JP2018526757A - 非臨界流れ状態での圧力式流量測定の方法および装置 - Google Patents

非臨界流れ状態での圧力式流量測定の方法および装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2018526757A
JP2018526757A JP2018529497A JP2018529497A JP2018526757A JP 2018526757 A JP2018526757 A JP 2018526757A JP 2018529497 A JP2018529497 A JP 2018529497A JP 2018529497 A JP2018529497 A JP 2018529497A JP 2018526757 A JP2018526757 A JP 2018526757A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow
pressure
mfc
critical
value
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018529497A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6781758B2 (ja
Inventor
ディング,ジュンファ
ラバッシ,マイケル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MKS Instruments Inc
Original Assignee
MKS Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by MKS Instruments Inc filed Critical MKS Instruments Inc
Publication of JP2018526757A publication Critical patent/JP2018526757A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6781758B2 publication Critical patent/JP6781758B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01FMEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F1/00Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
    • G01F1/05Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
    • G01F1/34Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00Control of flow
    • G05D7/06Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0617Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
    • G05D7/0629Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
    • G05D7/0635Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01FMEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F1/00Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
    • G01F1/05Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
    • G01F1/34Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure
    • G01F1/36Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure the pressure or differential pressure being created by the use of flow constriction
    • G01F1/363Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure the pressure or differential pressure being created by the use of flow constriction with electrical or electro-mechanical indication
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01FMEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F1/00Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
    • G01F1/05Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
    • G01F1/34Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure
    • G01F1/50Correcting or compensating means
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01FMEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F15/00Details of, or accessories for, apparatus of groups G01F1/00 - G01F13/00 insofar as such details or appliances are not adapted to particular types of such apparatus
    • G01F15/005Valves
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00Control of flow
    • G05D7/06Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0617Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
    • G05D7/0629Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Flow Control (AREA)
  • Measuring Volume Flow (AREA)

Abstract

圧力式流量測定のための方法、システム、および装置を提供する。
【解決手段】プロセッサは、圧力式質量流量コントローラ(MFC)から上流圧力値Pを受け取る。プロセッサは、受け取った上流圧力値Pに基づいて、圧力式質量流量コントローラ(MFC)の下流圧力値Pを算出する。プロセッサは、受け取った上流圧力値Pと算出した下流圧力値Pとに基づいて、圧力式質量流量コントローラ(MFC)の流量Qを算出する。プロセッサは、算出した流量Qに基づいて、圧力式質量流量コントローラ(MFC)を通る流れを制御する。前記方法、システム、および装置は、非臨界または非チョーク流れの状態における流量測定に使用することができる。

Description

(関連出願)
本願は、「非臨界流れ状態での圧力式流量測定の方法および装置」と題し、2015年8月31日出願の米国特許出願第62/212,212号に対し優先権を主張し、この出願の内容すべてをここに参照して援用する。
本技術は、一般に、非臨界流れの状態での流量測定に関する。
質量流量コントローラ(Mass Flow Controller:MFC)および質量流量検証器(Mass Flow Verifier:MFV)の技術が、一般に利用可能である。あるスキームによれば、MFCまたはMFVは、2つの圧力計(センサとも称する)、すなわち、上流圧力計と下流圧力計とを備え、上流圧力計によって測定した上流圧力と下流圧力計によって測定した下流圧力とに基づいて、流量を算出する。このスキームの短所は、2つの圧力計を必要とすることであって、それによって、MFCまたはMFVを製造するコストが増加する。上述したように、圧力式流量測定に対する新しいアプローチが望まれる。
図1は、第1の例の圧力式MFC100を示す。図示のように、MFC100は、比例制御弁105と、温度センサ110と、入口圧力115と、出口圧力(P2)120と、オリフィス125と、制御圧力(P1)130と、この装置の単一の圧力センサとして機能する容量マノメータ135と、比例積分微分(Proportional Integral Derivative:PID)制御電子機器140とを備える。
MFC100は、オリフィス125を流れるガスの質量流量を制御することによって動作する。MFCの設計においてオリフィス125を流れるガスと共に、MFC100が供給するガスの質量流量は、MFC100の製造業者またはMFC100のユーザによって設定される。
比例制御弁105は、オリフィス125を流れるガスの量を調節する。比例制御弁105は、比例ソレノイドを備えていてもよい。比例ソレノイドに電圧を印加することによって、スプールの移動速度またはスプールの移動距離を変化させ、それによって、流れるガスの量をスプールの位置に応じた量に調節する。または、上述した比例制御弁105の代わりに、他の好適な制御弁を使用してもよい。
温度センサ110は、ガスの温度を検知する。温度センサ110は、例えば、熱電対(および/または他の好適な温度センサ)を備えていてもよい。入口圧力115は、オリフィス125の入口で圧力センサによって測定される。出口圧力120は、オリフィス125の出口で圧力センサによって測定される。オリフィス125を流れるガスの圧力は、制御圧力130が示すように、(例えば、MFC100の電子回路/論理回路、またはMFC100と接続しているコンピュータによって)制御される。金属製ダイアフラムを備える容量マノメータ135を用い、金属製ダイアフラムとそれに隣接して固定された電極構造体との間の静電容量の変化に基づいて、ガスの圧力を測定する。
図示のように、MFC100は、PID制御電子機器140も備える。PID制御電子機器は、制御ループフィードバックメカニズムを実装する。制御ループフィードバックメカニズムは、ある値(例えば、オリフィス125を流れるガスの流量Q)を測定し、測定値と所望値の間の誤差を計算し、かつ、1つ以上の被制御変数を操作して誤差を低減しようとする。この制御ループフィードバックメカニズムを用いて、PID制御電子機器140は、オリフィス125を流れるガスの流量Qを制御する。
PID制御電子機器140は、例えば、MFC100の(入口圧力115が測定される)入口弁および(出口圧力120が測定される)出口弁の動作を制御する。MFC100の一実施例では、PID制御電子機器140は、「上昇率」(Rate-Of-Rise:ROR)流量制御技術を実施して、質量流量制御を行う。ROR技術を実施する場合、既知の容積、例えばオリフィス125にガスを流れ込ませ、所定の時間間隔中に出口圧力120で生じる圧力の上昇を測定することによって、ガスの流量を決定する。
MFC100に関連する1つの課題は非臨界流れを測定すること、つまり、非臨界流れを、上流圧力と下流圧力の両方で測定することが必要である(下記式4を参照)。(図示のように)上流圧力センサのみが存在する状況下では、MFCによる流量測定は、誤ったもの、または信頼性の低いものとなり得る。
2つの圧力センサ、すなわち、上流センサおよび下流センサを備えることで、非臨界流れ測定に必要とされる下流圧力の測定が可能となる。単一の圧力センサのみでなく、2つの圧力センサを備えることは、費用がかかり、MFC100の製造コストが、約500ドルまたは約30%〜40%増加することになり得る。
図2は、2つの圧力センサを有する、第2の例の圧力式MFC200を示す。例えば、MFC200の構成要素のいくつかは、日本、京都の堀場製作所株式会社製のCriterion D500(登録商標)の構成要素に相当していてもよい。図示のように、MFC200は、ガス入口205と、ガス出口210と、上流圧力センサ215と、下流圧力センサ220と、流量制限器225と、温度センサ230とを備える。
MFC200において、ガスは、ガス入口205を介して流入し、ガス出口を介して流出する。上流圧力センサ215は、ガスの上流圧力Pを測定し、下流圧力センサ220は、ガスの下流圧力Pを測定する。温度センサ230は、ガスの温度を測定する。流量制限器225は、ガスの流量を制限する。流量Qは、以下に説明するように、PとPとに基づいて算出され、MFC200において、流量制限器225を用いて制御される。
MFC200の短所は、MFC200が2つの圧力センサ215および220を備えることである。第2の圧力センサ220にかなりのコストがかかり、それによって、仮にMFC200が下流圧力センサ220を有さず、単一の上流圧力センサ215のみを備える場合に比べて、MFC200のコストが30%〜40%または$500増加することになる。
上述したように、2つの測定圧力PとPとに基づいて流量Qを計算するので、MFC200には、2つの圧力センサ215および220が必要である。
MFC(例えば、MFC100またはMFC200)のノズル(例えば、オリフィス125またはガス出口210)を通る流れは、臨界流れまたは非臨界流れである。臨界流れはチョーク流れとしても知られており、また、非臨界流れは非チョーク流れとしても知られている。臨界流れにおいては、ガスは音速で流れる。臨界流れのもとでは、式1の条件が満たされる。
Figure 2018526757
式1中、Pは下流圧力を表し、Pは上流圧力を表し、γはガスの比熱比を表す。例えば、窒素ガスに対しては、γ=1.40である。臨界流れにおいては、流量Qは下流圧力Pから独立している。具体的には、流量QまたはQcfは式2を用いて計算される。
Figure 2018526757
式2中、C’は吐出係数を表し、Aはノズル(例えばオリフィス125)の開口部面積を表し、Pは上流圧力を表し、Rは一般ガス定数、すなわち、約8.314J/(molK)であり、Tはガス温度を表し、Mはガス分子量を表し、γはガスの比熱比を表す。なお、式2では、Qを計算するにあたって下流圧力Pを必要としない。
非臨界流れの状態では、式1の条件が満たされないため、式3の条件が満たされる。
Figure 2018526757
非臨界流れの状態では、流量QまたはQncfは、式4によって計算される。
Figure 2018526757
なお、式4においては、上流圧力Pと下流圧力Pの両方を用いて、非臨界流量QまたはQncfを計算する。式4の結果として、MFC200において下流圧力センサ220が用いられることになり、MFC200の製造コストが増加する。
本技術の態様は、非臨界(非チョーク)流れの状態での圧力式流量測定に用いられるシステムに関する。前記システムは、圧力式質量流量コントローラに接続された1つ以上のプロセッサとメモリとを備える。前記メモリは、前記1つ以上のプロセッサによって実行可能な命令を格納する。前記命令は、圧力式質量流量コントローラ(MFC)から上流圧力値Pを受け取るためのコードを含む。前記命令は、受け取った上流圧力値Pに基づいて、圧力式質量流量コントローラ(MFC)の下流圧力値Pを算出するためのコードを含む。前記命令は、受け取った上流圧力値Pと算出した下流圧力値Pとに基づいて、圧力式質量流量コントローラ(MFC)の流量Qを算出するためのコードを含む。前記命令は、算出した流量Qに基づいて、圧力式質量流量コントローラを通る流れを制御するためのコードを含む。
本技術のさらなる態様は、非臨界(非チョーク)流れの状態での圧力式流量測定に用いられるシステムに関する。前記システムは、圧力式質量流量コントローラに接続された1つ以上のプロセッサと、メモリとを備える。前記メモリは、前記1つ以上のプロセッサによって実行可能な命令を格納する。前記命令は、圧力式質量流量コントローラの初期下流圧力値Pd0を受け取るためのコードを含む。前記命令は、格納する下流圧力値Pを、受け取った初期下流圧力値Pd0に設定するためのコードを含む。前記命令は、臨界または非臨界流れの状態に従って流量Qを計算(またはコンピュータにより算出)するためのコードを含む。前記命令は、算出した流量QおよびPの値が既定の誤りしきい値内に収束するまで流量計算を繰り返すためのコード、すなわち、圧力式質量流量コントローラから上流圧力値Pを受け取り、PとPとに基づいて、圧力式質量流量コントローラにおける流れの状態が臨界であるか非臨界であるかを判定し、その流れの状態が臨界であるか非臨界であるかに基づいてQを算出し、Qの算出値に基づいてPを更新することを繰り返すためのコードを含む。前記命令は、算出した流量Qおよび格納した下流圧力値Pが収束した後に、算出した流量Qに基づいて、圧力式質量流量コントローラを通る流れを制御するためのコードを含む。
本技術のさらなる態様は、非一時的な機械読取り可能媒体に関し、該媒体は非臨界(非チョーク)流れ状態での圧力式流量測定のための命令を格納する。前記命令は、圧力式質量流量コントローラから上流圧力値Pを受け取るためのコードを含む。前記命令は、受け取った上流圧力値Pに基づいて、圧力式質量流量コントローラの下流圧力値Pを算出するためのコードを含む。前記命令は、受け取った上流圧力値Pと算出した下流圧力値Pとに基づいて、圧力式質量流量コントローラの流量Qを算出するためのコードを含む。前記命令は、算出した流量Qに基づいて、圧力式質量流量コントローラを通る流れを制御するためのコードを含む。
本技術のさらなる態様は、非一時的な機械読取り可能媒体に関し、該媒体は非臨界(非チョーク)流れ状態での圧力式流量測定のための命令を格納する。前記命令は、圧力式質量流量コントローラの初期下流圧力値Pd0を受け取るためのコードを含む。前記命令は、格納する下流圧力値Pを、受け取った初期下流圧力値Pd0に設定するためのコードを含む。前記命令は、算出した流量QおよびPの値が既定の誤りしきい値内に収束するまで、算出を繰り返すためのコード、すなわち、圧力式質量流量コントローラから上流圧力値Pを受け取り、PとPとに基づいて、圧力式質量流量コントローラにおける流れの状態が臨界であるか非臨界であるかを判定し、その流れの状態が臨界であるか非臨界であるかに基づいてQを算出し、Qの算出値に基づいてPを更新することを繰り返すためのコードを含む。前記命令は、算出した流量Qおよび格納した下流圧力値Pが互いに収束した後に、算出した流量Qに基づいて、圧力式質量流量コントローラを通る流れを制御することを繰り返すためのコードを含む。
本技術のさらなる態様は、非臨界(非チョーク)流れ状態での圧力式流量測定の方法に関する。前記方法は、圧力式質量流量コントローラ(MFC)から上流圧力値Pを受け取る工程を含む。前記方法は、受け取った上流圧力値Pに基づいて、圧力式MFCの下流圧力値Pを算出する工程を含む。前記方法は、受け取った上流圧力値Pと算出した下流圧力値Pとに基づいて、圧力式MFCの流量Qを算出する工程を含む。前記方法は、算出した流量Qに基づいて、圧力式MFCを通る流れを制御する工程を含む。
本技術のさらなる態様は、非臨界(非チョーク)流れ状態での圧力式流量測定の方法に関する。前記方法は、圧力式質量流量コントローラ(MFC)の初期下流圧力値Pd0を受け取る工程を含む。前記方法は、格納する下流圧力値Pを、受け取った初期下流圧力値Pd0に設定する工程を含む。前記方法は、下流圧力Pおよび算出した流量Qの値が収束するまで、圧力式MFCから上流圧力値Pを受け取り、PとPとに基づいて、圧力式MFCにおける流れの状態が臨界であるか非臨界であるかを判定し、流れの状態が臨界であるか非臨界であるかに基づいてQを算出し、Qの算出値に基づいてPを更新することを繰り返す工程を含む。前記方法は、PおよびQの値が収束した後に、算出した流量Qに基づいて、圧力式MFCを通る流れを制御する工程を含む。
本技術のさらなる態様は、非臨界(非チョーク)流れの状態での圧力式流量測定に用いられるシステムに関する。前記システムは、圧力式質量流量コントローラに接続された1つ以上のプロセッサと、メモリとを備える。前記メモリは、前記1つ以上のプロセッサによって実行可能な命令を格納する。前記命令は、圧力式質量流量コントローラから上流圧力値Pを受け取るためのコードを含む。前記命令は、圧力式質量流量コントローラの外部のセンサから下流圧力値Pを受け取るためのコードを含む。前記命令は、受け取った上流圧力値Pと受け取った下流圧力値Pとに基づいて、圧力式質量流量コントローラの流量Qを算出するためのコードを含む。前記命令は、算出した流量Qに基づいて、圧力式質量流量コントローラを通る流れを制御するためのコードを含む。
本技術の多様な構成を図示および記述する以下の詳細な説明により、本技術の他の構成は当業者に容易に明らかになることがわかる。当然のことながら、本技術を異なる他の構成とすることは可能であり、そのいくつかの詳細を、それらすべてを、他の多様な態様において、本技術の範囲から逸脱することなく改変することは可能である。したがって、図面および詳細説明は、特徴を説明するが限定はしないものとする。
本技術の特徴は、添付した特許請求の範囲に記載される。しかし、説明を目的として、開示する主題のいくつかの態様を以下の図に示す。
図1は、第1の例の圧力式質量流量コントローラ(MFC)を示す。 図2は、2つの圧力センサを有する、第2の例の圧力式質量流量コントローラ(MFC)を示す。 図3は、本技術の第1の態様を用いた流量計算の誤差の例を示す。 図4は、本技術の第2の態様を用いた流量計算の誤差の例を示す。 図5Aは、外部の下流圧力センサに接続された質量流量コントローラの例を示す。 図5Bは、外部の下流圧力センサに接続された複数の質量流量コントローラの例を示す。 図6は、質量流量コントローラに接続されたコンピュータの例を示す。 図7は、質量流量コントローラの下流圧力値および流量を算出するためのプロセスの第1の例を示す。[方法ステップが図示および記述されていることを確認すること] 図8は、質量流量コントローラの下流圧力値および流量を算出するためのプロセスの第2の例を示す。 図9は、本技術のいくつかの実施例を実行する電子システムの例を概念的に示す。
以下に記載する詳細な説明は、本技術の多様な構成の説明を意図したものであって、本技術が実行される構成のみを表すことを意図するものではない。添付した図は本明細書に含まれ、詳細な説明の一部を構成するものとする。詳細な説明には、本技術を完全に理解するための具体的な詳細内容が含まれる。しかし、本技術は、本明細書に記載される、その具体的な詳細内容に限定されず、具体的な詳細内容がなくても本技術は実行され得ることは明らかである。いくつかの例では、本技術の概念があいまいになることを避けるため、いくつかの構造および構成要素を概略図の形で示す。
本技術は、圧力式質量流量コントローラ(MFC)または圧力式質量流量検証器(MFV)における圧力式流量測定に関する。いくつかの実施例によれば、1つ以上のプロセッサおよびメモリ(例えば、好適なチップまたはレジスタ等の記憶装置)は、圧力式MFCに接続できるか、またはMFCに含まれ得る。前記1つ以上のプロセッサは、MFCのセンサにより測定した上流圧力値PをMFCから受け取ることができる。前記1つ以上のプロセッサは、受け取った上流圧力値Pに基づいて、MFCの下流圧力値Pを算出するよう機能する。前記1つ以上のプロセッサは、受け取った上流圧力値Pと算出した下流圧力値Pとに基づいて、MFCの流量Qを算出することができる。前記1つ以上のプロセッサは、算出した流量Qに基づいて、MFCを通る流れを制御する。いくつかの実施形態において、前記1つ以上のプロセッサは、コンピュータに接続されるか、またはコンピュータ内に含まれる。
本明細書では、MFCまたはMFVは、例えばオリフィスを流れる液体およびガスの流量を測定、制御、または検証するために使用される装置である。MFCまたはMFVは、特定の種類の液体または気体を、特定の流量または温度範囲で制御するように設計かつ較正されている。MFCおよびMFVという用語は、同義に用いられ得る。
いくつかの実施例によれば、本技術は、上流圧力Pを得るための単一の上流圧力センサを用いて内部下流圧力Pを推計する。圧力式MFC(例えば、MFC100またはMFC200)の弁が完全に閉じているとき、流量Qはゼロであり、内部上流圧力Pが安定する。コンピュータ(例えば、MFC内のコンピュータまたはMFCに接続されたコンピュータ)は、上流圧力センサ(例えば上流圧力センサ215)から、この状況下での上流圧力Pの測定値を受け取り、この測定値を初期下流圧力Pd0として格納する。MFCの動作中に開弁し、その後、式5を用いて下流圧力Pを推計する。
Figure 2018526757
式5中、f(Q,P,γ,M)は、ノズルを流れる流量Q、上流圧力P、ならびにガスγおよびMの特性の関数を表す。様々な関数f(.)が、本技術と共に使用される。例えば、f(.)は、全変数の一次関数、全変数の二次関数、全変数の指数関数、全変数の対数関数、または、様々な変数の様々な程度および種類の関数、例えば、無制限な例として、γの指数関数、Qの一次関数、Pの三次関数、Mの二次関数である。(下記)式6は、関数f(.)の一例であり、式中、f(.)は、4つの入力変数各々の一次関数である。
Figure 2018526757
式6中、係数k1、k2、k3、およびk4は、定数を表す。式6は、前述した変数が一次重みを有する関数f(.)の一例を示す。しかし、本技術を、式6に示した関数または他の種類の関数f(.)と共に用いてもよい。
式(1)〜(6)を用いて、上流圧力センサ(例えば上流圧力センサ215)を有し、下流圧力センサ(例えば下流圧力センサ220)を有さない圧力式MFC(例えばMFC200)の流量Qを、以下のプロセスにより計算する。該プロセスを図8と併せて説明する。
(1)P=Pd0に設定する。[図8、ステップ810]
(2)上流圧力センサから上流圧力Pを得る。[図8、ステップ815]
(3)式(1)または式(3)を用いて、流れの状態が臨界であるか非臨界であるかを判定する。[図8、ステップ820]
(4)流れの状態が臨界である場合は、臨界流れの式、すなわち式2を用いて流量Qを計算し、流れの状態が非臨界である場合は、非臨界流れの式、すなわち式4を用いて流量Qを計算する。[図8、ステップ825]
(5)式(5)を用い、計算した流量Qに基づいて、下流圧力Pを更新する。[図8、ステップ830]
(6)QとPの両方が収束するまで、ステップ(2)〜(5)を繰り返す。[図8、ステップ835]
上述したプロセスにおいては、流量設定値(SP)がゼロである場合、Pd0の値を更新する。なお、上述したプロセスは、Pを測定することなく、よって、下流圧力センサ(例えば下流圧力センサ220)を必要とすることなく完了する。
本明細書では、繰り返しにより計算した値は、その連続計算結果の値が先の計算結果のしきい値率内に収まっていれば、収束していると見なされる。しきい値率は、0.05%、0.1%、0.5%、1%等である。場合によって、様々なしきい値率が、様々な収束に用いられる。例えば、連続計算の結果が、互いに対して0.1%以内に収まっていると、Qの値は収束していると見なされ、一方で、連続計算の結果が、互いに0.05%以内に収まっていると、Pの値は収束していると見なされる。
図3は、本技術の態様を用いた流量計算の誤差のグラフ300を示す。図3のグラフ300では、測定した上流圧力Pを考慮に入れ、下流圧力Pを測定しない場合の、圧力式MFCの流量が示される。曲線305は、臨界流計算のみを使用した場合に基づいており、一方、曲線310は、式(1)〜(6)と共に、上記の内部下流圧力推計技術を用いた場合に基づいている。図3に示すように、曲線310は曲線305よりもはるかに速く収束するものの、両曲線とも結局は同じ結果に収束する。
非臨界流れの範囲における流量計算の精度は、さらに改善される。本技術のいくつかの態様によれば、重み関数を流量計算に用いる。式7に重み関数の一例を示す。
Figure 2018526757
式7中、wは重み係数を表し、Qcfは式2によって定義され、Qncfは式4によって定義される。式8に示すように、重み係数wは、流量、上流圧力、下流圧力、ガスの比熱比、およびガス分子量の関数である。
Figure 2018526757
いくつかの例によれば、重み関数f(.)は、式9に定義するように一次重みを表す。
Figure 2018526757
式9中、PrminおよびPrmaxは、[0,1]の範囲内の変数を表す。PrminおよびPrmaxは、ガスの比熱比γ、流量Q、およびノズルオリフィスのサイズに依存する。ある特定例によれば、40psiaで窒素ガス2000sccmの流量を実現するノズルサイズ0.012インチに対して、Prmin=0.53、Prmax=0.63である。
いくつかの例によれば、重み関数f(.)は、式10に定義するように三次重みを表す。
Figure 2018526757
式10中、PrminおよびPrmaxは、[0,1]の範囲内の変数を表す。PrminおよびPrmaxは、ガスの比熱比γ、流量Q、およびノズルオリフィスのサイズに依存する。ある特定例によれば、40psiaで窒素ガス10,000sccmの流量を実現するノズルサイズ0.028インチに対して、Prmin=0.43、Prmax=1である。
いくつかの例によれば、重み関数f(.)は、式11に定義するようにN次重みを表す。式9の一次重みおよび式10の三次重みは、式11のN次重みの例であり、式11において、一次重みの場合は、N=1であり、三次重みの場合は、N=3である。他の例において、Nは、任意の実用値または好適な値をとる。
Figure 2018526757
式11中、PrminおよびPrmaxは、[0,1]の範囲の変数を表す。PrminおよびPrmaxは、ガスの比熱比γ、流量Q、およびノズルオリフィスのサイズに依存する。Nは、正の係数であり、固定定数であるか、またはガスの比熱比γ、流量Q、およびノズルオリフィスのサイズに依存する。
図4は、本技術の態様を用いた流量計算の誤差のグラフ400を示す。図3のグラフ300では、測定した上流圧力Pを考慮に入れ、かつ、下流圧力Pを測定しない場合の、圧力式MFCの流量が示される。曲線405は、式(1)〜(6)に基づいているが、式(7)〜(11)と併せて記載したような重み付けは実施されていない。曲線410は、式(1)〜(6)と共に、式(7)〜(11)をも実行した結果である。図4に示すように、曲線410は曲線405よりもはるかに速く収束するものの、両曲線とも結局は同じ結果に収束する。
図5Aは、外部の下流圧力センサ505に接続しているMFC100を備えるシステム500Aの例を示す。図示のように、MFC100は、比例制御弁105と、温度センサ110と、入口圧力115と、出口圧力120と、オリフィス125と、制御圧力130と、容量マノメータ135と、PID制御電子機器140とを備える。容量マノメータ135として(またはMFC100は容量マノメータを有さない)、任意の容量マノメータを本技術と共に用いてもよいが、いくつかの例によれば、容量マノメータ135として、マサチューセッツ州アンドーバーのMKSインスツルメンツ・インコーポレーテッド社製Baratron(登録商標)容量マノメータが用いられる。外部の下流圧力センサ505は、オリフィス135から流出するガスの出口圧力120を測定し、MFC100内に含まれる下流圧力センサを必要とすることなく、PID制御電子機器140に、測定した下流圧力Pを提供する。その後、PID制御電子機器140は、(MFC100内のセンサによって)測定された上流圧力Pと(外部の下流圧力センサ505によって)測定された下流圧力Pとに基づいて、流量Qを決定する。図5Aおよび図5Bと共に記述した態様においては、PID制御電子機器140は、式(1)〜(4)を用いてQを決定し、式(5)〜(11)によって求められるPを推計する技術に頼る必要がない。これは、Pの測定値は下流圧力センサ505によって提供されるからである。
いくつかの例によると、下流圧力センサ505は、例えば、MFC100に隣接する、またはMFC100の一部である、別の圧力式MFCの上流圧力センサである。デジタル通信インターフェースは、互いに通信する、隣接した圧力式MFCに提供される。デジタル通信インターフェースには、DNET、EtherCat、ProfiBus、または他の任意の好適なバスもしくはネットワークが含まれる。
図5Aに示すように、下流圧力センサ505は、単一のMFC100に接続している。しかし、さらに図5Bに示すように、下流圧力センサ505は、MFC100と類似または同一の構造を有する複数のMFCやMFV501(1)〜(3)に用いられる、または接続されるセンサである。MFC501(1)〜(3)は、共通のマニホールド503によって接続される。例えば、MFC501(1)〜(3)それぞれの出力502(1)〜(3)は、マニホールド503に供給される。マニホールド503の下流で検知した圧力を示す信号を含むアウトプット507を、MFC501(1)〜(3)それぞれへの入力507(1)〜(3)として、1つ以上の接続または通信リンク(例えば、バスまたは他の導電性パス、無線RFまたは光伝送等)を介して提供することができる。図5Bに示すような構成による利点は、単一の下流圧力センサによって、複数の上流の装置(例えばMFC)に、それら装置への別の目的による入力を介して、下流圧力測定信号を送ることができる。その結果、MFCは、各々が内蔵型の(しかも高価な)第2の圧力センサを備えなくとも、非チョーク状態の流量(流況)を適切に測定することができる。そのような下流圧力センサ505は、例えば1つ以上のMFVの使用による複数の上流の装置505(1)〜505(3)の流量検証に加えて、またはその流量検証の代替で用いられる。いくつかの実施形態においては、図5Bに示す複数のMFC(やMFV)501(1)〜(3)の1つ以上が、必要ではないものの、下流圧力を推計するよう機能する。
図6は、MFC625に接続しているコンピュータ600(または処理システム)の例を示す。コンピュータ600は、1つまたは複数の適切な接続(例えば、1つ以上の通信線、バス、または導電性パスや無線通信リンク)を用いたり、1つ以上の通信インターフェースを実装したりすることによって、MFC625に接続している。MFC625は、MFC100、MFC200、またはその他の好適なMFCに相当する。図示のように、コンピュータ600は、MFC625の外部にある。しかし、いくつかの実施例においては、コンピュータ600は、MFC625の構成要素である。例えば、コンピュータ600は、図1のMFC100のPID制御電子機器140に相当する。
コンピュータ600は、PID制御電子機器140等、プロセッサとメモリ(またはメモリにリンクされる)とを備える任意の装置である。または、コンピュータ600は、MFC625に接続される独立型の装置であり、例えば、ラップトップコンピュータ、デスクトップコンピュータ、携帯電話、タブレット型コンピュータ、または専用制御機器等である。図示のように、コンピュータ600は、処理ハードウェア605とメモリ610とを備える。処理ハードウェア605は、単一のプロセッサまたは複数のプロセッサを備える。複数のプロセッサが含まれる実施例においては、複数のプロセッサは、中央処理装置やグラフィック処理装置等の処理装置内に配置される。メモリ610は、処理ハードウェア605にアクセス可能なデータと、処理ハードウェア605によって実行される機械読取り可能命令とを格納する。メモリ610は、非一時的な機械読取り可能媒体である。メモリ610は、キャッシュ単位と、記憶装置と、長期メモリと、短期メモリ等を含む。図示のように、メモリは、PおよびQの算出モジュール615と、流量制御モジュール620とを含む。
およびQの算出モジュール615が処理ハードウェア605により実行されると、処理ハードウェア605が、MFC625から入力された上流圧力Pに基づいて、MFC625の下流圧力Pおよび流量Qを算出する。PおよびQの算出モジュール615は、その算出のために、本明細書に記載される任意のプロセス、例えば、式(1)〜(11)と共に上述したプロセスや図7〜8と共に以下に記載するプロセスを用いる。図7〜8と共に以下に記載するプロセスを実行するための命令は、コンピュータ600のメモリ610に格納される。
流量制御モジュール620が処理ハードウェア605により実行されると、処理ハードウェア605が、PおよびQの算出モジュール615により算出された流量Qに基づいて、MFC625を通る流れを制御する。例えば、流量制御モジュール620は、(図1に示すMFC100の)比例制御弁105の動作を調節して、流量を制御する。
図7は、MFC(例えば、MFC100、200、または625)における下流圧力値Pおよび流量Qを計算(例えば、数学的に算出、または決定)する、第1の例のプロセス700を示す。以下に記述するように、プロセス700は、コンピュータ(例えばコンピュータ600)、または他の好適な処理システムで実施される。しかし、プロセス700を、MFC内において、例えばPID制御電子機器140で実施してもよい。
プロセス700は、コンピュータが圧力式MFCから上流圧力値Pを受け取るステップ705で開始する。上流圧力値Pは、MFCで、MFC内の圧力センサを用いて測定される。MFCは、上流圧力センサを有するが、下流圧力センサを有さない。
ステップ710では、コンピュータは、受け取った上流圧力値Pに基づいて、圧力式MFCの下流圧力値Pを算出する。コンピュータは、本明細書に記載した式(1)〜(11)の任意の組み合わせに基づいて、Pを算出する。場合によっては、下流圧力値Pを算出するプロセスを繰り返す。
ステップ715では、コンピュータは、受け取った上流圧力値Pと算出した下流圧力値Pとに基づいて、圧力式MFCの流量Qを算出する。コンピュータは、本明細書に記載する式(1)〜(11)の任意の組み合わせに基づいて、Qを算出する。場合によっては、流量Qを算出するプロセスは繰り返される。
ステップ720では、コンピュータは、算出した流量Qに基づいて、圧力式MFCを通る流れを制御する。例えば、コンピュータは、算出した流量と所望の流量とに基づいて、流量を増加または減少させる。ステップ720の後、プロセス700は終了する。
図8は、(例えば、MFC100、200、または625)の下流圧力値Pおよび流量Qを算出する、第2の例のプロセス800を示す。以下に記述するように、プロセス800は、コンピュータ(例えばコンピュータ600)、または他の好適な処理システムで実施される。しかし、プロセス800を、MFC内、例えばPID制御電子機器140で実施してもよい。
プロセス800は、コンピュータが圧力式MFCの初期下流圧力値Pd0を受け取るステップ805で開始する。初期下流圧力値Pd0は、閉弁し、かつ、圧力がMFCのチャンバ全体にわたって一定であるときにMFCの上流圧力センサで測定した圧力に相当する。MFCは、上流圧力を測定する上流圧力センサを有するが、下流圧力を測定する下流圧力センサを有さない。
ステップ810では、コンピュータは、そのメモリにおいて、格納する下流圧力値Pを受け取った初期下流圧力値Pd0に設定する。Pd0は、開弁し、かつMFCの操作を開始する前のPの初期値を正確に反映している。
ステップ815では、コンピュータは、新しく測定した上流圧力値Pを圧力式MFCから受け取る。上流圧力は、MFCの動作中に変化する。上流圧力の最新の測定値が、MFCからコンピュータに提供される。
ステップ820では、コンピュータは、PとPとに基づいて、圧力式MFCにおける流れの状態が臨界であるか非臨界であるかを判定する。例えば、コンピュータは、式(1)または式(3)を用いて、流れの状態が臨界であるか非臨界であるかを判定する。本明細書に記載した式(1)〜(11)は、コンピュータに格納されている。
ステップ825では、コンピュータは、ステップ820で判定したように、流れの状態が臨界であるか非臨界であるかに基づいて、流量Qを算出する。例えば、流れの状態が臨界である場合、コンピュータは、式(2)を用いてQを算出する。流れの状態が非臨界である場合、コンピュータは、式(4)を単独で、または重み付けの式(7)〜(11)と組み合わせて用いて、Qを算出する。
ステップ830では、コンピュータは、格納した下流圧力値Pを、流量Qの算出値に基づいて更新する。例えば、コンピュータは、格納したP値を更新するために、式(5)を単独で、または式(6)と組み合わせて用いる。コンピュータは、Qの現在値と先に算出したQの値とを比較し、また、Pの現在値と先に算出したPの値とを比較して、QとPの算出値が収束しているかどうかを判定する。
ステップ835では、コンピュータは、PとQの算出値が収束しているかどうかを判定する。両方の値が収束している場合、プロセス800はステップ840に進む。少なくとも一方の値が収束していない場合、プロセス800はステップ815に戻り、PとQの値が収束するまでステップ815〜830を繰り返す。
ステップ840では、PとQの値が収束した後、コンピュータは、算出した流量Qに基づいて、圧力式質量流量コントローラを通る流れを制御する。例えば、コンピュータは、算出した流量と所望の流量とに基づいて、流量を増加または減少させる。ステップ840の後、プロセス800は終了する。
図9は、本技術のいくつかの実施例を実行する電子システム900を概念的に示す。例えば、電子システム900を配置することによって、コンピュータ600またはPID制御電子機器140を実装する。電子システム900は、コンピュータ(例えば、携帯電話やPDA)、または他の種類の電子機器である。そのような電子システムは、様々な種類のコンピュータ読取り可能媒体と、他の様々な種類のコンピュータ読取り可能媒体のためのインターフェースとを備える。電子システム900は、バス905と、プロセッサ910と、システムメモリ915と、読取り専用メモリ920と、永久記憶装置925と、入力装置インターフェース930と、出力装置インターフェース935と、ネットワークインターフェース940とを備える。
バス905は、電子システム900の多数の内部デバイスを通信可能に接続する、すべてのシステム、周辺装置、およびチップセットのバスを総称して表す。例えば、バス905は、プロセッサ910を、読取り専用メモリ920、システムメモリ915、および永久記憶装置925と通信可能に接続する。
これらの様々な記憶装置から、プロセッサ910は、本技術のプロセスを実行するために、実行すべき命令と処理すべきデータを取得する。プロセッサは、様々な実施例において、単一のプロセッサまたはマルチコアプロセッサを備える。
読取り専用メモリ(ROM)920は、プロセッサ910および電子システムの他のモジュールが必要とする静的データおよび命令を格納する。一方、永久記憶装置925は、読取り書込み記憶装置である。この装置は、電子システム900の電源が切られているときも、命令とデータを格納する不揮発性記憶装置である。本技術のいくつかの実施例においては、永久記憶装置925として、大容量記憶装置(例えば、磁気または光ディスク、およびそれに対応するディスクドライブ)が用いられる。
他の実施例においては、永久記憶装置925として、着脱可能な記憶装置(例えば、フロッピーディスク、フラッシュドライブ、およびそれに対応するディスクドライブ)が用いられる。永久記憶装置925と同様に、システムメモリ915は、読取り書込み記憶装置である。しかし、記憶装置925とは異なり、システムメモリ915は、ランダムアクセスメモリ等の揮発性の読取り書込み記憶装置である。システムメモリ915は、プロセッサが実行時に必要とする命令およびデータのいくつかを格納する。いくつかの実施例においては、本技術のプロセスを、システムメモリ915、永久記憶装置925、または読取り専用メモリ920に格納する。例えば、様々な記憶装置は、いくつかの実施例によれば、圧力式流量測定のための命令を含む。これらの様々な記憶装置から、プロセッサ910は、いくつかの実施例のプロセスを実行するために、実行すべき命令と処理すべきデータを取得する。
バス905はまた、入力装置インターフェース930と出力装置インターフェース935とに接続している。入力装置インターフェース930により、ユーザは、情報通信を行い、電子システムに対するコマンドを選択できる。入力装置インターフェース930と共に使用される入力装置として、例えば、英数字キーボードおよび位置指示装置(「カーソル制御装置」とも称される)が挙げられる。出力装置インターフェース935により、例えば、電子システム900が生成した画像を表示できる。出力装置インターフェース935と共に使用される出力装置として、例えば、プリンター、および陰極線管(Cathode Ray Tube:CRT)または液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display:LCD)等の表示装置が挙げられる。いくつかの実施例では、例えば、入力装置と出力装置とを兼ね備えるタッチスクリーン等の装置が含まれる。
最後に、図9に示すように、バス905はまた、ネットワークインターフェース940を介して、ネットワーク(図示せず)と電子システム900とを接続する。この方法では、電子システム900は、コンピュータのネットワーク(例えば、ローカルエリアネットワーク(Local Area Network:LAN)、広域ネットワーク(Wide Area Network:WAN)またはイントラネット)の一部、または、例えばインターネット等、複数のネットワークからなるネットワークの一部になり得る。電子システム900の任意またはすべての構成要素を本技術と共に用いることができる。場合によっては、電子システム900の構成要素のいくつかまたはすべては、MFC(例えば、MFC100、200、もしくは625)、またはMFCの一部に接続される。
上述した特徴および応用は、コンピュータ読取り可能記憶媒体(コンピュータ読取り可能媒体とも称される)に記録された一連の命令として特定されるソフトウェアプロセスとして、実施される。1つ以上のプロセッサ(例えば、1つ以上のプロセッサ、プロセッサのコア、または他の処理装置を含む)がこれらの命令を実行すると、その命令によって、プロセッサは命令が示す動作を実行する。コンピュータ読取り可能媒体として、例えば、CD−ROM、フラッシュドライブ、RAMチップ、ハードドライブ、EPROM等が挙げられるが、これらに限定されない。コンピュータ読取り可能媒体には、無線または有線接続により送信される搬送波および電子信号は含まれない。
本明細書において、「ソフトウェア」という用語は、読取り専用メモリ上に存在するファームウェア、または、例えばプロセッサによる処理用メモリに読み込まれることが可能なソリッドステートドライブ等、磁気記憶装置もしくはフラッシュストレージに格納されているアプリケーションの意味を含む。また、いくつかの実施例において、複数のソフトウェア技術は、別個のソフトウェア技術として存在しながら、より大きなプログラムの下位部分として実装され得る。いくつかの実施例において、複数のソフトウェア技術は、個別のプログラムとしても実施され得る。結局、本明細書に記載されるソフトウェア技術を連携して実装する個別のプログラムを任意に組み合わせることは、本技術の範囲内である。いくつかの実施例において、1つ以上の電子システムを動作させるために、ソフトウェアプログラムをインストールすると、そのソフトウェアプログラムは、ソフトウェアプログラムを動作させる1つ以上の特定の機械の実装を定義する。
コンピュータプログラム(プログラム、ソフトウェア、ソフトウェアアプリケーション、スクリプト、またはコードとしても知られる)は、コンパイルまたは翻訳された言語や宣言的または手続き的言語等を含む、任意の形式のプログラミング言語で書き込まれることができ、かつ、独立型プログラムとして、またはコンピュータ処理環境で使用するのに好適な、モジュール、コンポーネント、サブルーチン、オブジェクト、もしくは他の装置として、任意の形式で展開することができる。コンピュータプログラムは、ファイルシステム中のファイルに相当するが、必ずしもそうである必要はない。プログラムは、他のプログラムもしくはデータ(例えば、マーク付け言語ドキュメントに格納されている1つ以上のスクリプト)を保持するファイルの部分、当該プログラム専用の単一のファイル、または複数の協調ファイル(例えば、1つ以上のモジュール、サブプログラム、もしくはコード部分を格納するファイル)に格納される。コンピュータプログラムは、1つのコンピュータ上、または、1つのサイトに位置するか、もしくは複数のサイトにわたって分布し、通信ネットワークにより相互に接続している複数のコンピュータ上で実行されるよう展開される。
上述した、これらの機能を、デジタル電子回路、またはコンピュータソフトウェア、ファームウェア、もしくはハードウェアにおいて実装することができる。1つ以上のコンピュータプログラム製品を用いて、前記技術を実装することができる。プログラム可能なプロセッサおよびコンピュータを、モバイル装置の中に含むか、またはモバイル装置としてパッケージ化することができる。プロセスおよび論理フローを、1つ以上のプログラム可能なプロセッサおよび1つ以上のプログラム可能な論理回路によって実装することができる。一般的または特殊用途のコンピュータ処理装置、および記憶装置を、通信ネットワークを介して相互に接続することができる。
いくつかの実施例には、例えば、機械読取り可能もしくはコンピュータ読取り可能媒体にコンピュータプログラム命令を格納する、マイクロプロセッサ、記憶装置、およびメモリ等の(または、コンピュータ読取り可能記憶媒体、機械読取り可能媒体、もしくは機械読取り可能記憶媒体とも称される)電子部品が含まれる。そのようなコンピュータ読取り可能媒体の例として、RAM、ROM、読取り専用コンパクトディスク(Read-Only Compact Disc:CD−ROM)、追記型コンパクトディスク(Recordable Compact Disc:CD−R)、書き換え型コンパクトディスク(Rewritable Compact Disc:CD−RW)、読取り専用デジタル多用途ディスク(Read-Only Digital Versatile Discs)(例えば、DVD−ROM、二層DVD−ROM)、様々な追記型/書き換え型DVD(例えば、DVD−RAM、DVD−RW、DVD+RW等)、フラッシュメモリ(例えば、SDカード、ミニSDカード、マイクロSDカード等)、磁気またはソリッドステートハードドライブ、読取り専用および追記型Blu−Ray(登録商標)ディスク、超高密度光ディスク、その他の光学または磁気媒体、およびフロッピーディスクが挙げられる。コンピュータ読取り可能媒体は、少なくとも1つのプロセッサによって実行可能かつ様々な動作を実施するための一連の命令を含む、コンピュータプログラムを格納することができる。コンピュータプログラムまたはコンピュータコードの例として、例えばコンパイラによって翻訳される機械コード、および、解釈プログラムを用いて、コンピュータ、電子部品、またはマイクロプロセッサにより実行される、より高いレベルのコードを含むファイルが挙げられる。
上記の説明は、主として、ソフトウェアを実行するマイクロプロセッサまたはマルチコアプロセッサについて言及するものであるが、いくつかの実施例は、例えば、特定用途向け集積回路(Application Specific Integrated Circuits:ASIC)またはフィールドプログラマブルゲートアレイ(Field Programmable Gate Array:FPGA)等、1つ以上の集積回路によって実装される。いくつかの実施例においては、そのような集積回路は、その回路上に格納される命令を実行する。
本明細書および本願のいずれの請求項において用いられるように、「コンピュータ」、「サーバ」、「プロセッサ」、および「メモリ」という用語すべては、電子装置または他の技術装置を指す。これらの用語には、人、または人のグループは含まれない。本明細書のために、表示(displayまたはdisplaying)という用語は、電子装置上に表示することを意味する。本明細書および本願のいずれの請求項において用いられるように、「コンピュータ読取り可能媒体(類)」(computer readable mediumおよびcomputer readable media)という用語は、コンピュータが読取り可能な形式で情報を格納する、有形の物理オブジェクトにもっぱら制限される。これらの用語には、無線信号、有線でダウンロードされる信号、および他の一時性信号のいずれも含まれない。
ユーザとの対話のために、本明細書に記載した主題の実施例を、ユーザへの情報を表示するための表示装置、例えば陰極線管(CRT)または液晶表示(LCD)モニターと、ユーザによるコンピュータへの入力を可能にするキーボードおよびポインティングデバイス、例えばマウスまたはトラックボールと、を有するコンピュータ上に実装することができる。ユーザとの対話のために、他の種類の装置を用いてもよく、例えば、ユーザに提供されるフィードバックは、視覚フィードバック、聴覚フィードバック、または触覚フィードバック等、任意の形式の感覚フィードバックであり、また、ユーザからの入力は、音響入力、音声入力、あるいは触覚入力を含む任意の形式で受け取ることができる。さらに、ユーザが使用する装置にドキュメントを送信するとともにユーザが使用する装置からドキュメントを受け取ることによって、コンピュータはユーザと対話できる。例えば、ユーザのクライアント装置上のウェブブラウザから受け取った要求に応じて、そのウェブブラウザにウェブページを送信することによって、コンピュータはユーザと対話できる。
本明細書に記載された内容をコンピューティングシステムにおいて実装することができる。前記コンピューティングシステムには、例えばデータサーバとしてのバックエンドコンポーネントか、アプリケーションサーバ等のミドルウェアコンポーネントか、本明細書に記載した主題の実施例とユーザとの対話を可能にするグラフィカルユーザインターフェースまたはウェブブラウザを有するクライアントコンピュータ等のフロントエンドコンポーネントか、1つ以上のそれらバックエンド、ミドルウェア、もしくはフロントエンドコンポーネントの任意の組み合わせのいずれかが含まれる。そのシステムのコンポーネントは、任意の形式または媒体のデジタルデータ通信、例えば通信ネットワークによって、相互に接続される。通信ネットワークの例として、ローカルエリアネットワーク(LAN)、広域ネットワーク(WAN)、インターネットワーク(例えばインターネット)、およびピアツーピアネットワーク(例えばアドホックピアツーピアネットワーク)が挙げられる。
コンピューティングシステムは、クライアントとサーバとを含むことができる。クライアントとサーバは、一般に、互いに離れており、通常、通信ネットワークを介して対話する。クライアントとサーバの関係は、それぞれのコンピュータ上で作動し、かつ互いに対してクライアントとサーバの関係を有するコンピュータプログラムによって生じる。開示した主題のいくつかの態様において、サーバは(例えば、クライアントデバイスと対話するユーザにデータを表示し、そのユーザからユーザ入力を受け取る目的で)クライアント装置にデータ(例えばHTMLページ)を送信する。クライアント装置で作成したデータ(例えば、ユーザとの対話の結果)は、サーバにおいてクライアント装置から受け取ることができる。
開示したプロセスにおけるステップの特定の順序または階層のいずれも、手法を例示したものであることが理解されよう。設計上の好みに基づき、プロセスにおけるステップの特定の順序または階層を再配置してもよく、または、図示したすべてのステップを実行してもよいことが理解されよう。ステップのいくつかを同時に実行してもよい。例えば、ある状況では、マルチタスク処理や並列処理は有利となる。さらに、上記に例示した様々なシステム部品は、分離していることが必要であるように理解されるべきではなく、記載したプログラム部品およびシステムは、一般に、単一のソフトウェア製品に統合されるか、または複数のソフトウェア製品にパッケージ化されるものとして理解されるべきである。
上述した、構成要素、ステップ、特徴、目的、利益、および利点は、単なる例示である。それらのいずれも、または、それらに関する説明も、いかなる方法においても保護の範囲を限定するようには意図されていない。数多くの他の実施形態も考えられる。それらの実施形態には、より少ない、追加の、および/または異なった、構成要素、ステップ、特徴、目的、利益、および/または利点を有する実施形態が含まれる。また、それらの実施形態には、構成要素やステップが様々に配置されたり、順序づけられたりする実施形態も含まれる。
これらの態様への様々な改変は容易に明らかとなり、本明細書に定義された一般的な原理を、他の態様に適用してもよい。よって、本請求項は、本明細書に示した態様に制限されるのではなく、請求項の文言と十分に整合する範囲内にあることが意図されており、単数の要素への言及は、別段既定がないかぎり、「1つ、および1つのみ」を意味するとは意図されておらず、むしろ「1つ以上」を意味する。別段既定がないかぎり、「いくつか」という用語は、1つ以上を表す。男性形代名詞(例えば、彼の)には、女性形および中性形代名詞(例えば、彼女の、その)が含まれ、その逆の場合も同様である。表題および副題があれば、それらは利便性のためのみに用いられているのであって、本技術を限定するものではない。
例えば、「態様」という語句は、その態様が本技術に不可欠であることを示唆するものではなく、また、その態様は本技術のすべての構成に適用されることを示唆するものでもない。態様に関連する開示は、すべての構成、または1つ以上の構成に適用されてもよい。例えば、態様という語句は、1つ以上の態様を表し、その逆の場合も同様である。例えば「構成」という語句は、そのような構成が本技術にとって不可欠である、また、そのような構成が本技術のすべての構成に当てはまることを示唆するものでもない。構成に関連する開示は、すべての構成、または1つ以上の構成に当てはまる。例えば、構成という語句は、1つ以上の構成を表し、その逆の場合も同様である。
本開示で引用された論文、特許、特許出願、および他の出版物はすべて、参照により本明細書に組み込まれる。
「〜のための手段」という語句が請求項において使用される場合、その語句に対応する記載された構造および材料、ならびにそれらの均等物を包含することが意図されており、そのように解釈されるべきである。同様に、「〜のためのステップ」という語句が請求項において使用される場合、その語句に対応する記載された行為、ならびにそれらの均等物を包含することが意図されており、そのように解釈されるべきである。請求項において、これらの語句が欠如していることで、その請求項が、対応する構造、材料、もしくは行為のいずれか、またはそれらの均等物に限定されてしまうことは意図されておらず、そのように解釈されるべきでないことを意味する。
保護の範囲は、以下に記載される特許請求の範囲によってのみ限定される。その範囲は、本明細書、および続く出願経過に照らして解釈されたとき、特定の意味が定められている場合以外は、特許請求の範囲において使用される文言の通常の意味と一致しているのと同じくらい広く、かつ構造的な均等物および機能的な均等物をすべて包含することが意図されており、そのように解釈されるべきである。
ある実体または行為を他と区別するためだけに、「第1の」および「第2の」等、関係を表す用語を使用しているが、これらの間になんらかの実際の関係または順序を必ずしも必要または示唆するものではない。「備える/含む」(comprises、comprising)という用語、およびその他の変化形が、本明細書または請求項中の構成要素のリストに関連して用いられる場合、そのリストは他の構成要素を排除するものではなく、他の構成要素を含んでもよいことを示唆するよう意図されている。同様に、「a」または「an」が前に付される構成要素にはそれ以上の制限はなく、同一種類の付加的な構成要素の存在を排除するものではない。
米国特許法101条、102条、または103条の要件を満たさない主題を包含することを意図する請求項はなく、請求項がそのような主題を包含すると解釈されるべきではない。意図せずに包含されるそのような主題については、請求を放棄する。本段落で述べた点を除き、請求項に列挙されているかどうかにかかわらず、記述または図示した内容は、構成要素、ステップ、特徴、目的、利益、利点、または均等物のいずれも、公に対し献呈されることを意図せず、またそのように献呈されると解釈されるべきではない。
読み手が本技術の開示の性質を直ちに確認することに役立つように、要約書を提供する。要約書は、それが請求項の範囲または意味の限定に用いられることはないという理解のもと提出されている。さらに、前述の詳細な説明中の多様な特徴を、多様な実施形態においてひとまとめにし、開示内容の無駄がないようにしている。この開示方法は、請求した実施形態が各請求項に明記されているよりも多くの特徴を要件とする必要があると解釈されるべきではない。以下の請求項が反映するように、むしろ、独創的な主題は、開示された単一の実施形態のすべての特徴よりも少なく存在する。このように、各請求項がそれぞれ別個に請求される主題に基づくものとして、以下の請求項を詳細な説明に援用する。

Claims (20)

  1. 流体流れの圧力式流量測定のためのシステムであって、
    流量制御弁と、流量制限器と、前記流量制限器の上流に圧力センサとを備え、前記流量制御弁、前記流量制限器、および前記圧力センサは流れに沿って配置されている、圧力式質量流量コントローラ(MFC)と、
    前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)に接続されている1つ以上のプロセッサと、
    前記1つ以上のプロセッサに接続され、命令を含むメモリであって、前記命令が前記1つ以上のプロセッサによって実行されると、前記1つ以上のプロセッサが、
    (i)前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)から、上流圧力値Pを受け取り、
    (ii)受け取った前記上流圧力値Pに基づいて、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)の下流圧力値Pを計算し、
    (iii)受け取った前記上流圧力値Pと計算した前記下流圧力値Pとに基づいて、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)の流量Qを計算し、
    (iv)計算した前記流量Qに基づいて前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)を通る流れを制御する、メモリと、
    を備えるシステム。
  2. 前記流量制限器は、フローノズルまたはオリフィスを備える、請求項1に記載のシステム。
  3. 前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)は、前記流量制限器の上流の前記圧力Pを測定する圧力センサを備え、かつ、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)は、前記流量制限器の下流の前記圧力Pを測定する下流圧力センサを有さない、請求項1に記載のシステム。
  4. 前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)は、前記流量制限器の上流の前記圧力Pを測定する圧力センサを備え、かつ、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)は、前記流量制限器の下流の前記圧力Pを測定する下流圧力センサを有さない、請求項1に記載のシステム。
  5. 前記下流圧力Pを計算するための前記命令および前記流量Qを計算するための前記命令は、
    を初期値Pd0に設定するための命令と、前記QとPの値があらかじめ定義した誤差しきい値内に収束するまで前記流量QおよびPを繰り返し計算するための命令と、を含み、
    前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)から、更新された上流圧力値Pを受け取り、
    とPとに基づいて、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)における流れの状態が臨界であるか非臨界流であるかを判定し、
    前記流れの状態が臨界であるか非臨界流であるかに基づいてQを計算し、前記Qの計算値に基づいてPを更新する、
    請求項1に記載のシステム。
  6. 前記Qの計算値に基づいてPを更新するための命令は、式P=Pd0+f(Q,P,γ,M)によって前記下流圧力値Pを計算するための命令を含み、前記式中、Pd0は、初期下流圧力を表し、γは流れるガスの比熱比を表し、Mは前記流れるガスの分子量を表し、f()はQ,P,γ,Mの関数を表す、
    請求項5に記載のシステム。
  7. fは、Qの一次関数、Pの一次関数、γの一次関数、かつMの一次関数を表す、請求項6に記載のシステム。
  8. 前記流れの状態が臨界であるか非臨界であるかを判定するための前記命令は、P/Pが[2/(γ+1)]^[γ/(γ−1)]未満の場合、流れの状態は臨界であると判定し、P/Pが[2/(γ+1)]^[γ/(γ−1)]以上の場合、流れの状態は非臨界であると判定するための命令であって、前記式中、γは流れるガスの比熱比を表す命令を含む、請求項5に記載のシステム。
  9. Qを計算するための前記命令は、前記流れの状態が臨界である場合、臨界流れの式を用いてQを計算し、前記流れの状態が非臨界である場合、非臨界流れの式を用いてQを計算するための命令を含む、請求項5に記載のシステム。
  10. Qを計算するための前記命令は、前記流れの状態が非臨界であると判定すると、臨界流れの式を用いて臨界流量Qcfを計算し、非臨界流れの式を用いて非臨界流量Qncfを計算し、かつ、重み係数wと、前記臨界流量Qcfと、前記非臨界流量Qncfとに基づいて、Qを計算するための命令であって、Q=wcf+(1−w)ncfである命令を含む、請求項5に記載のシステム。
  11. 前記重み係数wは、w=f(Q,P,P,γ,M)によって計算され、前記式中、γは流れるガスの比熱比を表し、Mは前記流れるガスの分子量を表し、f()はQ,P,P,γ,Mの関数を表す、請求項10に記載のシステム。
  12. /PがPrmin未満である場合、w=1であり、P/PがPrmaxを超える場合、w=0であり、P/PがPrminを超えかつPrmax未満である場合、w=1−[(P/P−Prmin)/(Prmax−Prmin)]^Nであり、前記式中、PrminおよびPrmaxは、0〜1の変数であって、流れるガスの比熱比γと、流量Qと、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)の前記流量制限オリフィスのノズルオリフィスサイズとに基づいて決定される、請求項10に記載のシステム。
  13. Nは、γと、Qと、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)の前記流量制限オリフィスの前記ノズルオリフィスサイズとに基づいて決定される正の指数関数の係数である、請求項12に記載のシステム。
  14. 前記メモリはさらなる命令を含み、前記命令が前記1つ以上のプロセッサに実行されると、前記1つ以上のプロセッサは、
    前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)の初期下流圧力値Pd0を受け取り、
    格納する下流圧力値Pを、受け取った前記初期下流圧力値Pd0に設定し、
    QおよびPの値が既定の誤りしきい値内に収束するまで、前記流量QおよびPの計算を繰り返し、
    前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)から、上流圧力値Pを受け取り、
    とPとに基づいて、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)における流れの状態が臨界であるか非臨界であるかを判定し、
    前記流れの状態が臨界であるか非臨界であるかに基づいてQを計算し、
    前記Qの計算値に基づいてPを更新し、
    計算した前記流量Qおよび格納した前記下流圧力値Pがそれぞれの既定の誤りしきい値内の値に収束した後に、前記1つ以上のプロセッサが、計算した前記流量Qに基づいて前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)を通る流れを制御する、
    請求項1に記載のシステム。
  15. 前記初期下流圧力値Pd0は、ガスが前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)を流れ始める前に測定した上流圧力値に相当する、請求項14に記載のシステム。
  16. 命令を含む非一時的な機械読取り可能媒体であって、前記命令が機械に実行されると、前記機械は、
    圧力式質量流量コントローラ(MFC)から上流圧力値Pを受け取り、受け取った前記上流圧力値Pに基づいて、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)の下流圧力値Pを計算し、
    受け取った前記上流圧力値Pと計算した前記下流圧力値Pとに基づいて、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)の流量Qを計算し、
    計算した前記流量Qに基づいて、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)を通る流れを制御し、
    前記MFCは、流量制御弁と、前記流量制御弁の流路上流に配置される上流圧力センサと、前記流路の下流に配置される流量制限オリフィスとを備える、
    媒体。
  17. 前記機械読取り可能命令は、
    前記機械が、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)の初期下流圧力値Pd0を受け取り、
    格納する下流圧力値Pを、受け取った前記初期下流圧力値Pd0に設定し、
    前記機械が、計算した流量QおよびPの値がそれぞれの既定の誤りしきい値内の前値に収束するまで、計算した前記流量QおよびPの判定を繰り返し、
    前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)から、上流圧力値Pを受け取り、
    とPとに基づいて、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)における流れの状態が臨界であるか非臨界であるかを判定し、
    前記流れの状態が臨界であるか非臨界であるかに基づいてQを計算し、前記Qの計算値に基づいてPを更新し、
    計算した前記流量Qおよび格納した前記下流圧力値Pがそれぞれの既定の誤りしきい値内の値に収束した後に、前記機械が、計算した前記流量Qに基づいて前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)を通る流れを制御するための、
    命令をさらに含む、請求項16に記載の非一時的な機械読取り可能媒体。
  18. 圧力式質量流量コントローラ(MFC)を介する圧力式流量制御の方法であって、
    圧力式質量流量コントローラ(MFC)の初期下流圧力値Pd0を受け取る工程と、
    格納する下流圧力値Pを、受け取った前記初期下流圧力値Pd0に設定する工程と、
    QおよびPの値が既定の誤りしきい値内に収束するまで、前記流量QおよびPの計算を繰り返す工程と、
    前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)から、上流圧力値Pを受け取る工程と、
    とPとに基づいて、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)における流れの状態が臨界であるか非臨界であるかを判定する工程と、
    前記流れの状態が臨界であるか非臨界であるかに基づいてQを算出し、前記Qの計算値に基づいてPを更新する工程と、
    計算した前記流量Qおよび格納した前記下流圧力値Pがそれぞれの既定の誤りしきい値内の値に収束した後に、計算した前記流量Qに基づいて前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)を通る流れを制御する工程と、
    を含み、
    前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)は、流量制御弁と、流量制限器と、前記流量制限器の上流に圧力センサとを備え、前記流量制御弁、前記流量制限器、および前記圧力センサは流れに沿って配置されている、
    方法。
  19. 前記流量制限器は、フローノズルまたはオリフィスを備える、請求項18に記載の方法。
  20. 流体流れの圧力式流量測定のためのシステムであって、
    (A)共通マニホールドによって接続されている2つ以上の圧力式質量流量コントローラ(MFC)であって、
    前記MFCは各々、流量制御弁と、流量制限器と、前記流量制限器の上流に圧力センサとを備え、前記流量制御弁、前記流量制限器、および前記圧力センサは、流れに沿って配置され、前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)には、1つ以上のプロセッサが接続され、
    前記1つ以上のプロセッサにはメモリが接続され、前記メモリは命令を含み、前記命令は、前記1つ以上のプロセッサに実行されると、前記1つ以上のプロセッサは、受け取った前記上流圧力値Pと前記下流圧力値Pとに基づいて、流量Qを計算し、計算した前記流量Qに基づいて前記圧力式質量流量コントローラ(MFC)を通る流れを制御する、
    2つ以上の圧力式質量流量コントローラ(MFC)と、
    (B)前記共通マニホールドにおける圧力を測定し、かつ前記共通マニホールドにおける前記測定圧力を示す出力信号を生成するように機能する下流圧力センサであって、前記下流圧力センサは、前記MFCの1つ以上に接続され、前記1つ以上のMFCに前記出力信号を供給するよう機能する、下流圧力センサと、
    を備えるシステム。
JP2018529497A 2015-08-31 2016-08-23 圧力式流量測定のためのシステム、非一時的な機械読取り可能媒体及び圧力式流量制御の方法 Active JP6781758B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201562212212P 2015-08-31 2015-08-31
US62/212,212 2015-08-31
PCT/US2016/048126 WO2017040100A1 (en) 2015-08-31 2016-08-23 Method and apparatus for pressure-based flow measurement in non-critical flow conditions

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018526757A true JP2018526757A (ja) 2018-09-13
JP6781758B2 JP6781758B2 (ja) 2020-11-04

Family

ID=58098062

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018529497A Active JP6781758B2 (ja) 2015-08-31 2016-08-23 圧力式流量測定のためのシステム、非一時的な機械読取り可能媒体及び圧力式流量制御の方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10514712B2 (ja)
EP (1) EP3344953B1 (ja)
JP (1) JP6781758B2 (ja)
KR (1) KR102579543B1 (ja)
CN (1) CN108351240B (ja)
TW (1) TWI693494B (ja)
WO (1) WO2017040100A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7288463B2 (ja) 2018-05-07 2023-06-07 エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド 多流路質量流量・質量流量比制御システムのための方法及び装置

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN118151685A (zh) * 2015-07-10 2024-06-07 关键系统公司 用于气体流量控制的方法和设备
US10684159B2 (en) * 2016-06-27 2020-06-16 Applied Materials, Inc. Methods, systems, and apparatus for mass flow verification based on choked flow
US10823598B2 (en) * 2017-03-23 2020-11-03 Honeywell International Inc. Apparatus and method for creating inferential process flow measurements using other process measurements
US11105664B2 (en) * 2017-03-23 2021-08-31 Honeywell International Inc. Apparatus and method for creating inferential process flow measurements using flow restrictor and upstream and downstream pressure measurements
JP7049684B2 (ja) * 2017-03-28 2022-04-07 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置および流量制御方法
JP2020021176A (ja) * 2018-07-30 2020-02-06 株式会社堀場エステック 流量制御装置
US10725484B2 (en) 2018-09-07 2020-07-28 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus for pulse gas delivery using an external pressure trigger
JP2021536577A (ja) 2018-09-18 2021-12-27 スウェージロック カンパニー 流体監視モジュール構造
WO2020061127A1 (en) 2018-09-19 2020-03-26 Swagelok Company Flow restricting fluid component
US11669111B2 (en) * 2019-09-13 2023-06-06 Illinois Tool Works Inc. Valve assembly and system used to control flow rate of a fluid
US12000723B2 (en) * 2022-02-18 2024-06-04 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus for pressure based mass flow control

Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05121336A (ja) * 1991-06-28 1993-05-18 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 有機金属気相成長装置
JPH05263715A (ja) * 1992-03-19 1993-10-12 Hitachi Ltd 内燃機関の排気ガス還流制御装置
JPH09282007A (ja) * 1996-04-09 1997-10-31 Mitsubishi Electric Corp 圧力制御系および流量制御系の調整装置および制御検証装置,ならびに流量制御装置
JPH11259140A (ja) * 1998-03-13 1999-09-24 Kokusai Electric Co Ltd 流量制御装置
JP2003504749A (ja) * 1999-07-10 2003-02-04 ミリポール・コーポレイシヨン デジタルマスフローコントローラのためのシステムおよび方法
JP2003195948A (ja) * 2001-12-28 2003-07-11 Tadahiro Omi 改良型圧力式流量制御装置
JP2004517396A (ja) * 2000-12-26 2004-06-10 エムケーエス インスツルメント,インコーポレーテッド 圧力型マスフローコントローラシステム
JP2004533049A (ja) * 2001-04-24 2004-10-28 ユニット・インストゥルメンツ・インコーポレーテッド 質量流量コントローラのシステムおよび方法
JP2005534110A (ja) * 2002-07-19 2005-11-10 セレリティー グループ,インコーポレイテッド マスフローコントローラにおける圧力補償のための方法および装置
JP2008166397A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Sony Corp 気相成長装置および気相成長方法
JP2009054094A (ja) * 2007-08-29 2009-03-12 Ckd Corp 流量検定システム及び流量検定方法
JP2009109295A (ja) * 2007-10-29 2009-05-21 Ckd Corp 流量検定故障診断装置、流量検定故障診断システム、流量検定故障診断方法及び流量検定故障診断プログラム
JP2011515660A (ja) * 2008-03-18 2011-05-19 エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド 複数の流入口を備えた高精度質量流量検証器
WO2011078242A1 (ja) * 2009-12-25 2011-06-30 株式会社堀場エステック マスフローコントローラシステム
JP2012002184A (ja) * 2010-06-18 2012-01-05 Honda Motor Co Ltd 内燃機関のegr制御装置
JP2013088945A (ja) * 2011-10-14 2013-05-13 Horiba Stec Co Ltd 流量制御装置、流量測定機構、又は、当該流量測定機構を備えた流量制御装置に用いられる診断装置及び診断用プログラム
WO2014152755A2 (en) * 2013-03-14 2014-09-25 Christopher Max Horwitz Pressure-based gas flow controller with dynamic self-calibration
JP2015509250A (ja) * 2012-01-20 2015-03-26 エム ケー エス インストルメンツインコーポレーテッドMks Instruments,Incorporated 質量流量コントローラを通る流量を実時間で監視するシステムおよび方法
JP2015530668A (ja) * 2012-09-25 2015-10-15 エム ケー エス インストルメンツインコーポレーテッドMks Instruments,Incorporated 圧力式質量流量制御器の自己検証方法および装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1265479A1 (ru) * 1984-06-25 1986-10-23 Волгоградский Ордена Трудового Красного Знамени Политехнический Институт Способ определени критического расхода газа в капилл рах
US6158679A (en) * 1997-08-15 2000-12-12 Fujikin Incorporated Orifice for pressure type flow rate control unit and process for manufacturing orifice
JP4082901B2 (ja) * 2001-12-28 2008-04-30 忠弘 大見 圧力センサ、圧力制御装置及び圧力式流量制御装置の温度ドリフト補正装置
US7216019B2 (en) 2004-07-08 2007-05-08 Celerity, Inc. Method and system for a mass flow controller with reduced pressure sensitivity
JP2008510147A (ja) * 2004-08-13 2008-04-03 エンテグリス インコーポレイテッド 流通装置の較正のためのシステムおよび方法
US7150201B2 (en) * 2004-12-15 2006-12-19 Celerity, Inc. System and method for measuring flow
US7474968B2 (en) * 2005-03-25 2009-01-06 Mks Instruments, Inc. Critical flow based mass flow verifier
JP4856905B2 (ja) 2005-06-27 2012-01-18 国立大学法人東北大学 流量レンジ可変型流量制御装置
JP4820698B2 (ja) * 2006-07-03 2011-11-24 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置の絞り機構下流側バルブの作動異常検出方法
US7706925B2 (en) * 2007-01-10 2010-04-27 Mks Instruments, Inc. Integrated pressure and flow ratio control system
US7826986B2 (en) 2008-09-26 2010-11-02 Advanced Energy Industries, Inc. Method and system for operating a mass flow controller
WO2013134141A2 (en) 2012-03-07 2013-09-12 Illinois Tool Works Inc. System and mehtod for using a model for improving control of a mass flow controller

Patent Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05121336A (ja) * 1991-06-28 1993-05-18 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 有機金属気相成長装置
JPH05263715A (ja) * 1992-03-19 1993-10-12 Hitachi Ltd 内燃機関の排気ガス還流制御装置
JPH09282007A (ja) * 1996-04-09 1997-10-31 Mitsubishi Electric Corp 圧力制御系および流量制御系の調整装置および制御検証装置,ならびに流量制御装置
JPH11259140A (ja) * 1998-03-13 1999-09-24 Kokusai Electric Co Ltd 流量制御装置
JP2003504749A (ja) * 1999-07-10 2003-02-04 ミリポール・コーポレイシヨン デジタルマスフローコントローラのためのシステムおよび方法
JP2004517396A (ja) * 2000-12-26 2004-06-10 エムケーエス インスツルメント,インコーポレーテッド 圧力型マスフローコントローラシステム
JP2004533049A (ja) * 2001-04-24 2004-10-28 ユニット・インストゥルメンツ・インコーポレーテッド 質量流量コントローラのシステムおよび方法
JP2003195948A (ja) * 2001-12-28 2003-07-11 Tadahiro Omi 改良型圧力式流量制御装置
JP2005534110A (ja) * 2002-07-19 2005-11-10 セレリティー グループ,インコーポレイテッド マスフローコントローラにおける圧力補償のための方法および装置
JP2008166397A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Sony Corp 気相成長装置および気相成長方法
JP2009054094A (ja) * 2007-08-29 2009-03-12 Ckd Corp 流量検定システム及び流量検定方法
JP2009109295A (ja) * 2007-10-29 2009-05-21 Ckd Corp 流量検定故障診断装置、流量検定故障診断システム、流量検定故障診断方法及び流量検定故障診断プログラム
JP2011515660A (ja) * 2008-03-18 2011-05-19 エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド 複数の流入口を備えた高精度質量流量検証器
WO2011078242A1 (ja) * 2009-12-25 2011-06-30 株式会社堀場エステック マスフローコントローラシステム
JP2012002184A (ja) * 2010-06-18 2012-01-05 Honda Motor Co Ltd 内燃機関のegr制御装置
JP2013088945A (ja) * 2011-10-14 2013-05-13 Horiba Stec Co Ltd 流量制御装置、流量測定機構、又は、当該流量測定機構を備えた流量制御装置に用いられる診断装置及び診断用プログラム
JP2015509250A (ja) * 2012-01-20 2015-03-26 エム ケー エス インストルメンツインコーポレーテッドMks Instruments,Incorporated 質量流量コントローラを通る流量を実時間で監視するシステムおよび方法
JP2015530668A (ja) * 2012-09-25 2015-10-15 エム ケー エス インストルメンツインコーポレーテッドMks Instruments,Incorporated 圧力式質量流量制御器の自己検証方法および装置
WO2014152755A2 (en) * 2013-03-14 2014-09-25 Christopher Max Horwitz Pressure-based gas flow controller with dynamic self-calibration

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7288463B2 (ja) 2018-05-07 2023-06-07 エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド 多流路質量流量・質量流量比制御システムのための方法及び装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP3344953A4 (en) 2019-05-08
EP3344953B1 (en) 2021-07-28
KR102579543B1 (ko) 2023-09-18
TW201723713A (zh) 2017-07-01
CN108351240B (zh) 2020-10-20
KR20180037282A (ko) 2018-04-11
WO2017040100A1 (en) 2017-03-09
TWI693494B (zh) 2020-05-11
JP6781758B2 (ja) 2020-11-04
CN108351240A (zh) 2018-07-31
US10514712B2 (en) 2019-12-24
US20170060143A1 (en) 2017-03-02
EP3344953A1 (en) 2018-07-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018526757A (ja) 非臨界流れ状態での圧力式流量測定の方法および装置
WO2006020870A1 (en) System and method for calibration of a flow device
US20130103370A1 (en) Pipeline flow modeling method
US11709080B2 (en) Flow rate estimation for mass flow controller
JP7455113B2 (ja) マスフローコントローラおよびコントローラアルゴリズム
JP6220699B2 (ja) 流量制御装置及び流量制御装置用プログラム
US20170153357A1 (en) Accuracy of water break-through time prediction
Cyr et al. Approaches for adjoint-based a posteriori analysis of stabilized finite element methods
Templeton et al. A predictive wall model for large-eddy simulation based on optimal control techniques
US20190235128A1 (en) Determination of virtual process parameters
JP2020184340A (ja) 高精度センサ及び高度診断システムを有するマスフローコントローラ
US11860018B2 (en) Rate-of-change flow measurement device
Changklom et al. Redundant flow estimation methods for robust hydraulic control in water supply networks
US20210355814A1 (en) Method for estimating wellbore compressibility
US20180196897A1 (en) Method And Apparatus For Production Logging Tool (PLT) Results Interpretation
JP7401528B2 (ja) マスフローコントローラ、コントローラアルゴリズム、および設定点フィルタ
Willeitner et al. Montana flume flow corrections under submerged flow
US20170219393A1 (en) Vapor On Demand Systems and Methods
US20240176932A1 (en) Continuous online validation of process measurements in digital twins
US20220215230A1 (en) Soft-sensor to measure ph of treated seawater
Moreno et al. Determinación del coeficiente de fricción de Darcy-Weisbach mediante la utilización del método de aproximación Newton-Raphson para aplicaciones Android 4.0
Eskin An engineering analysis of transient laminar flows in long microchannels

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190514

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200417

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200512

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200812

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200929

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20201016

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6781758

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250