JP2019003162A - プラスチック光ファイバ及びプラスチック光ファイバケーブル - Google Patents

プラスチック光ファイバ及びプラスチック光ファイバケーブル Download PDF

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Abstract

【課題】画素欠陥が少なく、かつ鮮明な画像を伝送可能なプラスチック光ファイバ及びプラスチック光ファイバケーブルを提供する。【解決手段】ポリメチルメタクリレート系の芯樹脂からなる1300本以上の芯1を有し、芯1の周りを、芯樹脂よりも屈折率が0.1以上小さい鞘樹脂よりなる鞘層2が取り囲んでおり、さらに、鞘層2の外側に、鞘樹脂とは異なる樹脂よりなる保護層3が、鞘層2に密着している、プラスチック光ファイバ。【選択図】図1

Description

本発明は、プラスチック光ファイバ及びプラスチック光ファイバケーブルに関する。
従来から、ポリメチルメタクリレート系樹脂(PMMA系樹脂)を芯とする多芯プラスチック光ファイバは、光データ通信や、光電センサー等に使用されており、これらの用途に利用されるプラスチック光ファイバの鞘層の樹脂については、ビニリデンフロライド80モル%とテトラフロロエチレン20モル%からなる2元共重合体(例えば、特許文献1参照)、ビニリデンフロライドとテトラフロロエチレンとヘキサフロロプロペンからなる共重合体(例えば、特許文献2参照)、カーボーネート変性エチレンーテトラフルオロエチレン系共重合体(例えば、特許文献3参照)、フッ化メタクリレート系樹脂(例えば、特許文献4参照)等が実用化されている。
これらのプラスチック光ファイバは、主に光データ通信用途や光電センサー用途を想定しており、光の伝送損失の低減を目的として開発されているため、鞘層の樹脂の比率が低く設計されている。この結果、画素間のクロストークが発生する。光データ通信用途や光電センサー用途ではクロストークは実用上の問題にならないが、各芯繊維が画素として作用する画像伝送用途には使用できないものである。
上述した事情に鑑み、画像伝送用のプラスチック光ファイバについては、前記光データ通信用プラスチック光ファイバとは異なった設計がなされている。
具体的には、前記光データ通信用プラスチック光ファイバよりも芯数が多く、かつ、芯繊維間でクロストークが発生しないように、前記光データ通信用プラスチック光ファイバよりもプラスチック光ファイバ断面に占める鞘層の樹脂の割合を大きくする設計する必要があり、さらに鞘層の樹脂には、前記光データ通信用プラスチック光ファイバ用の鞘層の樹脂に比べ、より芯樹脂との密着性を高くするようになされている。
このため、画像伝送用のプラスチック光ファイバは、前記光データ通信用プラスチック光ファイバに比べ、設計、製造が煩雑であり、限られた鞘層用の樹脂のみが実用化されているにとどまっている。例えば、画像伝送用のプラスチック光ファイバの鞘層用の樹脂としてはビニリデンフロライド80モル%とテトラフロロエチレン20モル%からなる2元共重合体が実用化されている(例えば特許文献5、6参照)。
特開平5−134120号公報 特開平11−95048号公報 特開2011−221384号公報 特開2016−021019号公報 特開2013−50646号公報 特開2013−54241号公報
画像伝送用のプラスチック光ファイバは、画像伝送用のガラスファイバに比べ、安価であるため、特に使い捨ての医療機器用途での応用が期待されているが、画素が茶色又は黒くなるという画素欠陥が多く、画像品質が画像伝送用のガラスファイバに比べ劣るという問題を有している。
また、医療用途では低侵襲とするために細径のファイバが好まれるが、画像伝送用のプラスチック光ファイバを1mm以下の細径とすると、芯間の鞘層の厚みが薄くなり、クロストークが増大し、画像がぼやけるという問題を有している。
そこで本発明においては、画素欠陥の少なく、かつ鮮明な画像を伝送可能な、特に画像伝送用として有効な、プラスチック光ファイバを提供することを目的とする。
本発明者は、上述した課題を解決するために鋭意検討した結果、多芯プラスチック光ファイバにおいて、芯樹脂、鞘樹脂及び保護層の樹脂に関しての特定を行うことで、上述した従来技術の課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、以下のとおりである。
〔1〕
ポリメチルメタクリレート系の芯樹脂からなる1300本以上の芯を有し、
前記芯の周りを、芯樹脂よりも屈折率が0.1以上小さい鞘樹脂よりなる鞘層が取り囲んでおり、
さらに、前記鞘層の外側に、前記鞘樹脂とは異なる樹脂よりなる保護層が、前記鞘層に密着している、
プラスチック光ファイバ。
〔2〕
ポリメチルメタクリレート系の芯樹脂からなる1300本以上の芯を有し、
前記芯の周りを、前記芯樹脂よりも屈折率が0.1以上小さい鞘樹脂よりなる鞘層が取り囲んでおり、
さらに、前記鞘層の外側に、前記鞘樹脂とは異なる樹脂よりなる保護層が、前記鞘層に密着している、
画像伝送用のプラスチック光ファイバ。
〔3〕
前記鞘樹脂が、
ビニリデンフロライドとテトラフロロエチレンとヘキサフロロプロペンからなる3元共重合体、又はエチレンとテトラフロロエチレンとヘキサフロロプロペンからなる3元共重合体、を含む樹脂である、前記〔1〕又は〔2〕に記載のプラスチック光ファイバ。
〔4〕
前記保護層用の樹脂が、フッ素系樹脂である、前記〔1〕乃至〔3〕のいずれか一に記載の、プラスチック光ファイバ。
〔5〕
前記保護層が、120℃以上の融点を有し、かつビカット軟化温度(ASTM1525)が110℃以上であるビニリデンフロライド系樹脂を含む樹脂組成物よりなる、
前記〔1〕乃至〔3〕のいずれか一に記載のプラスチック光ファイバ。
〔6〕
前記保護層の屈折率が鞘樹脂の屈折率よりも0.01以上大きい、前記〔1〕乃至〔5〕のいずれか一に記載のプラスチック光ファイバ。
〔7〕
前記〔1〕乃至〔6〕のいずれか一に記載のプラスチック光ファイバの外側に、
熱可塑性樹脂からなる被覆層を、さらに有する、プラスチック光ファイバケーブル。
画素欠陥が少なく、かつ鮮明な画像を伝送可能なプラスチック光ファイバを提供できる。
本実施形態のプラスチック光ファイバケーブルの一例の概略断面図を示す。
以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明を実施するための形態(以下、単に「本実施形態」と記載する。)について詳細に説明するが、本発明は、下記の実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
〔プラスチック光ファイバ〕
本実施形態のプラスチック光ファイバは、
ポリメチルメタクリレート系の芯樹脂からなる1300本以上の芯を有し、
前記芯の周りを、前記芯樹脂よりも屈折率が0.1以上小さい鞘樹脂よりなる鞘層が取り囲んでおり、
さらに、前記鞘層の外側に、前記鞘樹脂とは異なる樹脂よりなる保護層が、前記鞘層に密着しているプラスチック光ファイバである。
本実施形態のプラスチック光ファイバは、照明用、光データ通信用、光電センサー等のセンサー用、及び画像伝送用等に適用できる。
特に、本実施形態のプラスチック光ファイバの鞘層の屈折率が、芯樹脂よりも0.1以上小さいため、ファイバNAが大きくなり、明るい画像を転送する効果に優れているため、画像伝送用プラスチック光ファイバとして好適である。
図1に、本実施形態のプラスチック光ファイバを具備するプラスチック光ファイバケーブルの一例の概略断面図を示す。
図1において、プラスチック光ファイバケーブル7は、芯1と当該芯1の周囲を取り囲む鞘層2よりなるプラスチック光ファイバ裸線5を有している。
前記プラスチック光ファイバ裸線5の外周には保護層3が形成されており、前記プラスチック光ファイバ裸線5と保護層3とでプラスチック光ファイバ素線6を形成している。
前記プラスチック光ファイバ素線6の外周には被覆層4が形成されており、前記プラスチック光ファイバ素線6と被覆線4とでプラスチック光ファイバケーブルを形成している。
ここで、本明細書中において、「プラスチック光ファイバ」とは、プラスチック光ファイバ素線6を少なくとも具備する形態の総称である。
(芯)
本実施形態のプラスチック光ファイバは、ポリメチルメタクリレート系の芯樹脂からなる1300本以上の芯を有している。
芯の直径は1〜50μmが好ましく、より好ましくは1〜20μmであり、さらに好ましくは3〜10μmである。
芯の直径が1μm以上であれば画素として十分に機能し、かつ高解像度を実現できる。また、50μm以下であると、画像伝送用として用いた場合に高い解像度が得られる。
本実施形態のプラスチック光ファイバにおいて、芯の数は、高解像度の観点から1300本以上であり、3000本以上が好ましく、3500本以上がより好ましく、6000本以上がさらに好ましい。
また、解像度の観点から芯数は多い方がよいが、裸線の実用上の太さの観点からは、30000本以下が好ましく、14000本以下がより好ましい。
また、本実施形態のプラスチック光ファイバを構成するプラスチック光ファイバ裸線5の直径は、曲げやすく、狭い場所でも使用可能となることから、3000μm以下が好ましく、250〜1500μmがより好ましく、300〜1000μmがさらに好ましく、300〜750μmがさらにより好ましい。
本実施形態のプラスチック光ファイバの芯に用いる芯樹脂は、光の減衰が小さいことから、ポリメチルメタクリレート系樹脂(PMMA系樹脂)であるものとする。
PMMA系樹脂としては、メチルメタクリレート単独重合体(PMMA)や、メチルメタクリレートを50質量%以上含んだ共重合体が好適なものとして挙げられる。
共重合可能な成分としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステル類;メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸シクロヘキシル等のメタクリル酸エステル類;イソプロピルマレイミドのようなマレイミド類;アクリル酸、メタクリル酸、スチレン等が挙げられ、これらの中から一種又は二種以上を適宜選択して共重合させることができる。
(鞘層)
本実施形態のプラスチック光ファイバは、芯1の周りを、芯樹脂よりも屈折率が0.1以上小さい鞘樹脂よりなる鞘層2が取り囲んでいる。
鞘樹脂として芯樹脂よりも屈折率が0.1以上小さい樹脂を用いることにより、前記プラスチック光ファイバ裸線5の直径を1mm以下にしても画像がぼやけにくい。
さらに画素欠陥については、従来は芯樹脂と鞘樹脂との屈折率差が大きくなると、芯と鞘層との密着性が低下するため、画素欠陥が増大すると考えられていたが、驚くべきことに屈折率差が0.1未満の樹脂よりもむしろ画素欠陥が減少した。この理由については、プラスチック光ファイバ製造時に高温下にさらされる際、屈折率差が0.1未満の樹脂よりも屈折率差が0.1以上の樹脂の方がより安定なためと推定される。
鞘層2に用いられる鞘樹脂は、芯樹脂よりも屈折率が0.1以上小さい樹脂、すなわち芯樹脂との屈折率差が0.1以上であれば、特に限定されるものではないが、例えば、ビニリデンフロライドとテトラフロロエチレンとヘキサフロロプロペンの3元共重合体;カーボーネート変性エチレン−テトラフルオロエチレン系共重合体;エチレンとテトラフロロエチレンとヘキサフロロプロペンからなる3元共重合体等を用いることができる。
また、ビニリデンフロライド成分が30〜92モル%、テトラフロロエチレン成分が0〜55モル%、ヘキサフロロプロペン成分が8〜25モル%の範囲にあり、23℃におけるショアD硬度が30〜55の範囲にある共重合体は、樹脂の流動特性が芯樹脂に用いられる前記PMMA系樹脂と近く、プラスチック光ファイバが容易に製造できるので好ましい。
さらには、ビニリデンフロライド成分が40〜62モル%、テトラフロロエチレン成分が28〜40モル%、ヘキサフロロプロペン成分が8〜22モル%の範囲にあり、ナトリウムD線で20℃で測定した屈折率が1.350〜1.380の範囲にあり、23℃におけるショアD硬度(ASTM D2240)の値が35〜45の範囲にあり、メルトフローインデックス(230℃、荷重3.8kg、オリフィスの直径2mm、長さ8mm条件)が5g/10分〜100g/分の流動性を示す樹脂がより好ましい。
また、芯樹脂と鞘樹脂との比率については、特に限定されるものではないが、芯樹脂が多いほど明るい画像が得られる一方で、裸線5の径が細くなるにつれて芯間の鞘層の厚みが薄くなり、クロストークが増え、画像がぼやけてしまう。
このため芯樹脂と鞘樹脂の好ましい比率は、裸線5の直径によって選択される。裸線5の直径が1.2mm以上の場合は、芯樹脂/鞘樹脂=90/10〜65/35が好ましく、80/20〜70/30がより好ましい。裸線5の直径が0.8mmから1.2mmの場合は、芯樹脂/鞘樹脂=85/15〜65/35が好ましく、80/20〜70/30がより好ましい。
裸線5の直径が0.6mm〜0.8mmの場合、芯樹脂と鞘樹脂の好ましい比率は、芯樹脂/鞘樹脂=80/20〜60/40であり、さらには75/25〜65/35がより好ましい。
裸線5の直径が0.6mm以下の場合、芯樹脂と鞘樹脂の好ましい比率は、芯樹脂/鞘樹脂=75/25〜50/50が好ましく、70/30〜55/45がより好ましい。
鞘樹脂の各成分の含有量は、NMRにより測定することができる。具体的には、鞘樹脂試料の適量をアセトン−d6とα,α,α−トリフロロトルエンとの混合溶媒に溶解してなる試料溶液を用意し、観測周波数は1Hが400MHz、19Fが376MHzとし、化学シフトの基準物として、1H−NMRはテトラメチルシランを基準に換算し、19F−NMRはトリクロロフロロメタンを基準に換算する。スペクトルからの各成分濃度の算出は次式により求めた質量%組成を、モル%換算する。
ビニリデンフロライド成分は該成分中の1Hとα,α,α−トリフロロトルエン中の1Hとのモル比を1H−NMRの積分値から算出し、そこからサンプル中の前記成分のモル数を計算し、さらに質量比に換算する。
ヘキサフロロプロペン成分は該成分中のCF3基とα,α,α−トリフロロトルエン中のCF3基のモル比を19F−NMRの積分値から算出し、そこからサンプル中の前記成分のモル数を計算し、さらに質量比に換算する。
テトラフロロエチレン成分は全体からビニリデンフロライド成分とヘキサフロロプロペン成分を除いた部分であるとして計算する。
上記式中の記号の意味を以下に示す。
A:試料溶液中のトリフロロトルエンmmol数
B:1H−NMRで2.2〜2.7ppmと3.0〜3.8ppmの積分値合計
C:1H−NMRで7.0〜8.5ppmの積分値
D:試料溶液中の試料mg数
E:19F−NMRで−67〜−78ppmの積分値
F:19F−NMRで−62〜−66ppmの積分値
(保護層)
本実施形態のプラスチック光ファイバは、前記鞘層2の外側に、鞘樹脂とは異なる樹脂よりなる保護層3が、鞘層2に密着するように形成されている。
保護層3は、本実施形態のプラスチック光ファイバ裸線5を保護し、機械的強度を保持する機能を有している。
一般に芯樹脂と屈折率差が0.1以上の鞘樹脂とは密着性が悪く、保護層3が無い場合、前記プラスチック光ファイバ裸線5を曲げた際に容易に一体化していた芯が分離し、所望の画像伝送機能を発揮できないおそれがある。かかる観点から、保護層3は芯1と鞘層2との一体化を図るために有効である。
また、本実施形態のプラスチック光ファイバケーブルにおいて、保護層3は、前記プラスチック光ファイバ裸線5を構成する鞘層2の鞘樹脂と密着している。
ここで密着状態は、画像倍率200倍のデジタルマイクロスコープで観察した際に、鞘層2と保護層3の間に空隙が観察されるかどうかをもって判定し、空隙がないものを密着していると判断することができる。
鞘層2と保護層3とが密着していることにより、機械的強度を保持するための機能が十分に得られ、前記の芯が分離する現象を十分に防止できる。
保護層3の厚みは、特に制限はないが、保護層3の厚み分だけ視野が狭くなるため、視野の広さを十分に確保する観点から100μm以下であることが好ましく、より好ましくは50μm以下であり、さらに好ましくは40μm以下である。
また、前記機械的強度を保持しつつ、本実施形態のプラスチック光ファイバ全体の太さを細くする観点から、好ましくは5〜50μmであり、より好ましくは5〜40μm以下である。
本実施形態のプラスチック光ファイバにおいては、保護層3として用いる樹脂は、鞘層2の樹脂と異なる樹脂である。
鞘樹脂と同じ樹脂を用いると、製造の際に鞘層と完全に融着し、保護層の役割を果たさなくなるおそれがある。
鞘層の樹脂と異なる樹脂を用いることにより、製造工程における鞘層と保護層との融着を防止できる。
保護層3用の樹脂は、鞘樹脂と異なる樹脂であれば特に制限はないが、鞘樹脂とより強固な密着性を確保するため、フッ素樹脂が好ましい。
さらにはビニリデンフロライド系樹脂がより好ましく、さらには120℃以上の融点を有し、かつビカット軟化温度(ASTM 1525)が110℃以上であるビニリデンフロライド系樹脂を含む樹脂組成物は、樹脂の流動特性が芯樹脂に用いられる前記PMMA系樹脂と近く、プラスチック光ファイバが容易に製造できる観点から好ましい。
ここでビカット軟化温度は、ASTM D1525に準じて、荷重1.0kg、昇温速度2℃/分で針が深さ1mm刺さった時の温度を言う。
本実施形態のプラスチック光ファイバにおいては、鞘層2と保護層3の界面で、光が反射してしまうと、画像がぼやける原因となる。かかる観点から、保護層3の屈折率が鞘層2の屈折率よりも高いと、反射が起こりにくくなり望ましい。より好ましくは保護層3の屈折率が鞘層2の屈折率よりも0.01以上であり、0.03以上であるとより好ましい。
本実施形態のプラスチック光ファイバは、芯1と鞘層2と保護層3とで、プラスチック光ファイバ素線6を形成する。
プラスチック光ファイバ素線6の直径は、特に限定されるものではないが、柔軟性を維持するという観点から3mm以下が好ましく、2.0mm以下がより好ましい。医療用途においては低侵襲性が要求されることから1.5mm以下がさらに好ましく、1mm以下がさらにより好ましく、0.8mm以下がよりさらに好ましい。
(プラスチック光ファイバの製造方法)
本実施形態のプラスチック光ファイバの製造方法は特に限定されるものではなく、公知の方法を適用できるが、例えば、プラスチック光ファイバ裸線を紡糸するときに同時に保護層を複合紡糸により一気に素線を製造する方法や、プラスチック光ファイバ裸線を紡糸した後に、保護層を塗工、硬化させ、鞘層と密着させることで素線とする方法等が挙げられる。
〔プラスチック光ファイバケーブル〕
本実施形態のプラスチック光ファイバケーブルは、上述した本実施形態のプラスチック光ファイバ素線6の外側に、熱可塑性樹脂からなる被覆層4をさらに有する。
本実施形態のプラスチック光ファイバケーブルの製造方法は、特に限定されず、公知の方法によって行うことができる。
例えば、プラスチック光ファイバ素線の外側に、クロスヘッドダイにより熱溶融させたポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体(ETFE)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、及びシリコーン樹脂からなる被覆層を形成する方法を好ましく使用することができる。
被覆層4の厚さは、プラスチック光ファイバ素線を保護し、かつ狭い場所での使用を可能とする観点から、20〜1000μmが好ましく、50〜900μmがより好ましく、100〜800μmがさらに好ましい。
以下、具体的な実施例及び比較例を挙げて本実施形態を具体的に説明するが、本実施形態は、以下の実施例に限定されるものではない。
なお、本明細書中で用いられた物性値、及び後述する実施例、比較例で評価された評価物性値は、各々、以下に示す測定方法及び評価方法によるものである。
〔画素欠陥の評価〕
画素欠陥の評価として、LEDライトパネル(ルミテクノ社製、「A4G−L1316−SFR23」)を準備し、作製したプラスチック光ファイバ素線を2mとり、先端を前記LEDライトパネルに密着させ、もう一方の先端から出力される出力画像をデジタルマイクロスコープ(キーエンス製、VHX−5000)で200倍に拡大し観察を行った。
ファイバ毎に5本のサンプルを用意し、再外周を除く画素の中で、茶色又は黒く観察される画素数を数え、5本全て3個以下の物を合格とした。
評価結果を下記表1に示す。
〔解像度の評価〕
解像度の評価として、5cm角のガラス基板上に太さ0.1mmの黒線が0.1mm間隔で描かれたターゲットを用意し、前記〔画素欠陥の評価〕で用いたものと同様のLEDライトパネル上に載置した。
次に、作製したプラスチック光ファイバ素線を2mとり、先端を前記ターゲットに密着させ、もう一方の先端から出力される出力画像をデジタルマイクロスコープ(キーエンス製、VHX−5000)で200倍に拡大し観察を行った。
ファイバ毎に5本のサンプルを用意し、5本とも0.1mmの黒線がはっきり見えるものを良として合格とし、にじみやぼやけが観察されるものを不良として不合格とした。
評価結果を下記表2に示す。
〔機械強度の評価〕
機械強度の評価として、画素欠陥の評価を行ったファイバを、r10mmにて±90度に10回繰り返して曲げた後、再び、上述した〔画素欠陥の評価〕を行い、同様の基準で合否判定した。
評価結果を下記表3に示す。
〔実施例1〕
図1に示す構成に倣い、プラスチック光ファイバ素線を製造した。
芯1を構成する樹脂(芯樹脂)としてポリメチルメタクリレート(屈折率1.491)、鞘層2を構成する樹脂(鞘樹脂)として、ビニリデンフロライドとテトラフロロエチレンとヘキサフロロプロペンの共重合体(屈折率1.37)、保護層3を構成する樹脂(保護層樹脂)としてビニリデンフロライド72質量%とテトラフルオロエチレン28質量%の共重合体(屈折率1.40)を、それぞれ、7375芯複合紡糸ダイの芯樹脂分配室と鞘樹脂分配室と保護層分配室に入れ、直径1mmの7375芯プラスチック光ファイバ素線6を複合紡糸により製造した。
なお、屈折率とは、アッベ屈折計(アタゴ社製、「アッベ屈折計1型」)を用いて23℃の恒温室内で、ナトリウムD線を光源として測定した。
〔実施例2〕
鞘層2を構成する樹脂(鞘樹脂)として、エチレンとテトラフロロエチレンとヘキサフロロプロペンの共重合体(屈折率1.39)を用いた。その他の条件は〔実施例1〕と同様にプラスチック光ファイバ素線6を製造した。
〔実施例3〕
直径を0.75mmとした。その他の条件は〔実施例1〕と同様にプラスチック光ファイバ素線6を製造した。
〔実施例4〕
直径を0.5mmとした。その他の条件は〔実施例1〕と同様にプラスチック光ファイバ素線6を製造した。
〔実施例5〕
直径を0.75mmとした。その他の条件は、〔実施例2〕と同様にプラスチック光ファイバ素線6を製造した。
〔実施例6〕
直径を0.5mmとした。その他の条件は、〔実施例2〕と同様にプラスチック光ファイバ素線6を製造した。
〔比較例1〕
保護層分配室に保護層用樹脂を入れずに複合紡糸した。その他の条件は〔実施例1〕と同様にプラスチック光ファイバ素線6を製造した。
〔比較例2〕
鞘層2用の樹脂としてビニリデンフロライド72質量%とテトラフルオロエチレン28質量%の共重合体(屈折率1.40)を用いた。その他の条件は〔実施例1〕と同様にプラスチック光ファイバ素線6を製造した。
〔比較例3〕
鞘層2用の樹脂としてビニリデンフロライド72質量%とテトラフルオロエチレン28質量%の共重合体(屈折率1.40)を用いた。その他の条件は〔実施例3〕と同様にプラスチック光ファイバ素線6を製造した。
〔比較例4〕
鞘層2用の樹脂としてビニリデンフロライド72質量%とテトラフルオロエチレン28質量%の共重合体(屈折率1.40)を用いた。その他の条件は〔実施例4〕と同様にプラスチック光ファイバ素線6を製造した。
下記表4に総合評価を示す。
本発明のプラスチック光ファイバは、医療用内視鏡や工業用内視鏡として産業上の利用可能性を有している。
1 芯
2 鞘層
3 保護層
4 被覆層
5 プラスチック光ファイバ裸線
6 プラスチック光ファイバ素線
7 プラスチック光ファイバケーブル

Claims (7)

  1. ポリメチルメタクリレート系の芯樹脂からなる1300本以上の芯を有し、
    前記芯の周りを、芯樹脂よりも屈折率が0.1以上小さい鞘樹脂よりなる鞘層が取り囲んでおり、
    さらに、前記鞘層の外側に、前記鞘樹脂とは異なる樹脂よりなる保護層が、前記鞘層に密着している、
    プラスチック光ファイバ。
  2. ポリメチルメタクリレート系の芯樹脂からなる1300本以上の芯を有し、
    前記芯の周りを、前記芯樹脂よりも屈折率が0.1以上小さい鞘樹脂よりなる鞘層が取り囲んでおり、
    さらに、前記鞘層の外側に、前記鞘樹脂とは異なる樹脂よりなる保護層が、前記鞘層に密着している、
    画像伝送用のプラスチック光ファイバ。
  3. 前記鞘樹脂が、
    ビニリデンフロライドとテトラフロロエチレンとヘキサフロロプロペンからなる3元共重合体、又はエチレンとテトラフロロエチレンとヘキサフロロプロペンからなる3元共重合体、を含む樹脂である、請求項1又は2に記載のプラスチック光ファイバ。
  4. 前記保護層用の樹脂が、フッ素系樹脂である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の、プラスチック光ファイバ。
  5. 前記保護層が、120℃以上の融点を有し、かつビカット軟化温度(ASTM1525)が110℃以上であるビニリデンフロライド系樹脂を含む樹脂組成物よりなる、
    請求項1乃至3のいずれか一項に記載のプラスチック光ファイバ。
  6. 前記保護層の屈折率が鞘樹脂の屈折率よりも0.01以上大きい、請求項1乃至5のいずれか一項に記載のプラスチック光ファイバ。
  7. 請求項1乃至6のいずれか一項に記載のプラスチック光ファイバの外側に、
    熱可塑性樹脂からなる被覆層を、さらに有する、プラスチック光ファイバケーブル。
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