JP2019002852A - 電磁波検出器およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
基板10は、表面に第1絶縁膜11が形成されたn−Siからなる。第1絶縁膜11はSiの熱酸化膜(SiO2 )であり、厚さは500nmである。第1絶縁膜11は、FETのゲート絶縁膜として機能する。
半導体層12は、グラフェンからなり、第1絶縁膜11上に接して位置している。ここでグラフェンは、単層のものだけでなく数層のものも含み、たとえば1〜9層のものである。半導体層12は、トランジスタのチャネルとして動作する層である。半導体層12は、吸収層14の平面パターンと重ならず、かつ吸収層14の周の少なくとも一部の近傍に位置するパターンに形成されている。そのパターンの詳細については後述する。
第2絶縁膜13は、半導体層12上に接して設けられている。第2絶縁膜13は、SiO2 からなる。第2絶縁膜13は、半導体層12と吸収層14とを離間させ、吸収層14から半導体層12へ電流がリークしないようにするために設けるものである。
吸収層14は、第2絶縁膜13上の一部領域に設けられている。吸収層14は、厚さ5nmのCr、厚さ30nmのAuを順に積層した構造である。Au層は、表面プラズモン共鳴により所望の波長の遠赤外線を吸収し、吸収層14の周囲に電界を発生させるための層である。Cr層は、第2絶縁膜13とAu層との密着性を高めるための層である。吸収層14の平面パターンは、所望の波長を効率的に吸収可能なパターンに形成されている。そのパターンの詳細については後述する。
第3絶縁膜18は、吸収層14を覆うようにして形成されている。第3絶縁膜18の厚さは、たとえば5〜20nmである。吸収層14は第2絶縁膜13と第3絶縁膜18によって内部に封止された状態となっている。このように絶縁膜で吸収層14を封止することで、吸収層14を物理的、化学的に保護している。第3絶縁膜18はSiO2 からなる。SiO2 以外にも、吸収層14を物理的、化学的に保護可能な任意の材料を用いることができる。
第2絶縁膜13および第3絶縁膜18の一部領域にコンタクトホールが設けられ、その底面に半導体層12が露出している。その露出する半導体層12上に接してソース電極16およびドレイン電極17が設けられている。ソース電極16とドレイン電極17は所定距離離間して設けられている。ゲート電極15は、基板10の裏面に接して設けられている。ソース電極16、ドレイン電極17、およびゲート電極15は、Ti/Auからなる。
次に、実施例1の電磁波検出器の製造方法について、図10を参照に説明する。
次に、実施例1の電磁波検出器の動作について説明する。
上述のように、吸収層14、半導体層12の平面パターンは、効率的に遠赤外線を検出できるように設定されている。その平面パターンについて、図を参照に詳しく説明する。
11:第1絶縁膜
12:半導体層
13:第2絶縁膜
14:吸収層
15:ゲート電極
16:ソース電極
17:ドレイン電極
18:第3絶縁膜
Claims (12)
- 電磁波を検出する電磁波検出器において、
層状物質の半導体からなる半導体層、ゲート電極、ソース電極およびドレイン電極を備えたトランジスタ構造と、
前記半導体層から離間して設けられ、電磁波を吸収して電界を生じさせる吸収層と、
前記半導体層と前記吸収層との間に設けられ、前記吸収層から前記半導体層へとトンネル電流が生じない厚さに設定された絶縁膜と、
を有し、
前記半導体層の平面パターンは、前記吸収層の平面パターンと重ならず、かつ前記吸収層の周の少なくとも一部の近傍に位置するパターンに設定されている、
ことを特徴とする電磁波検出器。 - 前記吸収層の平面パターンは、2回対称以上の対称性を有したパターンである、
ことを特徴とする請求項1に記載の電磁波検出器。 - 前記吸収層の平面パターンは、2つの二等辺三角形を頂角で重ねたボウタイ型の単位構造が正方格子状に配列された周期的パターンであり、
前記半導体層の平面パターンは、ボウタイ型の二等辺三角形の底辺に沿ったストライプ状である、
であることを特徴とする請求項2に記載の電磁波検出器。 - 前記吸収層の平面パターンは、正方形の単位構造が正方格子状に配列された周期的パターンであり、
前記半導体層の平面パターンは、前記吸収層の正方形の一辺に沿ったストライプ状のパターンである、
であることを特徴とする請求項2に記載の電磁波検出器。 - 前記吸収層の平面パターンは、正方形の単位構造が正方格子状に配列された周期的パターンであり、
前記半導体層の平面パターンは、前記吸収層の各辺に沿った格子状のパターンである、
であることを特徴とする請求項2に記載の電磁波検出器。 - 前記吸収層と前記半導体層は、同一面上に形成されている、ことを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の電磁波検出器。
- 前記吸収層と前記ゲート電極は、同一面上に形成されている、ことを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の電磁波検出器。
- 前記トランジスタ構造は、2以上のゲート電極を備える、ことを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の電磁波検出器。
- 前記半導体層は、グラフェンからなる、ことを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の電磁波検出器。
- 前記半導体層は、遷移金属ダイカルコゲナイドからなる、ことを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の電磁波検出器。
- 前記吸収層は、表面プラズモン共鳴により電磁波を吸収する材料からなる、ことを特徴とする請求項1ないし請求項10のいずれか1項に記載の電磁波検出器。
- 前記吸収層は、電磁波の吸収により電子−正孔対が生成される材料からなる、ことを特徴とする請求項1ないし請求項10のいずれか1項に記載の電磁波検出器。
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