JP2018534132A - ジブロックコポリマーの自己組織化によりナノメートル構造の作成を可能にする方法 - Google Patents
ジブロックコポリマーの自己組織化によりナノメートル構造の作成を可能にする方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
[式中、X=Si(R1,R2);Ge(R1,R2)
Z=Si(R3,R4);Ge(R3,R4);O;S;C(R3,R4)
Y=O;S;C(R5,R6)
T=O;S;C(R7,R8)
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8は、水素、ヘテロ原子を有する又は有さない直鎖状、分岐状又は環状アルキル基、及びヘテロ原子を有する又は有さない芳香族基より選択される]
に相当する少なくとも1つの環状物質の(共)重合により得られ、他方が少なくとも一のビニル芳香族モノマーの(共)重合により得られるジブロックコポリマーの自己組織化によりナノメートル構造の作成を可能にする方法に関する。
[式中、X=Si(R1,R2);Ge(R1,R2)
Z=Si(R3,R4);Ge(R3,R4);O;S;C(R3,R4)
Y=O;S;C(R5,R6)
T=O;S;C(R7,R8)
R1=R2及びR3=R4及びR5=R6及びR7=R8は、水素、ヘテロ原子を有する又は有さない直鎖状、分岐状又は環状アルキル基、及びヘテロ原子を有する又は有さない芳香族基より選択される]
に相当する少なくとも1つのモノマーの重合より生じ、他方のブロックがビニル芳香族モノマーを含むジブロックコポリマーを含む組成物を使用し、以下の工程:
− ブロックコポリマーを溶媒に溶解する工程、
− この溶液を表面上に堆積させる工程、
− アニールする工程
を含む、ナノ構造化組織化方法に関する。
[式中、X=Si(R1,R2);Ge(R1,R2)
Z=Si(R3,R4);Ge(R3,R4);O;S;C(R3,R4);
Y=O;S;C(R5,R6)
T=O;S;C(R7,R8)
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8は、水素、ヘテロ原子を有する又は有さない直鎖状、分岐状又は環状アルキル基、及びヘテロ原子を有する又は有さない、R1=R2且つR3=R4且つR5=R6且つR7=R8の芳香族基より選択される]
で表される。
ポリ(1,1−ジメチルシラシクロブタン)−ブロック−PS(PDMSB−b−PS)の合成
1,1−ジメチルシラシクロブタン(DMSB)は、式(I)[式中、X=Si(CH3)2、Y=Z=T=CH2]のモノマーである。
実施例1と同じ方法で手順を行う:50/50(体積/体積)のTHF/ヘプタン混合物中、−50℃で、第2級ブチルリチウム開始剤(sec−BuLi)を用いて2つのモノマーの逐次的添加により、アニオン重合を行う。典型的には、塩化リチウム(80mg)、30mlのTHF及び30mlのヘプタンを、着炎し、乾燥した、磁気撹拌機を備えた250mlの丸底フラスコに導入する。溶液を−40℃に冷却する。次に、0.18mlのsec−BuLi(第2級ブチルリチウム)1mol/lを導入し、続いて、1.3mlの1,1−ジメチルシラシクロブタンを添加する。反応混合物を1時間撹拌し、その後、4.4mlのスチレンを添加し、反応混合物を1時間撹拌し続ける。脱気したメタノールを添加することにより反応を完了させ、その後、反応媒体を反応媒体溶媒を部分的に蒸発させ、続いてメタノール中に沈殿させることにより、濃縮する。その後、生成物を、濾過し50℃のオーブン中で一晩乾燥させることにより、回収する。
THF中1重量%の溶液を使用したスピンコーティングにより、ケイ素基材上で実施例1のフィルムを調製した。コポリマーのブロック間の相分離において固有の自己組織化の促進は、THFの溶液中の窒素撹拌により生成されるTHF蒸気の継続流下で、3時間のフィルムの曝露により得られた。この装置は、全混合物が2sccmの純粋な窒素に対して8sccmのTHF蒸気から成るように、曝露チャンバー内のTHFの蒸気圧を純粋な窒素の別個の流れを使用して希釈することによって制御することを可能にする。そのような混合物は、基材の表面に対して脱湿を起こすことなく、溶媒でフィルムを飽和させる効果を有する。
実施例2のフィルムを200℃で20分間熱処理する。
図3(2×2μm)は、フッ素化RIEプラズマ処理後に70nmの厚さ及び18.5nmのピリオドを有する実施例2のコポリマーの組織化を示す。
Claims (15)
- ブロックの一方が以下の式(I):
[式中、X=Si(R1,R2);Ge(R1,R2)
Z=Si(R3,R4);Ge(R3,R4);O;S;C(R3,R4)
Y=O;S;C(R5,R6)
T=O;S;C(R7,R8)
R1=R2及びR3=R4及びR5=R6及びR7=R8は、水素、ヘテロ原子を有する又は有さない直鎖状、分岐状又は環状アルキル基、及びヘテロ原子を有する又は有さない芳香族基より選択される]
に相当する少なくとも1つのモノマーの重合より生じ、他方のブロックがビニル芳香族モノマーを含むブロックコポリマーを含む組成物を使用し、以下の工程:
− ブロックコポリマーを溶媒に溶解する工程、
− この溶液を表面上に堆積させる工程、
− アニールする工程
を含む、ナノ構造化組織化方法。 - X=Si(R1,R2)、Z=C(R3,R4)、Y=C(R5,R6)、T=C(R7,R8)である、請求項1に記載の方法。
- R1=R2=CH3、R3=R4=R5=R6=R7=R8=Hである、請求項2に記載の方法。
- 単位(I)を含まないブロックがビニル芳香族モノマーを含む、請求項1に記載の方法。
- ビニル芳香族モノマーがスチレンである、請求項4に記載の方法。
- ビニル芳香族モノマーが単位(I)を含むブロック中に存在する、請求項1に記載の方法。
- 表面が単位(I)及びビニル芳香族モノマーを含むランダムコポリマーで処理される、請求項1に記載の方法。
- ビニル芳香族モノマーがスチレンである、請求項7に記載の方法。
- ブロックコポリマーの配向が、溶媒蒸気アニーリングを使用して堆積又はコーティングされたブロックコポリマーフィルムの厚さによって規定される、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
- 表面が自由である、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
- 表面が誘導される、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
- 単位(I)及びスチレンを含むランダムコポリマー。
- X=Si、Y、Z、T=C、且つR1=R2=CH3、R3=R4=R5=R6=R7=R8=Hである、請求項12に記載のランダムコポリマー。
- リソグラフィーの分野及び多孔性膜、触媒担体又は磁性粒子担体の製造における、請求項1から11のいずれか一項に記載の方法の使用。
- 請求項1から11のいずれか一項に記載の方法によって得られ、ブロックコポリマーの2つのブロックの一方の特定のドメインを特異的に分解するプラズマにより処理される、フィルムの正又は負の樹脂のマスク。
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