーターが挙げられる。次に、基材１１上の組成物層を乾燥および硬化させる。これによってハードコート層１２が形成される。ハードコート層１２上への反射防止層１３の形成においては、まず、上述の硬化性樹脂形成成分と低屈折率粒子とナノダイヤモンド粒子とを少なくとも含有する反射防止層形成用組成物をハードコート層１２上に塗布して組成物層を形成する。塗布手段としては、例えば、バーコーター、スプレーコーター、スピンコーター、ディップコーター、ダイコーター、コンマコーター、およびグラビアコーターが挙げられる。次に、基材１１上の当該組成物層を乾燥および硬化させる。このようなウェットコーティング法によって反射防止層１３が形成される。例えば以上のようにして反射防止フィルムＸを製造することができる。

図２は、反射防止層１３ないし反射防止層形成用組成物の構成成分として用いられうる表面修飾ナノダイヤモンド粒子の作製方法の一例の工程図である。本方法は、生成工程Ｓ１、精製工程Ｓ２、乾燥工程Ｓ３、および表面修飾工程Ｓ４を含む。

生成工程Ｓ１では、爆轟法が行われてナノダイヤモンドが生成する。まず、成形された爆薬に電気雷管が装着されたものを爆轟用の耐圧性容器の内部に設置し、容器内において大気組成の常圧の気体と使用爆薬とが共存する状態で、容器を密閉する。容器は例えば鉄製で、容器の容積は例えば０.５〜４０ｍ³である。爆薬としては、トリニトロトルエン（ＴＮＴ）とシクロトリメチレントリニトロアミンすなわちヘキソーゲン（ＲＤＸ）との混合物を使用することができる。ＴＮＴとＲＤＸの質量比（ＴＮＴ／ＲＤＸ）は、例えば４０／６０〜６０／４０の範囲とされる。爆薬の使用量は、例えば０.０５〜２.０ｋｇである。

生成工程Ｓ１では、次に、電気雷管を起爆させ、容器内で爆薬を爆轟させる。爆轟とは、化学反応に伴う爆発のうち反応の生じる火炎面が音速を超えた高速で移動するものをいう。爆轟の際、使用爆薬が部分的に不完全燃焼を起こして遊離した炭素を原料として、爆発で生じた衝撃波の圧力とエネルギーの作用によってナノダイヤモンドが生成する。ナノダイヤモンドは、爆轟法により得られる生成物にて先ずは、隣接する一次粒子ないし結晶子の間がファンデルワールス力の作用に加えて結晶面間クーロン相互作用が寄与して非常に強固に集成し、凝着体をなす。

生成工程Ｓ１では、次に、室温での例えば２４時間の放置により、容器およびその内部を降温させる。この放冷の後、容器の内壁に付着しているナノダイヤモンド粗生成物（上述のようにして生成したナノダイヤモンド粒子の凝着体および煤を含む）をヘラで掻き取る作業を行い、ナノダイヤモンド粗生成物を回収する。以上のような爆轟法によって、ナノダイヤモンド粒子の粗生成物を得ることができる。また、以上のような生成工程Ｓ１を必要回数行うことによって、所望量のナノダイヤモンド粗生成物を取得することが可能である。

精製工程Ｓ２は、本実施形態では、原料たるナノダイヤモンド粗生成物に例えば水溶媒中で強酸を作用させる酸処理を含む。爆轟法で得られるナノダイヤモンド粗生成物には金属酸化物が含まれやすいところ、この金属酸化物は、爆轟法に使用される容器等に由来するＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の酸化物である。例えば水溶媒中で所定の強酸を作用させることにより、ナノダイヤモンド粗生成物から金属酸化物を溶解・除去することができる（酸処理）。この酸処理に用いられる強酸としては、鉱酸が好ましく、例えば、塩酸、フッ化水素酸、硫酸、硝酸、および王水が挙げられる。酸処理では、一種類の強酸を用いてもよいし、二種類以上の強酸を用いてもよい。酸処理で使用される強酸の濃度は例えば１〜５０質量％である。酸処理温度は例えば７０〜１５０℃である。酸処理時間は例えば０.１〜２４時間である。また、酸処理は、減圧下、常圧下、または加圧下で行うことが可能である。このような酸処理の後、例えばデカンテーションにより、固形分（ナノダイヤモンド凝着体を含む）の水洗を行う。沈殿液のｐＨが例えば２〜３に至るまで、デカンテーションによる当該固形分の水洗を反復して行うのが好ましい。

精製工程Ｓ２は、本実施形態では、酸化剤を用いてナノダイヤモンド粗生成物（精製終了前のナノダイヤモンド凝着体）からグラファイトを除去するための酸化処理を含む。爆轟法で得られるナノダイヤモンド粗生成物にはグラファイト（黒鉛）が含まれているところ、このグラファイトは、使用爆薬が部分的に不完全燃焼を起こして遊離した炭素のうちナノダイヤモンド結晶を形成しなかった炭素に由来する。例えば上記の酸処理を経た後に、例えば水溶媒中で所定の酸化剤を作用させることにより、ナノダイヤモンド粗生成物からグラファイトを除去することができる（酸化処理）。この酸化処理に用いられる酸化剤としては、例えば、硫酸、硝酸、クロム酸、無水クロム酸、二クロム酸、過マンガン酸、および過塩素酸が挙げられる。酸化処理では、一種類の酸化剤を用いてもよいし、二種類以上の酸化剤を用いてもよい。酸化処理で使用される酸化剤の濃度は例えば３〜８０質量％である。酸化処理における酸化剤の使用量は、酸化処理に付されるナノダイヤモンド粗生成物１００質量部に対して例えば３００〜５００質量部である。酸化処理温度は例えば１００〜２００℃である。酸化処理時間は例えば１〜５０時間である。酸化処理は、減圧下、常圧下、または加圧下で行うことが可能である。このような酸化処理の後、例えばデカンテーションまたは遠心沈降法により、固形分（ナノダイヤモンド凝着体を含む）の水洗を行う。水洗当初の上清液は着色しているところ、上清液が目視で透明になるまで、当該固形分の水洗を反復して行うのが好ましい。水洗を繰り返すことにより、不純物である電解質（ＮａＣｌ等）が低減ないし除去される。電解質濃度が低いことは、本方法によって得られるナノダイヤモンド粒子について高い分散性および高い分散安定性を実現するうえで好適である。

このような酸化処理の後、ナノダイヤモンドをアルカリ溶液で処理してもよい。当該アルカリ処理により、ナノダイヤモンド表面の酸性官能基（例えばカルボキシ基）を塩（例えばカルボン酸塩）に変換することが可能である。使用されるアルカリ溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液が挙げられる。当該アルカリ処理において、アルカリ溶液濃度は、例えば１〜５０質量％であり、処理温度は例えば７０〜１５０℃であり、処理時間は例えば０.１〜２４時間である。また、このようなアルカリ処理の後、ナノダイヤモンドを酸溶液で処理してもよい。当該酸処理を経ることにより、ナノダイヤモンド表面の酸性官能基の塩を再び遊離の酸性官能基に戻すことが可能である。使用される酸溶液としては、塩酸が挙げられる。当該酸処理は、室温で行ってもよく、加熱下で行ってもよい。酸化処理後のアルカリ処理や、その後の酸処理を経たナノダイヤモンドについては、例えばデカンテーションまたは遠心沈降法により、固形分（ナノダイヤモンド凝着体を含む）の水洗を行う。

本方法では、次に、乾燥工程Ｓ３が行われる。本工程では、例えば、精製工程Ｓ２を経て得られるナノダイヤモンド含有溶液からエバポレーターを使用して液分を蒸発させる（蒸発乾固）。このような蒸発乾固によって生じる残留固形分を乾燥用オーブン内での加熱乾燥によって更に乾燥させてもよい。このような乾燥工程Ｓ３を経ることにより、ナノダイヤモンド凝着体の粉体が得られる。

本方法では、次に、表面修飾工程Ｓ４が行われる。表面修飾工程Ｓ４は、例えば以上のようにして得られるナノダイヤモンド凝着体に含まれるナノダイヤモンド粒子について、所定のシランカップリング剤を結合させることによって表面修飾するための工程である。表面修飾工程Ｓ４では、まず、例えば上述のようにして得られる乾燥ナノダイヤモンド（ナノダイヤモンド凝着体）と、シランカップリング剤と、溶媒とを含む混合溶液を、反応容器内で撹拌する。次に、反応容器内の混合溶液に対し、解砕メディアとしてのジルコニアビーズを添加する。ジルコニアビーズの直径は例えば１５〜５００μｍである。次に、超音波を発振し得る振動子を備える超音波発生装置を使用して、当該溶液中のナノダイヤモンドについて表面修飾処理を行う。具体的には、超音波発生装置の振動子の先端を反応容器内に挿入して前記の溶液に浸け、当該振動子から超音波を発生させる。この処理は、処理に付される溶液を例えば氷水で冷却しつつ行うのが好ましい。このような表面修飾処理の処理時間は例えば４〜１０時間である。本処理に供される溶液において、ナノダイヤモンドの含有割合は例えば０.５〜５質量％であり、シランカップリング剤の濃度は例えば５〜４０質量％である。溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、１-メトキシプロパノール、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、または２-ブタノールが用いられる。また、溶液中のナノダイヤモンドとシランカップリング剤との質量比は例えば２：１〜１：１０である。本表面修飾処理においては、超音波照射を受ける溶液内に音響効果に基づきキャビテーションが発生し、そのキャビテーション（微小気泡）崩壊時に生じるジェット噴流によって溶液内のジルコニアビーズが極めて大きな運動エネルギーを獲得する。そして、当該ジルコニアビーズが同一溶液内のナノダイヤモンド凝着体に衝撃エネルギーを与えることにより、ナノダイヤモンド凝着体からナノダイヤモンド粒子が解かれ（解砕）、解離状態にあるナノダイヤモンド粒子にシランカップリング剤が作用して結合する。この結合は、例えば、シランカップリング剤側のシラノール基とナノダイヤモンド粒子側の表面水酸基との間での脱水縮合反応を経て生ずる共有結合である。シランカップリング剤が加水分解性基を有する場合、当該反応系に含まれるわずかな水分によっても当該加水分解性基からシラノール基が生じ得る。以上のような表面修飾工程Ｓ４により、ナノダイヤモンド粒子とこれに結合したシランカップリング剤とを含む表面修飾ナノダイヤモンド粒子ないしその分散液を、作製することができる。本工程を経た溶液中に未反応ナノダイヤモンド凝着体が存在する場合には、当該溶液を静置した後にその上清液を採取することにより、未反応ナノダイヤモンド凝着体の含有量の低減された表面修飾ナノダイヤモンド粒子分散液を得ることができる。また、得られる表面修飾ナノダイヤモンド粒子分散液については、表面修飾工程Ｓ４で用いた上記の溶媒を他の溶媒に変えるための溶媒置換操作を行ってもよい。

例えば以上のようにして作製される表面修飾ナノダイヤモンド粒子分散液を、上述の硬化性樹脂形成成分および低屈折率粒子等と混合することにより、上述の反射防止層形成用組成物を調製することができる。

〔表面修飾ナノダイヤモンド粒子の分散液の作製〕
以下のような過程を経て、表面修飾ナノダイヤモンド粒子の分散液を作製した。

まず、爆轟法によるナノダイヤモンドの生成工程を行った。本工程では、まず、成形された爆薬に電気雷管が装着されたものを爆轟用の耐圧性容器の内部に設置して容器を密閉した。容器は鉄製で、容器の容積は１５ｍ³である。爆薬としては、ＴＮＴとＲＤＸとの混合物０.５０ｋｇを使用した。この爆薬におけるＴＮＴとＲＤＸの質量比（ＴＮＴ／ＲＤＸ）は、５０／５０である。次に、電気雷管を起爆させ、容器内で爆薬を爆轟させた（爆轟法によるナノダイヤモンドの生成）。次に、室温での２４時間の放置により、容器およびその内部を降温させた。この放冷の後、容器の内壁に付着しているナノダイヤモンド粗生成物（上記爆轟法で生成したナノダイヤモンド粒子の凝着体と煤を含む）をヘラで掻き取る作業を行い、ナノダイヤモンド粗生成物を回収した。

上述のような生成工程を複数回行うことによって取得されたナノダイヤモンド粗生成物に対し、次に、精製工程の酸処理を行った。具体的には、当該ナノダイヤモンド粗生成物２００ｇに６Ｌの１０質量％塩酸を加えて得られたスラリーに対し、常圧条件での還流下で１時間の加熱処理を行った。この酸処理における加熱温度は８５〜１００℃である。次に、冷却後、デカンテーションにより、固形分（ナノダイヤモンド凝着体と煤を含む）の水洗を行った。沈殿液のｐＨが低ｐＨ側から２に至るまで、デカンテーションによる当該固形分の水洗を反復して行った。

次に、精製工程の酸化処理を行った。具体的には、酸処理後のデカンテーションを経て得た沈殿液（ナノダイヤモンド凝着体を含む）に、６Ｌの９８質量％硫酸と１Ｌの６９質量％硝酸とを加えてスラリーとした後、このスラリーに対し、常圧条件での還流下で４８時間の加熱処理を行った。この酸化処理における加熱温度は１４０〜１６０℃である。次に、冷却後、デカンテーションにより、固形分（ナノダイヤモンド凝着体を含む）の水洗を行った。水洗当初の上清液は着色しているところ、上清液が目視で透明になるまで、デカンテーションによる当該固形分の水洗を反復して行った。

次に、酸化処理後のデカンテーションを経て得た沈殿液（ナノダイヤモンド凝着体を含む）について乾燥処理に付して乾燥粉体を得た（乾燥工程）。乾燥処理の手法としては、エバポレーターを使用して行う蒸発乾固を採用した。

次に、表面修飾工程を行った。具体的には、まず、上述の乾燥工程を経て得られたナノダイヤモンド粉体０.３０ｇを５０ｍｌサンプル瓶に量り取り、当該ナノダイヤモンド粉体と、溶媒であるテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１４ｇと、シランカップリング剤であるアクリル酸３-(トリメトキシシリル)プロピル（東京化成工業株式会社製）１.２ｇとを混合した溶液を、１０分間、撹拌した。次に、当該溶液に対し、ジルコニアビーズ（商品名「ＹＴＺ」，直径３０μｍ，東ソー株式会社製）３４ｇを添加した。次に、超音波発生装置たるホモジナイザー（商品名「超音波分散機 ＵＨ−６００Ｓ」，株式会社エスエムテー製）を使用して、前記の混合溶液を表面修飾処理に付した。具体的には、超音波発生装置の振動子の先端を反応容器内に挿入して前記の溶液に浸けた状態で当該振動子から超音波を発生させ、反応容器を氷水で冷やしながら当該反応容器内の前記混合溶液を８時間の超音波処理に付した。本処理において、当初は灰濁色であった溶液は、次第に、黒色化しつつ透明性を増した。これは、ナノダイヤモンド凝着体から順次にナノダイヤモンド粒子が解かれ（解砕）、解離状態にあるナノダイヤモンド粒子にシランカップリング剤が作用して結合し、そのように表面修飾のなされたナノダイヤモンド粒子がＴＨＦ溶媒中で分散安定化したためであると考えられる。８時間の表面修飾処理後のナノダイヤモンド分散液の粒径Ｄ５０を後記のように動的光散乱法によって測定したところ、１５ｎｍであった。以上のようにして、表面修飾ナノダイヤモンド粒子（表面修飾ナノダイヤモンド粒子ＮＤ₁）の分散液を作製した。

［実施例１］
以下のようにして基材上にハードコート層および反射防止層を順次に形成し、実施例１の反射防止フィルムを作製した。

〔ハードコート層の形成〕
まず、六官能アクリル系ＵＶ硬化性モノマー（商品名「ＤＰＨＡ」，ダイセル・オルネクス株式会社製）１００質量部と、三官能アクリル系ＵＶ硬化性モノマー（商品名「ＰＥＴＩＡ」，ダイセル・オルネクス株式会社製）３３質量部と、セルロースアセテートプロピオネート（商品名「ＣＡＰ」，ＥＡＳＴＭＡＮ社製）０.４質量部と、フッ素含有ＵＶ硬化性化合物（商品名「Ｐｏｌｙｆｏｘ３３２０」，Ｏｍｎｏｖａ Ｓｏｌｕｔｉｏｎ社製）０.０３質量部と、光重合開始剤（商品名「イルガキュア１８４」，ＢＡＳＦ社製）２.７質量部と、光重合開始剤（商品名「イルガキュア９０７」，ＢＡＳＦ社製）１.３質量部と、メチルエチルケトン １８７質量部と、１-ブタノール ３１質量部と、１-メトキシ-２-プロパノール ９３質量部とを含むハードコート層形成用組成物を調製した。次に、透明基材である厚さ６０μｍのトリアセチルセルロール（ＴＡＣ）フィルム（富士フイルム株式会社製）上に、バーコーター＃１８を使用して当該ハードコート層形成用組成物を塗布して塗膜を形成した後、６０℃で１分間、乾燥機を使用して当該塗膜を乾燥させた。次に、紫外線照射装置（光源は高圧水銀ランプ，ウシオ電機株式会社製）を使用して、当該塗膜付きフィルムに対して紫外線硬化処理を行った。その紫外線照射量は２００ｍＪ／ｃｍ²とした。これにより、ＴＡＣフィルム上にハードコート層（ハードコート層ＨＣ₁）を形成した。すなわち、ハードコート層ＨＣ₁付きＴＡＣフィルムを作製した。ハードコート層ＨＣ₁の厚さは約６μｍであった。

〔反射防止層の形成〕
表面修飾ナノダイヤモンドＮＤ₁の上記分散液を一昼夜静置した後に採取した上清液を、トルエン１６ｍｌとヘキサン４ｍｌとの混合溶媒に滴下し（総滴下量は１０ｍｌ）、滴下後の混合溶媒を遠心分離処理（遠心力２００００×ｇ，遠心時間１０分間）に付して沈降した固形分（表面修飾ナノダイヤモンド粒子ＮＤ₁）を回収した。このようにして回収した固形分にテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を加えて表面修飾ナノダイヤモンド粒子ＮＤ₁のＴＨＦ溶液（固形分濃度６.５質量％）を調製し、当該溶液について、超音波処理装置（商品名「ＡＳＵ−１０」，アズワン株式会社）を使用して１０分間の超音波処理を行った。この超音波処理後のＴＨＦ溶液中の表面修飾ナノダイヤモンドＮＤ₁について、粒径Ｄ５０を後記のように動的光散乱法によって測定したところ、１２ｎｍであった。一方、この超音波処理後のＴＨＦ溶液（表面修飾ナノダイヤモンド粒子ＮＤ₁を含有して固形分濃度は６.５質量％）と、反射防止塗料（商品名「ＥＬＣＯＭ Ｐ−５０６２」，低屈折率粒子である中空シリカ粒子の含有割合は１.６５質量％，硬化性樹脂成分の含有割合は１.３５質量％，総固形分濃度３質量％，日揮触媒化成株式会社製）と、フッ素含有硬化性化合物溶液（商品名「ＫＹ−１２０３」，フッ素含有アクリル化合物，固形分濃度２０質量％，信越化学株式会社製）とを、反射防止塗料中の中空シリカ粒子１００質量部に対するＴＨＦ溶液の固形分が１.８２質量部となり且つフッ素含有硬化性化合物溶液の固形分が１２.７３質量部となる量比で遮光瓶に投入し、侵とう機を使用して１時間の混合を行った。このようにして、表面修飾ナノダイヤモンドＮＤ₁の分散する反射防止層形成用組成物を調製した。次に、上記のハードコート層ＨＣ₁付きＴＡＣフィルムのハードコート層ＨＣ₁上に、バーコーター＃４を使用して当該反射防止層形成用組成物を塗布して塗膜を形成した後、８０℃で１分間、乾燥機を使用して当該塗膜を乾燥させた。次に、紫外線照射装置（光源は高圧水銀ランプ，ウシオ電機株式会社製）を使用して、当該塗膜付きフィルムに対して窒素雰囲気下での紫外線硬化処理を行った。その紫外線照射量は２００ｍＪ／ｃｍ²とした。これにより、ハードコート層ＨＣ₁付きＴＡＣフィルムのハードコート層ＨＣ₁上に反射防止層（厚さは約１００ｎｍ）を形成した。以上のようにして、ＴＡＣフィルムとハードコート層ＨＣ₁と反射防止層との積層構造を有する実施例１の反射防止フィルムを作製した。

［実施例２］
反射防止層形成用組成物の調製にあたり、反射防止塗料（商品名「ＥＬＣＯＭ Ｐ−５０６２」，日揮触媒化成株式会社製）中の中空シリカ粒子１００質量部に対するＴＨＦ溶液（表面修飾ナノダイヤモンド粒子ＮＤ₁を含有して固形分濃度は６.５質量％）の固形分量を１.８２質量部に代えて９.０９質量部とし且つフッ素含有硬化性化合物溶液（商品名「ＫＹ−１２０３」，信越化学株式会社製）の固形分量を１２.７３質量部に代えて１３.９４質量部としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例２の反射防止フィルムを作製した。

［実施例３］
反射防止層形成用組成物の調製にあたり、反射防止塗料（商品名「ＥＬＣＯＭ Ｐ−５０６２」，日揮触媒化成株式会社製）中の中空シリカ粒子１００質量部に対するＴＨＦ溶液（表面修飾ナノダイヤモンド粒子ＮＤ₁を含有して固形分濃度は６.５質量％）の固形分量を１.８２質量部に代えて１８.１８質量部とし且つフッ素含有硬化性化合物溶液（商品名「ＫＹ−１２０３」，信越化学株式会社製）の固形分量を１２.７３質量部に代えて１５.１５質量部としたこと以外は実施例１と同様にして、実施例３の反射防止フィルムを作製した。

［実施例４］
以下のようにして基材上にハードコート層および反射防止層を順次に形成し、実施例５の反射防止フィルムを作製した。

〔ハードコート層の形成〕
まず、ジルコニア分散アクリル系ＵＶ硬化性モノマー（商品名「ＮＳＸ−４０１Ｍ」，光重合開始剤含有，共栄社化学株式会社製）１００質量部と、メチルエチルケトン １１７質量部と、１-ブタノール ２３質量部と、１-メトキシ-２-プロパノール ８２質量部とを含むハードコート層形成用組成物を調製した。次に、透明基材である厚さ６０μｍのトリアセチルセルロール（ＴＡＣ）フィルム（富士フイルム株式会社製）上に、バーコーター＃１８を使用して当該ハードコート層形成用組成物を塗布して塗膜を形成した後、６０℃で１分間、乾燥機を使用して当該塗膜を乾燥させた。次に、紫外線照射装置（光源は高圧水銀ランプ，ウシオ電機株式会社製）を使用して、当該塗膜付きフィルムに対して紫外線硬化処理を行った。その紫外線照射量は２００ｍＪ／ｃｍ²とした。これにより、ＴＡＣフィルム上にハードコート層（ハードコート層ＨＣ₂）を形成した。すなわち、ハードコート層ＨＣ₂付きＴＡＣフィルムを作製した。ハードコート層ＨＣ₂の厚さは約６μｍであった。

〔反射防止層の形成〕
反射防止塗料（商品名「ＥＬＣＯＭ Ｐ−５０６２」，低屈折率粒子である中空シリカ粒子の含有割合は１.６５質量％，硬化性樹脂成分の含有割合は１.３５質量％，総固形分濃度３質量％，日揮触媒化成株式会社製）と、低屈折率粒子である中空シリカ粒子の分散液（商品名「スルーリア４３２０」，中空シリカ粒子の含有割合ないし固形分濃度は２０質量％，日揮触媒化成株式会社製）と、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）とを、反射防止塗料中の中空シリカ粒子１００質量部に対するスルーリア４３２０の固形分が３０質量部となり且つＩＰＡが７９８質量部となる量比で混合した。この混合液における、中空シリカ粒子の含有割合は１.８３質量％であり、硬化性樹脂成分の含有割合は１.１７質量％であり、総固形分濃度は３質量％である。そして、この混合液と、実施例１に関して上述した超音波処理後のナノダイヤモンド含有ＴＨＦ溶液（表面修飾ナノダイヤモンド粒子ＮＤ₁を含有して固形分濃度は６.５質量％）と、フッ素含有硬化性化合物溶液（商品名「ＫＹ−１２０３」，フッ素含有アクリル化合物，固形分濃度２０質量％，信越化学株式会社製）とを、上記混合液中の中空シリカ粒子１２７.８質量部に対するＴＨＦ溶液の固形分が４.９２質量部となり且つフッ素含有硬化性化合物溶液の固形分が１０.３８質量部となる量比で遮光瓶に投入し、侵とう機を使用して１時間の混合を行った。このようにして、表面修飾ナノダイヤモンドＮＤ₁の分散する反射防止層形成用組成物を調製した。次に、上記のハードコート層ＨＣ₂付きＴＡＣフィルムのハードコート層ＨＣ₂上に、バーコーター＃４を使用して当該反射防止層形成用組成物を塗布して塗膜を形成した後、８０℃で１分間、乾燥機を使用して当該塗膜を乾燥させた。次に、紫外線照射装置（光源は高圧水銀ランプ，ウシオ電機株式会社製）を使用して、当該塗膜付きフィルムに対して窒素雰囲気下での紫外線硬化処理を行った。その紫外線照射量は２００ｍＪ／ｃｍ²とした。これにより、ハードコート層ＨＣ₂付きＴＡＣフィルムのハードコート層ＨＣ₂上に反射防止層（厚さは約１００ｎｍ）を形成した。以上のようにして、ＴＡＣフィルムとハードコート層ＨＣ₂と反射防止層との積層構造を有する実施例４の反射防止フィルムを作製した。

［比較例１］
反射防止層形成用組成物の調製にあたり、ナノダイヤモンド含有のＴＨＦ溶液を用いず且つ反射防止塗料（商品名「ＥＬＣＯＭ Ｐ−５０６２」，日揮触媒化成株式会社製）中の中空シリカ粒子１００質量部に対するフッ素含有硬化性化合物溶液（商品名「ＫＹ−１２０３」，信越化学株式会社製）の固形分量を１２.７３質量部に代えて１２.１２質量部としたこと以外は実施例１と同様にして、比較例１の反射防止フィルムを作製した。

〈粒径Ｄ５０の測定〉
表面修飾ナノダイヤモンド粒子分散液中に含まれる表面修飾ナノダイヤモンド粒子の粒径Ｄ５０は、Ｍａｌｖｅｒｎ社製の装置（商品名「ゼータサイザー ナノＺＳ」）を使用して動的光散乱法（非接触後方散乱法）によって測定された粒度分布から得られた積算値５０％での粒径である。

〈全光線透過率〉
実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムについて、全光線透過率測定装置（商品名「ＮＤＨ−５０００Ｗ」，日本電色工業株式会社製）を使用して全光線透過率（％）を測定した。本測定は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して行った。その結果を表１に掲げる。同様に、後記の第１擦り試験を経た実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルム、および、第１擦り試験を経ずに後記の第２擦り試験を経た実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムについても、全光線透過率（％）を測定した。これらの結果を表１に掲げる。

〈ヘーズ〉
実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムについて、ヘーズ測定装置（商品名「ＮＤＨ−５０００Ｗ」，日本電色工業株式会社製）を使用してヘーズ値（％）を測定した。本測定は、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠して行った。その結果を表１に掲げる。同様に、後記の第１擦り試験を経た実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルム、および、第１擦り試験を経ずに後記の第２擦り試験を経た実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムについても、へーズ値（％）を測定した。これらの結果を表１に掲げる。

〈視感反射率〉
実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムについて、反射防止層とは反対の側の表面にＯＣＡ（光学透明粘着材）を貼り合せて粘着面を形成し、この粘着面に黒色アクリル板を貼り合せて測定用サンプルを作製した。そして、実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムから作製された測定用サンプルの反射防止層側表面について、反射分光光度計（商品名「ＵＨ−３９００」，日立ハイテク株式会社製）を使用して視感反射率（％）を測定した。本測定は、ＪＩＳ Ｚ ８７０１に準拠して行った。その結果を表１に掲げる。

〈動摩擦係数と静止摩擦係数〉
実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムにおける反射防止層の露出表面について、動摩擦係数および静止摩擦係数を測定した。具体的には次のとおりである。

まず、反射防止フィルムから第１試料フィルム（長さ１０ｃｍ×幅６.３ｃｍ）を切り出した。次に、重さ２００ｇの金属製直方体の底面（長さ６.３ｃｍ×幅６.３ｃｍ）を、第１試料フィルムの基材側であって第１試料フィルムの長さ方向の中ほどに対し、当該底面と第１試料フィルムの両幅方向が一致する配向で合わせ、第１試料フィルムを底面の縁端に対応する二箇所で折り曲げ、当該二つの折り曲げ端部を金属直方体の側面に粘着テープで固定した。

一方、同じ反射防止フィルムから第２試料フィルム（長さ２０ｃｍ×幅１０ｃｍ）を切り出した。平らな金属板に対し、第２試料フィルムの基材側を合わせてその長さ方向両端部を粘着テープで固定した。

そして、金属板上の第２試料フィルムの反射防止層側表面に、金属製直方体を伴う第１試料フィルムをその反射防止層側表面が接するように載置したうえで、滑り測定機（商品名「ＳＩＬ−ＱＡ−１」，テスター産業株式会社製）を使用して動摩擦係数および静止摩擦係数を測定した。本測定において、引張り速度は１００ｍｍ／分とした。また、本測定はＪＩＳ Ｋ ７１２５に準拠して行った。動摩擦係数および静止摩擦係数の測定値を表１に掲げる。

〈表面粗さ〉
実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムにおける反射防止層の露出表面について、走査型プローブ顕微鏡（商品名「Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ ＩＣＯＮ」，ＢｒｕｋｅｒＡＸＳ社製）を使用して観察を行い。取得画像に基づいて表面粗さＲａ（ｎｍ）を求めた。本測定は、ＰｅａｋＦｏｒｃｅＱＮＭモードで行い、プローブとしてＲＴＥＳＰＡ-３００を使用した。また、本測定における測定視野は１μｍ×１μｍとした。各反射防止フィルムにおける反射防止層の露出表面の表面粗さＲａを表１に掲げる。

〈第１擦り試験〉
実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムの反射防止層側表面について、擦り試験機を使用し、且つ、試験対象面上で往復動させる擦り材としてスチールウール＃００００（日本スチールウール株式会社製）を用いて、擦り試験を行った（第１擦り試験）。本試験において、試験環境は２３℃および５０％ＲＨであり、試験対象面に対する擦り材の荷重は２００ｇ/ｃｍ²であり、試験対象面上の擦り材の移動長さ（擦りストローク長）は１０ｃｍであり、試験対象面に対して擦り材を往復動させる回数は１０００回である。

このような第１擦り試験を経た実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムについて、全光線透過率（％）の測定、および、へーズ値（％）の測定を行った。その結果を表１に掲げる。これらの値に関し、第１擦り試験を経る前の値からの変化も表１に掲げる。

また、第１擦り試験を経た実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムについて、フィルム裏面を黒マジックで塗りつぶした後、反射光を利用して、反射防止層側表面における擦り部分の擦傷の程度を目視で観察した。そして、注意深く観察しても全く傷が確認されない場合を優（◎）、注意深く観察すると傷が５本まで観察される場合を良（○）、および、明らかに傷があることが分かる場合を不良（×）とする評価基準に基づき、第１擦り試験を経た実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムの反射防止層側表面の外観評価を行った。その結果を表１に掲げる。

〈第２擦り試験〉
実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルム（第１擦り試験は経ていない）の反射防止層側表面について、擦り試験機を使用し、且つ、試験対象面上で往復動させる擦り材としてスチールウール＃００００（日本スチールウール株式会社製）を用いて、擦り試験を行った（第２擦り試験）。本試験において、試験環境は２３℃および５０％ＲＨであり、試験対象面に対する擦り材の荷重は１０００ｇ/ｃｍ²であり、試験対象面上の擦り材の移動長さ（擦りストローク長）は１０ｃｍであり、試験対象面に対して擦り材を往復動させる回数は１００回である。

このような第２擦り試験を経た実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムについて、全光線透過率（％）の測定、および、へーズ値（％）の測定を行った。その結果を表１に掲げる。これらの値に関し、第２擦り試験を経る前の値からの変化も表１に掲げる。

また、第２擦り試験を経た実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムについて、フィルム裏面を黒マジックで塗りつぶした後、反射光を利用して、反射防止層側表面における擦り部分の擦傷の程度を目視で観察した。そして、第１擦り試験後の外観評価と同様の上述の評価基準に基づき、第２擦り試験を経た実施例１〜４および比較例１の各反射防止フィルムの反射防止層側表面の外観評価を行った。その結果を表１に掲げる。

［評価］
実施例１〜４の反射防止フィルムは、いずれも、９４.９％以上の全光線透過率と、０.８％以下のヘーズと、１.３％以下の視感反射率を示すとともに、上述の第１擦り試験を経る場合においても上述の第２擦り試験を経る場合においてもキズが形成されにくくて透明性（全光線透過率，へーズ）が維持された。

Ｘ 反射防止フィルム
１１ 基材
１２ ハードコート層
１３ 反射防止層
１３ａ 表面

Claims (8)

1. 基材と、反射防止層と、これらの間に位置するハードコート層とを含む積層構造を有し、
   前記反射防止層側の視感反射率が２％以下であり、
   前記反射防止層が、前記ハードコート層とは反対の側において動摩擦係数０.３以下および静止摩擦係数０.３以下の表面を有し、
   スチールウール＃００００を擦り材として用いて荷重２００ｇ/ｃｍ²、擦りストローク長１０ｃｍ、および往復動回数１０００の条件で前記反射防止層の前記表面に対して行われる擦り試験の後のヘーズ値（％）の、当該擦り試験より前のヘーズ値（％）に対する差が０.１以下である、反射防止フィルム。
2. スチールウール＃００００を擦り材として用いて荷重１０００ｇ/ｃｍ²、擦りストローク長１０ｃｍ、および往復動回数１００の条件で前記反射防止層の前記表面に対して行われる擦り試験の後のヘーズ値（％）の、当該擦り試験より前のヘーズ値（％）に対する差が０.１以下である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
3. 前記反射防止層の前記表面は５ｎｍ以下の表面粗さＲａを有する、請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
4. ヘーズが１％以下である、請求項１から３のいずれか一つに記載の反射防止フィルム。
5. 前記擦り試験の後のヘーズが１％以下である、請求項１から４のいずれか一つに記載の反射防止フィルム。
6. 前記反射防止層は中空シリカ粒子を含む、請求項１から５のいずれか一つに記載の反射防止フィルム。
7. 前記反射防止層はナノダイヤモンド粒子を含む、請求項１から６のいずれか一つに記載の反射防止フィルム。
8. 前記反射防止層はフッ素含有硬化性化合物を含む、請求項１から７のいずれか一つに記載の反射防止フィルム。

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