JP2018536276A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 基体ウェブに特徴物を作製する方法において、
   前記基体ウェブを、第１のスプールから、レーザを含むレーザ処理アセンブリを通って、連続して前進させる工程と、
   複数の欠陥部を、前記レーザ処理アセンブリにおける前記レーザを用いて、前記基体ウェブ内に生成する工程と、
   を含む、方法。
2. 前記基体ウェブを、最終スプールアセンブリに向かって、連続して前進させる工程と、
   前記基体ウェブを、前記最終スプールアセンブリにおける最終スプールへと巻く工程と、
   を更に含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記基体ウェブを前記最終スプールへと巻きながら、該基体ウェブをエッチングして、複数の前記欠陥部において材料を除去し、それにより、複数の特徴物を該基体ウェブに形成する工程を、
   更に含む、請求項２に記載の方法。
4. 前記基体ウェブを、前記最終スプールへと巻く工程の前に、該基体ウェブを、１つ以上の更なる処理アセンブリを通って前進させる工程を、
   更に含む、請求項２または３に記載の方法。
5. 前記基体ウェブを、エッチングアセンブリを通って前進させる工程と、
   前記基体ウェブを、前記エッチングアセンブリにおいてエッチングして、複数の前記欠陥部において材料を除去し、それにより、複数の特徴物を該基体ウェブに形成する工程と、
   を更に含む、請求項１または２に記載の方法。
6. 前記エッチングアセンブリが、複数のエッチングゾーンを含むものである、請求項５に記載の方法。
7. 前記基体ウェブを、前記エッチングアセンブリを通って前進させる工程の前に、該基体ウェブを、中間スプールへと巻く工程と、
   前記基体ウェブを、前記中間スプールから前記エッチングアセンブリに向かって前進させる工程と、
   を更に含む、請求項５または６に記載の方法。
8. 前記基体ウェブが、ガラス基体ウェブ、ガラスセラミック基体ウェブ、または、セラミック基体ウェブを含むものである、請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
9. 前記基体ウェブを、前記レーザ処理アセンブリを通って前進させる工程の後に、該基体ウェブを、形成された複数の欠陥部を有する１つ以上の更なる基体ウェブ、および、隣接した基体ウェブ間に配置された１つ以上の間紙層と共に巻き、それにより、第３の中間スプールを形成する工程を、
   更に含む、請求項１から８のいずれか１項に記載の方法。
10. ガラス基体ウェブにおいて、
    前記ガラス基体ウェブ内に配置された複数の貫通孔を有し、前記ガラス基体ウェブは、３００μｍ未満の厚さを有し、スプールへと巻いたものである、ガラス基体ウェブ。