JP2019032388A - ペリクルフレーム及びペリクル - Google Patents
ペリクルフレーム及びペリクル Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019032388A JP2019032388A JP2017152245A JP2017152245A JP2019032388A JP 2019032388 A JP2019032388 A JP 2019032388A JP 2017152245 A JP2017152245 A JP 2017152245A JP 2017152245 A JP2017152245 A JP 2017152245A JP 2019032388 A JP2019032388 A JP 2019032388A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- film
- inclined surface
- adhesive layer
- edge side
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
Abstract
Description
(1)枠状のペリクルフレームであって、ペリクル膜が設置される面について、内縁側から外縁側に向けて下がった傾斜面が設けられ、この傾斜面の外縁側終端からペリクル膜が設置される面の外縁にかけて平坦面が設けられていることを特徴とするペリクルフレーム。
(2)前記傾斜面は、前記ペリクル膜が設置される面の全周にわたって設けられていることを特徴とする請求項1に記載のペリクルフレーム。
(3)前記傾斜面の幅は、前記ペリクル膜が設置される面の幅の50%以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のペリクルフレーム。
(4)前記傾斜面と前記平坦面に対して垂直な面とのなす角度が、60〜89°であることを特徴とする請求項1から3の何れかに記載のペリクルフレーム。
(5)前記傾斜面の内縁側始端は、前記ペリクル膜が設置される面の内縁から0.2mm以内に位置することを特徴とする請求項1から4の何れかに記載のペリクルフレーム。
(6)前記傾斜面の内縁側始端は、前記ペリクル膜が設置される面の内縁であることを特徴とする請求項1から5の何れかに記載のペリクルフレーム。
(7)前記傾斜面の幅は、0.3〜3mmであることを特徴とする請求項1から6の何れかに記載のペリクルフレーム。
(8)前記傾斜面の高さは、0.03〜0.3mmであることを特徴とする請求項1から7の何れかに記載のペリクルフレーム。
(9)前記傾斜面は、平面から構成されていることを特徴とする請求項1から8の何れかに記載のペリクルフレーム。
(10)前記傾斜面は、曲面から構成されていることを特徴とする請求項1から8の何れかに記載のペリクルフレーム。
(11)請求項1から10の何れかに記載のペリクルフレームを含んで構成されるペリクルであって、前記ペリクルフレームの前記ペリクル膜が設置される面について、前記傾斜面上及び前記平坦面上に接着層が設けられ、接着層を介して前記ペリクル膜が設置されていることを特徴とするペリクル。
(12)枠状のペリクルフレームに接着層を介してペリクル膜が設置されているペリクルであって、前記接着層のペリクル膜接着面について、該ペリクル膜接着面の内縁側から外縁側に向けて下がった傾斜面が設けられ、該傾斜面の内縁側始端における前記接着層の厚みは、前記傾斜面の外縁側終端における前記接着層の厚みよりも小さいことを特徴とするペリクル。
なお、傾斜面を曲面で構成した場合、傾斜角αは、内縁側始端aにおける傾斜面(曲面)51の接線54と平坦面に対して垂直な面とのなす角度である。また、傾斜面を二つ以上の平面で構成した場合、傾斜角αは、内縁側始端aを含む面52と平坦面に対して垂直な面とのなす角度である。
なお、傾斜面の内縁側始端aは、ペリクル膜が設置される面の内縁から0.2mm以内に位置するようにすることが好ましい。
以下、実施例を示して本発明をより具体的に説明する。
比較例1として、前記実施例1と同一寸法であり、断面形状だけが異なるペリクルフレーム111を用いて図11に示すペリクル110を作製した。使用したペリクルフレーム111を除き、製造工程、条件は全て実施例1と同一とした。このとき用いたペリクルフレーム111の断面形状は図14に示すようになっており、前記実施例1にあるようなペリクルフレーム11の内縁付近の突起はなく、矩形断面となっている。
12 膜接着面
12a 傾斜面
12b 平坦面
13 マスク粘着面
14 平坦面に対して垂直な面
51 曲面
52 傾斜面
53 傾斜面
61 平面部
62 逆傾斜面
80 ペリクル
81 ペリクル膜
82 膜接着層
83 マスク粘着層
84 通気孔
85 治具孔
86 溝
87 フィルタ
88 セパレータ
92 膜接着層の膜接着面
92a 膜接着面の傾斜面
92b 膜接着面の平坦面
110 ペリクル
111 ペリクルフレーム
112 膜接着層
112a 曲面部
113 マスク粘着層
114 通気孔
115 治具孔
116 溝
117 フィルタ
118 セパレータ
119 ペリクル膜
120 引き攣れ部
a 傾斜面の内縁側始端
b 傾斜面の外縁側終端
w 傾斜面の幅
w´平坦面の幅
h 傾斜面の高さ
α 傾斜面の角度
W ペリクルフレームの膜接着面の幅
H ペリクルフレーム本体部の高さ
Claims (12)
- 枠状のペリクルフレームであって、ペリクル膜が設置される面について、内縁側から外縁側に向けて下がった傾斜面が設けられ、該傾斜面の外縁側終端から前記ペリクル膜が設置される面の外縁にかけて平坦面が設けられていることを特徴とするペリクルフレーム。
- 前記傾斜面は、前記ペリクル膜が設置される面の全周にわたって設けられていることを特徴とする請求項1に記載のペリクルフレーム。
- 前記傾斜面の幅は、前記ペリクル膜が設置される面の幅の50%以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のペリクルフレーム。
- 前記傾斜面と前記平坦面に対して垂直な面とのなす角度が、60〜89°であることを特徴とする請求項1から3の何れかに記載のペリクルフレーム。
- 前記傾斜面の内縁側始端は、前記ペリクル膜が設置される面の内縁から0.2mm以内に位置することを特徴とする請求項1から4の何れかに記載のペリクルフレーム。
- 前記傾斜面の内縁側始端は、前記ペリクル膜が設置される面の内縁であることを特徴とする請求項1から5の何れかに記載のペリクルフレーム。
- 前記傾斜面の幅は、0.3〜3mmであることを特徴とする請求項1から6の何れかに記載のペリクルフレーム。
- 前記傾斜面の高さは、0.03〜0.3mmであることを特徴とする請求項1から7の何れかに記載のペリクルフレーム。
- 前記傾斜面は、平面から構成されていることを特徴とする請求項1から8の何れかに記載のペリクルフレーム。
- 前記傾斜面は、曲面から構成されていることを特徴とする請求項1から8の何れかに記載のペリクルフレーム。
- 請求項1から10の何れかに記載のペリクルフレームを含んで構成されるペリクルであって、前記ペリクルフレームの前記ペリクル膜が設置される面について、前記傾斜面上及び前記平坦面上に接着層が設けられ、該接着層を介して前記ペリクル膜が設置されていることを特徴とするペリクル。
- 枠状のペリクルフレームに接着層を介してペリクル膜が設置されているペリクルであって、前記接着層のペリクル膜接着面について、該ペリクル膜接着面の内縁側から外縁側に向けて下がった傾斜面が設けられ、該傾斜面の内縁側始端における前記接着層の厚みは、前記傾斜面の外縁側終端における前記接着層の厚みよりも小さいことを特徴とするペリクル。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017152245A JP6861596B2 (ja) | 2017-08-07 | 2017-08-07 | ペリクルフレーム及びペリクル |
TW111132443A TWI834264B (zh) | 2017-08-07 | 2018-08-03 | 防護薄膜框架、防護薄膜組件、貼附有防護薄膜組件的光罩、曝光方法、半導體之製造方法、及顯示器之製造方法 |
TW107126974A TWI779072B (zh) | 2017-08-07 | 2018-08-03 | 防護薄膜組件、貼附有防護薄膜組件之光罩、曝光方法、半導體之製造方法、及顯示器之製造方法 |
KR1020180091372A KR102635619B1 (ko) | 2017-08-07 | 2018-08-06 | 펠리클 프레임 및 펠리클 |
CN201810891458.9A CN109388017A (zh) | 2017-08-07 | 2018-08-07 | 表膜构件框架和表膜构件 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017152245A JP6861596B2 (ja) | 2017-08-07 | 2017-08-07 | ペリクルフレーム及びペリクル |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020158766A Division JP7063962B2 (ja) | 2020-09-23 | 2020-09-23 | ペリクルフレーム及びペリクル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019032388A true JP2019032388A (ja) | 2019-02-28 |
JP6861596B2 JP6861596B2 (ja) | 2021-04-21 |
Family
ID=65367395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017152245A Active JP6861596B2 (ja) | 2017-08-07 | 2017-08-07 | ペリクルフレーム及びペリクル |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6861596B2 (ja) |
KR (1) | KR102635619B1 (ja) |
CN (1) | CN109388017A (ja) |
TW (2) | TWI779072B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
MX2021009364A (es) * | 2019-03-28 | 2021-09-10 | Nippon Steel Stainless Steel Corp | Lamina de acero inoxidable con recubrimiento transparente. |
US11454881B2 (en) * | 2019-07-31 | 2022-09-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Pellicle design for mask application |
KR20240017642A (ko) | 2022-08-01 | 2024-02-08 | 주식회사 참그래핀 | 극자외선 노광공정의 포토마스크 보호용 펠리클 및 그 제조방법 |
KR20240017447A (ko) | 2022-08-01 | 2024-02-08 | 주식회사 참그래핀 | 극자외선 노광공정의 포토마스크 보호용 펠리클 및 그 제조방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09319069A (ja) * | 1996-05-29 | 1997-12-12 | Nikon Corp | ペリクル光学素子 |
JP2002182371A (ja) * | 2000-12-14 | 2002-06-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
JP2005308901A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム及びそれを用いたフォトリソグラフィー用ペリクル |
JP2005338722A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4921184B2 (ja) | 2007-01-19 | 2012-04-25 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレームへの膜接着剤の塗布方法 |
CN102944973B (zh) * | 2008-09-12 | 2015-01-21 | 旭化成电子材料株式会社 | 表膜构件框体、表膜构件和表膜构件框体的使用方法 |
JP4870788B2 (ja) * | 2009-01-27 | 2012-02-08 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィー用ペリクル |
US8349525B2 (en) * | 2009-06-18 | 2013-01-08 | Nikon Corporation | Protective apparatus, mask, mask fabricating method and conveying apparatus, and exposure apparatus |
JP5152870B2 (ja) * | 2009-12-07 | 2013-02-27 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィ用ペリクル及びその製造方法 |
JP5189614B2 (ja) * | 2010-03-29 | 2013-04-24 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル及びその取り付け方法、並びにペリクル付マスク及びマスク |
KR200469200Y1 (ko) * | 2010-05-10 | 2013-09-26 | 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 | 펠리클 수납 용기 |
JP5684752B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2015-03-18 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル収納容器 |
JP5854511B2 (ja) * | 2012-10-16 | 2016-02-09 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルおよびペリクルの貼付け方法 |
JP6156998B2 (ja) * | 2013-10-22 | 2017-07-05 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
JP6150300B2 (ja) * | 2014-04-04 | 2017-06-21 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルの貼り付け部確認方法 |
-
2017
- 2017-08-07 JP JP2017152245A patent/JP6861596B2/ja active Active
-
2018
- 2018-08-03 TW TW107126974A patent/TWI779072B/zh active
- 2018-08-03 TW TW111132443A patent/TWI834264B/zh active
- 2018-08-06 KR KR1020180091372A patent/KR102635619B1/ko active IP Right Grant
- 2018-08-07 CN CN201810891458.9A patent/CN109388017A/zh active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09319069A (ja) * | 1996-05-29 | 1997-12-12 | Nikon Corp | ペリクル光学素子 |
JP2002182371A (ja) * | 2000-12-14 | 2002-06-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
JP2005308901A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム及びそれを用いたフォトリソグラフィー用ペリクル |
JP2005338722A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102635619B1 (ko) | 2024-02-08 |
KR20190016005A (ko) | 2019-02-15 |
JP6861596B2 (ja) | 2021-04-21 |
TW202248749A (zh) | 2022-12-16 |
CN109388017A (zh) | 2019-02-26 |
TWI834264B (zh) | 2024-03-01 |
TWI779072B (zh) | 2022-10-01 |
TW201931005A (zh) | 2019-08-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2019032388A (ja) | ペリクルフレーム及びペリクル | |
JP5047232B2 (ja) | ペリクル | |
TWI411874B (zh) | 防塵薄膜組件 | |
JP6304884B2 (ja) | ペリクルの貼り付け方法 | |
JP2014211591A (ja) | ペリクルおよびこのペリクルを装着するフォトマスク | |
JP2008256925A (ja) | ペリクル | |
JP2018077412A (ja) | グラフェン膜の製造方法及びこれを用いたペリクルの製造方法 | |
JP6347741B2 (ja) | ペリクル | |
JP4358683B2 (ja) | ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル | |
JP2005308901A (ja) | ペリクルフレーム及びそれを用いたフォトリソグラフィー用ペリクル | |
JP7063962B2 (ja) | ペリクルフレーム及びペリクル | |
JP6156998B2 (ja) | ペリクル | |
TWI498672B (zh) | 微影用防塵薄膜組件 | |
KR102259620B1 (ko) | 펠리클 | |
TWI522730B (zh) | 防塵薄膜組件 | |
JPH1062966A (ja) | リソグラフィー用ペリクル | |
JP2000292910A (ja) | ペリクルフレームおよびこれを用いたリソグラフィー用ペリクル | |
JP2005352096A (ja) | ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル | |
JP6975702B2 (ja) | ペリクルフレームおよびペリクル | |
KR20110092234A (ko) | 리소그래피용 펠리클 | |
JP2022162654A (ja) | ペリクル |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190725 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20200108 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20200129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200514 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200526 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200727 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200923 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20201208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210217 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20210217 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20210225 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20210301 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210323 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210330 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6861596 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |