JP7288463B2 - 多流路質量流量・質量流量比制御システムのための方法及び装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 81
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 217
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 69
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 9
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 23
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 10
- 230000006870 function Effects 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000002790 cross-validation Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 238000003913 materials processing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
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- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
- G05D7/0641—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means
- G05D7/0658—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means the plurality of throttling means being arranged for the control of a single flow from a plurality of converging flows
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- G05—CONTROLLING; REGULATING
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- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
- G05D7/0641—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means
- G05D7/0652—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means the plurality of throttling means being arranged in parallel
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- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
- G05D7/0641—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means
- G05D7/0664—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means the plurality of throttling means being arranged for the control of a plurality of diverging flows from a single flow
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- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/05—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
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- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/05—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
- G01F1/34—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure
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Description
Pd,i=fPd(Pd,Qt,Vi,Li) (1)
(式中、fPdは、前記共有流路に沿った位置に離設されている前記下流側圧力センサ(例えば、共有流路221に沿った位置224にある圧力センサ260)で検出された下流側共有圧力Pd、装置内の総流量Qt(すなわち、前記共有流路内の流量)、ならびに前記i番目の流路の、前記制限体から前記第2の位置にある共有圧力センサまでの容積Vi及び長さLiの関数である。)により推定することができる。
fPd(Pd,Qt,Vi,Li)=ki,1×Pd+ki,2×Qt+ki,3×Vi+ki,4×Li
(2)
(式中、ki,1、ki,2、ki,3及びki,4は、経験則的に又は実験で得られた線形係数である。)
として得られたものであり得る。
Qi=fQ(Pu,i,Pd,i,Ai,γ,M) (3)
として記述することが可能である。
(式中、Ciはi番目の流量制限体の流出係数であり、Rは一般気体定数であり、Tはガスの温度である。)
(式中、diはi番目の管の直径であり、Liはi番目の管の長さであり、μはガスの粘度である。)
Pu,j=fPu(Pu,Qt,Vj,Lj) (6)
(式中、fPuは、前記共有流路に沿った上流側位置に離設されている前記上流側圧力センサ(例えば、共有流路421に沿って流量制限体450の上流側位置424にある圧力センサ460)で検出された上流側共有圧力Pu、装置内の総流量Qt(すなわち、前記共有流路(例えば、流路421)内の流量)、ならびに前記j番目の流路の、前記流量制限体から前記上流側位置にある前記共有圧力センサまでの容積Vj及び長さLjの関数である。)により推定することができる。
fPu(Pu,Qt,Vj,Lj)=kj,1×Pu+kj,2×Qt+kj,3×Vj+kj,4×Lj
(7)
(式中、kj,1、kj,2、kj,3及びkj,4は、経験則的に又は実験で得られた線形係数である。)
として得られたものであり得る。前記MFCSコントローラは、さらに、これらの圧力計算値を基に、前記流路内の質量流量を前述の式(3)および/または式(4)もしくは式(5)に従って推定し得る。
(1)全ての上流側弁(流入弁)630を閉じて、全ての下流側弁(流出弁)631を開く;
(2)流路内のシステム圧力を(例えば、下流側弁631が開いた1つ又は複数の流路に1つ又は複数のポンプを直接又は間接的に接続することによって)排気するとともに共有圧力センサの読取値を監視する;
(3)前記システム圧力が所定の低圧閾値にまで低下すると、全ての下流側弁631を閉じる;
(4)流入側のi番目の質量流量流路について(例えば、図6に示す1番目のガス源からの)質量流量設定点を設定し、コントローラでi番目の上流側弁630を開いて質量流量(圧力ベースの流量センサで測定される質量流量Qm)が当該流量設定点に調整されるよう制御する;
(5)共有圧力センサで前記システム圧力を測定し、かつ、ガスの温度を測定する;
(6)圧力上昇量の手法によって、実際の質量流量Qaを計算する(すなわち、Qa=V×Tstp×[d(P/T)/dt](式中、Vは、i番目の上流側弁630と残り全ての下流側弁(なお、残り全ての弁が閉じていることを前提とする)との間にかけての総システム容積である。));
(7)i番目の上流側弁630を閉じるとともに全ての下流側弁を開き、前記システム圧力を排気する;
(8)所与の用途で想定される、i番目の流路の全流量範囲をカバーするように、様々な流量設定点で(3)~(7)を繰返し行う;
(9)実際の流量測定値(Qa)および流量測定値(Qm)を、流入側のi番目の流路の校正データとして記憶する;
(10)流入側の次の流路についても(1)~(9)を行い、これを流入側の全ての流路が校正されるまで繰り返す;
(11)全ての上流側弁630及び下流側弁631を閉じる;
(12)j番目の下流側弁(流出弁)631を開く;
(13)流入側のk番目の流路に対して流量設定点を設定し、質量流量を安定化させる;
(14)流入側のk番目の流路の流量測定値Qaおよび流出側のj番目の流路の流量測定値Qmの両方を記憶する;
(15)流出側のk番目の流路の全流量範囲がカバーされるように流入側のj番目の流路の流量設定点を様々なものにして、(11)~(14)を繰返し行う;
(16)実際の流量測定値(Qa)および流量測定値(Qm)を、流出側のj番目の流路の校正データとして記憶する;
(17)流入側の次の流路についても(11)~(16)を行い、これを流出側の全ての流路が校正されるまで繰り返す。
(1)全ての上流側弁630および下流側弁631を閉じる;
(2)流入側のi番目の流路に対して流量設定点を設定するとともにj番目の下流側弁を開く;
(3)流入側のi番目の流量測定値と流出側のj番目の流量測定値との流量差を比べる;
(4)前記流量差が所定の流量誤差閾値を上回る場合、流入側のi番目の流量測定値と流出側のj番目の流量測定値のいずれかが正確でない;
(5)流入側及び流出側の全ての流路について(1)~(4)を繰返し行う。
なお、本発明は、実施の態様として以下の内容を含む。
〔態様1〕
流量制限体、流量調整弁、および当該流量制限体と当該流量調整弁との間にある流路圧力センサをそれぞれ具備した、複数の流路と、
前記複数の流路から又は前記複数の流路へと流体を運ぶ共有流路であって、当該共有流路と前記流路圧力センサとの間に各流路の前記流量制限体がある、共有流路と、
共有流路圧力を検出するように構成された、前記共有流路における共有圧力センサと、
流路圧力及び前記共有流路圧力に基づいて各流路内の質量流量を求め、各流路内の質量流量を制御するように前記流路の前記流量調整弁を制御するコントローラと、
を備える、流体制御システム。
〔態様2〕
態様1に記載の流体制御システムにおいて、前記複数の流路の各流路が、さらに、温度センサを具備している、流体制御システム。
〔態様3〕
態様1または2に記載の流体制御システムにおいて、前記コントローラが、各流路内の質量流量を、当該流路を流れる前記流体の特性、前記流量制限体の特性、および前記流量制限体と前記共有圧力センサとの間の流路特性に基づいて求める、流体制御システム。
〔態様4〕
態様3に記載の流体制御システムにおいて、前記流路特性が、前記流路の、前記流量制限体から前記共有圧力センサまでの容積及び長さである、流体制御システム。
〔態様5〕
態様1から4のいずれか一態様に記載の流体制御システムにおいて、前記コントローラが:(1)前記複数の流路について、前記流路圧力センサとは反対側で前記流量制限体に隣接した位置の流路圧力;(2)各流路内の質量流量;および(3)前記共有流路内の総質量流量;を再帰的に求める、流体制御システム。
〔態様6〕
態様1から5のいずれか一態様に記載の流体制御システムにおいて、前記コントローラが、前記複数の流路のうちの所与の流路内の質量流量を:(i)当該流路について、流路圧力検出値を提供する前記流路圧力センサとは反対側で前記流量制限体に隣接したところの流路圧力を仮定し;(ii)前記流路圧力センサとは反対側で前記流量制限体に隣接したところの前記流路圧力、および当該流路の前記流路圧力検出値に基づいて、当該流路内の当該質量流量を求めて;(iii)前記複数の流路の各流路内の質量流量に基づいて総質量流量を求めて;(iv)当該流路について、(iii)で求めた前記総質量流量を用いて、前記流路圧力センサとは反対側で前記流量制限体に隣接したところの前記流路圧力を計算し;(ii)~(iv)を繰り返す;ことによって求める、流体制御システム。
〔態様7〕
態様1から6のいずれか一態様に記載の流体制御システムにおいて、前記共有流路が、前記複数の流路の下流側にある、流体制御システム。
〔態様8〕
態様1から6のいずれか一態様に記載の流体制御システムにおいて、前記共有流路が、前記複数の流路の上流側にある、流体制御システム。
〔態様9〕
態様1から6のいずれか一態様に記載の流体制御システムにおいて、さらに、
流量制限体、流量調整弁、および当該流量制限体と当該流量調整弁との間にある流路圧力センサをそれぞれ具備した、第2の複数の流路、
を備え、前記共有流路が、前記複数の流路から前記第2の複数の流路へと流体を運び、前記第2の複数の流路の各流路では、前記流路圧力センサと前記共有流路との間に前記流量制限体があり、前記コントローラが、さらに、前記第2の複数の流路の各流路内の質量流量を流路圧力及び前記共有流路圧力に基づいて求め、各流路内の質量流量を制御するように前記流路の前記流量調整弁を制御する、流体制御システム。
〔態様10〕
態様1から6、および態様9のいずれか一態様に記載の流体制御システムにおいて、前記コントローラが、前記共有流路の上流側にあるi番目の流路について、流路圧力センサとは反対側で流量制限体に隣接したところの流路圧力を、式(1):
Pd,i=fPd(Pd,Qt,Vi,Li) (1)
(式中、f Pd は、前記共有圧力センサで検出された下流側圧力P d 、前記共有流路内の総流量Q t 、ならびに前記i番目の流路の、制限体から前記共有圧力センサまでの容積V i 及び長さL i の関数である。)
を用いて計算する、流体制御システム。
〔態様11〕
態様10に記載の流体制御システムにおいて、f Pd は、経験則的データおよび/または実験で得られたものである、流体制御システム。
〔態様12〕
態様10または11に記載の流体制御システムにおいて、f Pd は、式(2):
f Pd (P d ,Q t ,V i ,L i )=k i,1 ×P d +k i,2 ×Q t +k i,3 ×V i +k i,4 ×L i
(2)
(式中、k i,1 、k i,2 、k i,3 及びk i,4 は、経験則的に又は実験で得られた線形係数である。)
により表される、流体制御システム。
〔態様13〕
態様1から6および態様9から12のいずれか一態様に記載の流体制御システムにおいて、前記コントローラが、j番目の流路について、流路圧力センサとは反対側で流量制限体に隣接したところの流路圧力を、式(6):
P u,j =f Pu (P u ,Q t ,V j ,L j ) (6)
(式中、f Pu は、前記共有圧力センサで検出された上流側圧力P u 、前記共有流路内の総流量Q t 、ならびに前記j番目の流路の、制限体から前記共有圧力センサまでの容積V j 及び長さL j の関数である。)
を用いて計算する、流体制御システム。
〔態様14〕
態様13に記載の流体制御システムにおいて、f Pu は、経験則的データおよび/または実験で得られたものである、流体制御システム。
〔態様15〕
態様13または14に記載の流体制御システムにおいて、f Pu は、式:
f Pu (P u ,Q t ,V j ,L j )=k j,1 ×P u +k j,2 ×Q t +k j,3 ×V j +k j,4 ×L j
(7)
(式中、k j,1 、k j,2 、k j,3 及びk j,4 は、経験則的に又は実験で得られた線形係数である。)
により表される、流体制御システム。
〔態様16〕
態様9から15のいずれか一態様に記載の流体制御システムにおいて、前記第2の複数の流路の各流路が、さらに、温度センサを具備している、流体制御システム。
〔態様17〕
態様1から16のいずれか一態様に記載の流体制御システムにおいて、前記複数の流路が、一体的システムの一部である、流体制御システム。
〔態様18〕
態様9から16のいずれか一態様に記載の流体制御システムにおいて、前記複数の流路および前記第2の複数の流路が、一体的システムの一部である、流体制御システム。
〔態様19〕
態様18に記載の流体制御システムにおいて、前記共有圧力センサが、前記一体的システムの一部でない、流体制御システム。
〔態様20〕
態様1から19のいずれか一態様に記載の流体制御システムにおいて、前記流体が、ガスである、流体制御システム。
〔態様21〕
流量制限体及び流量調整弁をそれぞれ具備した複数の流路に流体を流す過程と、
前記複数の流路から又は前記複数の流路へと共有流路を通して流体を流す過程と、
前記共有流路における共有流路圧力を検出する過程と、
各流路について、流量調整弁と流量制限体との間で流路圧力を検出する過程と、
前記流路圧力及び前記共有流路圧力に基づいて各流路内の質量流量を求める過程と、
各流路内の質量流量を制御するように前記流路の前記流量調整弁を制御する過程と、
を備える、流体制御方法。
〔態様22〕
態様21に記載の流体制御方法において、さらに、
各流路について、流量調整弁と流量制限体との間で流路温度を検出する過程、
を備える、流体制御方法。
〔態様23〕
態様21または22に記載の流体制御方法において、各流路内の質量流量が、当該流路を流れる前記流体の特性、前記流量制限体の特性、および前記流量制限体と前記共有流路圧力が検出される箇所との間の流路特性に基づいて求められる、流体制御方法。
〔態様24〕
態様21または22に記載の流体制御方法において、(1)各流路内の質量流量;(2)前記複数の流路について、前記流路圧力センサとは反対側で前記流量制限体に隣接した位置の流路圧力;および(3)前記共有流路内の総質量流量;が再帰的に求められる、流体制御方法。
〔態様25〕
態様21から24のいずれか一態様に記載の流体制御方法において、前記複数の流路のうちの所与の流路内の質量流量を求める過程が:(i)当該流路について、前記流路圧力センサとは反対側で前記流量制限体に隣接したところの流路圧力を仮定すること;(ii)前記流路圧力センサとは反対側で前記流量制限体に隣接したところの前記流路圧力、および当該流路の前記流路圧力検出値に基づいて、当該流路内の当該質量流量を求めること;(iii)前記複数の流路の各流路内の質量流量に基づいて総質量流量を求めること;(iv)当該流路について、(iii)で求めた前記総質量流量を用いて、前記流路圧力センサとは反対側で前記流量制限体に隣接したところの前記流路圧力を計算すること;ならびに(ii)~(iv)を繰り返すこと;を含む、流体制御方法。
〔態様26〕
態様21から25のいずれか一態様に記載の流体制御方法において、さらに、
前記複数の流路からの流体を、前記共有流路を通して、流量制限体及び流量調整弁をそれぞれ具備した第2の複数の流路に流す過程と、
前記第2の複数の流路の各流路について、流量調整弁と流量制限体との間で流路圧力及び流路温度を検出する過程と、
前記流路圧力及び前記共有流路圧力に基づいて前記第2の複数の流路の各流路内の質量流量を求める過程と、
を備える、流体制御方法。
〔態様27〕
態様21から26のいずれか一態様に記載の流体制御方法において、さらに、
前記共有流路の上流側にあるi番目の流路について、流路圧力センサとは反対側で流量制限体に隣接したところの流路圧力を、式(1):
P d,i =f Pd (P d ,Q t ,V i ,L i ) (1)
(式中、f Pd は、前記共有圧力センサで検出された下流側圧力P d 、前記共有流路内の総流量Q t 、ならびに前記i番目の流路の、制限体から前記共有圧力センサまでの容積V i 及び長さL i の関数である。)
を用いて計算する過程、
を備える、流体制御方法。
〔態様28〕
態様27に記載の流体制御システムにおいて、f Pd が、経験則的データおよび/または実験で得られたものである、流体制御システム。
〔態様29〕
態様27または28に記載の流体制御システムにおいて、f Pd は、式(2):
f Pd (P d ,Q t ,V i ,L i )=k i,1 ×P d +k i,2 ×Q t +k i,3 ×V i +k i,4 ×L i
(2)
(式中、k i,1 、k i,2 、k i,3 及びk i,4 は、経験則的に又は実験で得られた線形係数である。)
により表される、流体制御システム。
〔態様30〕
態様21から29のいずれか一態様に記載の流体制御方法において、さらに、
前記共有流路の下流側にあるj番目の流路について、流路圧力センサとは反対側で流量制限体に隣接したところの流路圧力を、式(6):
P u,j =f Pu (P u ,Q t ,V j ,L j ) (6)
(式中、f Pd は、前記共有圧力センサで検出された上流側圧力P u 、前記共有流路内の総流量Q t 、ならびに前記j番目の流路の、制限体から前記共有圧力センサまでの容積V j 及び長さL j の関数である。)
を用いて計算する過程、
を備える、流体制御方法。
〔態様31〕
態様30に記載の流体制御システムにおいて、f Pu は、経験則的データおよび/または実験で得られたものである、流体制御システム。
〔態様32〕
態様30または31に記載の流体制御システムにおいて、f Pu は、式(7):
f Pu (P u ,Q t ,V j ,L j )=k j,1 ×P u +k j,2 ×Q t +k j,3 ×V j +k j,4 ×L j
(7)
(式中、k j,1 、k j,2 、k j,3 及びk j,4 は、経験則的に又は実験で得られた線形係数である。)
により表される、流体制御システム。
〔態様33〕
態様26に記載の流体制御方法において、さらに、
前記第2の複数の流路の各流路について、流量調整弁と流量制限体との間で流路温度を検出する過程、
を備える、流体制御方法。
〔態様34〕
態様21から33のいずれか一態様に記載の流体制御方法において、前記流体が、ガスである、流体制御方法。
Claims (32)
- 流量制限体、流量調整弁、および当該流量制限体と当該流量調整弁との間にある流路圧力センサをそれぞれ具備した、複数の流路と、
前記複数の流路から又は前記複数の流路へと流体を運ぶ共有流路であって、当該共有流路と前記流路圧力センサとの間の各流路の中に前記流量制限体がある、共有流路と、
共有流路圧力を検出するように構成された、前記共有流路における共有圧力センサと、
流路圧力及び前記共有流路圧力に基づいて各流路内の質量流量を求め、各流路内の質量流量を制御するように前記流路の前記流量調整弁を制御するコントローラと、
を備える、流体制御システムにおいて、前記コントローラが:(1)前記複数の流路について、前記流路圧力センサとは反対側で前記流量制限体に隣接した位置の流路圧力;(2)各流路内の質量流量;および(3)前記共有流路内の総質量流量;を、再帰計算を通じて求める、流体制御システム。 - 請求項1に記載の流体制御システムにおいて、前記複数の流路の各流路が、さらに、温度センサを具備している、流体制御システム。
- 請求項1または2に記載の流体制御システムにおいて、前記コントローラが、各流路内の質量流量を、当該流路を流れる前記流体の特性、前記流量制限体の特性、および前記流量制限体と前記共有圧力センサとの間の流路特性に基づいて求める、流体制御システム。
- 請求項3に記載の流体制御システムにおいて、前記流路特性が、前記流路の、前記流量制限体から前記共有圧力センサまでの容積及び長さである、流体制御システム。
- 請求項1から4のいずれか一項に記載の流体制御システムにおいて、前記コントローラが、前記複数の流路のうちの所与の流路内の質量流量を:(i)当該流路について、流路圧力検出値を提供する前記流路圧力センサとは反対側で前記流量制限体に隣接したところの流路圧力を仮定し;(ii)前記流路圧力センサとは反対側で前記流量制限体に隣接したところの前記流路圧力、および当該流路の前記流路圧力検出値に基づいて、当該流路内の当該質量流量を求めて;(iii)前記複数の流路の各流路内の質量流量に基づいて総質量流量を求めて;(iv)当該流路について、(iii)で求めた前記総質量流量を用いて、前記流路圧力センサとは反対側で前記流量制限体に隣接したところの前記流路圧力を計算し;(ii)~(iv)を繰り返す;ことによって求める、流体制御システム。
- 請求項1から5のいずれか一項に記載の流体制御システムにおいて、前記共有流路が、前記複数の流路の下流側にある、流体制御システム。
- 請求項1から5のいずれか一項に記載の流体制御システムにおいて、前記共有流路が、前記複数の流路の上流側にある、流体制御システム。
- 請求項1から5のいずれか一項に記載の流体制御システムにおいて、さらに、
流量制限体、流量調整弁、および当該流量制限体と当該流量調整弁との間にある流路圧力センサをそれぞれ具備した、第2の複数の流路、
を備え、前記共有流路が、前記複数の流路から前記第2の複数の流路へと流体を運び、前記第2の複数の流路の各流路では、前記流路圧力センサと前記共有流路との間に前記流量制限体があり、前記コントローラが、さらに、前記第2の複数の流路の各流路内の質量流量を流路圧力及び前記共有流路圧力に基づいて求め、各流路内の質量流量を制御するように前記流路の前記流量調整弁を制御する、流体制御システム。 - 請求項1から5、および請求項8のいずれか一項に記載の流体制御システムにおいて、前記コントローラが、前記共有流路の上流側にあるi番目の流路について、流路圧力センサとは反対側で流量制限体に隣接したところの流路圧力を、式(1):
Pd,i=fPd(Pd,Qt,Vi,Li) (1)
(式中、fPdは、前記共有圧力センサで検出された下流側圧力Pd、前記共有流路内の総流量Qt、ならびに前記i番目の流路の、制限体から前記共有圧力センサまでの容積Vi及び長さLiの関数である。)
を用いて計算する、流体制御システム。 - 請求項9に記載の流体制御システムにおいて、fPdは、経験則的データおよび/または実験で得られたものである、流体制御システム。
- 請求項9または10に記載の流体制御システムにおいて、fPdは、式(2):
fPd(Pd,Qt,Vi,Li)=ki,1×Pd+ki,2×Qt+ki,3×Vi+ki,4×Li
(2)
(式中、ki,1、ki,2、ki,3及びki,4は、経験則的に又は実験で得られた線形係数である。)
により表される、流体制御システム。 - 請求項1から5および請求項8から11のいずれか一項に記載の流体制御システムにおいて、前記コントローラが、j番目の流路について、流路圧力センサとは反対側で流量制限体に隣接したところの流路圧力を、式(6):
Pu,j=fPu(Pu,Qt,Vj,Lj) (6)
(式中、fPuは、前記共有圧力センサで検出された上流側圧力Pu、前記共有流路内の総流量Qt、ならびに前記j番目の流路の、制限体から前記共有圧力センサまでの容積Vj及び長さLjの関数である。)
を用いて計算する、流体制御システム。 - 請求項12に記載の流体制御システムにおいて、fPuは、経験則的データおよび/または実験で得られたものである、流体制御システム。
- 請求項12または13に記載の流体制御システムにおいて、fPuは、式:
fPu(Pu,Qt,Vj,Lj)=kj,1×Pu+kj,2×Qt+kj,3×Vj+kj,4×Lj
(7)
(式中、kj,1、kj,2、kj,3及びkj,4は、経験則的に又は実験で得られた線形係数である。)
により表される、流体制御システム。 - 請求項8または請求項8を引用する場合の請求項9から14のいずれか一項に記載の流体制御システムにおいて、前記第2の複数の流路の各流路が、さらに、温度センサを具備している、流体制御システム。
- 請求項1から15のいずれか一項に記載の流体制御システムにおいて、前記複数の流路が、一体的システムの一部である、流体制御システム。
- 請求項8または請求項8を引用する場合の請求項9から15のいずれか一項に記載の流体制御システムにおいて、前記複数の流路および前記第2の複数の流路が、一体的システムの一部である、流体制御システム。
- 請求項17に記載の流体制御システムにおいて、前記共有圧力センサが、前記一体的システムの一部でない、流体制御システム。
- 請求項1から18のいずれか一項に記載の流体制御システムにおいて、前記流体が、ガスである、流体制御システム。
- 流量制限体及び流量調整弁をそれぞれ具備した複数の流路に流体を流す過程と、
前記複数の流路から又は前記複数の流路へと共有流路を通して流体を流す過程と、
前記共有流路における共有流路圧力を検出する過程と、
各流路について、流量調整弁と流量制限体との間で流路圧力を検出する過程と、
前記流路圧力及び前記共有流路圧力に基づいて各流路内の質量流量を求める過程と、
各流路内の質量流量を制御するように前記流路の前記流量調整弁を制御する過程と、
を備える、流体制御方法において、(1)各流路内の質量流量;(2)前記複数の流路について、前記検出した流路圧力の検出位置とは反対側で前記流量制限体に隣接した位置の流路圧力;および(3)前記共有流路内の総質量流量;が再帰的に計算することによって求められる、流体制御方法。 - 請求項20に記載の流体制御方法において、さらに、
各流路について、流量調整弁と流量制限体との間で流路温度を検出する過程、
を備える、流体制御方法。 - 請求項20または21に記載の流体制御方法において、各流路内の質量流量が、当該流路を流れる前記流体の特性、前記流量制限体の特性、および前記流量制限体と前記共有流路圧力が検出される箇所との間の流路特性に基づいて求められる、流体制御方法。
- 請求項20から22のいずれか一項に記載の流体制御方法において、前記複数の流路のうちの所与の流路内の質量流量を求める過程が:(i)当該流路について、前記検出した流路圧力の検出位置とは反対側で前記流量制限体に隣接したところの流路圧力を仮定すること;(ii)前記検出した流路圧力の検出位置とは反対側で前記流量制限体に隣接したところの前記流路圧力、および当該流路の前記検出した流路圧力に基づいて、当該流路内の当該質量流量を求めること;(iii)前記複数の流路の各流路内の質量流量に基づいて総質量流量を求めること;(iv)当該流路について、(iii)で求めた前記総質量流量を用いて、前記流路の前記検出した流路圧力の検出位置とは反対側で前記流量制限体に隣接したところの前記流路圧力を計算すること;ならびに(ii)~(iv)を繰り返すこと;を含む、流体制御方法。
- 請求項20から23のいずれか一項に記載の流体制御方法において、さらに、
前記複数の流路からの流体を、前記共有流路を通して、流量制限体及び流量調整弁をそれぞれ具備した第2の複数の流路に流す過程と、
前記第2の複数の流路の各流路について、流量調整弁と流量制限体との間で流路圧力及び流路温度を検出する過程と、
前記流路圧力及び前記共有流路圧力に基づいて前記第2の複数の流路の各流路内の質量流量を求める過程と、
を備える、流体制御方法。 - 請求項20から24のいずれか一項に記載の流体制御方法において、さらに、
前記共有流路の上流側にあるi番目の流路について、検出した流路圧力の検出位置とは反対側で流量制限体に隣接したところの流路圧力を、式(1):
Pd,i=fPd(Pd,Qt,Vi,Li) (1)
(式中、fPdは、前記検出した共有流路圧力Pd、前記共有流路内の総流量Qt、ならびに前記i番目の流路の、制限体から前記検出した共有流路圧力の検出位置までの容積Vi及び長さLiの関数である。)
を用いて計算する過程、
を備える、流体制御方法。 - 請求項25に記載の流体制御方法において、fPdが、経験則的データおよび/または実験で得られたものである、流体制御方法。
- 請求項25または26に記載の流体制御方法において、fPdは、式(2):
fPd(Pd,Qt,Vi,Li)=ki,1×Pd+ki,2×Qt+ki,3×Vi+ki,4×Li
(2)
(式中、ki,1、ki,2、ki,3及びki,4は、経験則的に又は実験で得られた線形係数である。)
により表される、流体制御方法。 - 請求項20から27のいずれか一項に記載の流体制御方法において、さらに、
前記共有流路の下流側にあるj番目の流路について、前記検出した流路圧力の検出位置とは反対側で流量制限体に隣接したところの流路圧力を、式(6):
Pu,j=fPu(Pu,Qt,Vj,Lj) (6)
(式中、fPdは、前記検出した共有流路圧力Pu、前記共有流路内の総流量Qt、ならびに前記j番目の流路の、制限体から前記検出した共有流路圧力の検出位置までの容積Vj及び長さLjの関数である。)
を用いて計算する過程、
を備える、流体制御方法。 - 請求項28に記載の流体制御方法において、fPuは、経験則的データおよび/または実験で得られたものである、流体制御方法。
- 請求項28または29に記載の流体制御方法において、fPuは、式(7):
fPu(Pu,Qt,Vj,Lj)=kj,1×Pu+kj,2×Qt+kj,3×Vj+kj,4×Lj
(7)
(式中、kj,1、kj,2、kj,3及びkj,4は、経験則的に又は実験で得られた線形係数である。)
により表される、流体制御方法。 - 請求項24に記載の流体制御方法において、さらに、
前記第2の複数の流路の各流路について、流量調整弁と流量制限体との間で流路温度を検出する過程、
を備える、流体制御方法。 - 請求項20から31のいずれか一項に記載の流体制御方法において、前記流体が、ガスである、流体制御方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/973,190 | 2018-05-07 | ||
US15/973,190 US10698426B2 (en) | 2018-05-07 | 2018-05-07 | Methods and apparatus for multiple channel mass flow and ratio control systems |
PCT/US2019/028904 WO2019217078A1 (en) | 2018-05-07 | 2019-04-24 | Methods and apparatus for multiple channel mass flow and ratio control systems |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021523460A JP2021523460A (ja) | 2021-09-02 |
JPWO2019217078A5 JPWO2019217078A5 (ja) | 2022-03-18 |
JP7288463B2 true JP7288463B2 (ja) | 2023-06-07 |
Family
ID=66952008
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020562694A Active JP7288463B2 (ja) | 2018-05-07 | 2019-04-24 | 多流路質量流量・質量流量比制御システムのための方法及び装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10698426B2 (ja) |
EP (1) | EP3791242B1 (ja) |
JP (1) | JP7288463B2 (ja) |
KR (1) | KR20210006937A (ja) |
CN (1) | CN112204493B (ja) |
SG (1) | SG11202010715SA (ja) |
TW (1) | TWI831777B (ja) |
WO (1) | WO2019217078A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2018
- 2018-05-07 US US15/973,190 patent/US10698426B2/en active Active
-
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- 2019-04-24 SG SG11202010715SA patent/SG11202010715SA/en unknown
- 2019-04-24 WO PCT/US2019/028904 patent/WO2019217078A1/en unknown
- 2019-04-24 JP JP2020562694A patent/JP7288463B2/ja active Active
- 2019-04-24 EP EP19731813.2A patent/EP3791242B1/en active Active
- 2019-04-24 KR KR1020207034798A patent/KR20210006937A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-04-24 CN CN201980030414.XA patent/CN112204493B/zh active Active
- 2019-04-30 TW TW108114999A patent/TWI831777B/zh active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004517396A (ja) | 2000-12-26 | 2004-06-10 | エムケーエス インスツルメント,インコーポレーテッド | 圧力型マスフローコントローラシステム |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019217078A1 (en) | 2019-11-14 |
EP3791242A1 (en) | 2021-03-17 |
JP2021523460A (ja) | 2021-09-02 |
EP3791242B1 (en) | 2022-04-06 |
TW201947339A (zh) | 2019-12-16 |
US20190339725A1 (en) | 2019-11-07 |
CN112204493A (zh) | 2021-01-08 |
SG11202010715SA (en) | 2020-11-27 |
KR20210006937A (ko) | 2021-01-19 |
TWI831777B (zh) | 2024-02-11 |
US10698426B2 (en) | 2020-06-30 |
CN112204493B (zh) | 2024-01-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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