TWI833706B - 抗反射薄膜 - Google Patents

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Abstract

本發明的抗反射薄膜(X)具有包含基材(11)、硬塗層(12)、及抗反射層(13)的積層結構，且抗反射層(13)側之視感反射率為2%以下。抗反射層(13)具有動摩擦係數0.3以下及靜摩擦係數0.3以下之表面(13a)。又，在抗反射薄膜(X)中，將鋼絲絨# 0000作為摩擦材使用，以荷重200g/cm2、摩擦行程長10cm、及往復動作次數1000的條件，對於表面(13a)進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗之前的霧度值(%)之差為0.1以下。如前述的抗反射薄膜係適於同時實現高抗反射性與高耐擦傷性。

Description

抗反射薄膜
本發明係關於一種抗反射薄膜。又，本案基於2017年9月8日之日本申請日本特願2017-172771號、2018年2月7日之日本申請日本特願2018-020017號、及2018年2月7日之日本申請日本特願2018-020018號而主張優先權，且援用該等申請所記載之全部的內容。
在平板電腦裝置或各種電視等中之顯示器的表面，有時設置用以減低外部光線反射的抗反射薄膜。抗反射薄膜為包含透明的基材與較其折射率更低的抗反射層之積層結構的積層薄膜。
從抑制抗反射薄膜的製造成本等之觀點而言，作為對基材上之抗反射層的形成手法，有時不採用各種乾式塗布法而採用濕式塗布法。藉由濕式塗布法形成的抗反射層，例如，包含形成矩陣的硬化性樹脂、及在矩陣中分散之用以低折射率化的低折射率粒子。關於藉由濕式塗布法形成抗反射層的抗反射薄膜，例如，記載於下述的專利文獻1~3。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本特開2009-151270號公報
專利文獻2：日本特開2014-197135號公報
專利文獻3：日本特開2017-40936號公報
在藉由濕式塗布法形成的抗反射層中，有低折射率粒子的含量越多，淨折射率越低的傾向，且容易確保抗反射層或抗反射薄膜的抗反射機能。然而，在該抗反射層中，有低折射率粒子的含量越多，耐擦傷性越降低的傾向。以往以提升藉由濕式塗布法形成的抗反射層或具有其之抗反射薄膜的耐擦傷性為目的，有在抗反射層摻合既定的二氧化矽粒子，但有時得不到足夠的耐擦傷性。
本發明為基於如前述的情形而想出者，其目的在於提供一種適於同時實現高抗反射性與高耐擦傷性之抗反射薄膜。
根據本發明提供的抗反射薄膜係具有包含基材、抗反射層、及位於該等之間的硬塗層之積層構造，且抗反射層側之視感反射率為2%以下，較佳為1.7%以下，更佳為1.5%以下，再更佳為1.3%以下。在本發明中，視感反射率係定為依據JIS Z 8701進行測定的數值。抗反射層，在與硬塗層為相反側，具有動摩擦係數0.3以下及靜摩擦係數0.3以下之表面。該等動摩擦係數及靜摩擦係數的各值，本發明係定為在所準備之二種同一構成的抗反射薄膜中，由抵接的兩抗反射層表面之間的摩擦力測定求出的數值。該表面的動摩擦係數，較佳為0.28以下，更佳為0.26以下。該表面的靜摩擦係數，較佳為0.28以下，更佳為0.26以下。又，在本抗反射薄膜中，將鋼絲絨#0000作為摩擦材使用，以荷重200g/cm2、摩擦行程長10cm、及往復動作次數1000的條件，對於抗反射層的該表面進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗之前的霧度值(%)之差為0.1以下，較佳為0或0以下。在本發明中，霧度係定為依據JIS K 7136進行測定的數值。 如以上構成之本抗反射薄膜的抗反射層，例如為藉由濕式塗布法形成者，且至少包含形成矩陣的硬化性樹脂、及在矩陣中分散之用以低折射率化的低折射率粒子。在本發明中，低折射率粒子係定為指顯示折射率1.10~1.45的粒子。折射率，可依據JIS K 7142進行測定。
本發明之抗反射薄膜，如上述，具有包含基材、硬塗層、及例如藉由摻合低折射率粒子而實現低折射率化之抗反射層的積層結構，且抗反射層側之視感反射率為2%以下，較佳為1.7%以下，更佳為1.5%以下，再更佳為1.3%以下。抗反射薄膜之該視感反射率被抑制為如前述之程度的構成，適於實現高抗反射性作為抗反射薄膜之機能。
又，在本抗反射薄膜中，將鋼絲絨#0000作為摩擦材使用，以荷重200g/cm2、摩擦行程長10cm、及往復動作次數1000的條件(第1條件)，對於抗反射層的該表面進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗之前的霧度值(%)之差，如上述為0.1以下，較佳為0或0以下。藉由使用鋼絲絨#0000作為摩擦材針對抗反射薄膜進行之摩擦試驗，而在試驗對象面形成的傷痕越多，由抗反射薄膜中之該摩擦試驗前的霧度值至該摩擦試驗後的霧度值之上升程度有越大的傾向。針對抗反射薄膜，以上述第1條件進行之摩擦試驗後的抗反射薄膜之霧度值(%)的上升被抑制為0.1以下，較佳為0或0以下之構成，適於實現高耐擦傷性作為抗反射薄膜之機能。例如，如後述的實施例及比較例所示。
此外，本抗反射薄膜的抗反射層中之上述表面的動摩擦係數，如上述為0.3以下，較佳為0.28以下，更佳為0.26以下。在抗反射層中，與硬塗層為相反側的表面之動摩擦係數越小，與該表面抵接且滑動的物體所致之對該表面的傷痕之形成，有變得越不易產生的傾向，本抗反射薄膜之抗反射層表面的動摩擦係數為上述程度之小的構成，適於實現高耐擦傷性作為抗反射薄膜之機能。與此同時，該構成係適於在上述摩擦試驗中，抑制在抗反射層表面上滑動中的鋼絲 絨所致之對該表面的傷痕之形成，因此，促進實現在抗反射薄膜中，上述摩擦試驗後的霧度值(%)之上升被抑制為0.1以下，較佳為0或0以下之上述構成。
此外，本抗反射薄膜的抗反射層中之上述表面的靜摩擦係數，如上述為0.3以下，較佳為0.28以下，更佳為0.26以下。在抗反射層中，與硬塗層為相反側的表面之靜摩擦係數越小，與該表面抵接且由靜止狀態開始移動的物體所致之對該表面的傷痕之形成，有變得越不易產生的傾向，本抗反射薄膜之抗反射層表面的靜摩擦係數為上述程度之小的構成，適於實現高耐擦傷性作為抗反射薄膜之機能。與此同時，該構成係適於在上述摩擦試驗中，抑制抗反射層表面上的鋼絲絨翻轉時之對該表面的傷痕之形成，因此，促進實現在抗反射薄膜中，上述摩擦試驗後的霧度值(%)之上升被抑制為0.1以下，較佳為0或0以下之上述構成。
如以上，本發明的抗反射薄膜係適於同時實現高抗反射性與高耐擦傷性。
在本發明的抗反射薄膜中，將鋼絲絨#0000作為摩擦材使用，以荷重1000g/cm2、摩擦行程長10cm、及往復動作次數100的條件(第2條件)，對於抗反射層的表面進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗之前的霧度值(%)之差，較佳為0.1以下，更佳為0或0以下。如上述，藉由使用鋼絲絨#0000作為摩擦材針對抗反射薄膜進行之摩擦試驗，而在試驗對象面形成的傷痕越多，由抗反射薄膜中之該摩擦試驗前的霧度值至該摩擦試驗後的霧度值之上升程度有越大的傾向。針對抗反射薄膜，以上述第2條件進行之摩擦試驗後的抗反射薄膜之霧度值(%)的上升被抑制為0.1以下，較佳為0或0以下之構成，適於實現高耐擦傷性作為抗反射薄膜之機能。例如，如後述的實施例及比較例所示。
在本發明的抗反射薄膜中，抗反射層的表面之表面粗度Ra，較佳為5nm以下，更佳為4nm以下，再更佳為3nm以下。抗反射層表面的細微凹凸越 小，有藉由其它構件等摩擦該表面時的表面組織破壞現象越被抑制的傾向，抗反射層表面的表面粗度Ra較佳為5nm以下，更佳為4nm以下，再更佳為3nm以下之構成，適於抑制該表面中之傷痕的形成。又，抗反射層表面的細微凹凸越小，有該表面的動摩擦係數或靜摩擦係數越小的傾向，抗反射層表面的表面粗度Ra較佳為5nm以下，更佳為4nm以下，再更佳為3nm以下之構成，也促進實現與動摩擦係數相關之上述的構成、或與靜摩擦係數相關之上述的構成。
本發明之抗反射薄膜的霧度，較佳為1%以下，更佳為0.8%以下，更佳為0.6%以下，更佳為0.4%以下，再更佳為0.2%以下。上述摩擦試驗後之抗反射薄膜的霧度，較佳為1%以下，更佳為0.8%以下，更佳為0.6%以下，更佳為0.4%以下，再更佳為0.2%以下。在本抗反射薄膜中，以確保良好的透明性為前提，較佳係霧度被抑制為該等之程度的構成。
抗反射層，較佳係包含低折射率粒子。低折射率粒子，較佳為中空二氧化矽粒子。低折射率粒子的平均粒徑，較佳為50~70nm。該等構成，在抗反射層或抗反射薄膜中，以實現良好的抗反射性為前提係為合適。低折射率粒子的平均粒徑係定為指由動態光散射法所測定之微粒粒徑分布而得到的該微粒之平均粒徑。
抗反射層，較佳係包含奈米鑽石粒子。在本發明中，奈米鑽石粒子，可為奈米鑽石之一級粒子，亦可為奈米鑽石之二級粒子。奈米鑽石一級粒子係定為指粒徑10nm以下的奈米鑽石。屬機械強度極高之鑽石的微粒之奈米鑽石粒子包含於抗反射層的構成，在抗反射層或本抗反射薄膜中，以實現高耐擦傷性為前提係為合適。
抗反射層，較佳係含有含氟的硬化性化合物。從抗反射層的露出面中之防汙性、或斥水性、斥油性、滑動性、指紋之易擦拭性等之觀點而言，較佳為如前述的構成。又，抗反射層含有含氟的硬化性化合物之構成，以實現降低 抗反射層的表面中之動摩擦係數或靜摩擦係數為前提係為合適，因此，在該抗反射層或本抗反射薄膜中，以實現高耐擦傷性為前提係為合適。
X:抗反射薄膜
11:基材
12:硬塗層
13:抗反射層
13a:表面
[圖1]為本發明之一實施形態的抗反射薄膜之部分剖面圖。
[圖2]為可作為本發明之抗反射薄膜的抗反射層之構成成分使用的表面修飾奈米鑽石粒子之製作方法的一例之步驟圖。
[實施發明之形態]
圖1為本發明之一實施形態的抗反射薄膜之部分剖面圖。抗反射薄膜X具有包含基材11、硬塗層12、及抗反射層13的積層結構。抗反射薄膜X，亦可在此積層結構中具有其它的層。如前述的抗反射薄膜X係例如為：為了減低在光學構件之表面的外部光線反射，設置於該表面而使用者。作為光學構件，可舉出例如：液晶顯示器、或有機電致發光顯示器、電漿顯示器等平板顯示器用的透明基板、及觸控面板用透明面板。
基材11為透明基材，且係例如由可透射光之透明的樹脂薄膜組成。作為用於基材11之透明的樹脂薄膜，可舉出例如：纖維素乙酸酯系薄膜、聚酯系薄膜、聚碳酸酯系薄膜、及聚降莰烯系薄膜。作為纖維素乙酸酯系薄膜，可舉出例如：三乙醯纖維素薄膜、二乙醯纖維素薄膜、纖維素乙酸酯丙酸酯薄膜、及纖維素乙酸酯丁酸酯薄膜。作為聚酯系薄膜，可舉出例如：聚對苯二甲酸乙二酯薄膜及聚萘二甲酸乙二酯薄膜。基材11，可由單一的樹脂薄膜構成，亦可具有多個樹脂薄膜之積層結構。從在抗反射薄膜X中，實現充分的透明性之觀點而言， 基材11的厚度，較佳為400μm以下，更佳為200μm以下，再更佳為100μm以下。
硬塗層12位於基材11及抗反射層13之間，且至少抗反射層13側表面的鉛筆硬度具有例如2H以上的硬度。硬塗層12係至少包含例如具有多個(甲基)丙烯醯基之多官能(甲基)丙烯酸酯的單體及/或寡聚物之聚合物或是硬化物。「(甲基)丙烯醯基」意指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基。「(甲基)丙烯酸酯」意指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。作為用以形成如此的硬塗層12之組成物中所含有的形成單體或寡聚物之多官能(甲基)丙烯酸酯，可舉出例如：二官能(甲基)丙烯酸酯、三官能(甲基)丙烯酸酯、及四官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯。作為二官能(甲基)丙烯酸酯，可舉出例如：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、及壬二醇二(甲基)丙烯酸酯。作為三官能(甲基)丙烯酸酯，可舉出例如：三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、及二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯。作為四官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯，可舉出例如：季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、及二三羥甲基丙烷六(甲基)丙烯酸酯。硬塗層形成用組成物，可包含一種類的多官能(甲基)丙烯酸酯，亦可包含二種類以上的多官能(甲基)丙烯酸酯。硬塗層形成用組成物中的單體或寡聚物中之多官能(甲基)丙烯酸酯的比例，較佳為50質量%以上，更佳為75質量%以上。
硬塗層形成用組成物，也可包含具有一個(甲基)丙烯醯基的單官能(甲基)丙烯酸酯。作為如此的單官能(甲基)丙烯酸酯，可舉出例如：(甲 基)丙烯酸β-羧乙酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸癸酯、EO改質酚(甲基)丙烯酸酯、EO改質壬酚(甲基)丙烯酸酯、及EO改質(甲基)丙烯酸2-乙基己酯。硬塗層形成用組成物，可包含一種類的單官能(甲基)丙烯酸酯，亦可包含二種類以上的單官能(甲基)丙烯酸酯。又，硬塗層形成用組成物，亦可包含環氧(甲基)丙烯酸酯、或聚酯(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等作為丙烯酸系的寡聚物。
從確保所形成的硬塗層12之強度或平滑性之觀點而言，硬塗層形成用組成物，較佳係含有含氟的硬化性化合物。作為如此之含氟的硬化性化合物，可舉出例如：氟化(甲基)丙烯酸烷酯、氟化(聚)氧基烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、含氟的環氧樹脂、及含氟的胺基甲酸酯樹脂。作為氟化(甲基)丙烯酸烷酯，可舉出例如：(甲基)丙烯酸全氟辛基乙酯、及(甲基)丙烯酸三氟乙酯。作為氟化(聚)氧基烷二醇二(甲基)丙烯酸酯，可舉出例如：氟乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、及氟丙二醇二(甲基)丙烯酸酯。作為如前述之含氟的硬化性化合物之市售品，可舉出例如：Omnova Solution的「Polyfox3320」、信越化學工業股份有限公司的「KY-1203」、DIC股份有限公司的「MEGAFAC RS-90」、及大金工業股份有限公司的「OPTOOL DSX」。
硬塗層形成用組成物，較佳係包含聚合起始劑。作為聚合起始劑，可舉出光聚合起始劑及熱聚合起始劑。作為光聚合起始劑，可舉出例如：過氧化酯類、其它的過氧化物類、苯偶姻類、苯乙酮類、環己基苯基酮類、蒽醌類、噻噸酮類、縮酮類、二苯甲酮等二苯甲酮類、
Figure 107129918-A0305-02-0010-2
酮類、及二茂鈦化合物。作為過氧化酯類，可舉出例如，3,3’,4,4’-四(三級丁基過氧化羰基)二苯甲酮、3,3’-二(三級丁基過氧化羰基)-4,4’-二(甲氧羰基)二苯甲酮、及三級丁基過氧化苯甲酸酯。作為上述過氧化物類，可舉出例如：三級丁基氫過氧化物及二-三級丁基過氧化物。作為苯偶姻類，可舉出苯偶姻、苯偶姻甲醚、及苯偶姻乙醚。作為苯乙 酮類，可舉出例如：苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、及1,1-二氯苯乙酮。作為環己基苯基酮類，可舉出例如1-羥基環己基苯基酮。作為蒽醌類，可舉出例如：2-甲基蒽醌及2-乙基蒽醌。作為噻噸酮類，可舉出例如：2,4-二甲基噻噸酮及2,4-二乙基噻噸酮。作為縮酮類，可舉出例如：苯乙酮二甲基縮酮及苯甲基二甲基縮酮。作為熱聚合起始劑，可舉出例如：偶氮化合物、有機過氧化物、及過氧化氫。作為偶氮化合物，可舉出例如：2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(丙酸2-甲酯)、二乙基-2,2’-偶氮雙(丙酸2-甲酯)、及二丁基-2,2’-偶氮雙(丙酸2-甲酯)。作為有機過氧化物，可舉出例如：過氧化苯甲醯、過氧化月桂醯、三級丁基過氧化三甲基乙酸酯、及1,1-雙(三級丁基過氧基)環己烷。
硬塗層形成用組成物，以調整其塗布性等為前提，較佳為包含溶劑。作為溶劑，可舉出例如：甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、甲苯、二甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸甲氧基丙酯、乙二醇單甲醚乙酸酯、甲醇、乙醇、異丙醇、1-丁醇、1-甲氧基-2-丙醇、3-甲氧基丁醇、乙氧基乙醇、二異丙醚、乙二醇二甲醚、及四氫呋喃。
硬塗層12或硬塗層形成用組成物，亦可進一步包含消泡劑、光增感劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、光安定劑、抗黏結劑、調平劑、界面活性劑、增量劑、顏料、染料、防鏽劑、抗靜電劑、塑化劑等各種的添加劑。又，硬塗層12或硬塗層形成用組成物，亦可包含上述以外之聚合性成分。
從抗反射薄膜X中之透明性與硬塗層12的硬度之平衡的觀點而言，硬塗層12的厚度，較佳為1~30μm，更佳為3~10μm。
抗反射薄膜X中之抗反射層13，於本實施形態係包含硬化性樹脂、低折射率粒子、及奈米鑽石粒子，而且，在與硬塗層12為相反側具有表面13a。 又，抗反射層13的淨折射率，較硬塗層12的淨折射率低，例如為1.3~1.4。折射率之測定，可依據JIS K 7142進行。
抗反射層13中之硬化性樹脂，於本實施形態為含(甲基)丙烯醯基的化合物之聚合物。用以形成如前述的硬化性樹脂之成分，較佳為包含藉由光照射或加熱進行聚合反應，而用以形成硬化型丙烯酸樹脂的單體及/或寡聚物。作為如此的單體、或用以形成寡聚物之單體，可使用多官能(甲基)丙烯酸酯。作為多官能(甲基)丙烯酸酯，可舉出例如：二官能(甲基)丙烯酸酯、三官能(甲基)丙烯酸酯、及四官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯。作為二官能(甲基)丙烯酸酯，可舉出例如：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、及壬二醇二(甲基)丙烯酸酯。作為三官能(甲基)丙烯酸酯，可舉出例如：三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、及二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯。作為四官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯，可舉出例如：季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、及二三羥甲基丙烷六(甲基)丙烯酸酯。作為硬化性樹脂形成成分中之單體、或用以形成硬化性樹脂形成成分中的寡聚物之單體，可使用一種類的多官能(甲基)丙烯酸酯，亦可使用二種類以上的多官能(甲基)丙烯酸酯。硬化性樹脂形成成分中之多官能(甲基)丙烯酸酯的比例，較佳為50質量%以上，更佳為75質量%以上。
硬化性樹脂形成成分，也可包含具有一個(甲基)丙烯醯基的單官能(甲基)丙烯酸酯。作為如此的單官能(甲基)丙烯酸酯，可舉出例如：(甲 基)丙烯酸β-羧乙酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸癸酯、EO改質酚(甲基)丙烯酸酯、EO改質壬酚(甲基)丙烯酸酯、及EO改質(甲基)丙烯酸2-乙基己酯。硬化性樹脂形成成分，可包含一種類的單官能(甲基)丙烯酸酯，亦可包含二種類以上的單官能(甲基)丙烯酸酯。又，硬化性樹脂形成成分，亦可包含環氧(甲基)丙烯酸酯、或聚酯(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等作為丙烯酸系的寡聚物。
從確保抗反射層13的強度或表面滑動性之觀點而言，硬化性樹脂形成成分，較佳係含有含氟的硬化性化合物。抗反射層13的強度或表面滑動性高，促進在抗反射層13或抗反射薄膜X中，實現高耐擦傷性。作為用於抗反射層13之含氟的硬化性化合物，可舉出例如：氟化(甲基)丙烯酸烷酯、氟化(聚)氧基烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、含氟的環氧樹脂、及含氟的胺基甲酸酯樹脂。作為氟化(甲基)丙烯酸烷酯，可舉出例如：(甲基)丙烯酸全氟辛基乙酯、及(甲基)丙烯酸三氟乙酯。作為氟化(聚)氧基烷二醇二(甲基)丙烯酸酯，可舉出例如：氟乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、及氟丙二醇二(甲基)丙烯酸酯。作為如前述之含氟的硬化性化合物之市售品，可舉出例如：Omnova Solution的「Polyfox3320」、信越化學工業股份有限公司的「KY-1203」、DIC股份有限公司的「MEGAFAC RS-90」、及大金工業股份有限公司的「OPTOOL DSX」。
硬化性樹脂形成成分，較佳係包含聚合起始劑。作為聚合起始劑，可舉出上述作為硬塗層形成用組成物中的聚合起始劑之各種光聚合起始劑及各種熱聚合起始劑。
抗反射層13中之低折射率粒子，於本實施形態為顯示折射率1.10~1.45之粒子。折射率，可依據JIS K 7142進行測定。作為低折射率粒子的構成材料，可舉出例如：MgF2、LiF、AlF、3NaF．AlF、及Na3AlF6。又，作為低折射率粒子，也可使用中空粒子等在粒子內部具有空隙的粒子。在粒子內部具有空隙 的粒子，係構成材料部分的折射率與空隙部分的空氣之折射率(約1)相結合，而淨折射率低。從在抗反射層13中確保硬度，同時以良好的效率實現低折射率化之觀點而言，低折射率粒子，較佳為中空二氧化矽粒子。作為低折射率粒子的市售品，可舉出例如：日揮觸媒化成股份有限公司的「THRULYA 4320」「THRULYA 5320」及日鐵礦業股份有限公司的「SiliNax」。
從在抗反射層13或抗反射薄膜X中，實現良好的抗反射性之觀點而言，抗反射層13中之低折射率粒子的平均粒徑，較佳為50~70nm。低折射率粒子的平均粒徑係定為指由動態光散射法所測定之微粒粒徑分布而得到的該微粒之平均粒徑。
抗反射層13中之低折射率粒子的含有比例，係例如為10~90質量%，較佳為30~70質量%。
抗反射層13中之奈米鑽石粒子，可為奈米鑽石之一級粒子，亦可為奈米鑽石之二級粒子。奈米鑽石一級粒子係定為指粒徑10nm以下的奈米鑽石。又，奈米鑽石粒子，較佳為藉由如後述之爆炸法(detonation method)而生成的奈米鑽石粒子(爆炸法奈米鑽石粒子)。若利用爆炸法，則可適當合成一級粒徑為10nm以下的奈米鑽石粒子。
抗反射層13中之奈米鑽石粒子，從分散安定性之觀點而言，較佳為在表面鍵結有矽烷偶合劑的表面修飾奈米鑽石粒子。所謂矽烷偶合劑，為兼具會與無機材料之間產生化學鍵結之包含矽的反應性基、及與該矽鍵結的有機鏈之有機矽化合物，而上述表面修飾奈米鑽石粒子的矽烷偶合劑，係於其反應性基與奈米鑽石粒子的表面之間產生共價鍵結而鍵結於奈米鑽石粒子。作為形成與奈米鑽石粒子鍵結的矽烷偶合劑之矽烷偶合劑的反應性基，可舉出矽醇基(-SiOH)、及可產生矽醇基的水解性基。作為如此的水解性基，可舉出例如：與矽鍵結的甲氧基或乙氧基等烷氧矽基、與矽鍵結的氯或溴等鹵矽基、及與矽鍵結的 乙醯氧基。該等水解性基，可經由水解反應產生矽醇基。經由在該矽烷偶合劑的矽醇基與奈米鑽石表面的例如羥基之間的脫水縮合反應，可在該矽烷偶合劑與奈米鑽石表面之間產生化學鍵結。矽烷偶合劑的有機鏈，較佳係包含(甲基)丙烯醯基或烷基。若利用如前述的構成，則在抗反射層13中，容易實現表面修飾奈米鑽石粒子之分散安定化。含(甲基)丙烯醯基的有機鏈，較佳為丙烯酸丙酯及/或甲基丙烯酸丙酯。矽烷偶合劑之形成有機鏈的烷基，較佳為碳數1~18的烷基，更佳為甲基。作為如前述的表面修飾奈米鑽石粒子中之矽烷偶合劑，可舉出例如：丙烯酸3-(三甲氧矽基)丙酯、甲基丙烯酸3-(三甲氧矽基)丙酯、甲基丙烯酸3-(甲基二甲氧矽基)丙酯、甲基丙烯酸3-(甲基二乙氧矽基)丙酯、甲基丙烯酸3-(三乙氧矽基)丙酯、及三甲氧基(甲基)矽烷。
表面修飾奈米鑽石粒子中之矽烷偶合劑在其有機鏈中包含(甲基)丙烯醯基時，在硬化性樹脂形成用之上述單體或寡聚物聚合的過程中，使表面修飾奈米鑽石粒子之表面有機鏈中的(甲基)丙烯醯基與該單體或寡聚物反應，容易將該奈米鑽石粒子導入至硬化性樹脂中。作為如前述的矽烷偶合劑，可舉出例如：丙烯酸3-(三甲氧矽基)丙酯、甲基丙烯酸3-(三甲氧矽基)丙酯、甲基丙烯酸3-(甲基二甲氧矽基)丙酯、甲基丙烯酸3-(甲基二乙氧矽基)丙酯、及甲基丙烯酸3-(三乙氧矽基)丙酯。
奈米鑽石粒子(包含為表面修飾奈米鑽石粒子的情況)之粒徑D50，較佳為100nm以下，更佳為30nm以下。如前述的構成，針對抗反射層13，以實現高透明性為前提係為合適，因此，針對抗反射薄膜X，以實現高透明性為前提係為合適。
抗反射層13中之奈米鑽石粒子的含有比例，例如為0.1~15質量%，較佳為0.5~10質量%。又，抗反射層13中之上述的低折射率粒子與奈米鑽石粒子之質量比，較佳為在99：1~84：16的範圍。如前述的構成，適於實現抗反 射薄膜X中之抗反射性、耐擦傷性、及透明性之間的平衡。
用以形成抗反射層13的組成物，除上述的硬化性樹脂形成成分、低折射率粒子、及奈米鑽石粒子之外，以調整塗布性等為前提，較佳為包含溶劑。作為溶劑，可舉出與上述作為硬塗層形成用組成物中之溶劑相同者。
抗反射層13或抗反射層形成用組成物，亦可進一步包含消泡劑、光增感劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、光安定劑、抗黏結劑、調平劑、界面活性劑、增量劑、顏料、染料、防鏽劑、抗靜電劑、塑化劑等各種的添加劑。
抗反射層13的厚度，例如為0.07~0.13μm，較佳為0.8~1.2μm。
抗反射層13的表面13a，於本實施形態係形成抗反射薄膜X的露出面。表面13a的動摩擦係數為0.3以下，較佳為0.28以下，更佳為0.26以下。表面13a的靜摩擦係數為0.3以下，較佳為0.28以下，更佳為0.26以下。該等動摩擦係數及靜摩擦係數的各值，本實施形態係定為在所準備之二種同一構成的抗反射薄膜中，由抵接的兩抗反射層表面之間的摩擦力測定求出的數值。表面13a的動摩擦係數及靜摩擦係數之調整，例如，可藉由抗反射層13中之上述含氟的硬化性化合物的摻合量之調整、或在抗反射層13形成過程中所塗布的抗反射層13形成用組成物的乾燥溫度或乾燥時間之調整而進行。
抗反射層13的表面13a之表面粗度Ra，較佳為5nm以下，更佳為4nm以下，再更佳為3nm以下。表面粗度Ra之調整，例如，可藉由抗反射層13中之上述含氟的硬化性化合物的摻合量之調整、或在抗反射層13形成過程中所塗布的抗反射層13形成用組成物的乾燥溫度或乾燥時間之調整而進行。
具有如以上的積層結構之抗反射薄膜X的霧度，較佳為1%以下，更佳為0.8%以下，更佳為0.6%以下，更佳為0.4%以下，再更佳為0.2%以下。又，抗反射薄膜X之總透光率，較佳為94%以上，更佳為94.9%以上，再更佳為95%以上。在本發明中，總透光率係定為依據JIS K 7105進行測定的數值。
抗反射薄膜X中之抗反射層13側的視感反射率為2%以下，較佳為1.7%以下，更佳為1.5%以下，再更佳為1.3%以下。在本實施形態中，視感反射率係定為依據JIS Z 8701進行測定的數值。抗反射薄膜X之抗反射層13側的視感反射率之調整，例如，可藉由調整硬塗層12及抗反射層13之折射率差而進行。該折射率差之調整，例如，可藉由利用組成調整的硬塗層12之高折射率化、或利用組成調整的抗反射層13之低折射率化而進行。
在抗反射薄膜X中，將鋼絲絨#0000作為摩擦材使用，以荷重200g/cm2、摩擦行程長10cm、及往復動作次數1000的條件，對於抗反射層13的表面(13a)進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗之前的霧度值(%)之差為0.1以下，較佳為0或0以下。又，在抗反射薄膜X中，將鋼絲絨#0000作為摩擦材使用，以荷重1000g/cm2、摩擦行程長10cm、及往復動作次數100的條件，對於抗反射層13的表面(13a)進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗之前的霧度值(%)之差，較佳為0.1以下，更佳為0或0以下。該等摩擦試驗後之抗反射薄膜X的霧度，較佳為1%以下，更佳為0.8%以下，更佳為0.6%以下，更佳為0.4%以下，再更佳為0.2%以下。該等摩擦試驗後之抗反射薄膜X的總透光率，較佳為94%以上，更佳為94.9%以上，再更佳為95%以上。
抗反射薄膜X，如上述，具有包含基材11、硬塗層12、及藉由摻合低折射率粒子而實現低折射率化之抗反射層13的積層結構，且抗反射層13側之視感反射率為2%以下，較佳為1.7%以下，更佳為1.5%以下，再更佳為1.3%以下。抗反射薄膜X之該視感反射率被抑制為如前述之程度的構成，適於實現高抗反射性作為抗反射薄膜X之機能。
又，在抗反射薄膜X中，將鋼絲絨#0000作為摩擦材使用，以荷重200g/cm2、摩擦行程長10cm、及往復動作次數1000的條件(第1條件)，對於抗反射層13的表面(13a)進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗 之前的霧度值(%)之差，如上述為0.1以下，較佳為0或0以下。藉由使用鋼絲絨#0000作為摩擦材針對抗反射薄膜X進行之摩擦試驗，而在試驗對象面形成的傷痕越多，由抗反射薄膜X中之該摩擦試驗前的霧度值至該摩擦試驗後的霧度值之上升程度有越大的傾向。針對抗反射薄膜X，以上述第1條件進行之摩擦試驗後的抗反射薄膜之霧度值(%)的上升被抑制為0.1以下，較佳為0或0以下之構成，適於實現高耐擦傷性作為抗反射薄膜X之機能。
此外，抗反射薄膜X的抗反射層13中之表面13a的動摩擦係數，如上述為0.3以下，較佳為0.28以下，更佳為0.26以下。抗反射層13的表面13a之動摩擦係數越小，與表面13a抵接且滑動的物體所致之對表面13a的傷痕之形成，有變得越不易產生的傾向，抗反射層13之表面13a的動摩擦係數為上述程度之小的構成，適於實現高耐擦傷性作為抗反射薄膜X之機能。與此同時，該構成係適於在上述摩擦試驗中，抑制在抗反射層13的表面13a上滑動中的鋼絲絨所致之對表面13a的傷痕之形成，因此，促進實現在抗反射薄膜X中，上述摩擦試驗後的霧度值(%)之上升被抑制為0.1以下，較佳為0或0以下之上述構成。
此外，抗反射薄膜X的抗反射層13中之表面13a的靜摩擦係數，如上述為0.3以下，較佳為0.28以下，更佳為0.26以下。抗反射層13的表面13a之靜摩擦係數越小，與表面13a抵接且由靜止狀態開始移動的物體所致之對表面13a的傷痕之形成，有變得越不易產生的傾向，抗反射層13之表面13a的靜摩擦係數為上述程度之小的構成，適於實現高耐擦傷性作為抗反射薄膜X之機能。與此同時，該構成係適於在上述摩擦試驗中，抑制抗反射層13之表面13a上的鋼絲絨翻轉時之對該表面的傷痕之形成，因此，促進實現在抗反射薄膜X中，上述摩擦試驗後的霧度值(%)之上升被抑制為0.1以下，較佳為0或0以下之上述構成。
如以上，抗反射薄膜X係適於同時實現高抗反射性與高耐擦傷性。
在抗反射薄膜X中，將鋼絲絨#0000作為摩擦材使用，以荷重1000g/cm2、摩擦行程長10cm、及往復動作次數100的條件(第2條件)，對於抗反射層13的表面(13a)進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗之前的霧度值(%)之差，如上述，較佳為0.1以下，更佳為0或0以下。如上述，藉由使用鋼絲絨#0000作為摩擦材針對抗反射薄膜X進行之摩擦試驗，而在試驗對象面形成的傷痕越多，由抗反射薄膜X中之該摩擦試驗前的霧度值至該摩擦試驗後的霧度值之上升程度有越大的傾向。針對抗反射薄膜X，以上述第2條件進行之摩擦試驗後的抗反射薄膜之霧度值(%)的上升被抑制為0.1以下，較佳為0或0以下之構成，適於實現高耐擦傷性作為抗反射薄膜X之機能。
在抗反射薄膜X中，抗反射層13的表面13a之表面粗度Ra，如上述，較佳為5nm以下，更佳為4nm以下，再更佳為3nm以下。抗反射層13的表面13a之細微凹凸越小，有藉由其它構件等摩擦表面13a時的表面組織破壞現象越被抑制的傾向，抗反射層13之表面13a的表面粗度Ra，較佳為5nm以下，更佳為4nm以下，再更佳為3nm以下之構成，適於抑制表面13a中之傷痕的形成。又，抗反射層13的表面13a之細微凹凸越小，有表面13a的動摩擦係數或靜摩擦係數越小的傾向，抗反射層13之表面13a的表面粗度Ra較佳為5nm以下，更佳為4nm以下，再更佳為3nm以下之構成，也促進實現與動摩擦係數相關之上述的構成、或與靜摩擦係數相關之上述的構成。
抗反射薄膜X的霧度，如上述，較佳為1%以下，更佳為0.8%以下，更佳為0.6%以下，更佳為0.4%以下，再更佳為0.2%以下。在上述第1條件之摩擦試驗後的抗反射薄膜X之霧度，如上述，較佳為1%以下，更佳為0.8%以下，更佳為0.6%以下，更佳為0.4%以下，再更佳為0.2%以下。在上述第2條件之摩擦試驗後的抗反射薄膜X之霧度，如上述，較佳為1%以下，更佳為0.8%以下，更佳為0.6%以下，更佳為0.4%以下，再更佳為0.2%以下。在抗反射薄膜X中，以確保良 好的透明性為前提，較佳係霧度被抑制為該等之程度的構成。
抗反射薄膜X之總透光率，如上述，較佳為94%以上，更佳為94.9%以上，再更佳為95%以上。在上述第1條件之摩擦試驗後的抗反射薄膜X之總透光率，如上述，較佳為94%以上，更佳為94.9%以上，再更佳為95%以上。在上述第2條件之摩擦試驗後的抗反射薄膜X之總透光率，如上述，較佳為94%以上，更佳為94.9%以上，再更佳為95%以上。在抗反射薄膜X中，以實現高透明性為前提，較佳係總透光率被確保為該等之程度的構成。
抗反射層13，如上述，較佳係包含中空二氧化矽粒子作為低折射率粒子。中空二氧化矽粒子的平均粒徑，如上述，較佳為50~70nm。該等構成，在抗反射層13或抗反射薄膜X中，以實現良好的抗反射性為前提係為合適。
抗反射層13，較佳係包含奈米鑽石粒子。屬機械強度極高之鑽石的微粒之奈米鑽石粒子包含於抗反射層13的構成，在抗反射薄膜X之抗反射層13或其表面13a中，以實現高耐擦傷性為前提係為合適。
抗反射層13，如上述，較佳係含有含氟的硬化性化合物。從抗反射層13的露出面中之防汙性、或斥水性、斥油性、滑動性、指紋之易擦拭性等之觀點而言，較佳為如前述的構成。又，抗反射層13含有含氟的硬化性化合物之構成，以實現降低抗反射層13的表面13a中之動摩擦係數或靜摩擦係數為前提係為合適，因此，在抗反射層13或抗反射薄膜X中，以實現高耐擦傷性為前提係為合適。
如以上的抗反射薄膜X，例如，可藉由在基材11上依序形成硬塗層12與抗反射層13而進行製造。在對基材11上的硬塗層12之形成中，首先，將上述硬塗層形成用組成物塗布於基材11上，形成組成物層。作為塗布手段，可舉出例如：棒塗機、噴塗機、旋轉塗布機、浸漬塗布機、模塗機、缺角輪塗布機、及凹版塗布機。接著，使基材11上之組成物層進行乾燥及硬化。藉由前述而形成硬 塗層12。在對硬塗層12上的抗反射層13之形成中，首先，將至少含有上述硬化性樹脂形成成分與低折射率粒子及奈米鑽石粒子的抗反射層形成用組成物塗布於硬塗層12上，形成組成物層。作為塗布手段，可舉出例如：棒塗機、噴塗機、旋轉塗布機、浸漬塗布機、模塗機、缺角輪塗布機、及凹版塗布機。接著，使基材11上之該組成物層進行乾燥及硬化。藉由如前述的濕式塗布法形成抗反射層13。例如，如以上進行，可製造抗反射薄膜X。
圖2為可作為抗反射層13或抗反射層形成用組成物之構成成分使用的表面修飾奈米鑽石粒子之製作方法的一例之步驟圖。本方法包含生成步驟S1、精製步驟S2、乾燥步驟S3、及表面修飾步驟S4。
於生成步驟S1係進行爆炸法，生成奈米鑽石。首先，將在所成形的炸藥上裝設電雷管者設置於爆炸用的耐壓性容器之內部，且在容器內，以大氣組成之常壓的氣體與所使用炸藥共存的狀態，密封容器。容器係例如為鐵製，且容器的容積係例如為0.5~40m3。作為炸藥，可使用三硝基甲苯(TNT)與環三亞甲三硝胺、亦即海掃更(RDX)之混合物。TNT與RDX之質量比(TNT/RDX)係例如定為40/60~60/40的範圍。炸藥的使用量，例如為0.05~2.0kg。
於生成步驟S1，接著引爆電雷管，在容器內使炸藥爆炸。爆炸係指伴隨化學反應之爆發中，反應產生的火焰面以超越音速的高速移動者。爆炸之際，所使用炸藥部分地引起不完全燃燒，且將游離的碳作為原料，藉由爆發所產生的衝撃波之壓力與能量的作用，而生成奈米鑽石。奈米鑽石，首先於利用爆炸法得到的生成物中，鄰接的一級粒子或晶粒之間係除了凡得瓦力之作用外還受結晶面間庫侖交互作用之影響，而非常牢固地聚集，形成凝結體。
於生成步驟S1，接著藉由在室溫下放置例如24小時，使容器及其內部降溫。該放置冷卻之後，進行以刮勺刮除附著於容器之內壁的奈米鑽石粗生成物(包含如上述進行而生成的奈米鑽石粒子之凝結體及煤)的作業，回收奈米 鑽石粗生成物。藉由如以上的爆炸法，可得到奈米鑽石粒子的粗生成物。又，藉由進行需要次數之如以上的生成步驟S1，可取得所需量的奈米鑽石粗生成物。
精製步驟S2，於本實施形態係包含使作為原料的奈米鑽石粗生成物，例如在水溶媒中與強酸產生作用的酸處理。爆炸法所得到的奈米鑽石粗生成物中容易包含金屬氧化物，而該金屬氧化物為源自爆炸法所使用的容器等之Fe、Co、Ni等的氧化物。例如，藉由在水溶媒中使既定的強酸產生作用，可自奈米鑽石粗生成物溶解．去除金屬氧化物(酸處理)。作為該酸處理所使用的強酸，較佳為礦酸，且可舉出例如：鹽酸、氫氟酸、硫酸、硝酸、及王水。酸處理，可使用一種類的強酸，也可使用二種類以上的強酸。酸處理所使用之強酸的濃度，例如為1~50質量%。酸處理溫度，例如為70~150℃。酸處理時間，例如為0.1~24小時。又，酸處理，可在減壓下、常壓下、或加壓下進行。如前述的酸處理之後，例如，藉由傾析，進行固體成分(包含奈米鑽石凝結體)之水洗。較佳為反覆進行利用傾析的該固體成分之水洗，直到沈澱液的pH達到例如2~3為止。
精製步驟S2，於本實施形態係包含使用氧化劑，用以自奈米鑽石粗生成物(精製結束前的奈米鑽石凝結體)去除石墨的氧化處理。爆炸法所得到的奈米鑽石粗生成物中包含石墨(黑鉛)，該石墨係源自所使用炸藥部分地引起不完全燃燒，而游離的碳中未形成奈米鑽石結晶的碳。例如，在經由上述酸處理後，藉由例如在水溶媒中使既定的氧化劑產生作用，可自奈米鑽石粗生成物去除石墨(氧化處理)。作為該氧化處理所使用的氧化劑，可舉出例如：硫酸、硝酸、鉻酸、鉻酸酐、二鉻酸、過錳酸、及過氯酸。氧化處理中，可使用一種類的氧化劑，亦可使用二種類以上的氧化劑。氧化處理所使用的氧化劑之濃度，例如為3~80質量%。氧化處理中之氧化劑的使用量，相對於被送交至氧化處理之奈米鑽石粗生成物100質量份，例如為300~500質量份。氧化處理溫度，例如為100~200℃。氧化處理時間，例如為1~50小時。氧化處理，可在減壓下、常壓下、或 加壓下進行。如前述的氧化處理之後，例如，藉由傾析或離心沈降法，進行固體成分(包含奈米鑽石凝結體)之水洗。開始水洗時的上清液係著色，而後較佳為反覆進行該固體成分之水洗，直到上清液以目視成為透明為止。藉由重複水洗，可減低或去除為雜質之電解質(NaCl等)。電解質濃度低者，針對藉由本方法得到的奈米鑽石粒子，以實現高分散性及高分散安定性為前提係為合適。
如前述的氧化處理之後，也可將奈米鑽石以鹼溶液進行處理。藉由該鹼處理，可將奈米鑽石表面的酸性官能基(例如羧基)轉換為鹽(例如羧酸鹽)。作為所使用的鹼溶液，可舉出氫氧化鈉水溶液。在該鹼處理中，鹼溶液濃度，例如為1~50質量%，處理溫度，例如為70~150℃，處理時間，例如為0.1~24小時。又，如前述的鹼處理之後，也可將奈米鑽石以酸溶液進行處理。藉由經由該酸處理，可使奈米鑽石表面的酸性官能基之鹽，再度恢復為游離的酸性官能基。作為所使用的酸溶液，可舉出鹽酸。該酸處理，可在室溫進行，亦可在加熱下進行。關於經由氧化處理後之鹼處理、其之後的酸處理之奈米鑽石，係例如藉由傾析或離心沈降法，進行固體成分(包含奈米鑽石凝結體)之水洗。
於本方法中，接著進行乾燥步驟S3。於本步驟，係例如自經由精製步驟S2得到之含奈米鑽石的溶液，使用蒸發器，使液體成分蒸發(蒸發乾燥)。亦可將如前述的蒸發乾燥產生的殘留固體成分，藉由在乾燥用烘箱內之加熱乾燥而進一步予以乾燥。藉由經由如前述的乾燥步驟S3，可得到奈米鑽石凝結體的粉體。
於本方法中，接著進行表面修飾步驟S4。表面修飾步驟S4為例如：針對如以上進行而得到的奈米鑽石凝結體所含之奈米鑽石粒子，藉由使既定的矽烷偶合劑鍵結而用以進行表面修飾的步驟。表面修飾步驟S4，首先係將包含例如如上述進行而得到之乾燥奈米鑽石(奈米鑽石凝結體)、矽烷偶合劑、及溶媒的混合溶液，在反應容器內進行攪拌。接著，對於反應容器內的混合溶液，添 加作為裂解媒介的氧化鋯珠粒。氧化鋯珠粒的直徑，例如為15~500μm。接著，使用具備可釋放超音波的振盪器之超音波產生裝置，針對該溶液中之奈米鑽石進行表面修飾處理。具體而言，將超音波產生裝置的振盪器之前端插入至反應容器內，浸於前述的溶液，自該振盪器產生超音波。該處理，較佳為將被送交處理的溶液，例如一邊以冰水冷卻而一邊進行。如前述的表面修飾處理之處理時間，例如為4~10小時。在供於本處理的溶液中，奈米鑽石的含有比例，例如為0.5~5質量%，矽烷偶合劑的濃度，例如為5~40質量%。作為溶媒，使用例如：四氫呋喃、丙酮、甲基乙基酮、1-甲氧基丙醇、甲基異丁基酮、異丙醇、或2-丁醇。又，溶液中的奈米鑽石與矽烷偶合劑之質量比，例如為2：1~1：10。在本表面修飾處理中，在受到超音波照射的溶液內，基於音響效果而產生空蝕現象(cavitation)，且藉由在該空蝕現象(微小氣泡)崩壞時產生的噴射噴流，溶液內的氧化鋯珠粒獲得極大的動能。然後，藉由該氧化鋯珠粒對同一溶液內的奈米鑽石凝結體賦予衝撃能量，自奈米鑽石凝結體分解(裂解)奈米鑽石粒子，使在解離狀態之奈米鑽石粒子與矽烷偶合劑產生作用而鍵結。該鍵結為例如：經由在矽烷偶合劑側的矽醇基與奈米鑽石粒子側的表面羥基之間的脫水縮合反應而產生的共價鍵結。矽烷偶合劑具有水解性基時，藉由該反應系統所含之些微水分，也可自該水解性基產生矽醇基。藉由如以上的表面修飾步驟S4，可製作包含奈米鑽石粒子及與其鍵結的矽烷偶合劑之表面修飾奈米鑽石粒子或其分散液。在於經由本步驟的溶液中存在有未反應奈米鑽石凝結體時，在靜置該溶液後，藉由採取其上清液，可得到未反應奈米鑽石凝結體的含量經減低之表面修飾奈米鑽石粒子分散液。又，關於得到的表面修飾奈米鑽石粒子分散液，亦可進行用以將表面修飾步驟S4所使用之上述溶媒變更為其它溶媒之溶媒取代操作。
例如，將如以上進行而製作的表面修飾奈米鑽石粒子分散液，藉由與上述硬化性樹脂形成成分及低折射率粒子等混合，可調製上述的抗反射層 形成用組成物。
[實施例] [表面修飾奈米鑽石粒子的分散液之製作]
經由如以下的過程，製作表面修飾奈米鑽石粒子的分散液。
首先，進行利用爆炸法的奈米鑽石之生成步驟。於本步驟，首先，將在所成形的炸藥裝設電雷管者設置於爆炸用的耐壓性容器之內部，並密封容器。容器為鐵製，且容器的容積為15m3。作為炸藥，使用TNT與RDX之混合物0.50kg。該炸藥中之TNT與RDX的質量比(TNT/RDX)為50/50。接著，引爆電雷管，在容器內使炸藥爆炸(利用爆炸法的奈米鑽石之生成)。接著，藉由在室溫放置24小時，使容器及其內部降溫。該放置冷卻之後，進行以刮勺刮除附著於容器之內壁的奈米鑽石粗生成物(包含以上述爆炸法所生成的奈米鑽石粒子之凝結體與煤)的作業，回收奈米鑽石粗生成物。
對於藉由進行數次如上述的生成步驟而取得的奈米鑽石粗生成物，接著進行精製步驟的酸處理。具體而言，對於在該奈米鑽石粗生成物200g加入6L的10質量%鹽酸而得到的漿體，在於常壓條件之回流下進行1小時的加熱處理。該酸處理中之加熱溫度為85~100℃。接著，冷卻後，藉由傾析，進行固體成分(包含奈米鑽石凝結體與煤)之水洗。反覆進行利用傾析的該固體成分之水洗，直到沈澱液的pH由低pH側達到2為止。
接著，進行精製步驟之氧化處理。具體而言，在酸處理後之經由傾析得到的沈澱液(包含奈米鑽石凝結體)，加入6L的98質量%硫酸與1L的69質量%硝酸而成為漿體後，對於該漿體，在於常壓條件之回流下進行48小時的加熱處理。該氧化處理中之加熱溫度為140~160℃。接著，冷卻後，藉由傾析，進行固體成分(包含奈米鑽石凝結體)之水洗。開始水洗時的上清液係著色，而後反 覆進行利用傾析的該固體成分之水洗，直到上清液以目視成為透明為止。
接著，針對經由氧化處理後之傾析得到的沈澱液(包含奈米鑽石凝結體)，送交乾燥處理，得到乾燥粉體(乾燥步驟)。作為乾燥處理的手法，採用使用蒸發器進行之蒸發乾燥。
接著，進行表面修飾步驟。具體而言，首先，將經由上述乾燥步驟得到的奈米鑽石粉體0.30g量取至50ml樣品瓶，並將混合該奈米鑽石粉體、為溶媒之四氫呋喃(THF)14g、及為矽烷偶合劑之丙烯酸3-(三甲氧矽基)丙酯(東京化成工業股份有限公司製)1.2g的溶液，攪拌10分鐘。接著，對於該溶液，添加氧化鋯珠粒(商品名「YTZ」，直徑30μm，Tosoh股份有限公司製)34g。接著，使用作為超音波產生裝置之均質機(商品名「超音波分散機UH-600S」，SMT股份有限公司製)，將前述的混合溶液送交表面修飾處理。具體而言，將超音波產生裝置的振盪器之前端插入至反應容器內，以浸於前述的溶液狀態，自該振盪器產生超音波，將反應容器以冰水冷卻，同時將該反應容器內之前述混合溶液送交8小時的超音波處理。在本處理中，一開始為灰濁色的溶液，逐漸黑色化，同時透明性增加。前述被認為原因在於：奈米鑽石粒子自奈米鑽石凝結體依序分解(裂解)，在解離狀態之奈米鑽石粒子與矽烷偶合劑產生作用而鍵結，且如此進行表面修飾之奈米鑽石粒子，在THF溶媒中分散安定化。如後述，藉由動態光散射法測定8小時之表面修飾處理後的奈米鑽石分散液之粒徑D50，結果為15nm。如以上進行，製作表面修飾奈米鑽石粒子(表面修飾奈米鑽石粒子ND1)的分散液。
[實施例1]
如以下進行，在基材上依序形成硬塗層及抗反射層，製作實施例1之抗反射薄膜。
[硬塗層之形成]
首先，調製包含六官能丙烯酸系UV硬化性單體(商品名「DPHA」，Daicel-Allnex股份有限公司製)100質量份、三官能丙烯酸系UV硬化性單體(商品名「PETIA」，Daicel-Allnex股份有限公司製)33質量份、纖維素乙酸酯丙酸酯(商品名「CAP」，EASTMAN公司製)0.4質量份、含氟的UV硬化性化合物(商品名「Polyfox3320」，Omnova Solution公司製)0.03質量份、光聚合起始劑(商品名「IRGACURE 184」，BASF公司製)2.7質量份、光聚合起始劑(商品名「IRGACURE 907」，BASF公司製)1.3質量份、甲基乙基酮187質量份、1-丁醇31質量份、及1-甲氧基-2-丙醇93質量份的硬塗層形成用組成物。接著，在為透明基材之厚度60μm的三乙醯纖維素(TAC)薄膜(富士軟片股份有限公司製)上，使用棒塗機#18，塗布該硬塗層形成用組成物而形成塗膜後，使用乾燥機，使該塗膜在60℃乾燥1分鐘。接著，使用紫外線照射裝置(光源為高壓汞燈，牛尾電機股份有限公司製)，對於該附有塗膜的薄膜，進行紫外線硬化處理。此紫外線照射量係設為200mJ/cm2。藉此，在TAC薄膜上形成硬塗層(硬塗層HC1)。亦即，製作附有硬塗層HC1的TAC薄膜。硬塗層HC1的厚度為約6μm。
[抗反射層之形成]
將在將表面修飾奈米鑽石ND1之上述分散液靜置一晝夜後採取的上清液，滴加於甲苯16ml與己烷4ml之混合溶媒(總滴加量為10ml)，且將滴加後的混合溶媒，送交離心分離處理(離心力20000×g，離心時間10分鐘)，回收沈降的固體成分(表面修飾奈米鑽石粒子ND1)。在如前述進行而回收的固體成分加入四氫呋喃(THF)，調製表面修飾奈米鑽石粒子ND1的THF溶液(固體成分濃度6.5質量%)，且針對該溶液，使用超音波處理裝置(商品名「ASU-10」，AS ONE股份 有限公司)，進行10分鐘的超音波處理。針對該超音波處理後的THF溶液中之表面修飾奈米鑽石ND1，如後述，藉由動態光散射法測定粒徑D50，結果為12nm。另一方面，將該超音波處理後的THF溶液(含有表面修飾奈米鑽石粒子ND1，固體成分濃度為6.5質量%)、抗反射塗料(商品名「ELCOM P-5062」，為低折射率粒子之中空二氧化矽粒子的含有比例為1.65質量%，硬化性樹脂成分的含有比例為1.35質量%，總固體成分濃度3質量%，日揮觸媒化成股份有限公司製)、及含氟的硬化性化合物溶液(商品名「KY-1203」，含氟的丙烯酸化合物，固體成分濃度20質量%，信越化學工業股份有限公司製)，以相對於抗反射塗料中的中空二氧化矽粒子100質量份之THF溶液的固體成分成為1.82質量份，且含氟的硬化性化合物溶液之固體成分成為12.73質量份的量比，投入至遮光瓶，並使用振盪機，進行1小時之混合。如前述進行，調製分散有表面修飾奈米鑽石ND1的抗反射層形成用組成物。接著，在上述附有硬塗層HC1的TAC薄膜之硬塗層HC1上，使用棒塗機#4，塗布該抗反射層形成用組成物而形成塗膜後，使用乾燥機，使該塗膜在80℃乾燥1分鐘。接著，使用紫外線照射裝置(光源為高壓汞燈，牛尾電機股份有限公司製)，對於該附有塗膜的薄膜，進行在氮氣環境下的紫外線硬化處理。此紫外線照射量係設為200mJ/cm2。藉此，在附有硬塗層HC1的TAC薄膜之硬塗層HC1上形成抗反射層(厚度為約100nm)。如以上進行，製作具有TAC薄膜與硬塗層HC1及抗反射層之積層結構的實施例1之抗反射薄膜。
[實施例2]
在調製抗反射層形成用組成物時，將相對於抗反射塗料(商品名「ELCOM P-5062」，日揮觸媒化成股份有限公司製)中的中空二氧化矽粒子100質量份之THF溶液(含有表面修飾奈米鑽石粒子ND1，固體成分濃度為6.5質量%)的固體成分量定為9.09質量份，代替1.82質量份，且將含氟的硬化性化合物溶液(商品 名「KY-1203」，信越化學工業股份有限公司製)的固體成分量定為13.94質量份，代替12.73質量份，除此以外係與實施例1同樣進行，製作實施例2之抗反射薄膜。
[實施例3]
在調製抗反射層形成用組成物時，將相對於抗反射塗料(商品名「ELCOM P-5062」，日揮觸媒化成股份有限公司製)中的中空二氧化矽粒子100質量份之THF溶液(含有表面修飾奈米鑽石粒子ND1，固體成分濃度為6.5質量%)的固體成分量定為18.18質量份，代替1.82質量份，且將含氟的硬化性化合物溶液(商品名「KY-1203」，信越化學工業股份有限公司製)的固體成分量定為15.15質量份，代替12.73質量份，除此以外係與實施例1同樣進行，製作實施例3之抗反射薄膜。
[實施例4]
如以下進行，在基材上依序形成硬塗層及抗反射層，製作實施例4之抗反射薄膜。
[硬塗層之形成]
首先，調製包含氧化鋯分散丙烯酸系UV硬化性單體(商品名「NSX-401M」，含有光聚合起始劑，共榮社化學股份有限公司製)100質量份、甲基乙基酮117質量份、1-丁醇23質量份、及1-甲氧基-2-丙醇82質量份的硬塗層形成用組成物。接著，在為透明基材之厚度60μm的三乙醯纖維素(TAC)薄膜(富士軟片股份有限公司製)上，使用棒塗機#18，塗布該硬塗層形成用組成物而形成塗膜後，使用乾燥機，使該塗膜在60℃乾燥1分鐘。接著，使用紫外線照射裝置(光源為高壓汞燈，牛尾電機股份有限公司製)，對於該附有塗膜的薄膜，進行紫外線硬化處理。此紫外線照射量係設為200mJ/cm2。藉此，在TAC薄膜上形成硬塗層(硬 塗層HC2)。亦即，製作附有硬塗層HC2的TAC薄膜。硬塗層HC2的厚度為約6μm。
[抗反射層之形成]
將抗反射塗料(商品名「ELCOM P-5062」，為低折射率粒子之中空二氧化矽粒子的含有比例為1.65質量%，硬化性樹脂成分的含有比例為1.35質量%，總固體成分濃度3質量%，日揮觸媒化成股份有限公司製)、為低折射率粒子之中空二氧化矽粒子的分散液(商品名「THRULYA 4320」，中空二氧化矽粒子之含有比例或固體成分濃度為20質量%，日揮觸媒化成股份有限公司製)、及異丙醇(IPA)，以相對於抗反射塗料中的中空二氧化矽粒子100質量份之THRULYA 4320的固體成分成為30質量份，且IPA成為798質量份的量比進行混合。該混合液中之中空二氧化矽粒子的含有比例為1.83質量%，硬化性樹脂成分的含有比例為1.17質量%，總固體成分濃度為3質量%。然後，將該混合液、上述關於實施例1的超音波處理後之含奈米鑽石的THF溶液(含有表面修飾奈米鑽石粒子ND1，固體成分濃度為6.5質量%)、以及含氟的硬化性化合物溶液(商品名「KY-1203」，含氟的丙烯酸化合物，固體成分濃度20質量%，信越化學工業股份有限公司製)，以相對於上述混合液中的中空二氧化矽粒子127.8質量份之THF溶液的固體成分成為4.92質量份，且含氟的硬化性化合物溶液之固體成分成為10.38質量份的量比，投入至遮光瓶，並使用振盪機，進行1小時之混合。如前述進行，調製分散有表面修飾奈米鑽石ND1的抗反射層形成用組成物。接著，在上述附有硬塗層HC2的TAC薄膜之硬塗層HC2上，使用棒塗機#4，塗布該抗反射層形成用組成物而形成塗膜後，使用乾燥機，使該塗膜在80℃乾燥1分鐘。接著，使用紫外線照射裝置(光源為高壓汞燈，牛尾電機股份有限公司製)，對於該附有塗膜的薄膜，進行在氮氣環境下的紫外線硬化處理。此紫外線照射量係設為200mJ/cm2。藉此，在附有硬塗層HC2的TAC薄膜之硬塗層HC2上形成抗反射層(厚度為約100nm)。如以上進行， 製作具有TAC薄膜與硬塗層HC2及抗反射層之積層結構的實施例4之抗反射薄膜。
[比較例1]
在調製抗反射層形成用組成物時，未使用含奈米鑽石的THF溶液，且將相對於抗反射塗料(商品名「ELCOM P-5062」，日揮觸媒化成股份有限公司製)中的中空二氧化矽粒子100質量份之含氟的硬化性化合物溶液(商品名「KY-1203」，信越化學工業股份有限公司製)的固體成分量定為12.12質量份，代替12.73質量份，除此以外係與實施例1同樣進行，製作比較例1之抗反射薄膜。
〈粒徑D50之測定〉
表面修飾奈米鑽石粒子分散液中所含的表面修飾奈米鑽石粒子之粒徑D50為使用Malvern公司製的裝置(商品名「Zetasizer Nano ZS」)，在從藉由動態光散射法(非接觸反向散射法)所測定的粒度分布得到的累計值50%之粒徑。
〈總透光率〉
針對實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜，使用總透光率測定裝置(商品名「NDH-5000W」，日本電色工業股份有限公司製)，測定總透光率(%)。本測定係依據JIS K 7105進行。將此結果揭示於表1。同樣地，針對經由後述的第1摩擦試驗之實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜、及未經由第1摩擦試驗而經由後述的第2摩擦試驗之實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜，也測定總透光率(%)。將該等之結果揭示於表1。
〈霧度〉
針對實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜，使用霧度測定裝置(商品名「NDH-5000W」，日本電色工業股份有限公司製)，測定霧度值(%)。本測定係依據JIS K 7136進行。將此結果揭示於表1。同樣地，針對經由後述的第1摩擦試驗之實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜、及未經由第1摩擦試驗而經由後述的第2摩擦試驗之實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜，也測定霧度值(%)。將該等之結果揭示於表1。
〈視感反射率〉
針對實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜，在與抗反射層為相反側的表面貼合OCA(光學透明黏著材)而形成黏著面，且在該黏著面貼合黑色丙烯酸板，製作測定用樣品。然後，針對由實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜製作之測定用樣品的抗反射層側表面，使用反射分光光度計(商品名「UH-3900」，Hitachi High-Technologies股份有限公司製)，測定視感反射率(%)。本測定係依據JIS Z 8701進行。將此結果揭示於表1。
〈動摩擦係數與靜摩擦係數〉
針對實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜中之抗反射層的露出表面，測定動摩擦係數及靜摩擦係數。具體而言，如以下所述。
首先，自抗反射薄膜切出第1試料薄膜(長10cm×寬6.3cm)。接著，將重量200g之金屬製長方體的底面(長6.3cm×寬6.3cm)，對於為第1試料薄膜的基材側，第1試料薄膜之長度方向的中間，以該底面與第1試料薄膜的兩寬方向一致的配向予以重疊，且將第1試料薄膜，於對應底面之端緣的二處折疊，並將該二個折疊端部以膠帶固定於金屬長方體的側面。
另一方面，自相同的抗反射薄膜切出第2試料薄膜(長20cm×寬 10cm)。對於平坦的金屬板，重疊第2試料薄膜的基材側，並將其長度方向兩端部以膠帶固定。
然後，以在金屬板上之第2試料薄膜的抗反射層側表面，將伴隨金屬製長方體之第1試料薄膜與此抗反射層側表面接觸而載置為前提，使用滑動測定機(商品名「SIL-QA-1」，TESTER SANGYO股份有限公司製)，測定動摩擦係數及靜摩擦係數。在本測定中，拉伸速度係設為100mm/分鐘。又，本測定係依據JIS K 7125進行。將動摩擦係數及靜摩擦係數之測定值揭示於表1。
〈表面粗度〉
針對實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜中之抗反射層的露出表面，使用掃描型探針顯微鏡(商品名「Dimension ICON」，BrukerAXS公司製)進行觀察。基於取得影像，求出表面粗度Ra(nm)。本測定係於PeakForceQNM模式進行，且使用RTESPA-300作為探針。又，本測定中之測定視野係設為1μm×1μm。將各抗反射薄膜中之抗反射層的露出表面之表面粗度Ra揭示於表1。
〈第1摩擦試驗〉
針對實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜之抗反射層側表面，使用摩擦試驗機，而且，作為在試驗對象面上進行往復動作之摩擦材，使用鋼絲絨#0000(日本鋼絲絨股份有限公司製)，進行摩擦試驗(第1摩擦試驗)。在本試驗中，試驗環境為23℃及50%RH，相對於試驗對象面之摩擦材的荷重為200g/cm2，試驗對象面上之摩擦材的移動長度(摩擦行程長)為10cm，相對於試驗對象面，使摩擦材進行往復動作之次數為1000次。
針對經由如前述的第1摩擦試驗之實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜，進行總透光率(%)之測定、及霧度值(%)之測定。將此結果揭示 於表1。關於該等之數值，源自經由第1摩擦試驗之前的數值之變化也揭示於表1。
又，針對經由第1摩擦試驗之實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜，將薄膜背面以黑色麥克筆塗滿後，利用反射光，以目視觀察抗反射層側表面中之摩擦部分的擦傷之程度。然後，基於將即使用心觀察也沒有確認到損傷的情況定為優(◎)、將若用心觀察則觀察到損傷至5條的情況定為良(○)、以及將知道明顯有損傷的情況定為不良(×)的評價基準，進行經由第1摩擦試驗之實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜之抗反射層側表面的外觀評價。將此結果揭示於表1。
〈第2摩擦試驗〉
針對實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜(未經由第1摩擦試驗)之抗反射層側表面，使用摩擦試驗機，而且，作為在試驗對象面上進行往復動作之摩擦材，使用鋼絲絨#0000(日本鋼絲絨股份有限公司製)，進行摩擦試驗(第2摩擦試驗)。在本試驗中，試驗環境為23℃及50%RH，相對於試驗對象面之摩擦材的荷重為1000g/cm2，試驗對象面上之摩擦材的移動長度(摩擦行程長)為10cm，相對於試驗對象面，使摩擦材進行往復動作之次數為100次。
針對經由如前述的第2摩擦試驗之實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜，進行總透光率(%)之測定、及霧度值(%)之測定。將此結果揭示於表1。關於該等之數值，源自經由第2摩擦試驗之前的數值之變化也揭示於表1。
又，針對經由第2摩擦試驗之實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜，將薄膜背面以黑色麥克筆塗滿後，利用反射光，以目視觀察抗反射層側表面中之摩擦部分的擦傷之程度。然後，基於與第1摩擦試驗後之外觀評價相同的上述評價基準，進行經由第2摩擦試驗之實施例1~4及比較例1的各抗反射薄膜之抗反射層側表面的外觀評價。將此結果揭示於表1。
[評價]
實施例1~4的抗反射薄膜均顯示94.9%以上之總透光率、0.8%以下之霧度、及1.3%以下之視感反射率，同時不論在經由上述第1摩擦試驗的情況中，還是在經由上述第2摩擦試驗的情況中，均不易形成傷痕，且維持透明性(總透光率、霧度)。
[表1]
Figure 107129918-A0305-02-0036-1
作為以上之總結，將本發明之構成及其變化於以下作為附註而列表。
[附註1]
一種抗反射薄膜，其係具有包含基材、抗反射層、及位於該等之間的硬塗層之積層構造，且該抗反射層側之視感反射率為2%以下，該抗反射層，在與該硬塗層為相反側中，具有動摩擦係數0.3以下及靜摩擦係數0.3以下之表面，將鋼絲絨#0000作為摩擦材使用，以荷重200g/cm2、摩擦行程長10cm、及往復動作次數1000的條件(第1條件)，對於該抗反射層的該表面進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗之前的霧度值(%)之差為0.1以下。
[附註2]
如附註1記載之抗反射薄膜，其中以該第1條件，對於該抗反射層的該表面進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗之前的霧度值(%)之差為0，或者為0以下。
[附註3]
如附註1或2記載之抗反射薄膜，其中將鋼絲絨#0000作為摩擦材使用，以荷重1000g/cm2、摩擦行程長10cm、及往復動作次數100的條件(第2條件)，對於該抗反射層的該表面進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗之前的霧度值(%)之差為0.1以下。
[附註4]
如附註3記載之抗反射薄膜，其中以該第2條件，對於該抗反射層的該表面進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗之前的霧度值(%)之差為0，或者為0以下。
[附註5]
如附註1至4中任一項記載之抗反射薄膜，其中該視感反射率為1.7%以下、1.5%以下、或1.3%以下。
[附註6]
如附註1至5中任一項記載之抗反射薄膜，其中該動摩擦係數為0.28以下或0.26以下。
[附註7]
如附註1至6中任一項記載之抗反射薄膜，其中該靜摩擦係數為0.28以下或0.26以下。
[附註8]
如附註1至7中任一項記載之抗反射薄膜，其中該抗反射層的該表面具有5nm以下、4nm以下、或3nm以下之表面粗度Ra。
[附註9]
如附註1至8中任一項記載之抗反射薄膜，其中霧度為1%以下、0.8%以下、0.6%以下、0.4%以下、或0.2%以下。
[附註10]
如附註1至9中任一項記載之抗反射薄膜，其中該摩擦試驗之後的霧度為1%以下、0.8%以下、0.6%以下、0.4%以下、或0.2%以下。
[附註11]
如附註1至10中任一項記載之抗反射薄膜，其中該抗反射層包含低折射率粒子。
[附註12]
如附註11記載之抗反射薄膜，其中該低折射率粒子為中空二氧化矽粒子。
[附註13]
如附註11或12記載之抗反射薄膜，其中該低折射率粒子的平均粒徑為50~70nm。
[附註14]
如附註11至13中任一項記載之抗反射薄膜，其中該抗反射層包含奈米鑽石粒子，且該抗反射層中之該低折射率粒子與該奈米鑽石粒子之質量比，在99：1~84：16的範圍。
[附註15]
如附註1至13中任一項記載之抗反射薄膜，其中該抗反射層包含奈米鑽石粒子。
[附註16]
如附註14或15記載之抗反射薄膜，其中該奈米鑽石粒子為伴隨矽烷偶合劑之表面修飾奈米鑽石粒子。
[附註17]
如附註16記載之抗反射薄膜，其中該矽烷偶合劑與該奈米鑽石粒子鍵結，且具有包含(甲基)丙烯醯基的有機鏈。
[附註18]
如附註17記載之抗反射薄膜，其中包含(甲基)丙烯醯基的該有機鏈為丙烯酸丙酯及/或甲基丙烯酸丙酯。
[附註19]
如附註16記載之抗反射薄膜，其中該矽烷偶合劑與該奈米鑽石粒子鍵結，且具有包含烷基的有機鏈。
[附註20]
如附註19記載之抗反射薄膜，其中該烷基的碳數為1~18。
[附註21]
如附註20記載之抗反射薄膜，其中該烷基為甲基。
[附註22]
如附註14至71中任一項記載之抗反射薄膜，其中該奈米鑽石粒子的粒徑D50 為100nm以下或30nm以下。
[附註23]
如附註1至22中任一項記載之抗反射薄膜，其中該抗反射層包含硬化性樹脂。
[附註24]
如附註23記載之抗反射薄膜，其中該硬化性樹脂為含(甲基)丙烯醯基的化合物之聚合物。
[附註25]
如附註1至24中任一項記載之抗反射薄膜，其中該抗反射層含有含氟的硬化性化合物。
X‧‧‧抗反射薄膜
11‧‧‧基材
12‧‧‧硬塗層
13‧‧‧抗反射層
13a‧‧‧表面

Claims (7)

  1. 一種抗反射薄膜，其係具有包含基材、抗反射層、及位於該等之間的硬塗層之積層結構，且該抗反射層側之視感反射率為2%以下，該抗反射層，在與該硬塗層為相反側中，具有動摩擦係數0.3以下及靜摩擦係數0.3以下之表面，該抗反射層包含低折射率粒子、奈米鑽石粒子及含氟的硬化性化合物，該抗反射層中之該低折射率粒子與該奈米鑽石粒子之質量比為99：1~84：16的範圍，將鋼絲絨#0000作為摩擦材使用，以荷重200g/cm2、摩擦行程長10cm、及往復動作次數1000的條件，對於該抗反射層的該表面進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗之前的霧度值(%)之差為0.1以下。
  2. 如請求項1之抗反射薄膜，其中將鋼絲絨#0000作為摩擦材使用，以荷重1000g/cm2、摩擦行程長10cm、及往復動作次數100的條件，對於該抗反射層的該表面進行之摩擦試驗後的霧度值(%)之相對於在該摩擦試驗之前的霧度值(%)之差為0.1以下。
  3. 如請求項1之抗反射薄膜，其中該抗反射層之該表面具有5nm以下之表面粗度Ra。
  4. 如請求項2之抗反射薄膜，其中該抗反射層之該表面具有5nm以下之表面粗度Ra。
  5. 如請求項1之抗反射薄膜，其中霧度為1%以下。
  6. 如請求項2之抗反射薄膜，其中霧度為1%以下。
  7. 如請求項1至6中任一項之抗反射薄膜，其中該摩擦試驗之後的霧度為1%以下。
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